JP2013049588A - ガラス基板のスクライブ方法及び加工装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】このスクライブ方法は、圧縮応力を持たせた強化層を表面に有する強化ガラスを、スクライブ予定ラインに沿ってスクライブする方法であって、第1〜第3工程を含む。第1工程は、基板保持用の複数の吸着孔を有するテーブルに強化ガラスを載置するとともに、強化ガラスのスクライブ予定ラインの終端部側のガラス端部を中央部に比較して強い吸着圧で吸着する。第2工程は、強化ガラスの表面に初期亀裂を形成する。第3工程は、強化ガラスの表面にレーザ光を照射して加熱するとともに、加熱された領域を冷却し、スクライブ予定ラインに沿って亀裂を進展させてスクライブ溝を形成する。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の一実施形態による方法を実施するためのスクライブ装置の概略構成を示す図である。スクライブ装置1は、例えば、マザーガラス基板を、FPD(フラットパネルディスプレイ)に使用される複数の単位基板に分断するための装置である。ここでのガラス基板は、表面に強化層が形成された化学強化ガラスが主に用いられている。前述のように、この化学強化ガラスは、イオン交換処理によって表面に圧縮応力を持たせた強化層を有している。
レーザ出力と走査速度とを変えて、それぞれの条件で吸着圧を変えた場合のスクライブ結果を以下に示す。各実験例のまとめを図2に示している。
ガラス基板Gのテーブル2への吸着圧(kPa):5,10,20
レーザ出力:140W
走査速度:190mm/s
この実験例1では、低い吸着圧5kPaではスクライブが可能(図2において「○」で示している)であったが、高い吸着圧10及び20kPaではスクライブすることができなかった(図中「×」で示している)。
ガラス基板Gのテーブル2への吸着圧(kPa):5,10,20
レーザ出力:160W
走査速度:230mm/s
この実験例2では、吸着圧5及び10kPaではスクライブが可能であったが、吸着圧20kPaではスクライブすることができなかった。
ガラス基板Gのテーブル2への吸着圧(kPa):5,10,20
レーザ出力:170W
走査速度:250mm/s
この実験例3では、吸着圧5及び10kPaではスクライブが可能であったが、吸着圧20kPaではスクライブすることができなかった。
ガラス基板Gのテーブル2への吸着圧(kPa):5,10,20
レーザ出力:180W
走査速度:260mm/s
この実験例4では、吸着圧5及び10kPaではスクライブが可能であったが、吸着圧20kPaではスクライブすることができなかった。
以上の知見に基づいて、本実施形態では、以下のようなスクライブ方法によってスクライブ溝が形成される。
この実施形態では、ガラス基板の端部を強い力でテーブル上に保持し、加工中の変形を抑えるようにしたので、ガラス基板端部に深い亀裂が形成されるのを抑えることができる。このため、基板の自然分断を避けることができる。
本発明は以上のような実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲を逸脱することなく種々の変形又は修正が可能である。
2 テーブル
3 カッターホイール
4 レーザ照射部
5 冷却部
6 駆動機構
7a,7b 吸引ポンプ
8 制御部
10 貫通孔
G ガラス基板
Claims (4)
- 圧縮応力を持たせた強化層を表面に有する強化ガラスを、スクライブ予定ラインに沿ってスクライブするガラス基板のスクライブ方法であって、
基板保持用の複数の吸着孔を有するテーブルに強化ガラスを載置するとともに、強化ガラスのスクライブ予定ラインの終端側のガラス端部を中央部に比較して強い吸着圧で吸着する第1工程と、
強化ガラスの表面に初期亀裂を形成する第2工程と、
強化ガラスの表面にレーザ光を照射して加熱するとともに、加熱された領域を冷却し、スクライブ予定ラインに沿って亀裂を進展させてスクライブ溝を形成する第3工程と、
を含むガラス基板のスクライブ方法。 - 前記第1工程では、強化ガラスのスクライブ予定ラインの開始端側のガラス端部を中央部に比較して強い吸着圧で吸着する、請求項1に記載のガラス基板のスクライブ方法。
- 前記第3工程では、互いに直交する複数のスクライブ予定ラインに沿ってスクライブ溝を形成するものであり、
前記第1工程では、強化ガラスの全外周端部を他の領域に比較して強い吸着圧で吸着する、
請求項1に記載のガラス基板のスクライブ方法。 - 圧縮応力を持たせた強化層を表面に有する強化ガラスを、スクライブ予定ラインに沿ってスクライブするガラス基板の加工装置であって、
複数の吸着孔を有し、表面に載置された強化ガラスを吸着して保持するテーブルと、
レーザビームを強化ガラスに照射する照射部と、
前記照射部によって加熱された領域を冷却する冷却部と、
前記照射部及び冷却部を、強化ガラスに設定されたスクライブ予定ラインに沿って相対移動させる移動手段と、
前記テーブルにおける吸着圧を、強化ガラスの少なくともスクライブ予定ラインの終端側の端部が中央部に比較して強くなるように制御する吸着圧制御部と、
を備えたガラス基板の加工装置。
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