JP2013120769A - Euvリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法およびeuvリソグラフィ用反射型マスクの製造方法 - Google Patents
Euvリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法およびeuvリソグラフィ用反射型マスクの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013120769A JP2013120769A JP2011266655A JP2011266655A JP2013120769A JP 2013120769 A JP2013120769 A JP 2013120769A JP 2011266655 A JP2011266655 A JP 2011266655A JP 2011266655 A JP2011266655 A JP 2011266655A JP 2013120769 A JP2013120769 A JP 2013120769A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- euvl
- exp
- glass substrate
- reflective mask
- pat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 title claims abstract description 147
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 85
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 80
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 39
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 68
- 239000000463 material Substances 0.000 description 31
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 15
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 8
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】ガラス基板1の成膜面にEUV光線を反射する反射層2、および、EUV光線を吸収する吸収層3を少なくともこの順に形成されたEUVリソグラフィ(EUVL)用反射型マスクブランクの製造方法であって、前記ガラス基板として、下記式(1),(2)を満たすTiO2を含有するシリカガラス基板を選択するEUVL用反射型マスクブランクの製造方法。Texp−k1/(dα/dT)≦T0(1)(αpat×Tpat−αexp×Texp+k2)/(αpat−αexp)≦T0≦(αpat×Tpat−αexp×Texp−k2)/(αpat−αexp)(2)
【選択図】図1
Description
また、本発明は、該EUVL用反射型マスクの製造に用いられるEUVリソグラフィ用反射型マスク(以下、本明細書において、「EUVL用反射型マスク」という。)の製造方法に関する。
なお、本発明でいうEUV光とは、軟X線領域または真空紫外域の波長帯の光を指し、具体的には波長が0.2〜100nm程度の光である。
しかしながら、EUVL実施時には、高エネルギーのEUV光線がEUVL用反射型マスクに照射されることにより、該EUVL用反射型マスクの温度が上昇する。
現状のEUVL用反射型マスクでは、EUV光線を照射した際の光線反射率(EUV光線反射率)は高々67%であり、残りのEUV光線はEUVL用反射型マスクに吸収され、その一部は熱エネルギーとなり、EUVL用反射型マスクの温度を上昇させる。
このような問題を解決するため、特許文献1では、チタニアおよびシリカを含有する低膨張性ガラス基板であって、使用温度において、1ppb/℃/℃未満の平均熱膨張率勾配を有する熱膨張特性を備える低膨張性ガラス基板のEUVLマスクへの使用、が提案されている。
