JP2012140008A - Release film having excellent static electricity proofness, and method of manufacturing same - Google Patents

Release film having excellent static electricity proofness, and method of manufacturing same Download PDF

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ヒー スン キム
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    • C09D183/04—Polysiloxanes
    • C09D183/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a release film exhibiting good releasability concerning release force, a remaining adhesion rate and the like and having excellent static electricity proofness, and to provide a method of manufacturing the same.SOLUTION: The release film including a base material film 10 and a release layer 20 has a static electricity proof layer 30 containing a binder and an antistatic agent. The method of manufacturing the same is also provided. Since the release film exhibits good releasability concerning the release force, the remaining adhesion rate and the like and has excellent static electricity proofness, the release film can be effectively used for a product in the IT field or the like.

Description

本発明は、静電気防止性能に優れた離型フィルム及びその製造方法に関し、より詳しくは、良好な離型特性を有し、且つ静電気防止性能に優れた離型フィルム及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a release film excellent in antistatic performance and a method for producing the same, and more particularly relates to a release film having good release characteristics and excellent in antistatic performance and a method for producing the same.

一般に、離型フィルムは、粘着剤層（または、接着剤層）の保護を主な目的として使用される。離型フィルムは、一般の産業用粘着（または、接着）テープなどに多用されており、近年、携帯電話、ＬＣＤ、半導体、ディスプレイなどのＩＴ分野などにおいてもその使用が急増している。   In general, the release film is used mainly for the purpose of protecting the pressure-sensitive adhesive layer (or adhesive layer). Release films are widely used in general industrial adhesive (or adhesive) tapes, and their use is rapidly increasing in recent years in IT fields such as mobile phones, LCDs, semiconductors, and displays.

離型フィルムは、基材フィルムと離型層を含む。基材フィルムとしては、紙やプラスチックフィルムが多用され、離型層は、主にシリコーン組成物からなる。離型フィルムは、離型力とともに残留接着率などの離型特性が要求される。具体的に、粘（接）着剤層からの適切な離型力（剥離力）とともに、離型層の成分が粘（接）着剤層に転写されることで粘（接）着力を低下させることのない残留接着率などが要求される。   The release film includes a base film and a release layer. As the base film, paper and plastic films are frequently used, and the release layer is mainly composed of a silicone composition. The release film is required to have release characteristics such as a residual adhesion rate as well as a release force. Specifically, along with the appropriate release force (peeling force) from the adhesive (contact) adhesive layer, the components of the release layer are transferred to the adhesive (adhesive) adhesive layer to reduce the adhesive (contact) adhesive force. Residual adhesion rate that is not allowed to occur is required.

一方、近年、ＩＴ分野の製品において合成樹脂や合成繊維の使用が急増するに伴い、静電気の問題が台頭してきている。これに伴い、ＩＴ製品に使用される離型フィルム対しても静電気防止性能が要求されてきている。   On the other hand, in recent years, with the rapid increase in the use of synthetic resins and synthetic fibers in products in the IT field, the problem of static electricity has emerged. Along with this, anti-static performance has been required for release films used in IT products.

しかしながら、従来の離型フィルムは、所望の静電気防止性能を持っておらず、静電気の発生により離型フィルムが損傷したり、特に静電気の発生量の多いＩＴ分野の製品への適用の際、粘（接）着剤層から剥離する際に静電気により汚れが発生したりするなどの問題が提起されていた。特に、周囲の異物が静電気により粘（接）着剤に混入したりすることが発生し、製品の不良を誘発させるという問題が深刻に台頭してきている。   However, the conventional release film does not have the desired antistatic performance, and the release film is damaged due to the generation of static electricity. Especially when applied to products in the IT field where the amount of static electricity is large. (Contact) There have been raised problems such as generation of dirt due to static electricity when peeling from the adhesive layer. In particular, surrounding foreign matters are sometimes mixed into the adhesive (adhesive) due to static electricity, and the problem of inducing product defects has become serious.

このため、従来は、離型フィルムの離型層に静電気防止物質を添加する技術が試みられていたが、この場合、離型フィルムにおいて要求される離型力や残留接着率などの離型特性が劣化し、且つ静電気防止性能も良好ではなく、ＩＴ分野の製品への適用には不向きであるという問題があった。   For this reason, conventionally, a technique for adding an antistatic substance to the release layer of the release film has been attempted. In this case, however, release characteristics such as release force and residual adhesive rate required for the release film are used. Deteriorated and the antistatic performance is not good, and there is a problem that it is not suitable for application to products in the IT field.

KR2005-0034776KR2005-0034776 KR1999-0019010KR1999-0019010

本発明は、前記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、離型力及び残留接着率などの離型特性が良好であり、且つ静電気防止性能に優れた離型フィルム及びその製造方法を提供することである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and its object is to provide a release film having good release characteristics such as release force and residual adhesion rate and excellent antistatic performance, and a method for producing the release film. Is to provide.

本発明の具現例では、基材フィルム及び離型層を含む離型フィルムであって、前記離型フィルムは、バインダーと静電気防止剤を含有した静電気防止層を含む離型フィルムを提供する。   The embodiment of the present invention provides a release film including a base film and a release layer, wherein the release film includes an antistatic layer containing a binder and an antistatic agent.

また、本発明の他の具現例では、基材フィルム及び離型層を含む離型フィルムの製造方法であって、前記基材フィルムの片面または両面に、バインダーと静電気防止剤を含有した静電気防止組成物をコーティングするステップを含む離型フィルムの製造方法を提供する。   According to another embodiment of the present invention, there is provided a method for producing a release film including a base film and a release layer, wherein the base film includes a binder and an antistatic agent on one or both sides. A method for producing a release film comprising the step of coating a composition is provided.

本発明の一具現例において、前記静電気防止層には、前記バインダー５〜２５重量部に対し、前記静電気防止剤が１〜３０重量部含有される。   In one embodiment of the present invention, the antistatic layer contains 1 to 30 parts by weight of the antistatic agent with respect to 5 to 25 parts by weight of the binder.

本発明の具現例に係る離型フィルムは、離型力及び残留接着率などの離型特性が良好であり、且つ優れた静電気防止性能を有する。   The release film according to the embodiment of the present invention has good release characteristics such as release force and residual adhesive rate, and has excellent antistatic performance.

図１は、本発明の一つの例示的な具現例に係る離型フィルムの断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a release film according to an exemplary embodiment of the present invention. 図２は、本発明の他の例示的な具現例に係る離型フィルムの断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a release film according to another exemplary embodiment of the present invention. 図３は、本発明のまた他の例示的な具現例に係る離型フィルムの断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of a release film according to another exemplary embodiment of the present invention. 図４は、本発明の具現例に使用される静電気防止剤としての伝導性高分子の一般式を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a general formula of a conductive polymer as an antistatic agent used in an embodiment of the present invention.

以下、添付した図面を参照しつつ、本発明の具現例を詳しく説明する。   Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

本発明の具現例に係る離型フィルムは、基材フィルムと離型層を含み、さらに、静電気防止層を含む。前記静電気防止層は、基材フィルムの片面または両面に形成されていてよく、前記離型層は、前記静電気防止層上に形成されるか、または前記静電気防止層が片面に形成された基材フィルムの片面と反対側面に形成されていてよい。   A release film according to an embodiment of the present invention includes a base film and a release layer, and further includes an antistatic layer. The antistatic layer may be formed on one side or both sides of a base film, and the release layer is formed on the antistatic layer, or the base material on which the antistatic layer is formed on one side. It may be formed on the side opposite to one side of the film.

図１ないし図３を参照して説明すると、本発明の具現例に係る離型フィルムは、基材フィルム１０と離型層２０を含む。また、本発明の具現例に係る離型フィルムは、別体の層として静電気防止層３０をさらに含む。本発明の具現例において、前記静電気防止層３０は、離型層２０の離型特性を損なうことなく、優れた静電気防止性能を与えるべく、基材フィルム１０及び離型層２０とは別体の層として形成される。   Referring to FIGS. 1 to 3, a release film according to an embodiment of the present invention includes a base film 10 and a release layer 20. The release film according to the embodiment of the present invention further includes an antistatic layer 30 as a separate layer. In an embodiment of the present invention, the antistatic layer 30 is separate from the base film 10 and the release layer 20 in order to provide excellent antistatic performance without impairing the release characteristics of the release layer 20. Formed as a layer.

