JP2013070075A - 位置検出装置、位置検出方法、露光装置、露光方法およびデバイス製造方法 - Google Patents
位置検出装置、位置検出方法、露光装置、露光方法およびデバイス製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】投射系は、第1反射面7b,7cを有する投射側プリズム部材7を備えている。受光系は、投射側プリズム部材に対応するように配置された第2反射面8b,8cを有する受光側プリズム部材8を備えている。第1反射面および第2反射面を通過した光束の偏光成分による相対的な位置ずれを補償するための位置ずれ補償部材をさらに備えている。
【選択図】図3
Description
前記投射系は、第1反射面を備え、
前記受光系は、第2反射面を備え、
前記投射系の前記第1反射面および前記受光系の前記第2反射面を通過した光束の偏光成分による相対的な位置ずれを補償するための位置ずれ補償部材をさらに備えていることを特徴とする面位置検出装置を提供する。
前記投射系と前記受光系との少なくとも一方は、反射面を備え、
前記反射面を通過した光束の偏光成分による相対的な位置ずれを補償するための位置ずれ補償部材をさらに備えていることを特徴とする面位置検出装置を提供する。
前記投射系は、第1反射面と、該第1反射面の射出側に配置された投射側偏光解消素子とを備え、
前記受光系は、前記第1反射面に対応するように配置された第2反射面と、該第2反射面の入射側に配置された受光側偏光解消素子とを備えていることを特徴とする面位置検出装置を提供する。
前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面の前記投影光学系に対する面位置を、前記被検面の面位置として検出するための第1形態乃至第3形態のいずれかの面位置検出装置と、
前記面位置検出装置の検出結果に基づいて、前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面を前記投影光学系に対して位置合わせするための位置合わせ手段とを備えていることを特徴とする露光装置を提供する。
第1形態乃至第3形態のいずれかの面位置検出装置を用いて、前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面の前記投影光学系に対する面位置を、前記被検面の面位置として検出する検出工程と、
前記検出工程での検出結果に基づいて、前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面を前記投影光学系に対して位置合わせする位置合わせ工程とを含むことを特徴とする露光方法を提供する。
第1形態乃至第3形態のいずれかの面位置検出装置を用いて、前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面の前記投影光学系に対する面位置を、前記被検面の面位置として検出する検出工程と、
前記検出工程での検出結果に基づいて、前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面を前記投影光学系に対して位置合わせする位置合わせ工程と、
前記露光工程を経た前記感光性基板を現像する現像工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
投射系中に配置される第1反射面を準備する工程と、
受光系中に配置される第2反射面を準備する工程と、
前記投射系の前記第1反射面および前記受光系の前記第2反射面を通過した光束の偏光成分による相対的な位置ずれを補償する工程とを備えていることを特徴とする面位置検出装置の製造方法を提供する。
入射光束の偏光成分に応じて異なる特性の射出光束を生成する偏光部材を準備する工程と、
該偏光部材を用いて、前記投射系の前記第1反射面および前記受光系の前記第2反射面を通過した光束の偏光成分による相対的な位置ずれを補償する工程とを備えていることを特徴とする面位置検出装置の調整方法を提供する。
2 コンデンサーレンズ
3 偏向プリズム
4,5 投射光学系
6,9 ペンタプリズム
7,8 ひし形プリズム
10,11 集光光学系
12 振動ミラー
13 アオリ補正プリズム
14a、14b リレー光学系
15 受光部
16 ミラー駆動部
17 位置検出部
18 補正量算出部
19 ノマルスキープリズム(第1補償素子)
20 ビームディスプレーサー(第2補償素子)
21 ウェハホルダ
22 ホルダ保持機構
23 ホルダ駆動部
31 1/2波長板(位相部材)
32,33 偏光解消素子
IL 照明系
R レチクル
RH レチクルホルダ
PL 投影光学系
W ウェハ
前記被検面に投射される前記光の光路と前記被検面で反射された前記光の光路との少なくとも一方に配置され、前記光を反射する反射面と、
前記光が前記反射面で反射されることにより該光のうち偏光方向が互いに異なる第1の光と第2の光との間に発生する相対的な位置ずれが実質的に補償されるように、前記光の光路に配置された位置ずれ補償部材と、
を備える位置検出装置を提供する。
前記被検面に投射される前記光と前記被検面で反射された前記光との少なくとも一方を反射面で反射することと、
前記光が前記反射面で反射されることにより該光のうち偏光方向が互いに異なる第1の光と第2の光との間に発生する相対的な位置ずれを、前記光の光路に配置された位置ずれ補償部材によって補償することと、
を含む位置検出方法を提供する。
前記基板を保持する基板保持装置と、
前記基板保持装置に保持された前記基板の表面の位置を検出する第1形態の位置検出装置と、
前記位置検出装置の検出結果に基づいて前記基板保持装置を駆動する駆動装置と、
を備える露光装置を提供する。
第2形態の位置検出方法を用いて前記基板の表面の位置を検出することと、
前記基板の表面の位置の検出結果に基づいて前記基板を移動させることと、
を含む露光方法を提供する。
前記パターンが転写された前記基板を現像することと、
を含むデバイス製造方法を提供する。
前記パターンが転写された前記基板を現像することと、
を含むデバイス製造方法を提供する。
Claims (1)
- 被検面上に斜め方向から光束を投射する投射系と、前記被検面で反射された光束を受光する受光系とを備え、該受光系の出力に基づいて前記被検面の面位置を検出する面位置検出装置において、
前記投射系と前記受光系との少なくとも一方は、反射面を備え、
前記反射面を通過した光束の偏光成分による相対的な位置ずれを補償するための位置ずれ補償部材をさらに備えていることを特徴とする面位置検出装置。
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