JP2012096432A - バリアフィルム及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】バリアフィルム10は、基材11と、第1のバリア層141と、第2のバリア層142とを具備する。基材11は、第1の面111と、第2の面112とを有し、プラスチックフィルムで形成される。第1のバリア層141は、第1の面111に原子層堆積法によって形成され、水蒸気バリア性を有する無機材料からなる。第2のバリア層142は、第2の面112に原子層堆積法によって形成され、水蒸気バリア性を有する無機材料からなる。
【選択図】図1
Description
上記基材は、第1の面と、上記第1の面と対向する第2の面とを有し、プラスチックフィルムで形成される。
上記第1のバリア層は、上記第1の面に原子層堆積法によって形成され、水蒸気バリア性を有する無機材料からなる。
上記第2のバリア層は、上記第2の面に原子層堆積法によって形成され、水蒸気バリア性を有する無機材料からなる。
このような圧力条件で成膜された酸化アルミニウム膜は、例えば0.1〜0.2Torr(13.3〜26.6Pa)の圧力条件で成膜された酸化アルミニウム膜と比較して、パッキング密度が高い。これにより第1及び第2のバリア層を緻密化でき、10×10−5[g/m2/day]以下の水蒸気透過率を実現することができる。
上記第3のバリア層は、上記第1の面と上記第1のバリア層との間にスパッタ法によって形成され、水蒸気バリア性を有する無機材料からなる。
上記第4のバリア層は、上記第2の面と上記第2のバリア層との間にスパッタ法によって形成され、水蒸気バリア性を有する無機材料からなる。
上記真空チャンバの内部で、上記プラスチックフィルムの上記第1の面と対向する第2の面には、水蒸気バリア性を有する無機材料からなる第2のバリア層が原子層堆積法で形成される。
[バリアフィルム]
図1は、本発明の一実施形態に係るバリアフィルムを模式的に示す断面図である。本実施形態のバリアフィルム10は、基材11と、第1のバリア層141と、第2のバリア層142との積層構造を有する。
基材11は、表面111(第1の面)とこれに対向する裏面112(第2の面)とを有する。本実施形態において基材11は、フレキシブル性を有するプラスチックフィルムで形成される。
第1及び第2のバリア層141,142は、水蒸気バリア性と透光性とを有する無機材料で形成される。この種の無機材料としては、例えば、Al、Zn、Si、Cr、Zr、Cu、Mg等の金属元素を少なくとも1種含む酸化物や窒化物等が挙げられる。
ここで、第1及び第2のバリア層141,142の形成方法について説明する。なお以後の説明では、個別に説明する場合を除き、第1及び第2のバリア層141,142を「バリア層14」と総称する。
ビス(テル−ブチルイミノ)ビス(ジメチルアミノ)タングステン(VI);((CH3)3CN)2W(N(CH3)2)2、トリス(テル−ブトキシ)シラノール;((CH3)3CO)3SiOH、ジエチル亜鉛;(C2H5)2Zn、トリス(ジエチルアミド)(テル−ブチルイミド)タンタル(V);(CH3)3CNTa(N(C2H5)2)3、トリス(テル−ペントキシ)シラノール;(CH3CH2C(CH3)2O)3SiOH、トリメチル(メチルシクロペンタジエニル)白金(IV);C5H4CH3Pt(CH3)3、ビス(エチルシクロペンタジエニル)ルテニウム(II);C7H9RuC7H9、(3−アミノプロピル)トリエトキシシラン;H2N(CH2)3Si(OC2H5)3、四塩化珪素;SiCl4、四塩化チタン;TiCl4、チタン(IV)イソプロポキシド;Ti[(OCH)(CH3)2]4、テトラキス(ジメチルアミド)チタン(IV);[(CH3)2N]4Ti、テトラキス(ジメチルアミド)ジルコニウム(IV);[(CH3)2N]4Zr、トリス[N,N−ビス(トリメチルシリル)アミド]イットリウム;[[(CH3)3Si]2]N)3Y
サンプル1として、単層のプラスチックフィルムからなる基材を用いた。上記基材には厚み125μmのポリエチレンナフタレート(PEN)フィルムを用いた。
サンプル2の構成を図4(A)に示す。サンプル2は、サンプル1を構成する基材Sと、その一方の面に形成された無機バリア層B1との積層構造を有する。無機バリア層B1は、ALD法によって成膜された厚み20nmの酸化アルミニウム薄膜である。
サンプル3は、図4(A)に示す構造を有する。バリア層B1の厚みを50nmとした以外は、サンプル2と同一の条件でバリア層B1を形成した。
サンプル4は、図4(A)に示す構造を有する。バリア層B1の厚みを60nmとした以外は、サンプル2と同一の条件でバリア層B1を形成した。
サンプル5は、図4(A)に示す構造を有する。バリア層B1の厚みを25nmとした以外は、サンプル2と同一の条件でバリア層B1を形成した。