本発明の具現例に係る離型フィルムにおいて、前記静電気防止層１０は、１層または２層以上含まれていてよい。図１ないし図３においては、例示的な具現例を示している。図１ないし図３に示すように、前記静電気防止層３０は、基材フィルム１０の下面に形成（図１）されるか、または基材フィルム１０と離型層２０との間に形成（図２）されていてよい。また、静電気防止層３０は、基材フィルム１０の下面に加え、基材フィルム１０と離型層２０との間にも形成（図３）されていてよい。   In the release film according to the embodiment of the present invention, the antistatic layer 10 may be included in one layer or two or more layers. 1 to 3 show exemplary implementations. As shown in FIGS. 1 to 3, the antistatic layer 30 is formed on the lower surface of the base film 10 (FIG. 1) or formed between the base film 10 and the release layer 20 (see FIG. 1). 2) It may be done. The antistatic layer 30 may also be formed between the base film 10 and the release layer 20 (FIG. 3) in addition to the lower surface of the base film 10.

具体的に詳述すると、本発明の例示的な具現例に係る離型フィルムは、静電気防止層３０を含み、図１に示すように、表面（図中、上面）から離型層２０、基材フィルム１０、及び静電気防止層３０が順次積層されてなる構造を有していてよい。または、図２に示すように、表面（図中、上面）から離型層２０、静電気防止層３０、及び基材フィルム１０が順次積層されてなる構造を有していてよい。または、図３に示すように、表面（図中、上面）から離型層２０、静電気防止層３０、基材フィルム１０、及び静電気防止層３０が順次積層されてなる、２層の静電気防止層３０を含む構造を有していてよい。   Specifically, the release film according to an exemplary embodiment of the present invention includes an antistatic layer 30, and as shown in FIG. The material film 10 and the antistatic layer 30 may be sequentially laminated. Or as shown in FIG. 2, you may have the structure where the mold release layer 20, the antistatic layer 30, and the base film 10 are laminated | stacked sequentially from the surface (upper surface in a figure). Alternatively, as shown in FIG. 3, two layers of antistatic layers, in which a release layer 20, an antistatic layer 30, a base film 10, and an antistatic layer 30 are sequentially laminated from the surface (the upper surface in the drawing). It may have a structure including 30.

前記基材フィルム１０は支持力を有するものであればよい。基材フィルム１０は、例えば、紙、不織布、及びプラスチックフィルムなどから選択されるものであればよい。例示的な具現例において、前記基材フィルム１０は、プラスチックフィルムであり、例えば、ポリエステル系及び／またはポリオレフィン系を含むフィルムであってよい。基材フィルム１０は、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ；ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（Ｐｏｌｙｂｕｔｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ；ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ；ＰＥＮ）、ポリブチレンナフタレート（Ｐｏｌｙｂｕｔｙｌｅｎｅｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ；ＰＢＮ）、ポリエチレン（ｐｏｌｙｅｔｙｌｅｎｅ；ＰＥ）、及びポリプロピレン（Ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ；ＰＰ）などからなる群より選択された１種以上の樹脂を含むフィルムが使用されてよいが、必ずしもこれらに制限されるものではない。   The base film 10 only needs to have a supporting force. The base film 10 may be selected from, for example, paper, non-woven fabric, and plastic film. In an exemplary embodiment, the base film 10 is a plastic film, and may be a film including a polyester system and / or a polyolefin system, for example. The base film 10 is preferably made of polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate (PEN), or polybutylene phthalate (PPE). ), And a film containing one or more kinds of resins selected from the group consisting of polypropylene (PP) and the like may be used, but the film is not necessarily limited thereto.

前記離型層２０は、良好な離型力（剥離力）と残留接着率などの離型特性を有するものであればよい。離型層２０は、好ましくは、シリコーン組成物がコーティングされたシリコーン離型層であればよい。離型層２０としてのシリコーン離型層は、例えば、分子内にＳｉ−Ｈ結合を持つ化合物とポリシロキサンとの重合体を含むものであればよい。商業用製品としては、例えば３７０５（商標）（信越社製）または７２２６（商標）（ダウコーニング社製）などを使用してよい。例示的な具現例において、前記離型層２０は、オルガノポリシロキサン、オルガノヒドロポリシロキサン、白金キレート、及び溶媒を含むシリコーン組成物がコーティング、硬化されて形成されたものであればよい。より具体的に、前記離型層２０は、オルガノポリシロキサン１００重量部を基準にして、オルガノヒドロポリシロキサン０．１ないし１０重量部、百金キレート０．１ないし３重量部、及び溶媒１００ないし２０００重量部を含むシリコーン組成物がコーティング、硬化されて形成されたものであればよい。   The release layer 20 may have any release characteristics such as a good release force (peeling force) and a residual adhesion rate. The release layer 20 is preferably a silicone release layer coated with a silicone composition. The silicone release layer as the release layer 20 may be, for example, one containing a polymer of a compound having a Si—H bond in the molecule and polysiloxane. As a commercial product, for example, 3705 (trademark) (manufactured by Shin-Etsu) or 7226 (trademark) (manufactured by Dow Corning) may be used. In the exemplary embodiment, the release layer 20 may be formed by coating and curing a silicone composition containing an organopolysiloxane, an organohydropolysiloxane, a platinum chelate, and a solvent. More specifically, the release layer 20 is based on 100 parts by weight of the organopolysiloxane, 0.1 to 10 parts by weight of the organohydropolysiloxane, 0.1 to 3 parts by weight of the hundred gold chelate, and 100 to 100 parts of the solvent. Any silicone composition containing 2000 parts by weight may be formed by coating and curing.

このとき、シリコーン組成物を構成する前記溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば、トルエン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、及びｎ−ヘキサンなどから選択された１種の溶媒、または２種以上の混合溶媒を使用すればよい。   At this time, the solvent constituting the silicone composition is not particularly limited, but for example, one solvent selected from toluene, methyl ethyl ketone (MEK), n-hexane, and the like, or two or more solvents A mixed solvent may be used.

離型層２０が、前記のような成分及び適正含量の組成を有するシリコーン組成物からなる場合、離型力（剥離力）及び残留接着率などの離型特性において有利である。前記離型層２０は、離型性組成物、好ましくは、前記したようなシリコーン組成物が基材フィルム１０上にコーティング（図１の場合）されるか、または静電気防止層３０上にコーティング（図２及び図３の場合）されてなるものであればよい。   When the release layer 20 is made of a silicone composition having the above components and an appropriate content, it is advantageous in release characteristics such as a release force (peeling force) and a residual adhesion rate. The release layer 20 is formed by coating a release composition, preferably a silicone composition as described above, on the base film 10 (in the case of FIG. 1) or coating on the antistatic layer 30 ( 2 and FIG. 3).

ここで、コーティング方法は、例えば、グラビア（Ｇｒａｖｕｒｅ）コーティング、マイクログラビア（Ｍｉｃｒｏ Ｇｒａｖｕｒｅ）コーティング、キスグラビア（ｋｉｓｓ Ｇｒａｖｕｒｅ）コーティング、コンマナイフ（Ｃｏｍｍａ Ｋｎｉｆｅ）コーティング、ロール（Ｒｏｌｌ）コーティング、スプレー（Ｓｐｒａｙ）コーティング、メイヤーバー（Ｍｅｙｅｒ Ｂａｒ）コーティング、スロットダイ（Ｓｌｏｔ Ｄｉｅ）コーティング、及びリバース（Ｒｅｖｅｒｓｅ）コーティング方法から選択されたいずれかを利用してよいが、必ずしもこれらに限定されるものではない。   Here, the coating method may be, for example, a gravure coating, a micro gravure coating, a kiss gravure coating, a comma knife coating, a roll coating, or a spray coating. Any one selected from a Meyer Bar coating, a Slot Die coating, and a Reverse coating method may be used, but the present invention is not limited thereto.

