JP2012146712A - クリーニング方法およびクリーニング装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】クリーニング装置40は、表面に炭素コンタミネーション44が付着した多層膜ミラー41を収容する処理室43を備えている。処理室43の上面には、水銀ランプ45を備えた光照射装置46が設置され、この水銀ランプ45から発する波長254nmの深紫外光が処理室43の内部に照射される。また、処理室43の内部には、酸素供給源51から酸素ガスが導入され、不飽和炭化水素供給源52からエチレンガスが導入される。処理室43の内部に導入された酸素ガスおよびエチレンガスに深紫外光が照射されると、これらのガスから生じたイオンやラジカルが炭素コンタミネーション44を分解する。
【選択図】図1
Description
11 EUV光源
12 EUV露光光束
13 照明光学系
14、15、16 照明ミラー
17 折り返しミラー
21 マスク
22 マスクステージ
23 ウエハ
24 ウエハステージ
25 チャンバ
26A、26B、26C、26D ポンプ
31、32、33、34、35、36 投影ミラー
37 投影光学系
40 クリーニング装置
41 多層膜ミラー
42 ステージ
43 処理室
44 炭素コンタミネーション
45 水銀ランプ
46 光照射装置
47 ウインドウ
48 ヒータ
51 酸素供給源
52 不飽和炭化水素供給源
53a、53b 配管
54 排気装置
55a、55b バルブ
61 基板
62 多層膜
63 キャッピング層
64 バッファー層
65 吸収体
66 メタル層
72 基板
73 多層膜
74 キャッピング層
Claims (8)
- 被処理部材の近傍に酸素と不飽和炭化水素とを含む混合ガスを供給し、前記混合ガスに深紫外光および/または真空紫外光を照射することにより、前記被処理部材の表面の炭素コンタミネーションを分解・除去することを特徴とするクリーニング方法。
- 前記不飽和炭化水素は、エチレンであることを特徴とする請求項1記載のクリーニング方法。
- 前記混合ガスは、前記酸素と前記不飽和炭化水素のモル比が、酸素:不飽和炭化水素=1:1×10−3〜1の範囲であることを特徴とする請求項1記載のクリーニング方法。
- 被処理部材の表面の炭素コンタミネーションを分解・除去するクリーニング装置であって、
前記被処理部材を収容する処理室と、前記処理室の内部に深紫外光および/または真空紫外光を照射する光照射装置と、前記処理室の内部に酸素と不飽和炭化水素とを含む混合ガスを供給するガス供給源とを備えていることを特徴とするクリーニング装置。 - 前記不飽和炭化水素は、エチレンであることを特徴とする請求項4記載のクリーニング装置。
- 前記混合ガスは、前記酸素と前記不飽和炭化水素のモル比が、酸素:不飽和炭化水素=1:1×10−3〜1の範囲であることを特徴とする請求項4記載のクリーニング装置。
- 前記光照射装置は、前記深紫外光を発する水銀ランプ、前記深紫外光を発するKrClエキシマランプ、前記真空紫外光を発するXe2エキシマランプのうち、いずれか1種以上を備えていることを特徴とする請求項4記載のクリーニング装置。
- 前記被処理部材を所定の温度に加熱する加熱装置をさらに備えていることを特徴とする請求項4記載のクリーニング装置。
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