サンプル6の構成を図4(B)に示す。サンプル6は、サンプル1を構成する基材Sと、基材Sの一方の面に形成された第1の無機バリア層B1と、基材Sの他方の面に形成された第2の無機バリア層B2との積層構造を有する。無機バリア層B1,B2は、ALD法によって成膜された厚み30nmの酸化アルミニウム薄膜である。
サンプル7は、図4(B)に示す構造を有する。バリア層B1,B2の厚みをそれぞれ50nmとした以外は、サンプル6と同一の条件でバリア層B1,B2を形成した。
サンプル8は、図4(B)に示す構造を有する。バリア層B1,B2の厚みをそれぞれ25nmとした以外は、サンプル6と同一の条件でバリア層B1,B2を形成した。
図5は、本発明の第2の実施形態に係るバリアフィルムを模式的に示す断面図である。本実施形態では、第1の実施形態の構成および作用と同様な部分についてはその説明を省略または簡略化し、第1の実施形態と異なる部分を中心に説明する。
下地層121,122は、基材11の各面に形成され、各面の平滑性を高める目的で形成される。下地層121,122の構成材料は特に限定されないが、典型的には、透光性を有する樹脂材料が用いられる。この種の樹脂材料としては、紫外線硬化樹脂等のエネルギー線硬化樹脂が適しており、目的とする透明性、表面平坦性を得ることができる。紫外線硬化樹脂としては、例えばアクリル系の紫外線硬化樹脂が用いられる。
第3及び第4のバリア層131,132は、水蒸気バリア性と透光性とを有する無機材料で形成される。この種の無機材料としては、例えば、Al、Zn、Si、Cr、Zr、Cu、Mg等の金属元素を少なくとも1種含む酸化物や窒化物等が挙げられる。
第1及び第2のバリア層141,142は、第3及び第4のバリア層131,132の上にALD法で成膜される。成膜圧力は、例えば、0.3〜10Torr(39.99〜1333Pa)である。成膜に際しては、図3に示した成膜装置100を用いることができる。この場合、チャンバ内を搬送する基材としては、基材11と、下地層121,122と、第3及び第4のバリア層131,132の積層体が用いられる。
11…基材
15…基材フィルム
121、122…下地層
131…第3のバリア層
132…第4のバリア層
141…第1のバリア層
142…第2のバリア層
100…成膜装置
Claims (13)
- 第1の面と、前記第1の面と対向する第2の面とを有するプラスチックフィルムで形成された基材と、
前記第1の面に原子層堆積法によって形成され、水蒸気バリア性を有する無機材料からなる第1のバリア層と、
前記第2の面に原子層堆積法によって形成され、水蒸気バリア性を有する無機材料からなる第2のバリア層と
を具備するバリアフィルム。 - 請求項1に記載のバリアフィルムであって、
前記第1及び第2のバリア層は、0.3Torr以上10Torr以下の圧力で成膜された酸化アルミニウム膜である
バリアフィルム。 - 請求項2に記載のバリアフィルムであって、
水蒸気透過率が10×10−5[g/m2/day]以下である
バリアフィルム。 - 請求項2に記載のバリアフィルムであって、
前記第1及び第2のバリア層の厚みは、20nm以上50nm以下である
バリアフィルム。 - 請求項1に記載のバリアフィルムであって、
前記第1の面と前記第1のバリア層との間にスパッタ法によって形成され、水蒸気バリア性を有する無機材料からなる第3のバリア層をさらに具備する
バリアフィルム。 - 請求項1に記載のバリアフィルムであって、
前記第1の面と前記第1のバリア層との間にスパッタ法によって形成され、水蒸気バリア性を有する無機材料からなる第3のバリア層と、
前記第2の面と前記第2のバリア層との間にスパッタ法によって形成され、水蒸気バリア性を有する無機材料からなる第4のバリア層と
をさらに具備するバリアフィルム。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載のバリアフィルムを有する表示装置。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載のバリアフィルムを有する携帯型電子機器。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載のバリアフィルムを有する半導体装置。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載のバリアフィルムを有する電池。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載のバリアフィルムを有する包装部材。
- 0.5Torr以上5Torr以下の圧力に維持された真空チャンバの内部で、プラスチックフィルムの第1の面に、水蒸気バリア性を有する無機材料からなる第1のバリア層を原子層堆積法で形成し、
前記真空チャンバの内部で、前記プラスチックフィルムの前記第1の面と対向する第2の面に、水蒸気バリア性を有する無機材料からなる第2のバリア層を原子層堆積法で形成する