また、前記離型層２０は、０．０５〜１μｍのコーティング厚さを有していてよい。このとき、離型層２０のコーティング厚さが０．０５μｍ未満であれば、良好な離型特性が得られにくく、１μｍを超過すれば、ブロッキングの発生可能性が高くなる。離型層２０は、好ましくは、０．１〜０．３μｍのコーティング厚さを有していてよい。   The release layer 20 may have a coating thickness of 0.05 to 1 μm. At this time, if the coating thickness of the release layer 20 is less than 0.05 μm, it is difficult to obtain good release characteristics, and if it exceeds 1 μm, the possibility of blocking increases. The release layer 20 may preferably have a coating thickness of 0.1 to 0.3 μm.

前記静電気防止層３０は、バインダーと静電気防止剤を含む。前記バインダーは、静電気防止剤同士はもちろん、層間接着力、すなわち静電気防止層３０と基材フィルム１０及び／または離型層２０との間の層間接着力のために使用される。バインダーは、接着力を有するものであれば特に制限されない。前記バインダーは、水溶性または不水溶性（有機溶剤タイプ）などを含み、例えば、アクリル基、ウレタン基、エポキシ基、アミド基、水酸基、及びシラン基などから選択された１種以上の官能基を有する高分子化合物を単独または２種以上混合して使用してよい。非制限的な例示として、バインダーは、ポリアクリル、ポリアクリレート、ポリウレタン、ポリエポキシ、ポリアミド、ポリエステル、エチルビニルアセテート、ポリシロキサン、及びこれらの共重合体などから選択された１種以上を使用してよい。   The antistatic layer 30 includes a binder and an antistatic agent. The binder is used not only for antistatic agents but also for interlayer adhesion, that is, interlayer adhesion between the antistatic layer 30 and the base film 10 and / or the release layer 20. The binder is not particularly limited as long as it has an adhesive force. The binder includes water-soluble or water-insoluble (organic solvent type) and the like, for example, one or more functional groups selected from an acrylic group, a urethane group, an epoxy group, an amide group, a hydroxyl group, and a silane group. You may use the high molecular compound which has it individually or in mixture of 2 or more types. As a non-limiting example, the binder may be one or more selected from polyacryl, polyacrylate, polyurethane, polyepoxy, polyamide, polyester, ethyl vinyl acetate, polysiloxane, and copolymers thereof. Good.

前記静電気防止剤は、静電気防止（帯電防止）性能を有するものであれば特に制限されない。前記静電気防止剤は、例えば、伝導性高分子、炭素素材及び界面活性剤などからなる群より選択された１種以上を使用してよい。   The antistatic agent is not particularly limited as long as it has antistatic (antistatic) performance. As the antistatic agent, for example, one or more selected from the group consisting of a conductive polymer, a carbon material, a surfactant, and the like may be used.

本発明の例示的な具現例において使用される前記伝導性高分子の例として、ポリアセチレン（Ｐｏｌｙａｃｅｔｙｌｅｎｅ）、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）（Ｐｏｌｙ（ｐ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ ｖｉｎｙｌｅｎｅ））、ポリ（ｐ−フェニレン）（Ｐｏｌｙ（ｐ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ））、ポリ（チエニレンビニレン）（Ｐｏｌｙ（ｔｈｉｅｎｙｌｅｎｅ ｖｉｎｙｌｅｎｅ））、ポリチオフェン（Ｐｏｌｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）、ポリアニリン（Ｐｏｌｙａｎｉｌｉｎｅ）、ポリエチレンジオキシチオフェン（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）、ポリイソチアナフテン（Ｐｏｌｙｉｓｏｔｈｉａｎａｐｈｔｈｅｎｅ）、ポリピロール（Ｐｏｌｙｐｙｒｒｏｌｅ）、及びポリ（ｐ−フェニレンスルフィド）（Ｐｏｌｙ（ｐ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ ｓｕｌｆｉｄｅ）などからなる群より選択された１種以上が挙げられる。参考として、図４は、前記伝導性高分子の一般式を示す図である。   Examples of the conductive polymer used in the exemplary embodiment of the present invention include polyacetylene, poly (p-phenylene vinylene), poly (p-phenylene) ( Poly (p-phenylene)), poly (thienylene vinylene) (Poly (thienylene vinylene)), polythiophene (Polythiophene), poly (diethylenethiophene), poly (diethylenethiophene) (Polypyrrole) and poly (p-phenylene sulfide) (Po As y (p-phenylene sulfide) includes one or more selected from the group consisting of a. Reference, FIG. 4 is a diagram showing the general formula of the conductive polymer.

前記炭素素材として、カーボンブラック（ｃａｒｂｏｎ ｂｌａｃｋ）、グラファイト（ｇｒａｐｈｉｔｅ）、グラフェン（ｇｒａｐｈｅｎｅ）、炭素ナノチューブ（ＣＮＴ、ｃａｒｂｏｎ ｎａｎｏ ｔｕｂｅ）、及び炭素ナノ繊維（ＣＮＦ、ｃａｒｂｏｎ ｎａｎｏ ｆｉｂｅｒ）などからなる群より選択された１種以上が例として挙げられる。また、前記界面活性剤としては、スルホン酸塩、第４級アンモニウム塩、ラウリルジメチルベンジルアンモニウム塩などが例として挙げられる。   The carbon material is selected from the group consisting of carbon black, graphite, graphene, carbon nanotube (CNT), carbon nanofiber (CNF), carbon nanofiber, and the like. One or more of them are listed as examples. Examples of the surfactant include sulfonate, quaternary ammonium salt, lauryldimethylbenzylammonium salt and the like.

前記静電気防止剤は、前記したような伝導性高分子、炭素素材、及び界面活性剤などを使用してよいが、好ましくは、ポリエチレンジオキシチオフェン（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ；ＰＥＤＯＴ）を含むものであればよい。具体的に、前記静電気防止剤としては、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）単独を使用するか、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）と前記挙げられた静電気防止剤のうち１種以上を混合してなるものを使用してよい。前記ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）は、可視光線透過率が高く、重合の際にドーパントとしてポリスチレンスルホン酸（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅｓｕｌｆｏｎａｔｅ）を使用することから、基材フィルム１０上へのコーティングの際に他の伝導性高分子に比べてコーティング安定性に優れ、バインダーとの混合特性に優れ、且つ高い静電気防止性能を発揮するため、本発明に有用である。   The antistatic agent may use a conductive polymer, a carbon material, a surfactant, and the like as described above, and preferably includes any one containing polyethylene dioxythiophene (PEDOT). . Specifically, as the antistatic agent, polyethylenedioxythiophene (PEDOT) alone is used, or a mixture of polyethylenedioxythiophene (PEDOT) and one or more of the antistatic agents mentioned above. May be used. The polyethylene dioxythiophene (PEDOT) has a high visible light transmittance, and uses polystyrene sulfonate as a dopant during polymerization. Therefore, other conductivity is applied when coating on the base film 10. It is useful for the present invention because it is superior in coating stability as compared with a polymer, has excellent mixing characteristics with a binder, and exhibits high antistatic performance.

