JP2011525637A - マイクロリソグラフィ用の照明光学ユニット - Google Patents
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Abstract
【選択図】図2
Description
γ=Δ(Mo)/Δ(Si)
ここで以下のことが成り立つ。
Δ(Mo):二層のモリブデン層の層厚
Δ(Si)二層のシリコン層の層厚
19 第1のファセット
Claims (42)
- 複数の第1のファセット(19;52)を有する第1のファセットミラー(13;51)と複数の第2のファセット(20;54)を有する第2のファセットミラー(14;53)とを含み、該第1のファセットミラーのファセットと該第2のファセットミラーのファセットとをそれぞれ含むファセット対(19,20;52,54)が物体視野(5)を照明するための複数の照明チャンネルを予備形成する物体視野(5)を照明光(10)で照明するためのマイクロリソグラフィのための照明光学ユニット(4)であって、
照明チャンネルの少なくとも一部が、各場合に、それぞれの照明チャンネル内で誘導される照明光(10)の個別偏光状態を予備形成するために割り当てられた偏光要素(21から24;26から30;37;39;47;63)を有する、
ことを特徴とする照明光学ユニット。 - 前記偏光要素(21から24;30;37;39;47;63)は、前記第1のファセットミラー(13;51)上の前記照明光(10)の偏光に影響を与えることを特徴とする請求項1に記載の照明光学ユニット。
- 前記偏光要素(21から24;30)は、前記第1のファセット(19;52)に接続されることを特徴とする請求項2に記載の照明光学ユニット。
- 前記偏光要素(26から29;47;63)は、前記第2のファセットミラー(14;53)上の前記照明光(10)の偏光に影響を与えることを特徴とする請求項1に記載の照明光学ユニット。
- 前記偏光要素(26から29)は、前記第2のファセット(14;54)に接続されることを特徴とする請求項4に記載の照明光学ユニット。
- 前記偏光要素(21から24;26から30)の少なくとも一部は、ワイヤ格子として具現化されることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記偏光要素(30)の少なくとも一部は、それらに割り当てられた前記照明チャンネルの断面にわたって偏光効果の変動を有することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記偏光要素(21から24;26から30;37;39;47;63)は、照明方向(z)に平行な方向の回りにピボット回転可能(65)に配置されることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記偏光要素(21から24;26から30;37;39;47;63)は、照明方向(z)に垂直な方向の回りに傾斜可能(64)に配置されることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記偏光要素(37;47;63)は、偏光ビームスプリッタとして具現化されることを特徴とする請求項1から請求項5及び請求項7から請求項9のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記偏光要素(39)は、偏光を幾何学的に回転させるための複数のミラー要素(40から42)を有することを特徴とする請求項1から請求項5及び請求項7から請求項9のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 少なくとも1つの偏光要素(37;39;47;63)が、ファセット(19,20;52,54)の群に割り当てられることを特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 第2のファセット(20;54)の数が、第1のファセット(19;52)の数よりも大きく、
異なる第2のファセット(20;54)の照明及び対応する予備形成の異なる照明チャンネルに対して前記第1のファセット(19;52)を入れ替えることが可能である、
ことを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。 - 異なる偏光効果を有する偏光要素(21から24;26から30;37;39;47;63)が、前記第2のファセット(20;54)に割り当てられ、その間で、前記第1のファセット(19;52)の入れ替えによって切り換えることができることを特徴とする請求項13に記載の照明光学ユニット。
- 前記第1のファセットミラー(13)は、視野ファセットミラーとして具現化され、前記第2のファセットミラー(14)は、瞳ファセットミラーとして具現化されることを特徴とする請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記第2のファセットミラー(53)は、鏡面反射体として具現化されることを特徴とする請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記第1のファセットミラー(51)は、ファセットコレクターミラーとして具現化されることを特徴とする請求項1から請求項14及び請求項16のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記偏光要素(21から24;26から30;37;39;47;63)は、前記物体視野(5)をタンジェンシャル偏光で照明することができるような方法で配置されることを特徴とする請求項1から請求項17のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記偏光要素(63)は、自己支持膜として具現化されることを特徴とする請求項1から請求項18のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記偏光要素(63)は、多層構造を有することを特徴とする請求項19に記載の照明光学ユニット。