該吸収層に形成されるマスクパターンの位置精度(オーバーレイ精度)は、半導体技術ロードマップ(The International Technology Roadmap for Semiconductors)の2009年版によれば、現状±13nm以下と非常に高い精度が要求されており、将来的には±2nmとさらに高い精度が要求されている。ここで、該吸収層に形成されるマスクパターンの位置精度は、レジスト膜に電子線描画する際の電子線描画装置の描画位置精度、及びEUVL用反射型マスクブランクあるいは光リソグラフィ用透過型マスクブランクの温度変動に依存するが、レジスト膜への描画に使用される電子線は、EUVL実施時に使用されるEUV光線に比べてエネルギーが低いため、電子線描画時のEUVL用反射型マスクブランクあるいは光リソグラフィ用透過型マスクブランクの温度上昇は軽微である。たとえば、レジスト膜の電子線描画を室温下で実施した場合、該EUVL用反射型マスクブランクあるいは光リソグラフィ用透過型マスクブランクの温度、より具体的には、該EUVL用反射型マスクブランクあるいは光リソグラフィ用透過型マスクブランクの基材をなすガラス基板の温度は、ほぼ室温と同じ温度に、例えば23℃±0.1〜±0.2℃の範囲内に、厳密に制御されている。
そうすると、上述したように、EUVL実施時におけるEUVL用反射型マスクの温度で、線熱膨張係数が0に近くなるように、該反射型マスクの基材をなすガラス基板を選択することから、両者の温度差によっては、レジスト膜への電子線描画時には該反射型マスクブランクの基材をなすガラス基板の線熱膨張係数が0に近い状態とはならない場合がある。すなわち、両者の温度差によっては、レジスト膜への電子線描画時と、EUVL実施時では、EUVL用反射型マスクブランクおよびEUVL用反射型マスクの基材をなすガラス基板の線熱膨張係数が異なる場合がある。
そして、レジスト膜への電子線描画時と、EUVL実施時と、のガラス基板の線熱膨張係数の違いにより、EUVL用反射型マスクの吸収層に形成されたマスクパターンの位置に変化が生じ、EUVL実施時にウェハ上の所望の位置にパターンを転写できない場合がある。
マスクパターンについては、微細化および高集積化が常に求められているため、このようなマスクパターンの位置が変化する影響により、微細化および高集積化を阻害する問題となると考えられる。
本発明は、上記した従来技術における問題点を解決するため、レジスト膜への電子線描画時と、EUVL実施時と、の温度差によるマスクパターンの位置変化を所定の変化量以下に抑制できる、EUVL用反射型マスクブランクの製造方法、および、EUVL用反射型マスクの製造方法の提供を目的とする。
前記ガラス基板として、下記式(1),(2)を満たすTiO2を含有するシリカガラス基板を選択するEUVL用反射型マスクブランクの製造方法を提供する。
Texp−k1/(dα/dT)≦T0 (1)
(αpat×Tpat−αexp×Texp+k2)/(αpat−αexp)≦T0≦(αpat×Tpat−αexp×Texp−k2)/(αpat−αexp) (2)
(上式(1),(2)中、Tpatはレジスト膜への電子線描画時と同一条件における前記ガラス基板の温度(℃)であり、T0は前記ガラス基板のクロスオーバー温度(℃)であり、TexpはEUVリソグラフィ実施時と同一条件における前記ガラス基板の温度(℃)であり、αpatは前記Tpatにおけるガラス基板の線熱膨張係数(ppb/℃)であり、αexpは前記Texpにおけるガラス基板の線熱膨張係数(ppb/℃)であり、dα/dTは前記T0における前記ガラス基板の線熱膨張係数の温度依存性(ppb/℃/℃)であり、k1はEUVリソグラフィ実施時におけるマスクパターンの位置変化の許容量に応じて選択される定数であり、k2はレジスト膜への電子線描画時と、EUVリソグラフィ実施時と、の温度変化によるマスクパターンの位置変化の許容量に応じて選択される定数である。)
本発明のEUVL用反射型マスクブランクの製造方法の第2態様では、前記k1が10である。
本発明のEUVL用反射型マスクブランクの製造方法の第3態様では、前記k1が5である。
本発明のEUVL用反射型マスクブランクの製造方法の第4態様では、前記k2が400である。
本発明のEUVL用反射型マスクブランクの製造方法の第5態様では、前記k2が200である。
本発明のEUVL用反射型マスクブランクの製造方法の第6態様では、前記k2が100である。
図1は、EUVL用反射型マスクブランクの基本構成を示した模式図である。図1に示すマスクブランクは、ガラス基板1の成膜面にEUV光線を反射する反射層2、および、EUV光線を吸収する吸収層3がこの順に形成されている。ここで、反射層2としては、低屈折層と高屈折層とを交互に積層させた多層反射膜が示されている。
なお、図1は、EUV用反射型マスクブランクの基本構成を示したものであり、本発明の方法によって製造されるEUV用反射型マスクブランクは、上記以外の各種機能層を有してもよい。このような機能層の具体例としては、反射層2の表面の酸化を防止する目的で反射層2上に必要に応じて形成される反射層2の保護層、パターニングの際に反射層2がダメージを受けるのを防止する目的で反射層2と吸収層3との間に必要に応じて形成されるバッファ層、マスクパターンの検査時のコントラストを向上させる目的で吸収層3上に必要に応じて形成されるマスクパターンの検査光に対する低反射層が挙げられる。
(1)吸収層3上にレジスト膜を形成する。