本発明の好適な具現例において、静電気防止層３０には、バインダー５〜２５重量部に対し、静電気防止剤が１〜３０重量部含有されていてよい。すなわち、前記バインダーと静電気防止剤とは、５〜２５：１〜３０の重量比の組成を有してよい（バインダー重量：静電気防止剤重量＝５〜２５：１〜３０）。ここで、バインダーの含量が５重量部と低すぎると接着力が弱化するため基材フィルム１０などとの層間接着力が劣化し、２５重量部を超過して含量が多すぎると相対的に静電気防止剤の含量が低くなるため、良好な静電気防止性能が得られにくい。また、静電気防止剤の含量が１重量部未満であるとそれを含有することによる静電気防止性能が微弱であり、３０重量部を超過すると相対的にバインダーの含量が低くなるため、層間接着力が劣化し、好ましくない。   In a preferred embodiment of the present invention, the antistatic layer 30 may contain 1 to 30 parts by weight of an antistatic agent with respect to 5 to 25 parts by weight of the binder. That is, the binder and the antistatic agent may have a composition having a weight ratio of 5 to 25: 1 to 30 (binder weight: antistatic agent weight = 5 to 25: 1 to 30). Here, if the binder content is too low, such as 5 parts by weight, the adhesive strength is weakened, so that the interlaminar adhesive strength with the base film 10 and the like is deteriorated. Since the content of the inhibitor is low, it is difficult to obtain good antistatic performance. Further, when the content of the antistatic agent is less than 1 part by weight, the antistatic performance due to the inclusion thereof is weak, and when it exceeds 30 parts by weight, the binder content becomes relatively low, so that the interlayer adhesion is It deteriorates and is not preferable.

より好適な具現例において、バインダー１０〜２０重量部に対し、静電気防止剤は、５〜２５重量部含有されていてよい（すなわち、バインダー重量：静電気防止剤重量＝１０〜２０：５〜２５）。このような重量部の組成からなる場合、層間接着力に優れ、且つ離型フィルムの表面抵抗が１０8Ω／ｃｍ2以下、好ましくは、１０5Ω／ｃｍ2以下であって、ＩＴ分野の製品に有用に適用可能な優れた静電気防止性能を有する。 In a more preferred embodiment, the antistatic agent may be contained in an amount of 5 to 25 parts by weight with respect to 10 to 20 parts by weight of the binder (ie, binder weight: antistatic agent weight = 10 to 20: 5 to 25). . When composed of such parts by weight, the interlayer adhesive force is excellent, and the surface resistance of the release film is 10 8 Ω / cm 2 or less, preferably 10 5 Ω / cm 2 or less. It has excellent antistatic performance that can be usefully applied to products.

本発明の例示的な具現例において、前記静電気防止層３０は、基材フィルム１０の片面または両面に静電気防止組成物がコーティングされて形成される。このとき、静電気防止組成物は、前述のように、バインダーと静電気防止剤を含有し、好ましくは、静電気防止組成物の全１００重量部のうち、バインダー５〜２５重量部及び静電気防止剤１３０重量部を含有していてよい。そしてコーティング性のために溶媒をさらに含有していてよい。このとき、溶媒は、アルコールと水とからなるものであってよく、前記アルコールは、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、及びプロフィルアルコールなどから選択されたものであってよい。   In the exemplary embodiment of the present invention, the antistatic layer 30 is formed by coating an antistatic composition on one or both sides of the base film 10. At this time, the antistatic composition contains a binder and an antistatic agent as described above, and preferably, 5 to 25 parts by weight of the binder and 130 parts by weight of the antistatic agent out of the total 100 parts by weight of the antistatic composition. Part may be contained. And a solvent may be further contained for coating property. At this time, the solvent may be composed of alcohol and water, and the alcohol may be selected from, for example, methyl alcohol, ethyl alcohol, and profile alcohol.

好適な具現例において、前記静電気防止組成物は、静電気防止組成物の全１００重量部のうち、バインダー５〜２５重量部、静電気防止剤１〜３０重量部、アルコール５〜３０重量部、及び水１０〜５０重量部を含んでいてよい。このとき、溶媒として、アルコールと水の含量が前記範囲よりも小さいと、コーティング性が劣化し、前記範囲よりも多いと、相対的にバインダー及び静電気防止剤の含量が低くなるため、層間接着力及び／または静電気防止性能が微弱なものとなることがある。そして、前記静電気防止組成物は、各成分の均一な分散のための分散剤や顔料などの添加剤０．０１〜１重量部をさらに含んでいてよい。   In a preferred embodiment, the antistatic composition comprises 5 to 25 parts by weight of a binder, 1 to 30 parts by weight of an antistatic agent, 5 to 30 parts by weight of alcohol, and water among 100 parts by weight of the antistatic composition. It may contain 10-50 parts by weight. At this time, if the content of alcohol and water as the solvent is smaller than the above range, the coating property is deteriorated. If the content is larger than the above range, the content of the binder and the antistatic agent is relatively low. And / or static electricity prevention performance may be weak. And the said antistatic composition may further contain 0.01-1 weight part of additives, such as a dispersing agent and a pigment for uniform dispersion | distribution of each component.

また、前記静電気防止組成物は、例えばグラビア（Ｇｒａｖｕｒｅ）コーティング、マイクログラビア（Ｍｉｃｒｏ Ｇｒａｖｕｒｅ）コーティング、キスグラビア（ｋｉｓｓ Ｇｒａｖｕｒｅ）コーティング、コンマナイフ（Ｃｏｍｍａ Ｋｎｉｆｅ）コーティング、ロール（Ｒｏｌｌ）コーティング、スプレー（Ｓｐｒａｙ）コーティング、メイヤーバー（Ｍｅｙｅｒ Ｂａｒ）コーティング、スロットダイ（Ｓｌｏｔ Ｄｉｅ）コーティング、及びリバース（Ｒｅｖｅｒｓｅ）コーティング方法から選択されたいずれかの方法によりコーティングされていてよいが、必ずしもこれらに限定されるものではない。   The antistatic composition may be, for example, a gravure coating, a micro gravure coating, a kiss gravure coating, a comma knife coating, a roll coating, or a spray. The coating may be performed by any method selected from coating, Meyer Bar coating, Slot Die coating, and Reverse coating method, but is not necessarily limited thereto. .

さらに、前記静電気防止層３０は、１０ｎｍ〜１０μｍのコーティング厚さを有していてよい。このとき、静電気防止層３０のコーティング厚さが１０ｎｍ未満であれば、良好な静電気防止性能が得られにくく、１０μｍを超過すれば、硬化不足及び密着力が劣化し、層間剥離が発生することがある。静電気防止層３０は、好ましくは、５０ｎｍ〜１０００ｎｍのコーティング厚さを有していてよい。   Further, the antistatic layer 30 may have a coating thickness of 10 nm to 10 μm. At this time, if the coating thickness of the antistatic layer 30 is less than 10 nm, good antistatic performance is difficult to obtain, and if it exceeds 10 μm, the curing is insufficient and the adhesion is deteriorated, resulting in delamination. is there. The antistatic layer 30 may preferably have a coating thickness of 50 nm to 1000 nm.

一方、本発明の具現例に係る離型フィルムの製造方法は、前述したような本発明の具現例の離型フィルム、すなわち、基材フィルム１０、離型層２０、及び静電気防止層３０を含む離型フィルムの製造方法であって、基材フィルム１０の片面または両面に、バインダーと静電気防止剤を含有した静電気防止組成物をコーティングするステップを含む。   Meanwhile, a method for manufacturing a release film according to an embodiment of the present invention includes the release film of the embodiment of the present invention as described above, that is, the base film 10, the release layer 20, and the antistatic layer 30. It is a manufacturing method of a release film, Comprising: The step which coat | covers the antistatic composition containing a binder and an antistatic agent on the single side | surface or both surfaces of the base film 10 is included.

このとき、前記静電気防止組成物の構成は、前述したとおりである。前述したように、静電気防止組成物は、組成物全１００重量部のうち、バインダー５〜２５重量部及び静電気防止剤１〜３０重量部を含むものであればよい。バインダー及び静電気防止剤の具体的な種類は前記のとおりである。より具体的に、前記静電気防止組成物は、前述したように、組成物全体１００重量部のうち、バインダー５〜２５重量部、静電気防止剤１〜３０重量部、アルコール５〜３０重量部、及び水１０〜５０重量部を含有するものであればよい。   At this time, the structure of the antistatic composition is as described above. As described above, the antistatic composition only needs to contain 5 to 25 parts by weight of the binder and 1 to 30 parts by weight of the antistatic agent in the total 100 parts by weight of the composition. Specific types of the binder and the antistatic agent are as described above. More specifically, as described above, the antistatic composition includes 5 to 25 parts by weight of a binder, 1 to 30 parts by weight of an antistatic agent, 5 to 30 parts by weight of alcohol, and 100 parts by weight of the whole composition. What is necessary is just to contain 10-50 weight part of water.

