JP2012218121A - 研磨プレート - Google Patents
研磨プレート Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012218121A JP2012218121A JP2011088147A JP2011088147A JP2012218121A JP 2012218121 A JP2012218121 A JP 2012218121A JP 2011088147 A JP2011088147 A JP 2011088147A JP 2011088147 A JP2011088147 A JP 2011088147A JP 2012218121 A JP2012218121 A JP 2012218121A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- polishing plate
- main surface
- support
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
【解決手段】複数の基材と、前記複数の基材それぞれの一方の主面上に配置されており、研磨粒子及びバインダー樹脂を含む相互に独立した複数の研磨ブロックと、前記複数の基材それぞれの他方の主面側に配置されており、前記複数の基材を支持する単一の支持体と、を有することを特徴とする研磨プレートを提供する。
【選択図】図1
Description
複数の基材と、
前記複数の基材それぞれの一方の主面上に配置されており、研磨粒子及びバインダー樹脂を含む相互に独立した複数の研磨ブロックと、
前記複数の基材それぞれの他方の主面側に配置されており、前記複数の基材を支持する単一の支持体と、
を有すること
を特徴とする研磨プレートを提供する。
前記支持体及び前記基材の曲げ弾性率M(MPa)と厚みT(m)とが、
関係式:{M×T}≧3.2(MPa・m)
を満たすこと、
が好ましい。
前記基材が略扇形状であり、
前記支持体が略円盤状で中央部に貫通孔を有すること、
が好ましい。
前記基材及び前記支持体が紫外光透過性を有する材料で構成されていること、
が好ましい。
(1)少なくとも研磨粒子及びバインダー樹脂を含む研磨材料の塗工液を用い、基材の一方の主面上に、相互に独立した複数の研磨ブロックを形成する研磨ブロック形成工程と、
(2)前記基材複数個を、前記基材の他方の主面において単一の支持体に積層することにより、研磨プレートを形成する研磨プレート形成工程と、
を有すること
を特徴とする研磨プレートの製造方法をも提供する。
前記研磨ブロック形成工程(1)において、相互に独立した複数の凹部を有する型に前記塗工液を充填し、充填した前記塗工液を前記基材の一方の主面上に転写する工程、又は、前記塗工液を前記基材の一方の表面上にマスクを介して印刷する工程、を含むこと、
が好ましい。
図1は本発明の研磨プレートの一実施形態の基本構成を示す概略上面図であり、図2は図1に示した実施形態の研磨プレートのX−X線断面を示す概略縦断面図である。以下、図1及び図2に示す第1実施形態の研磨シート1について説明する。
関係式:{M×T}≧3.2(MPa・m)
を満たすことが好ましく、更には、
関係式:{M×T}≧6.4(MPa・m)
を満たすことがより好ましい。
関係式:{M×T}≧3.2(MPa・m)
を満たすことが好ましく、更には、
関係式:{M×T}≧6.4(MPa・m)
を満たすことがより好ましい。
MCナイロン 3500
ポリアセタール 2500
ポリテトラフルオロエチレン 500
ポリエーテルエーテルケトン 4200
超高分子量ポリエチレン 880
ガラス繊維無機フィラーPET樹脂積層板 9000
ポリイミド 4200〜7500
ポリフェニレンサルファイド 3300
ポリ塩化ビニリデン 3000
アクリル樹脂 3200
ポリカーボネート 2300
ポリエチレンテレフタレート 2000
ポリエチレン 1300
ポリプロピレン 1500
ABS樹脂 2100
6ナイロン 2600
66ナイロン 2800
紙フェノール樹脂積層板(紙ベークライト) 8000
布フェノール樹脂積層板(布ベークライト) 6500
ガラス繊維エポキシ樹脂積層板 21000
ガラス繊維シリコーン樹脂積層板 17000
ガラス繊維フェノール樹脂積層板 20000
次に、本実施形態の研磨プレート1の製造方法の一例について説明する。
本実施形態の研磨プレート1の製造方法は、(1)少なくとも研磨粒子及びバインダー樹脂を含む研磨材料の塗工液を用いて、基材2の一方の主面(第1の主面S1)上に、相互に独立した複数の研磨ブロックを形成する研磨ブロック形成工程と、(2)基材2複数個を、基材2の他方の主面(第2の主面S2)において単一の支持体6に積層することにより、研磨プレート1を形成する研磨プレート形成工程と、を有する。以下、個々の製造工程についてより具体的に説明する。
少なくとも研磨粒子及びバインダー樹脂を含む研磨材料の塗工液を用いて、基材2の一方の主面(第1の主面S1)上に、相互に独立した複数の研磨ブロック4を形成する。
次に、上記のように研磨ブロック(研磨ブロック前駆体)4を形成した基材2を8枚、基材2の他方の主面(第2の主面S2)において単一の支持体6に積層することにより、研磨プレート1を得る。
以上、本発明の好適な一実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではない。ここで示された実施形態は本発明の一例に過ぎず、特許請求の範囲の技術的思想及び教示の範囲で種々の設計変更が可能であり、したがって他の実施形態も種々存在し、それらは本発明の技術的範囲に属することは言うまでもない。
(1)塗工液の調製
まず、研磨粒子であるトーメイダイヤ(株)製のダイヤモンド粒子「IRM8−16」(D50:9.0μm、D99:14.0μm)440gと、バインダー樹脂であるエポキシ樹脂(三菱化学(株)製の「JER828」、粘度:120〜150(P/25℃)、エポキシ当量:184〜194)35.0gと、硬化剤である変性芳香族ポリアミン(DIC(株)製の「LUCKAMIDE WH−619」)59.0gと、分散剤である顔料に親和性のあるブロック共重合物長鎖ポリアミノアマイドと酸ポリマーの塩(ビグケミージャパン(株)製のBYK−161)25.56g、希釈剤であるイソホロン(和光純薬工業(株)製の「イソホロン」)18.0gと、をプライミクス(株)製のTKホモミクサーで、室温で10分間混合・攪拌し、研磨材料の塗工液を調製した。