(2)レジスト膜に所定のマスクパターンを電子線描画する。
(3)現像によりレジストパターンを形成する。
(4)ドライエッチングプロセスにより吸収層を部分的に除去してマスクパターンを形成する。
ここで、吸収層に形成されるマスクパターンの位置精度は、レジスト膜に電子線を描画する描画装置の位置精度に依存するほか、レジスト膜に電子線描画する際のEUVL用反射型マスクブランクの温度、より具体的には、該EUVL用反射型マスクブランクの基材をなすガラス基板1の温度と線熱膨張係数、に依存する。
EUVL実施時には、EUVL用反射型マスクの吸収層に形成されたマスクパターンがその形成位置や寸法含めて忠実にウェハに転写されることが望ましい。ところが、レジスト膜への電子線描画時と、EUVL実施時と、のガラス基板の温度及び線熱膨張係数の違いにより、レジスト膜への電子線描画時とEUVL実施時とでは、EUVL用反射型マスクの吸収層に形成されたマスクパターンの位置が異なり、EUVL実施時には、EUVL用反射型マスクの吸収層に形成されたマスクパターンがウェハ上の所定の位置に転写されない場合が生じる。
Texp−k1/(dα/dT)≦T0 (1)
(αpat×Tpat−αexp×Texp+k2)/(αpat−αexp)≦T0≦(αpat×Tpat−αexp×Texp−k2)/(αpat−αexp) (2)
上記式(1),(2)中、Tpatはレジスト膜への電子線描画時と同一条件におけるガラス基板の温度(℃)であり、T0はガラス基板のクロスオーバー温度(℃)であり、TexpはEUVリソグラフィ実施時と同一条件におけるガラス基板の温度(℃)であり、αpatはTpatにおけるガラス基板の線熱膨張係数(ppb/℃)であり、αexpはTexpにおけるガラス基板の線熱膨張係数(ppb/℃)であり、dα/dTはT0におけるガラス基板の線熱膨張係数の温度依存性(ppb/℃/℃)であり、k1はEUVリソグラフィ実施時におけるマスクパターンの位置変化の許容範囲に応じて選択される定数であり、k2はレジスト膜への電子線描画時と、EUVリソグラフィ実施時と、の温度変化によるマスクパターンの位置変化の許容範囲に応じて選択される定数である。また、クロスオーバー温度(Cross−over Temperature;COT)とは、ガラス基板の線熱膨張係数(CTE)が0ppb/℃となる温度である。
ここでは、マスクパターンの位置変化の許容範囲について、将来的に高い特性が要求されるので、クラスC、クラスBおよびクラスAに対応するk1について示す。
EUVリソグラフィ実施時におけるマスクパターンの寸法変化の許容範囲(αexpの許容可能な上限値)が0±20ppb/℃の場合(クラスC)は、k1は20である。
EUVリソグラフィ実施時におけるマスクパターンの寸法変化の許容範囲(αexpの許容可能な上限値)が0±10ppb/℃の場合(クラスB)は、k1は10である。
EUVリソグラフィ実施時におけるマスクパターンの寸法変化の許容範囲(αexpの許容可能な上限値)が0±5ppb/℃の場合(クラスA)は、k1は5である。
ここで、レジスト膜への電子線描画時と、EUVリソグラフィ実施時と、の温度変化によるマスクパターンの寸法変化の許容範囲(αave(pat〜exp) ×(Texp−Tpat)の許容可能な上限値)が0±200ppbの範囲内の場合は、k2は400である。
また、レジスト膜への電子線描画時と、EUVリソグラフィ実施時と、の温度変化によるマスクパターンの寸法変化の許容範囲(αave(pat〜exp) ×(Texp−Tpat)の許容可能な上限値)が0±100ppbの範囲内の場合は、k2は200である。
さらに、レジスト膜への電子線描画時と、EUVリソグラフィ実施時と、の温度変化によるマスクパターンの寸法変化の許容範囲(αave(pat〜exp) ×(Texp−Tpat)の許容可能な上限値)が0±50ppbの範囲内の場合は、k2は100である。
TiO2−SiO2ガラス基板の場合、ガラス基板のクロスオーバー温度(COT)T0は、例えば、ガラス基板のTiO2含有量によって調節できる。
この場合、例えば、T0を20〜50℃の範囲に調整するために設定されるガラス基板のTiO2含有量は、3〜10質量%が好ましく、5〜9質量%がより好ましい。
なお、ガラス基板の仮想温度によって、dα/dtも調節できる。
ガラス基板の仮想温度は、公知の方法により調節できる。一例としては、TiO2−SiO2ガラス基板の製造時におけるアニール処理が挙げられる。また、別の一例としては、TiO2−SiO2ガラス基板へのフッ素などのハロゲン元素の添加が挙げられる。
この場合、例えば、dα/dTを±3ppb/℃/℃の範囲内に調整するために設定されるガラス基板の仮想温度は、1200℃以下が好ましく、1100℃以下がより好ましく、1000℃以下がさらに好ましい。