また、前記離型層２０は、前述したようにオルガノポリシロキサン１００重量部を基準にして、オルガノヒドロポリシロキサン０．１ないし１０重量部、百金キレート０．１ないし３重量部、及び溶媒１００ないし２０００重量部を含むシリコーン組成物をコーティング、硬化させてなるものであればよい。   In addition, as described above, the release layer 20 is composed of 0.1 to 10 parts by weight of organohydropolysiloxane, 0.1 to 3 parts by weight of chelate gold, and 100% of solvent based on 100 parts by weight of organopolysiloxane. In addition, any silicone composition containing 2000 parts by weight may be coated and cured.

以上で説明した本発明の具現例に係る離型フィルムは、離型力及び残留接着率などの離型特性が良好であり、且つ優れた静電気防止性能を有する。静電気防止性能を与えるために、従来のように静電気防止剤を離型層２０を構成する組成物に含有させた場合、離型層２０の離型力（剥離力）及び残留接着率などの離型特性を妨害（阻害）する。また、離型層２０の離型特性を妨害しないようにするために静電気防止物質の含量を小さくした場合、静電気防止性能が劣化し、特に静電気発生量の多いＩＴ分野の製品には使用が困難となる。しかし、本発明の具現例によれば、離型層２０とは別体で静電気防止層３０を基材フィルム１０上にコーティングして形成させた場合、離型層２０の離型特性を損なわずに、優れた静電気防止性能を有するようになる。   The release film according to the embodiment of the present invention described above has good release characteristics such as release force and residual adhesion rate, and has excellent antistatic performance. In order to provide antistatic performance, when an antistatic agent is included in the composition constituting the release layer 20 as in the prior art, the release force (peeling force) and the residual adhesion rate of the release layer 20 are separated. Interfere (inhibit) the mold characteristics. In addition, if the content of antistatic material is reduced in order not to interfere with the release characteristics of the release layer 20, the antistatic performance deteriorates, and it is difficult to use it in products in the IT field that generate a large amount of static electricity. It becomes. However, according to the embodiment of the present invention, when the antistatic layer 30 is coated on the base film 10 separately from the release layer 20, the release characteristics of the release layer 20 are not impaired. In addition, it has excellent antistatic performance.

本発明の具現例に係る離型フィルムは、粘（接）着剤層の保護を目的として一般の産業用粘着（または、接着）テープなどにはもちろん、ＩＴ分野の製品などに有効に使用することができる。例えば、携帯電話、ＬＣＤ、半導体、ディスプレイなどのＩＴ分野の製品などに有効に使用することができる。   The release film according to the embodiment of the present invention is effectively used for products in the IT field as well as general industrial adhesive (or adhesive) tape for the purpose of protecting the adhesive layer. be able to. For example, it can be effectively used for products in the IT field such as mobile phones, LCDs, semiconductors, and displays.

以下、本発明の実施例及び比較例を例示する。下記実施例は、本発明の具現例に対する理解を助けるために例示的に提供されるものであるに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定されるものではない。   Examples of the present invention and comparative examples will be described below. The following examples are merely provided to help understanding of the embodiments of the present invention, and do not limit the technical scope of the present invention.

［実施例１］
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの片面にはシリコーン離型層を形成させ、もう片面には静電気防止層を形成させ、図１に示すような３層構造の離型フィルム試片を作製した。前記シリコーン離型層は、オルガノポリシロキサン１０重量部、オルガノヒドロポリシロキサン０．０１重量部、百金キレート０．１重量部、及び溶媒（トルエン）１００重量部から構成されている。 [Example 1]
A silicone release layer was formed on one side of a polyethylene terephthalate (PET) film, and an antistatic layer was formed on the other side to produce a release film specimen having a three-layer structure as shown in FIG. The silicone release layer is composed of 10 parts by weight of organopolysiloxane, 0.01 part by weight of organohydropolysiloxane, 0.1 part by weight of hundred gold chelate, and 100 parts by weight of solvent (toluene).

そして、前記静電気防止層は、バインダーとしてアクリル樹脂１５重量部、静電気防止剤としてポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）１０重量部、アルコール（エチルアルコール）３０重量部、及び水４５重量部を含有する静電気防止組成物をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムにコーティングして形成した。   The antistatic layer contains 15 parts by weight of an acrylic resin as a binder, 10 parts by weight of polyethylenedioxythiophene (PEDOT), 30 parts by weight of alcohol (ethyl alcohol), and 45 parts by weight of water as an antistatic agent. The composition was formed by coating a polyethylene terephthalate (PET) film.

［実施例２］
前記実施例１と同様に実施するが、静電気防止層をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムとシリコーン離型層との間に形成し、図２に示すような３層構造を有するようにした。具体的に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に実施例１と同様な組成の静電気防止組成物をコーティングして静電気防止層を形成させ、しかる後、静電気防止層上にシリコーン離型層を形成させた。 [Example 2]
Although it implemented like the said Example 1, the antistatic layer was formed between the polyethylene terephthalate (PET) film and the silicone release layer, and it was made to have a 3 layer structure as shown in FIG. Specifically, an antistatic composition having the same composition as in Example 1 is coated on a polyethylene terephthalate (PET) film to form an antistatic layer, and then a silicone release layer is formed on the antistatic layer. It was.

［実施例３］
前記実施例１と比較して、静電気防止層をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの両面に形成させ、図３に示すような４層構造を有するようにした。具体的に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの両面に静電気防止組成物をコーティングして２層の静電気防止層を形成させ、しかる後、片面にシリコーン離型層を形成させた。このとき、２層の静電気防止層は、前記実施例１において使用したものと同じ静電気防止組成物を使用してなるものを使用した。 [Example 3]
Compared to Example 1, an antistatic layer was formed on both sides of a polyethylene terephthalate (PET) film to have a four-layer structure as shown in FIG. Specifically, an antistatic composition was coated on both sides of a polyethylene terephthalate (PET) film to form two antistatic layers, and then a silicone release layer was formed on one side. At this time, as the two antistatic layers, those using the same antistatic composition as used in Example 1 were used.

［比較例１］
前記実施例１と比較して、静電気防止層を形成させないことを除いては、同様に実施した。具体的に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの片面にシリコーン離型層を形成させて２層構造を有するようにした。 [Comparative Example 1]
Compared with Example 1, the same procedure was performed except that the antistatic layer was not formed. Specifically, a silicone release layer was formed on one side of a polyethylene terephthalate (PET) film so as to have a two-layer structure.

［比較例２〜４］
前記比較例１と比較して、シリコーン離型層に静電気防止剤を添加したことを除いては、同様に実施した。具体的に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの片面にシリコーン離型層を形成させて２層構造を有するようにしたが、シリコーン離型層のコーティングの際、コーティング組成物（オルガノポリシロキサン１０重量部、オルガノヒドロポリシロキサン０．０１重量部、百金キレート０．１重量部、及び溶媒（トルエン）１００重量部）に、静電気防止剤としてポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）を０．０５ 重量部（比較例２）、０．１ 重量部 （比較例３）、及び０．５ 重量部 （比較例４）になるように添加してコーティングさせた。 [Comparative Examples 2 to 4]
As compared with Comparative Example 1, the same procedure was performed except that an antistatic agent was added to the silicone release layer. Specifically, a silicone release layer is formed on one side of a polyethylene terephthalate (PET) film so as to have a two-layer structure. , 0.01 part by weight of organohydropolysiloxane, 0.1 part by weight of 100% chelate, and 100 parts by weight of solvent (toluene)), and 0.05 part by weight of polyethylenedioxythiophene (PEDOT) as an antistatic agent (comparison) Example 2), 0.1 part by weight (Comparative Example 3), and 0.5 part by weight (Comparative Example 4) were added and coated.

