JP2013004613A - プラズマ処理装置用トレイ及びプラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明のプラズマ処理装置用トレイ10は、反応容器2内に設けられた基板載置台27の上面に、被処理基板11を収容した状態で載置されるトレイであって、前記基板載置台27の上面に載置されるトレイ本体101と、前記トレイ本体101に設けられた、該トレイ本体101の厚み方向に貫通する開口102と、開口102に着脱可能に装着される環状の基板保持部材と103とを備える。基板保持部材103は、開口102に係合する係合部106と、該基板保持部材103の内周縁の下部に形成された被処理基板11の下面の外周縁を支持する基板支持部105とを有する。
【選択図】図2
Description
前記基板載置台の上面に載置されるトレイ本体と、
前記トレイ本体に設けられた、該トレイ本体の厚み方向に貫通する開口と、
前記開口に着脱可能に装着される環状の基板保持部材と
を備え、
前記基板保持部材が、該基板保持部材の外周縁に設けられた、前記開口に係合する係合部と、該基板保持部材の内周縁の下部に形成された前記被処理基板の下面の外周縁を支持する基板支持部とを有することを特徴とする。
前記基板保持部材の係合部の外周面が、前記開口の内周面に対応するテーパ状に形成されて該開口の内周面に載置される態様で係合することが好ましい。
トレイ本体と、このトレイ本体に設けられた該トレイ本体の厚み方向に貫通する開口と、この開口に着脱可能に装着される環状の基板保持部材とを有するプラズマ処理装置用トレイと、
前記プラズマ処理装置用トレイが載置される基板載置台と、
前記基板載置台に設けられ、前記プラズマ処理装置用トレイを静電吸着する静電チャックと
を備えることを特徴とする。
尚、図示しないが、プラズマ処理装置1は、上記した以外に、プラズマ発生用のガス供給源、真空排気装置、上部電極21や下部電極22に高周波電圧を印加するための高周波電源等を備えている。
まず、被処理基板11をトレイ本体101の上方から基板保持部材103の環状部104内に挿入し、該被処理基板11の下面の周縁部を基板支持部105の上に載置させる。これにより被処理基板11が基板保持部材103内の下部に保持される。この後、トレイ10は搬送ホルダ30に保持された状態で基板載置台27まで搬送され、該基板載置台27上の所定位置に載置される。このとき、トレイ10は、基板保持部材103の下端部が環状溝28に進入した状態で基板載置台27の上に載置される。そして、被処理基板11は誘電層23に載置された後に基板支持部105から離接する。また、トレイ本体101は静電チャック部24によって吸着される。続いて、真空容器2内が減圧されると共に、原料ガスが真空容器2内に導入され、上部電極21及び下部電極22に高周波電圧が印加される。これにより、原料ガスがプラズマ化され、被処理基板11の表面にプラズマ処理が施される。
また、本実施例では各凸部110にも静電チャックを設けたため、トレイ10はもちろん、被処理基板11自身も凸部110に強く静電吸着することができる。
また、トレイ本体の開口の内周面の上部或いは下部に段部を設け、この段部に基板保持部材が着脱可能に装着されるようにしても良い。この場合、基板保持部材の厚み寸法(上下寸法)をトレイ本体の厚み寸法よりも小さくし、開口の内周面の上半部或いは下半部に装着されるようにしても良い。
2…真空容器
2a…処理室
10…プラズマ処理装置用トレイ
101…トレイ本体
102…開口
103…基板保持部材
104…環状部
105…基板支持部
106…係合部
11…被処理基板
21…上部電極
22…下部電極
23…誘電層
24…静電チャック部
25…水冷ジャケット
26…冷却機構
27…基板載置台
28…環状溝
Claims (5)
- 反応容器内に設けられた基板載置台の上面に、被処理基板を収容した状態で載置されるプラズマ処理装置用トレイであって、
前記基板載置台の上面に配置されるトレイ本体と、
前記トレイ本体に設けられた、該トレイ本体の厚み方向に貫通する開口と、
前記開口に着脱可能に装着される環状の基板保持部材と
を備え、
前記基板保持部材が、該基板保持部材の外周縁に設けられた前記開口に係合する係合部と、前記基板保持部材の内周縁の下部に形成された前記被処理基板の下面の外周縁を支持する基板支持部とを有することを特徴とするプラズマ処理装置用トレイ。 - 前記基板保持部材が、前記被処理基板と同じ材料から構成されていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置用トレイ。
- 前記開口の内周面が、下方から上方に向かって拡開するテーパ状に形成され、
前記基板保持部材の係合部の外周面が、前記開口の内周面に対応するテーパ状に形成されて該開口の内周面に載置される態様で係合することを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置用トレイ。 - 前記基板保持部材を前記トレイ本体の開口に装着したとき、該基板保持部材の上端部が該トレイ本体の上面よりも突出することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のプラズマ処理装置用トレイ。
- 請求項1〜4のいずれかに記載のプラズマ処理装置用トレイと、
前記プラズマ処理装置用トレイが載置される基板載置台と、
前記基板載置台に設けられ、前記プラズマ処理装置用トレイを静電吸着する静電チャックと
を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
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