平滑性および平坦度に関して、ガラス基板1は、0.15nm rms以下の平滑な表面と100nm以下の平坦度を有していることが、EUVL用反射型マスクとした際に、EUV光線に対する高反射率および転写精度が得られるために好ましい。
ガラス基板1の大きさや厚さなどはマスクの設計値等により適宜決定される。一例を挙げると、外形152mm角で、厚さ6.35mmのガラス基板である。
また、ガラス基板1の成膜面には欠点が存在しないことが好ましい。しかし、存在している場合であっても、凹状欠点および/または凸状欠点によって位相欠点が生じないように、凹状欠点の深さおよび凸状欠点の高さが2nm以下であり、かつこれら凹状欠点および凸状欠点の半値幅は60nm以下が好ましい。
Mo/Si多層反射膜の場合に、EUV光線反射率の最大値が60%以上の反射層2とするには、膜厚2.3±0.1nmのMo層と、膜厚4.5±0.1nmのSi層とを繰り返し単位数が30〜60になるように積層させればよい。
上記の特性を達成するため、EUV光線の吸収係数が高い材料で構成されることが好ましい。EUV光線の吸収係数が高い材料の具体例としては、タンタル(Ta)を主成分とする材料が挙げられる。
タンタル(Ta)を主成分とする材料で構成される吸収層の具体例としては、Taおよび窒素(N)を以下に述べる比率(原子比率:at%、と略す。)で含有する吸収層(TaN膜)が挙げられる。
Taの含有率 好ましくは10〜95at%、より好ましくは60〜90at%
Nの含有率 好ましくは5〜50at%、より好ましくは10〜40at%
TaとNとの原子組成比(Ta:N) 8:1〜1:5
上記組成の吸収層3(TaN膜)であれば、吸収層3表面の表面粗さを0.5nm rms以下にできる。吸収層3表面の表面粗さが大きいと、EUVL用反射型マスクを作製する際に、吸収層3に形成されるパターンのエッジラフネスが大きくなり、パターンの寸法精度が悪くなる。パターンが微細になるに従いエッジラフネスの影響が顕著になるため、吸収層3表面は平滑であることが要求される。
吸収層3表面の表面粗さが0.5nm rms以下であれば、吸収層3表面が十分平滑であるため、EUVL用反射型マスクを作製する際に、エッジラフネスの影響によってパターンの寸法精度が悪化するおそれがない。
一方、吸収層3の膜厚が大きすぎると、該吸収層3に形成するパターンの精度が低下するおそれがあるため、100nm以下が好ましく、90nm以下がより好ましく、80nm以下がさらに好ましい。
スパッタリングガス:ArとN2の混合ガス(N2ガス濃度3〜80vol%、好ましくは5〜30vol%、より好ましくは8〜15vol%。ガス圧0.5×10-1Pa〜10×10-1Pa、好ましくは0.5×10-1Pa〜5×10-1Pa、より好ましくは0.5×10-1Pa〜3×10-1Pa。)
投入電力(各ターゲットについて):30〜1000W、好ましくは50〜750W、より好ましくは80〜500W
成膜速度:2.0〜60nm/min、好ましくは3.5〜45nm/min、より好ましくは5〜30nm/min
k 1 =20、k 2 =400の場合
判定基準としては、式(1)、式(2)の左辺、そして、式(2)の右辺を満たす場合は、下表にてそれぞれ‘○’を示し、それを満たさない場合は、それぞれ‘×’を示す。なお、式(2)の左辺とは、(αpat×Tpat−αexp×Texp+k2)/(αpat−αexp)≦T0を満足するかどうか、を判定し、式(2)の右辺とは、T0≦(αpat×Tpat−αexp×Texp−k2)/(αpat−αexp)を満足するかどうか、を判定した。また、同表において、αexp≦20ppb/℃、|αave(pat〜exp) ×(Texp−Tpat)|≦200ppbである場合、それぞれ‘○’を示し、それを満たさない場合は、それぞれ‘×’を示す。
この場合、例1、4、9、10、15、19、21が比較例である。
判定基準としては、式(1)、式(2)の左辺、そして、式(2)の右辺を満たす場合は、下表にてそれぞれ‘○’を示し、それを満たさない場合は、それぞれ‘×’を示す。また、同表において、αexp≦10ppb/℃、|αave(pat〜exp) ×(Texp−Tpat)|≦100ppbである場合、それぞれ‘○’を示し、それを満たさない場合は、それぞれ‘×’を示す。
この場合、例1、2、4〜6、8〜15、19〜21が比較例である。
判定基準としては、式(1)、式(2)の左辺、そして、式(2)の右辺を満たす場合は、下表にてそれぞれ‘○’を示し、それを満たさない場合は、それぞれ‘×’を示す。また、同表において、αexp≦5ppb/℃、|αave(pat〜exp) ×(Texp−Tpat)|≦50ppbである場合、それぞれ‘○’を示し、それを満たさない場合は、それぞれ‘×’を示す。
この場合、例1、2、4〜16、18〜21が比較例である。
Claims (8)
- ガラス基板の成膜面にEUV光線を反射する反射層、および、EUV光線を吸収する吸収層を少なくともこの順に形成されたEUVリソグラフィ(EUVL)用反射型マスクブランクの製造方法であって、
