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  1. ゲート電極
    前記ゲート電極上ゲート絶縁層
    前記ゲート絶縁層上酸化物半導体層
    前記酸化物半導体層上ソース電極及びドレイン電極と、を有するトランジスタであって
    前記ソース電極の外縁から、前記ドレイン電極の外縁に達する前記酸化物半導体層の外縁の長さが、前記トランジスタのチャネル長の3倍以上であることを特徴とするトランジスタ
  2. ゲート電極と、
    前記ゲート電極上のゲート絶縁層と、
    前記ゲート絶縁層上の酸化物半導体層と、
    前記酸化物半導体層上のソース電極及びドレイン電極と、を有するトランジスタであって、
    前記酸化物半導体層の外縁は、前記ソース電極の外縁と重なる第1の部分と、前記ドレイン電極の外縁と重なる第2の部分と、前記ソース電極及び前記ドレイン電極のいずれの外縁とも重ならない第3の部分とを有し、
    前記第3の部分の長さは、前記トランジスタのチャネル長の3倍以上であることを特徴とするトランジスタ。
  3. 請求項1または請求項2のいずれか一項において、
    前記酸化物半導体層の側面、酸素を含む絶縁層と接することを特徴とするトランジスタ
  4. 請求項1乃至請求項のいずれか一項において、
    前記酸化物半導体層は、非単結晶であることを特徴とするトランジスタ
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