前記各実施例及び比較例に従い製造された離型フィルム試片に対し、次のように表面抵抗、離型力及び残留接着率を測定し、その結果を下記表に示した。   The surface resistance, the release force and the residual adhesion rate were measured for the release film specimens produced according to the respective examples and comparative examples, and the results are shown in the following table.

Figure 2012140008
Figure 2012140008

表１中の積層構造の項目における、「ＡＳ」は静電気防止層を意味し、「ＰＥＴ」は基材フィルムとしてのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを意味し、「Ｓｉ」はシリコーン離型層を意味する。 In the laminated structure item in Table 1, “AS” means an antistatic layer, “PET” means a polyethylene terephthalate (PET) film as a base film, and “Si” means a silicone release layer. To do.

表面抵抗
各試片の内側と外側に対し、ディスコ社の表面抵抗測定器（Ｓｕｒｆａｃｅ Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ ｍｅｔｅｒ、モデル番号−１９７８１）を使用し、２２℃、５５％ＲＨの恒温・恒湿条件下で測定した。 Surface resistance A surface resistance measuring instrument (Surface Resistance meter, model number -19781) manufactured by Disco Corporation was used on the inside and outside of each specimen, and measurement was performed under constant temperature and humidity conditions of 22 ° C. and 55% RH.

離型力
離型力（剥離力）は、ＦＩＮＡＴ−１０に基づき、先ず、各試片のシリコーン離型層に幅５０ｍｍ×長さ１７５ｍｍの標準テープ（ＴＥＳＡ７４７５−アクリル系）を付着した。そして、ＦＩＮＡＴ試験ローラー（２Ｋｇ荷重）を利用し、１０ｍｍ／ｓｅｃの速度で２回往復して標準テープを試片に圧着させた後、シリコーン離型層と標準テープとの十分な圧着のために平らな２枚の金属板で試片を挟め、７０ｇ／ｃｍ2の圧力をかけながら、温度約２３℃で２０時間保持した。しかる後、圧力を除去し、４時間後に試片を治具に固定させた後、標準テープを１８０度の方向から３００ｍｍ／ｍｉｎの速度で剥離して測定した。このとき、各試片に対して５回繰り返し測定し、その平均値（ｇ／２５ｍｍ）を表１に示した。 The release force (release force) was based on FINAT-10. First, a standard tape (TESA 7475-acrylic) having a width of 50 mm and a length of 175 mm was attached to the silicone release layer of each specimen. Then, using a FINAT test roller (2 kg load), after reciprocating twice at a speed of 10 mm / sec to crimp the standard tape to the specimen, for sufficient crimping of the silicone release layer and the standard tape The specimen was sandwiched between two flat metal plates and kept at a temperature of about 23 ° C. for 20 hours while applying a pressure of 70 g / cm 2 . Thereafter, the pressure was removed, and after 4 hours, the specimen was fixed to a jig, and then the standard tape was peeled from the direction of 180 degrees at a speed of 300 mm / min. At this time, measurement was repeated 5 times for each specimen, and the average value (g / 25 mm) is shown in Table 1.

残留接着率（％）
各試片のシリコーン離型層に標準粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ）を付着した後、２２℃、５５％ＲＨの恒温・恒湿条件下で、次のように残留接着力と基礎接着力を測定した。 Residual adhesion rate (%)
After adhering the standard adhesive tape (No. 31B) to the silicone release layer of each specimen, measure the residual adhesive strength and basic adhesive strength under the constant temperature and humidity conditions of 22 ° C and 55% RH as follows. did.

−残留接着力：試片のシリコーン離型層にＮｏ．３１Ｂ粘着テープを２ｋｇゴムローラーで１回往復圧着し、１００℃で１時間加熱処理した後、圧着したサンプルから試片を剥離し、前記Ｎｏ．３１Ｂ粘着テープに対する接着力を測定した。すなわち、試片を剥離して除去した前記Ｎｏ．３１Ｂ粘着テープを金属板に圧着して付着した後、１８０度の方向から引っ張って剥離する方法にて接着力を測定し、測定された値を残留接着力とした。   -Residual adhesive strength: No. on the silicone release layer of the specimen. 31B adhesive tape was reciprocated once with a 2 kg rubber roller, heat-treated at 100 ° C. for 1 hour, and then the specimen was peeled from the pressure-bonded sample. The adhesion strength to the 31B adhesive tape was measured. That is, the above-mentioned No. 1 was obtained by peeling and removing the specimen. After the 31B pressure-sensitive adhesive tape was adhered to the metal plate and adhered, the adhesive force was measured by pulling from the direction of 180 degrees and peeling, and the measured value was defined as the residual adhesive force.

−基礎接着力：残留接着力の場合と同様な粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ）を使用するが、前記粘着テープを金属板に圧着して付着した後、１８０度の方向から引っ張る方法にて接着力を測定し、このときの測定された値を基礎接着力とした。   -Fundamental adhesive strength: Adhesive tape (No. 31B) similar to the case of residual adhesive strength is used. Adhesive strength is obtained by pressing the adhesive tape to a metal plate and attaching it, and then pulling from 180 degrees. Was measured, and the value measured at this time was defined as the basic adhesive strength.

前記測定された残留接着力と基礎接着力を次の式によって残留接着率（％）を計算し、その結果を下表表１に示した。   The residual adhesive strength (%) was calculated from the measured residual adhesive strength and basic adhesive strength according to the following formula, and the results are shown in Table 1 below.

残留接着率（％）＝（残留接着力/基礎接着力）×１００
表１に示すように、本発明の実施例の場合、静電気防止層の形成により、従来の一般的な離型フィルムである比較例１に比べて、表面抵抗が極めて低く、優れた静電気防止性能を有することが分かる。また、離型力及び残留接着率の離型特性の場合においても、従来の一般の離型フィルム製品である比較例１と等しい水準であって、静電気防止層の形成による離型特性の低下がないことが分かる。しかし、比較例２ないし比較例４のように、静電気防止性能を与えるために離型層に静電気防止剤を含有させた場合、その含量に比例して離型特性（離型力及び残留接着率）が顕著に低下することが分かる。さらに、比較例２の場合のように含量を小さくした場合には、静電気防止性能も微弱であることが分かる。 Residual adhesion rate (%) = (Residual adhesive strength / basic adhesive strength) × 100
As shown in Table 1, in the case of the examples of the present invention, the surface resistance is extremely low and excellent antistatic performance due to the formation of the antistatic layer as compared with Comparative Example 1 which is a conventional general release film. It can be seen that Also, in the case of the release characteristics of the release force and the residual adhesion rate, the level is the same as that of Comparative Example 1 which is a conventional general release film product, and the release characteristics are deteriorated due to the formation of the antistatic layer. I understand that there is no. However, when an antistatic agent is included in the release layer to provide antistatic performance as in Comparative Examples 2 to 4, the release characteristics (release force and residual adhesion rate) are proportional to the content. ) Is significantly reduced. Furthermore, when content is made small like the case of the comparative example 2, it turns out that antistatic performance is also weak.

一方、静電気防止層を形成するに際し、バインダーと静電気防止剤の含量による表面抵抗及び層間接着力（剥離強度）を調べるために、次のように実施した。   On the other hand, when forming the antistatic layer, in order to examine the surface resistance and the interlayer adhesive strength (peeling strength) depending on the content of the binder and the antistatic agent, the following procedure was performed.