前記ガラス基板として、下記式(1),(2)を満たすTiO2を含有するシリカガラス基板を選択するEUVL用反射型マスクブランクの製造方法。
Texp−k1/(dα/dT)≦T0 (1)
(αpat×Tpat−αexp×Texp+k2)/(αpat−αexp)≦T0≦(αpat×Tpat−αexp×Texp−k2)/(αpat−αexp) (2)
(上式中、Tpatはレジスト膜への電子線描画時と同一条件における前記ガラス基板の温度(℃)であり、T0は前記ガラス基板のクロスオーバー温度(℃)であり、TexpはEUVリソグラフィ実施時と同一条件における前記ガラス基板の温度(℃)であり、αpatは前記Tpatにおけるガラス基板の線熱膨張係数(ppb/℃)であり、αexpは前記Texpにおけるガラス基板の線熱膨張係数(ppb/℃)であり、dα/dTは前記T0における前記ガラス基板の線熱膨張係数の温度依存性(ppb/℃/℃)であり、k1はEUVリソグラフィ実施時におけるマスクパターンの位置変化の許容範囲に応じて選択される定数であり、k2はレジスト膜への電子線描画時と、EUVリソグラフィ実施時と、の温度変化によるマスクパターンの位置変化の許容範囲に応じて選択される定数である。) - 前記k1が20である、請求項1に記載のEUVL用反射型マスクブランクの製造方法。
- 前記k1が10である、請求項1に記載のEUVL用反射型マスクブランクの製造方法。
- 前記k1が5である、請求項1に記載のEUVL用反射型マスクブランクの製造方法。
- 前記k2が400である、請求項1に記載のEUVL用反射型マスクブランクの製造方法。
- 前記k2が200である、請求項1に記載のEUVL用反射型マスクブランクの製造方法。
- 前記k2が100である、請求項1に記載のEUVL用反射型マスクブランクの製造方法。
- 請求項1〜7のいずれかに記載のEUVL用反射型マスクブランクの製造方法により、EUVL用反射型マスクブランクを得て、該マスクブランクの前記吸収層上にレジスト膜を形成し、該レジスト膜に電子線描画し、現像によりレジストパターンを形成した後、ドライエッチングプロセスにより前記吸収層にマスクパターンを形成するEUVL用反射型マスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011266655A JP5761000B2 (ja) | 2011-12-06 | 2011-12-06 | Euvリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法およびeuvリソグラフィ用反射型マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011266655A JP5761000B2 (ja) | 2011-12-06 | 2011-12-06 | Euvリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法およびeuvリソグラフィ用反射型マスクの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013120769A true JP2013120769A (ja) | 2013-06-17 |
JP5761000B2 JP5761000B2 (ja) | 2015-08-12 |
Family
ID=48773299
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011266655A Active JP5761000B2 (ja) | 2011-12-06 | 2011-12-06 | Euvリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法およびeuvリソグラフィ用反射型マスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5761000B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022513997A (ja) * | 2018-12-21 | 2022-02-09 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 極紫外線マスク吸収体、及びその製造のためのプロセス |
-
2011
- 2011-12-06 JP JP2011266655A patent/JP5761000B2/ja active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022513997A (ja) * | 2018-12-21 | 2022-02-09 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 極紫外線マスク吸収体、及びその製造のためのプロセス |