次に、図3に示す構造のマスクを準備した。図3は、本実施例で用いたマスク10の一例を示す概略上面図である。図3に示すように、SUS鋼製メタル版(厚み0.3mm)12に、印刷部分となるφ1160mmの円を8分割して得られる扇形状に対応するように、φ1.4mmの貫通孔12aを扇形状でかつ60°千鳥型(占有面積:36%)に設け、当該メタル版12の周縁部にアルミニウム製枠を設けてマスク10とした。なお、「60°千鳥型」とは、貫通孔12a同士が正三角形の頂点の位置に設けられ、貫通孔12aの中心を結ぶ線の角度が全て60°で配列している構造をいう。また、図3における貫通孔12aは便宜上黒丸で示した。
東海精機(株)製のスクリーン印刷機を用い、上記塗工液を、上記マスクの貫通孔を介して8つの基材に印刷して研磨ブロック前駆体を形成した後、当該基材を循環式オーブン内に載置し、60℃及び3日間の条件で研磨ブロック前駆体を硬化させた。
その後、三菱レイヨン(株)製の円盤状のアクリル板(厚み2mm、φ1160mm、曲げ弾性率:3200MPa)を支持体として用い、これの表面に接着層として日東電工(株)製の両面粘着材535Aを貼り付け、ここに上記基材の第2の主面側で積層して張り合わせることにより、本発明の研磨プレートを得た。
基材として、PETフィルム(帝人デュポン(株)製のメリネックス542、厚み0.075mm、φ1000mm、曲げ弾性率:2000MPa)を用い、支持体として、市販のポリ塩化ビニル板(厚み1mm、φ1000mm、曲げ弾性率:2940MPa)を用い、マスクに代えて凹部を有する型を用いて型へのスクリーン印刷後に転写により基材に研磨ブロック前駆体を形成した以外は、上記実施例と同様にして、比較用の研磨プレートを得た。
上記比較例においては、基材、支持体及び研磨プレートの取扱いが困難であり、屈曲したり、基材と支持体との間に空気が入り込んだりしてしまったが、上記実施例においては、大面積を有していても屈曲等により損傷しにくく取扱いが容易であり、大きな型や製造装置を用いずに欠陥なく研磨シートを作製することができた。
2・・・基材、
2a・・・開口部、
4・・・研磨ブロック、
6・・・支持体、
6a・・・貫通孔、
10・・・マスク、
12・・・メタル版、
12a・・・貫通孔、
14・・・枠。
Claims (8)
- 複数の基材と、
前記複数の基材それぞれの一方の主面上に配置されており、研磨粒子及びバインダー樹脂を含む相互に独立した複数の研磨ブロックと、
前記複数の基材それぞれの他方の主面側に配置されており、前記複数の基材を支持する単一の支持体と、
を有すること
を特徴とする研磨プレート。 - 前記支持体及び前記基材の曲げ弾性率M(MPa)と厚みT(m)とが、
関係式:{M×T}≧3.0(MPa・m)
を満たすこと、
を特徴とする請求項1に記載の研磨プレート。 - 前記基材が略扇形状であり、
前記支持体が略円盤状で中央部に貫通孔を有すること、
を特徴とする請求項1又は2に記載の研磨プレート。 - 前記基材及び前記支持体が紫外光透過性を有する材料で構成されていること、
を特徴とする請求項1〜3のうちのいずれかに記載の研磨プレート。 - (1)少なくとも研磨粒子及びバインダー樹脂を含む研磨材料の塗工液を用い、基材の一方の主面上に、相互に独立した複数の研磨ブロックを形成する研磨ブロック形成工程と、
(2)前記基材複数個を、前記基材の他方の主面において単一の支持体に積層することにより、研磨プレートを形成する研磨プレート形成工程と、
を有すること
を特徴とする請求項1〜4のうちのいずれかに記載の研磨プレートの製造方法。 - 前記研磨ブロック形成工程(1)において、相互に独立した複数の凹部を有する型に前記塗工液を充填し、充填した前記塗工液を前記基材の一方の主面上に転写する工程、又は、前記塗工液を前記基材の一方の表面上にマスクを介して印刷する工程、を含むこと、
を特徴とする請求項5に記載の研磨プレートの製造方法。 - 前記研磨ブロック形成工程(1)において紫外線照射により研磨ブロックを硬化させる工程を含むこと、
を特徴とする請求項5又は6に記載の研磨プレートの製造方法。 - 前記紫外線照射を前記研磨プレート形成工程(2)の後に行うこと、
を特徴とする請求項7に記載の研磨プレートの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011088147A JP2012218121A (ja) | 2011-04-12 | 2011-04-12 | 研磨プレート |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011088147A JP2012218121A (ja) | 2011-04-12 | 2011-04-12 | 研磨プレート |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012218121A true JP2012218121A (ja) | 2012-11-12 |
Family
ID=47270210
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011088147A Pending JP2012218121A (ja) | 2011-04-12 | 2011-04-12 | 研磨プレート |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012218121A (ja) |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08243931A (ja) * | 1995-03-07 | 1996-09-24 | Nippon Micro Coating Kk | 研磨シート及びその製造方法 |
JPH09201761A (ja) * | 1996-01-29 | 1997-08-05 | Noritake Co Ltd | 複合材料のポリシング加工方法 |
JPH1142552A (ja) * | 1997-07-30 | 1999-02-16 | Speedfam Co Ltd | ペレット定盤及びその製造方法 |
JP2002542057A (ja) * | 1999-04-23 | 2002-12-10 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ガラスおよびガラスセラミックワークピースを研摩するのに好適な研摩物品 |