［実施例４ないし９］
前記実施例２と同様に実施するが、静電気防止層のバインダーと静電気防止剤の含量が異なるようにして実施した。具体的に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムとシリコーン離型層との間に静電気防止層を形成し、図２に示すような３層構造を有するようにしたが、静電気防止層を構成する静電気防止組成物の組成に関し、バインダー（アクリル樹脂）と静電気防止剤（ポリエチレンジオキシチオフェン、ＰＥＤＯＴ）の含量を下記表２のように異なるようにした。 [Examples 4 to 9]
This was carried out in the same manner as in Example 2 except that the contents of the antistatic layer binder and antistatic agent were different. Specifically, an antistatic layer is formed between a polyethylene terephthalate (PET) film and a silicone release layer to have a three-layer structure as shown in FIG. Regarding the composition of the composition, the contents of binder (acrylic resin) and antistatic agent (polyethylenedioxythiophene, PEDOT) were made different as shown in Table 2 below.

Figure 2012140008
Figure 2012140008

表２において、バインダーと静電気防止剤の含量は、組成物全１００重量部中の各重量部であり、残部はアルコールと水である(アルコールと水の重量比は１：１である)。 In Table 2, the content of the binder and the antistatic agent is each part by weight in the total 100 parts by weight of the composition, and the balance is alcohol and water (the weight ratio of alcohol to water is 1: 1).

また、前記各実施例（４ないし９）に従い製造された離型フィルム試片に対し、前記のような方法にて表面抵抗を測定し、その結果を表２に示した。   Further, the surface resistance of the release film specimens produced according to the respective examples (4 to 9) was measured by the method as described above, and the results are shown in Table 2.

前記表２に示したように、バインダー（アクリル樹脂）の含量が高いほど、相対的に静電気防止剤（ＰＥＤＯＴ）の含量が低くなり、静電気防止性能が劣化することが分かる。また、シリコーン離型層と静電気防止層との層間接着力（剥離強度）を測定してみた結果、 バインダー（アクリル樹脂）の含量に比例して層間接着力（剥離強度）が増加することが分かった。   As shown in Table 2, it can be seen that the higher the content of the binder (acrylic resin), the lower the content of the antistatic agent (PEDOT), so that the antistatic performance deteriorates. In addition, as a result of measuring the interlayer adhesive strength (peel strength) between the silicone release layer and the antistatic layer, it was found that the interlayer adhesive strength (peel strength) increased in proportion to the binder (acrylic resin) content. It was.

このとき、前記表２に示したように、バインダーと静電気防止剤の重量比が５〜２５：１〜３０の場合に約１０9Ω／ｃｍ2以下の表面抵抗を有することが分かり、特にバインダーと静電気防止剤の重量比が１０〜２０：５〜２０の場合には、１０8Ω／ｃｍ2以下、好ましくは、１０5Ω／ｃｍ2以下の表面抵抗であって、優れた静電気防止性能を有することが分かった。そして、前記含量の範囲、特に１０〜２０：５〜２０の重量比では、層間接着力（剥離強度）も極めて優れていることが分かった。 At this time, as shown in Table 2, when the weight ratio of the binder to the antistatic agent is 5 to 25: 1 to 30, the surface resistance is about 10 9 Ω / cm 2 or less. When the weight ratio of the antistatic agent is 10 to 20: 5 to 20, the surface resistance is 10 8 Ω / cm 2 or less, preferably 10 5 Ω / cm 2 or less, and excellent antistatic performance It was found to have And in the range of the said content, especially 10-20: 5-20 weight ratio, it turned out that an interlayer adhesive force (peeling strength) is also very excellent.

したがって、以上のことから確認できるように、本発明の具現例のように別体の層として静電気防止層を含む場合、離型力及び残留接着率などの離型特性が良好であり、且つ優れた静電気防止性能を有することが分かる。また、静電気防止層の接着のためにバインダーを使用し、バインダーと静電気防止剤の含量が、好ましくは、５〜２５：１〜３０、より好ましくは、１０〜２０：５〜２０の重量比の組成を有するようにした場合、優れた静電気防止性能を有し且つ静電気防止層と離型層（及び基材フィルム）との間の良好な層間接着力が得られることが分かる。   Therefore, as can be confirmed from the above, when the antistatic layer is included as a separate layer as in the embodiment of the present invention, the release characteristics such as the release force and the residual adhesion rate are good and excellent. It can be seen that it has antistatic performance. In addition, a binder is used for adhesion of the antistatic layer, and the content of the binder and the antistatic agent is preferably 5 to 25: 1 to 30, more preferably 10 to 20: 5 to 20 by weight. It can be seen that the composition has excellent antistatic performance and good interlayer adhesion between the antistatic layer and the release layer (and the base film).

１０ 基材フィルム
２０ 離型層
３０ 静電気防止層 10 substrate film 20 release layer 30 antistatic layer

Claims (9)

基材フィルム及び離型層を含む離型フィルムであって、
前記離型フィルムは、バインダーと静電気防止剤を含有した静電気防止層を含む、離型フィルム。 A release film including a base film and a release layer,
The release film is a release film including an antistatic layer containing a binder and an antistatic agent. 前記静電気防止層は、バインダー５〜２５重量部に対し、静電気防止剤を１〜３０重量部含有する、請求項１に記載の離型フィルム。   The release film according to claim 1, wherein the antistatic layer contains 1 to 30 parts by weight of an antistatic agent with respect to 5 to 25 parts by weight of the binder. 前記静電気防止剤は、ポリアセチレン、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）、ポリ（ｐ−フェニレン）、ポリ（チエニレンビニレン）、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリエチレンジオキシチオフェン、ポリイソチアナフテン、ポリピロール、及びポリ（ｐ−フェニレンスルフィド）からなる群より選択された１種以上である、請求項１または２に記載の離型フィルム。   The antistatic agents include polyacetylene, poly (p-phenylene vinylene), poly (p-phenylene), poly (thienylene vinylene), polythiophene, polyaniline, polyethylene dioxythiophene, polyisothianaphthene, polypyrrole, and poly (p The release film according to claim 1 or 2, which is one or more selected from the group consisting of -phenylene sulfide). 前記静電気防止層は、１０ｎｍ〜１０μｍの厚さを有する、請求項１または２に記載の離型フィルム。   The release film according to claim 1, wherein the antistatic layer has a thickness of 10 nm to 10 μm. 前記離型層は、シリコーン離型層である、請求項１または２に記載の離型フィルム。   The release film according to claim 1 or 2, wherein the release layer is a silicone release layer. 前記離型層は、０．０５〜１μｍの厚さを有する、請求項１または２に記載の離型フィルム。   The release film according to claim 1, wherein the release layer has a thickness of 0.05 to 1 μm. 前記静電気防止層は、基材フィルムの片面または両面に形成され、前記離型層は、前記静電気防止層上に形成されるか、または前記静電気防止層が片面に形成された基材フィルムの片面と反対側面に形成される、請求項１または２に記載の離型フィルム。   The antistatic layer is formed on one side or both sides of a base film, and the release layer is formed on the antistatic layer, or one side of the base film on which the antistatic layer is formed. The release film according to claim 1, wherein the release film is formed on a side surface opposite to the surface. 基材フィルム及び離型層を含む離型フィルムの製造方法であって、
基材フィルムの片面または両面に、バインダーと静電気防止剤を含有した静電気防止組成物をコーティングして静電気防止層を形成するステップを含む、離型フィルムの製造方法。 A method for producing a release film comprising a base film and a release layer,
A method for producing a release film, comprising a step of coating an antistatic composition containing a binder and an antistatic agent on one or both sides of a base film to form an antistatic layer. 前記静電気防止組成物は、組成物全１００重量部に対し、バインダー５〜２５重量部、静電気防止剤１〜３０重量部、アルコール５〜３０重量部、及び水１０〜５０重量部を含有する、請求項８に記載の離型フィルムの製造方法。   The antistatic composition contains 5 to 25 parts by weight of a binder, 1 to 30 parts by weight of an antistatic agent, 5 to 30 parts by weight of alcohol, and 10 to 50 parts by weight of water, based on 100 parts by weight of the total composition. The manufacturing method of the release film of Claim 8.
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014097757A1 (en) * 2012-12-17 2014-06-26 三菱樹脂株式会社 Base-less double-sided adhesive sheet
JP2014118476A (en) * 2012-12-17 2014-06-30 Mitsubishi Plastics Inc Substrate-less double-sided adhesive sheet
CN104015440A (en) * 2014-06-13 2014-09-03 江苏悦达新材料科技有限公司 Anti-static release film and preparation method thereof
CN105002777A (en) * 2015-07-16 2015-10-28 吉翔宝（太仓）离型材料科技发展有限公司 Antistatic antibacterial release paper and preparation method therefor
CN106183149A (en) * 2016-08-30 2016-12-07 无锡市中星工业胶带有限公司 A kind of light off-type force antistatic BOPET mould release membrance
JP2017039859A (en) * 2015-08-20 2017-02-23 日東電工株式会社 Surface protective film with separator
KR20180122663A (en) * 2016-07-28 2018-11-13 닛토덴코 가부시키가이샤 Reinforcing film with separator
JP2021008590A (en) * 2019-07-02 2021-01-28 信越ポリマー株式会社 Conductive polymer dispersion, conductive film and method for producing the same, and conductive release film and method for producing the same
CN114438797A (en) * 2021-12-29 2022-05-06 浙江佑威新材料股份有限公司 Preparation method of composite material pultruded profile release cloth
CN115494666A (en) * 2022-11-02 2022-12-20 业成科技（成都）有限公司 Method for manufacturing liquid crystal module