- 前記偏光要素(63)は、モリブデンとシリコンから構成される複数の二層を有することを特徴とする請求項20に記載の照明光学ユニット。
- 前記照明チャンネルの少なくとも一部は、各場合に、それぞれの照明チャンネル内で誘導される前記照明光(10)を減衰させるために割り当てられた減衰要素(62)を有することを特徴とする請求項1から請求項21のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 各種類の偏光要素にある一定の種類(62a,62b)の減衰要素が割り当てられる前記照明光(10)の種類特異の偏光状態を生成する複数の種類の偏光要素(21から24;26から30;37;39;47;63)を特徴とする請求項22に記載の照明光学ユニット。
- 前記減衰要素(62)は、前記第1のファセットミラー(13;51)上への前記照明光(10)の強度に影響を与えることを特徴とする請求項22又は請求項23に記載の照明光学ユニット。
- 前記減衰要素(62)は、前記第1のファセット(19;52)に接続されることを特徴とする請求項22から請求項24のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記減衰要素(62)は、前記第2のファセットミラー(14;53)上への前記照明光(10)の強度に影響を与えることを特徴とする請求項22から請求項25のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記減衰要素(62)は、前記第2のファセット(20;54)に接続されることを特徴とする請求項26に記載の照明光学ユニット。
- 少なくとも1つのミラー(13,14;51,53)を含む物体視野(5)を照明光(10)で照明するためのマイクロリソグラフィのための照明光学ユニット(4)であって、
少なくとも1つのミラー(13,14;51,53)が、該ミラー(13,14;51,53)に直接に付加されたワイヤ格子の形態の偏光要素(21から24,26から30)を有する、
ことを特徴とする照明光学ユニット。 - 前記少なくとも1つのミラーは、ファセットミラー(13,14;51,53)として具現化され、
ファセット(19,20;52,54)の少なくとも一部が、該ファセット(19,20;52,54)に直接に付加されたワイヤ格子の形態の偏光要素(21から24,26から30)を有する、
ことを特徴とする請求項28に記載の照明光学ユニット。 - 前記少なくとも1つのワイヤ格子ミラー(13,14;51,53)は、該ワイヤ格子ミラー(13,14;51,53)の反射面に垂直な軸の回りにピボット回転可能であることを特徴とする請求項28又は請求項29に記載の照明光学ユニット。
- 複数の第1のファセット(19;52)を有する第1のファセットミラー(13;51)と複数の第2のファセット(20;54)を有する第2のファセットミラー(14;53)とを含み、該第1のファセットミラーのファセットと該第2のファセットミラーのファセットとをそれぞれ含むファセット対(19,20;52,54)が物体視野(5)を照明するための複数の照明チャンネルを予備形成する物体視野(5)を照明光(10)で照明するためのマイクロリソグラフィのための照明光学ユニット(4)であって、
照明チャンネルの少なくとも一部が、各場合に、それぞれの照明チャンネル内で誘導される照明光(10)の偏光状態を物体視野(5)内で変化させる方式で予備形成するために割り当てられた偏光要素(30)を有する、
ことを特徴とする照明光学ユニット。 - 物体視野(5)を照明光(10)で照明するためのマイクロリソグラフィのための照明光学ユニット(4)であって、
照明光(10)の偏光状態を予備形成するための自己支持膜(63)として具現化された偏光要素、
を特徴とする照明光学ユニット。 - 照明光ビーム(10)を生成するためのEUV放射線源(3)を含み、
請求項1から請求項32のいずれか1項に記載の照明光学ユニット(4)を含む、
ことを特徴とする照明系。 - 請求項33に記載の照明系を含み、
物体視野(5)を像視野(8)上に投影するための投影光学ユニット(7)を含む、
ことを特徴とする投影露光装置。 - 請求項34に記載の投影露光装置に使用するための投影光学ユニットであって、
結像光(10)の偏光状態を予備形成するための少なくとも1つの偏光要素が、投影光学ユニット(7)の結像ビーム経路内で物体視野(5)と像視野(8)の間に配置される、
ことを特徴とする投影光学ユニット。 - 前記偏光要素(63)は、自己支持膜として具現化されることを特徴とする請求項35に記載の投影光学ユニット。
- 前記少なくとも1つの偏光要素は、前記投影光学ユニット(7)のミラーのうちの1つに直接に付加されたワイヤ格子として具現化されることを特徴とする請求項35に記載の投影光学ユニット。
- 照明光学ユニット(4)における及び/又は請求項34から請求項37のいずれか1項に記載の投影露光装置の投影光学ユニット(7)における使用のためのEUV偏光要素。
- 自己支持膜としての実施形態を特徴とする請求項38に記載の偏光要素。
- ワイヤ格子としての実施形態を特徴とする請求項38に記載の偏光要素。
- 微細構造構成要素を製造する方法であって、
レチクルを準備する段階と、
照明光(10)に対して感光性であるコーティングを有するウェーハを準備する段階と、
請求項34に記載の投影露光装置の補助を得て前記レチクルの少なくとも1つの区画を前記ウェーハ上に投影する段階と、
前記ウェーハ上に前記照明光(10)を用いて露光された前記感光性の層を現像する段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項41に記載の方法に従って製造された構成要素。
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