バリアフィルムの製造方法。 - 請求項12に記載のバリアフィルムの製造方法であって、
前記無機材料は、酸化アルミニウムである
バリアフィルムの製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010245132A JP2012096432A (ja) | 2010-11-01 | 2010-11-01 | バリアフィルム及びその製造方法 |
US13/271,434 US8828528B2 (en) | 2010-11-01 | 2011-10-12 | Barrier film and method of manufacturing the same |
CN 201110328352 CN102529203A (zh) | 2010-11-01 | 2011-10-25 | 阻挡膜及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010245132A JP2012096432A (ja) | 2010-11-01 | 2010-11-01 | バリアフィルム及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012096432A true JP2012096432A (ja) | 2012-05-24 |
Family
ID=45997092
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010245132A Pending JP2012096432A (ja) | 2010-11-01 | 2010-11-01 | バリアフィルム及びその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8828528B2 (ja) |
JP (1) | JP2012096432A (ja) |
CN (1) | CN102529203A (ja) |
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WO2016103915A1 (ja) * | 2014-12-26 | 2016-06-30 | 竹本容器株式会社 | 樹脂容器及び樹脂容器被覆装置 |
JP5795427B1 (ja) * | 2014-12-26 | 2015-10-14 | 竹本容器株式会社 | 被膜付き樹脂容器の製造方法及び樹脂容器被覆装置 |
US10961622B2 (en) | 2015-02-26 | 2021-03-30 | Toppan Printing Co., Ltd. | Gas barrier film and method of manufacturing the same |
WO2016167348A1 (ja) * | 2015-04-16 | 2016-10-20 | 凸版印刷株式会社 | 積層体、及びガスバリアフィルム |
US10899108B2 (en) | 2015-04-16 | 2021-01-26 | Toppan Printing Co., Ltd. | Laminates and gas barrier films |
WO2017057775A1 (ja) * | 2015-10-02 | 2017-04-06 | 国立大学法人山形大学 | 内面コーティング方法及び装置 |
WO2017073037A1 (ja) * | 2015-10-27 | 2017-05-04 | 凸版印刷株式会社 | 積層体及びガスバリアフィルム |
JP2017121721A (ja) * | 2016-01-06 | 2017-07-13 | 凸版印刷株式会社 | ガスバリアフィルム積層体およびその製造方法 |
WO2018056401A1 (ja) * | 2016-09-23 | 2018-03-29 | 凸版印刷株式会社 | ガスバリア性光学フィルム及び有機elディスプレイ |
WO2019151495A1 (ja) | 2018-02-02 | 2019-08-08 | 凸版印刷株式会社 | ガスバリア性フィルム及びその製造方法 |
WO2023054019A1 (ja) * | 2021-09-28 | 2023-04-06 | 富士フイルム株式会社 | 圧電フィルムおよび積層圧電素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102529203A (zh) | 2012-07-04 |
US8828528B2 (en) | 2014-09-09 |
US20120107586A1 (en) | 2012-05-03 |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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