JP2003266321A (ja) * | 2002-03-18 | 2003-09-24 | Goichi Sasai | 研磨シート及びこれを用いた板状体の表面処理方法 |
JP2004009145A (ja) * | 2002-06-03 | 2004-01-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 研磨媒体 |
JP2005177961A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Okamoto Machine Tool Works Ltd | 研磨装置 |
JP2005297165A (ja) * | 2004-04-15 | 2005-10-27 | Ricoh Co Ltd | 研磨具およびその製造方法 |
JP2009262295A (ja) * | 2008-04-28 | 2009-11-12 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 仕上研磨用定盤 |
-
2011
- 2011-04-12 JP JP2011088147A patent/JP2012218121A/ja active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08243931A (ja) * | 1995-03-07 | 1996-09-24 | Nippon Micro Coating Kk | 研磨シート及びその製造方法 |
JPH09201761A (ja) * | 1996-01-29 | 1997-08-05 | Noritake Co Ltd | 複合材料のポリシング加工方法 |
JPH1142552A (ja) * | 1997-07-30 | 1999-02-16 | Speedfam Co Ltd | ペレット定盤及びその製造方法 |
JP2002542057A (ja) * | 1999-04-23 | 2002-12-10 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ガラスおよびガラスセラミックワークピースを研摩するのに好適な研摩物品 |
JP2003266321A (ja) * | 2002-03-18 | 2003-09-24 | Goichi Sasai | 研磨シート及びこれを用いた板状体の表面処理方法 |
JP2004009145A (ja) * | 2002-06-03 | 2004-01-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 研磨媒体 |
JP2005177961A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Okamoto Machine Tool Works Ltd | 研磨装置 |
JP2005297165A (ja) * | 2004-04-15 | 2005-10-27 | Ricoh Co Ltd | 研磨具およびその製造方法 |
JP2009262295A (ja) * | 2008-04-28 | 2009-11-12 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 仕上研磨用定盤 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100857504B1 (ko) | 연마 패드용 쿠션층 | |
CN102123830B (zh) | 磨料产品及其制备方法和使用方法 | |
TWI517975B (zh) | 拋光墊及其製造方法 | |
KR101181885B1 (ko) | 연마 패드 | |
US10058970B2 (en) | Interrupted structured abrasive article and methods of polishing a workpiece | |
WO2011129254A1 (ja) | 研磨パッド | |
TW201600233A (zh) | 研磨墊及研磨墊的製造方法 | |
WO2013099556A1 (ja) | 研磨パッド | |
JP4986129B2 (ja) | 研磨パッド | |
TWI702281B (zh) | 研磨材及研磨材的製造方法 | |
JP2012218121A (ja) | 研磨プレート | |
JP4181930B2 (ja) | 研磨パッド積層体 | |
JP2003103471A (ja) | 弾性層を有する研磨シート | |
JP2008000823A (ja) | 研磨キャリア | |
JP4845347B2 (ja) | 研磨パッドおよびその製造方法 | |
JP2005046960A (ja) | クッション性を有する研磨シート | |
JP5100241B2 (ja) | 研磨パッド及びその製造方法 | |
TW201742709A (zh) | 研磨材 | |
JP2012139812A (ja) | 研磨シート及びその製造方法 | |
JP7193221B2 (ja) | 研磨パッド及びその製造方法、並びに、研磨加工品の製造方法 | |
JP5953664B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス素板および磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2024050253A (ja) | 保持具、及び保持具の製造方法 | |
JP2011016169A (ja) | 研磨パッド及び研磨パッドの製造方法 | |
JP2002001650A (ja) | 研磨パッドおよび板状材の研磨方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140131 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141017 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141023 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141208 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150220 |