JP7192127B2 (ja) | 2018-12-21 | 2022-12-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 極紫外線マスク吸収体、及びその製造のためのプロセス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5761000B2 (ja) | 2015-08-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6601313B2 (ja) | Euvリソグラフィ用反射型マスクブランク | |
JP5136647B2 (ja) | Euvリソグラフィ用反射型マスクブランクおよびその製造方法 | |
US9423684B2 (en) | Reflective mask blank for EUV lithography and process for its production | |
KR101388828B1 (ko) | 노광용 반사형 마스크 블랭크, 노광용 반사형 마스크,반도체 장치의 제조 방법, 및 다층 반사막 부착 기판 | |
US6737201B2 (en) | Substrate with multilayer film, reflection type mask blank for exposure, reflection type mask for exposure and production method thereof as well as production method of semiconductor device | |
JP5949777B2 (ja) | Euvリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法 | |
WO2012102313A1 (ja) | フォトマスクの製造方法 | |
JP4856798B2 (ja) | 反射型マスクブランクの製造方法及び反射型マスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法 | |
JP5256569B2 (ja) | 極端紫外線露光用マスク、マスクブランク、露光方法及びマスクブランクの製造方法 | |
JP2015073013A (ja) | Euvリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法 | |
JP5273143B2 (ja) | Euvリソグラフィ用反射型マスクブランク、および、euvリソグラフィ用反射型マスク | |
KR20140104375A (ko) | Euv 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크 및 그 마스크 블랭크용 반사층 형성 기판 | |
JP5211824B2 (ja) | Euvリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法 | |
JP2004104118A (ja) | 反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法 | |
JP5761000B2 (ja) | Euvリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法およびeuvリソグラフィ用反射型マスクの製造方法 | |
JP2022171587A (ja) | フォトマスクブランク、フォトマスク及び半導体素子の製造方法 | |
JP2011222887A (ja) | Euvリソグラフィ用反射型マスクブランク、および該マスクブランク用の機能膜付基板 | |
JP4300930B2 (ja) | 極限紫外線露光用マスク及びブランク並びにパターン転写方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140801 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150423 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150512 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150525 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5761000 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |