JP2012074618A - 縦型熱処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】保持板31の各々の上面側に基板載置領域33を周方向に複数箇所に形成して、これら保持板31を周縁側から周方向に亘って複数箇所において支柱32によって支持すると共に、保持板31上に支持されるウエハWの上面と当該ウエハWの上方側に対向する保持板31の下面との間の間隔寸法kよりも保持板31の外縁と内管12bの内壁との間の離間寸法tの方が小さくなるように、保持板31の外縁よりも内側寄りの位置に各々の支柱32を配置する。そして、ウエハWの各々の側方側のガス吐出口52から、各々のウエハWに対して処理ガスを供給する。
【選択図】図2
Description
特許文献2、3には、ウエハディスク23bやサセプタ16にウエハWを周方向に並べる技術が記載されており、また特許文献4には、ウエハを上下に積層して処理を行う装置が記載されているが、既述の課題については記載されていない。
複数の基板を棚状に保持した基板保持具を、その周囲に加熱部が配置された縦型の反応管内に搬入して、基板に対して熱処理を行う縦型熱処理装置において、
前記反応管の長さ方向に沿って設けられ、前記基板保持具に保持される各基板に処理ガスを供給するために、各基板に対応する高さ位置にガス吐出口が形成された処理ガス供給部と、
前記反応管の中心に対して前記ガス吐出口とは反対側位置に形成された排気口と、を備え、
前記基板保持具は、各々複数の基板載置領域が形成され、互に積層された複数の円形状の保持板と、保持板の周縁部を貫通させて各保持板を支持し、周方向に沿って複数設けられた支柱と、を備え、反応管の径方向で見た時の前記支柱の外側部位は、保持板の外縁と同じ位置であるかまたは内側寄りであることを特徴とする。
前記縦型熱処理装置の具体的構成としては、以下のようにしても良い。
前記保持板の外縁と前記反応管の内壁との間の離間寸法は、前記保持板上に支持される基板の上面と当該基板の上方側に対向する保持板の下面との間の間隔寸法よりも短く設定されている構成。
前記支柱の外側部位は、保持板の外縁と同じ位置であるかまたは内側寄りであることに代えて、保持板の外縁から外側に3mm飛び出した位置よりも内側寄りである構成。
前記保持板の外縁と前記反応管の内壁との間の離間寸法は、8mm以下である構成。
反応管の径方向で見た時の前記基板保持具上の基板の外縁と前記支柱の外周面とは、前記保持板の輪郭線上において揃っている構成。
前記反応管は、気密に開閉自在に設けられた第1の反応管と、当該第1の反応管の内部に設けられ、前記基板保持具を収納する第2の反応管と、を備え、
前記処理ガス供給部は、前記基板保持具の長さ方向に沿うように第2の反応管内に配置されたガスインジェクターであり、
前記排気口は、このガスインジェクターに対向するように、当該ガスインジェクターの長さ方向に沿って前記第2の反応管の側面にスリット状に形成され、
これら第1の反応管と第2の反応管との間の領域に連通するように、当該領域の雰囲気を排気するための排気ポートが配置されている構成。
前記基板保持具を鉛直軸周りに回転させる回転機構を備えている構成。
前記処理ガス供給部は、基板に第1の処理ガスを供給する第1のガス供給部と、この第1の処理ガスと反応する第2の処理ガスを基板に供給する第2のガス供給部と、基板にパージガスを供給する第3のガス供給部と、を備え、
第1の処理ガスと第2の処理ガスとを交互に基板に供給すると共に、これら処理ガスを切り替える時にはパージガスを基板に供給してガスの置換を行うように制御信号を出力する制御部を備えている構成。
また、本発明の縦型熱処理装置は、
複数の基板を棚状に保持した基板保持具を、その周囲に加熱部が配置された縦型の反応管内に搬入して、基板に対して熱処理を行う縦型熱処理装置において、
前記反応管の長さ方向に沿って設けられ、前記基板保持具に保持される各基板に処理ガスを供給するために、各基板に対応する高さ位置にガス吐出口が形成された処理ガス供給部と、
前記反応管の中心に対して前記ガス吐出口とは反対側位置に形成された排気口と、を備え、
前記基板保持具は、基板載置領域が形成され、互に積層された複数の円形状の保持板と、保持板の周縁部を貫通させて各保持板を支持し、周方向に沿って複数設けられた支柱と、を備え、反応管の径方向で見た時の前記支柱の外側部位は、保持板の外縁と同じ位置であるかまたは内側寄りであり、
前記保持板の外縁と前記反応管の内壁との間の離間寸法は、前記保持板上に支持される基板の上面と当該基板の上方側に対向する保持板の下面との間の間隔寸法よりも短く設定されていることを特徴とする。