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102991060B (en) * 2012-12-12 2016-03-09 意力(广州)电子科技有限公司 Diaphragm production technology
KR102049487B1 (en) * 2013-03-08 2019-11-28 삼성디스플레이 주식회사 Manufacturing method of display device
CN103182822B (en) * 2013-03-20 2016-06-01 无锡市中星工业胶带有限公司 A kind of light antistatic BOPET release film of off-type force and its preparation method
CN103192578A (en) * 2013-04-28 2013-07-10 恩斯盟防静电材料(镇江)有限公司(中外合资) Fabrication method of anti-static release film with stable release force
CN104057671A (en) * 2014-04-29 2014-09-24 汕头可逸塑胶有限公司 Antistatic release film and manufacturing method thereof
CN104129128A (en) * 2014-08-01 2014-11-05 苏州袭麟光电科技产业有限公司 Antistatic release film
CN104210195B (en) * 2014-09-02 2016-06-01 浙江洁美电子科技股份有限公司 A kind of high adherence Anti-static release liner
CN104191700B (en) * 2014-09-02 2016-08-24 浙江洁美光电科技有限公司 A kind of mould release membrance for MLCC curtain coating
CN104200892A (en) * 2014-09-22 2014-12-10 华迅工业(苏州)有限公司 Antistatic metal foil and plastic composited belt for symmetric data cable shielding
JP5885868B1 (en) 2015-03-24 2016-03-16 日東電工株式会社 Optical film laminate used for continuous application to panel members
CN105566864A (en) * 2015-12-14 2016-05-11 广东弘擎电子材料科技有限公司 Antistatic release film
CN106700112B (en) * 2016-11-30 2020-04-10 阜阳荣泽涂布技术包装有限公司 Anti-static release film for high-viscosity adhesive tape
CN109438739A (en) * 2018-09-28 2019-03-08 苏州市星辰科技有限公司 The preparation method of polythiophene antistatic silicon systems release film
CN109734943B (en) * 2018-12-29 2022-05-10 南京君弘新材料有限公司 Transparent double-sided antistatic ionization type film and preparation method thereof
CN109796690A (en) * 2018-12-30 2019-05-24 苏州市奥贝膜业有限公司 A kind of preparation method of the more color multimembrane kind release films of anti-static type
KR200491436Y1 (en) * 2019-10-22 2020-04-07 양문일 Release film for pcb board press process with protect tape
CN114075389A (en) * 2020-08-21 2022-02-22 昆山威斯泰电子技术有限公司 Antistatic coating, antistatic anti-scratch touch screen PET protective film and manufacturing method thereof
CN112143012B (en) * 2020-09-25 2023-06-23 苏州花蝴蝶新材料科技有限公司 Fluorine release film and preparation method thereof
CN112297558A (en) * 2020-10-30 2021-02-02 苏州特普乐新材料有限公司 Preparation method of antistatic silica gel
CN113308007A (en) * 2021-05-19 2021-08-27 浙江日久新材料科技有限公司 Antistatic optical release film for polarizer and preparation method thereof

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11300895A (en) * 1998-04-17 1999-11-02 Toyobo Co Ltd Release film
JP2005153250A (en) * 2003-11-25 2005-06-16 Lintec Corp Mold release film having antistatic properties and its manufacturing method
JP2007152930A (en) * 2005-11-30 2007-06-21 Toray Saehan Inc Anti-static polyester film
JP2010017931A (en) * 2008-07-10 2010-01-28 Toyobo Co Ltd Mold releasing film

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100650133B1 (en) * 2005-03-02 2006-11-27 (주)국제라텍 A transparent anti-static release film, preparing method thereof and the adhesive tape therefrom
JP4611084B2 (en) * 2005-03-31 2011-01-12 リンテック株式会社 Release film
CN2930193Y (en) * 2006-05-12 2007-08-01 叶隆泰 Protective film for preventing static production
KR100836177B1 (en) * 2007-03-16 2008-06-09 도레이새한 주식회사 Antistatic silicone release coating films
CN101357521B (en) * 2008-09-02 2012-06-13 中国乐凯胶片集团公司 Off film
JP4949450B2 (en) 2009-10-09 2012-06-06 リンテック株式会社 Release film having antistatic properties
CN201736486U (en) * 2010-06-18 2011-02-09 李刚 Antistatic release film

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11300895A (en) * 1998-04-17 1999-11-02 Toyobo Co Ltd Release film
JP2005153250A (en) * 2003-11-25 2005-06-16 Lintec Corp Mold release film having antistatic properties and its manufacturing method
JP2007152930A (en) * 2005-11-30 2007-06-21 Toray Saehan Inc Anti-static polyester film
JP2010017931A (en) * 2008-07-10 2010-01-28 Toyobo Co Ltd Mold releasing film

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014118476A (en) * 2012-12-17 2014-06-30 Mitsubishi Plastics Inc Substrate-less double-sided adhesive sheet
WO2014097757A1 (en) * 2012-12-17 2014-06-26 三菱樹脂株式会社 Base-less double-sided adhesive sheet
CN104015440A (en) * 2014-06-13 2014-09-03 江苏悦达新材料科技有限公司 Anti-static release film and preparation method thereof
CN105002777A (en) * 2015-07-16 2015-10-28 吉翔宝（太仓）离型材料科技发展有限公司 Antistatic antibacterial release paper and preparation method therefor
JP2017039859A (en) * 2015-08-20 2017-02-23 日東電工株式会社 Surface protective film with separator
KR20180122663A (en) * 2016-07-28 2018-11-13 닛토덴코 가부시키가이샤 Reinforcing film with separator
KR102345171B1 (en) * 2016-07-28 2021-12-30 닛토덴코 가부시키가이샤 Reinforcement film with separator
CN106183149A (en) * 2016-08-30 2016-12-07 无锡市中星工业胶带有限公司 A kind of light off-type force antistatic BOPET mould release membrance
JP2021008590A (en) * 2019-07-02 2021-01-28 信越ポリマー株式会社 Conductive polymer dispersion, conductive film and method for producing the same, and conductive release film and method for producing the same
JP7341029B2 (en) 2019-07-02 2023-09-08 信越ポリマー株式会社 Conductive release film and its manufacturing method
CN114438797A (en) * 2021-12-29 2022-05-06 浙江佑威新材料股份有限公司 Preparation method of composite material pultruded profile release cloth
CN114438797B (en) * 2021-12-29 2024-03-01 浙江佑威新材料股份有限公司 Preparation method of composite material pultruded profile release cloth
CN115494666A (en) * 2022-11-02 2022-12-20 业成科技（成都）有限公司 Method for manufacturing liquid crystal module

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KR101232518B1 (en) 2013-02-12
KR20120074815A (en) 2012-07-06
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