また、既述のガス吐出口52としては、ウエハボート11の長さ方向に沿うようにスリット状に形成しても良い。また、反応管12を二重管構造としたが、ウエハボート11の長さ方向に夫々伸びるダクト状のガス供給部及び排気部を反応管12の外側に夫々気密に配置すると共に、これらガス供給部及び排気部と夫々連通するように反応管12の側面にガス吐出口52及び排気口16を上下方向に亘って複数箇所に形成しても良い。図11及び図12は、このような構成例の要部を示している。図11及び図12において80は排気ダクト、81はガス供給部である。尚、図12では排気ダクト80について一部を切り欠いて内部の排気口16を示している。
11 ウエハボート
12 反応管
12a 外管
12b 内管
21 排気口
31 保持板
32 支柱
33 載置領域
52 ガス吐出口
Claims (9)
- 複数の基板を棚状に保持した基板保持具を、その周囲に加熱部が配置された縦型の反応管内に搬入して、基板に対して熱処理を行う縦型熱処理装置において、
前記反応管の長さ方向に沿って設けられ、前記基板保持具に保持される各基板に処理ガスを供給するために、各基板に対応する高さ位置にガス吐出口が形成された処理ガス供給部と、
前記反応管の中心に対して前記ガス吐出口とは反対側位置に形成された排気口と、を備え、
前記基板保持具は、各々複数の基板載置領域が形成され、互に積層された複数の円形状の保持板と、保持板の周縁部を貫通させて各保持板を支持し、周方向に沿って複数設けられた支柱と、を備え、反応管の径方向で見た時の前記支柱の外側部位は、保持板の外縁と同じ位置であるかまたは内側寄りであることを特徴とする縦型熱処理装置。 - 前記保持板の外縁と前記反応管の内壁との間の離間寸法は、前記保持板上に支持される基板の上面と当該基板の上方側に対向する保持板の下面との間の間隔寸法よりも短く設定されていることを特徴とする請求項1に記載の縦型熱処理装置。
- 前記支柱の外側部位は、保持板の外縁と同じ位置であるかまたは内側寄りであることに代えて、保持板の外縁から外側に3mm飛び出した位置よりも内側寄りであることを特徴とする請求項1または2に記載の縦型熱処理装置。
- 前記保持板の外縁と前記反応管の内壁との間の離間寸法は、8mm以下であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の縦型熱処理装置。
- 反応管の径方向で見た時の前記基板保持具上の基板の外縁と前記支柱の外周面とは、前記保持板の輪郭線上において揃っていることを特徴とする請求項1または2に記載の縦型熱処理装置。
- 前記反応管は、気密に開閉自在に設けられた第1の反応管と、当該第1の反応管の内部に設けられ、前記基板保持具を収納する第2の反応管と、を備え、
前記処理ガス供給部は、前記基板保持具の長さ方向に沿うように第2の反応管内に配置されたガスインジェクターであり、
前記排気口は、このガスインジェクターに対向するように、当該ガスインジェクターの長さ方向に沿って前記第2の反応管の側面にスリット状に形成され、
これら第1の反応管と第2の反応管との間の領域に連通するように、当該領域の雰囲気を排気するための排気ポートが配置されていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一つに記載の縦型熱処理装置。 - 前記基板保持具を鉛直軸周りに回転させる回転機構を備えていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一つに記載の縦型熱処理装置。
- 前記処理ガス供給部は、基板に第1の処理ガスを供給する第1のガス供給部と、この第1の処理ガスと反応する第2の処理ガスを基板に供給する第2のガス供給部と、基板にパージガスを供給する第3のガス供給部と、を備え、
第1の処理ガスと第2の処理ガスとを交互に基板に供給すると共に、これら処理ガスを切り替える時にはパージガスを基板に供給してガスの置換を行うように制御信号を出力する制御部を備えていることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一つに記載の縦型熱処理装置。 - 複数の基板を棚状に保持した基板保持具を、その周囲に加熱部が配置された縦型の反応管内に搬入して、基板に対して熱処理を行う縦型熱処理装置において、
前記反応管の長さ方向に沿って設けられ、前記基板保持具に保持される各基板に処理ガスを供給するために、各基板に対応する高さ位置にガス吐出口が形成された処理ガス供給部と、
前記反応管の中心に対して前記ガス吐出口とは反対側位置に形成された排気口と、を備え、
前記基板保持具は、基板載置領域が形成され、互に積層された複数の円形状の保持板と、保持板の周縁部を貫通させて各保持板を支持し、周方向に沿って複数設けられた支柱と、を備え、反応管の径方向で見た時の前記支柱の外側部位は、保持板の外縁と同じ位置であるかまたは内側寄りであり、
前記保持板の外縁と前記反応管の内壁との間の離間寸法は、前記保持板上に支持される基板の上面と当該基板の上方側に対向する保持板の下面との間の間隔寸法よりも短く設定されていることを特徴とする縦型熱処理装置。
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