JP2011513945A - アレイおよびカンチレバーアレイのレベリング方法 - Google Patents
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Abstract
Description
この出願は、2008年2月5日に出願されたHaaheimらへの米国仮出願第61/026,196号に対する優先権を主張する。この仮出願の全体は、参照により本明細書に組み入れられる。
高解像度パターニングには、鋭いチップ(tip)およびナノスケールのチップを使用することが可能である。この場合、インクまたはパターニング化合物を、チップから固体表面に移すことが可能である。たとえば、チップを、カンチレバーまたはより大きな支持構造体の一端に取り付けられている原子間力顕微鏡(AFM)チップとすることが可能である。この直接描画ナノリソグラフィーによるアプローチは、競合するナノリソグラフィーによっては提供することのできない、高いレジストレーションおよび合理的なコストを含む利点を提供することが可能である。カンチレバーは、複数の態様において使用することが可能である。カンチレバーは、たとえば、以下を含む一部の態様において用いることができる:(i)単一のチップまたはカンチレバー、(ii)複数のチップまたはカンチレバーからなる直線アレイ、および、(iii)複数のチップまたはカンチレバーからなる二次元アレイ、たとえば、複数のチップまたはカンチレバーからなる複数の直線アレイが並んだもの。たとえば、Mirkinらによる国際公開公報第00/41213号(特許文献1)、国際公開公報第01/91855号(特許文献2)、Small, 2005, 10, 940-945(非特許文献1)を参照されたい。また、NanoInkへの米国特許第7,005,378号(特許文献3)、第7,034,854号(特許文献4)、第7,060,977号(特許文献5)、第7,098,056号(特許文献6)、および第7,102,656号(特許文献7)も参照されたい。
本明細書において提示される態様は、たとえば、機器およびデバイス、これらを製造および使用するためのソフトウェアおよび方法を含む。
序論
本明細書において引用されている全ての参考文献は、全体が参照により本明細書に組み入れられる。
ナノ位置決め(nanopositioning)をすることならびに圧電性のエクステンダー、アクチュエータ、および/またはセンサーを使用することの可能な機器は、当技術分野において公知である。機器は、たとえば、ディップペンナノリソグラフィーのために改良されているAFM機器、あるいは、ディップペンナノリソグラフィーを実行するために直接的に適合されている同様の機器とすることが可能である。たとえばNanoInk (Skokie, IL)から、たとえばNSCRIPTOR(商標)を含む機器を得ることが可能である。
支持構造体は、チップ、カンチレバー、およびチップを備えるカンチレバーを支持するように適合することが可能である。たとえば、レジスト層および金の沈着を伴うボトムサイドエッチングを使用して、Siウェーハから支持構造体を形成することが可能である。さらに、2006年4月19日に出願されたMirkinらへの米国仮出願第60/792,950号は、支持構造体について記載している。この仮出願の全体は、参照により本明細書に組み入れられる(この仮出願は、2007年3月23日に出願された米国通常出願第11/690,738号である)。
カンチレバーからなる一次元または二次元のアレイを使用することが可能である。
ビューポートの製造および使用については、たとえば、2008年3月11日に出願されたHaaheimらへの米国特許出願第12/073,909号に記載されている。この出願の全体は、参照により本明細書に組み入れられる。
ビューポートは、良好な機能を可能とすることができる。しかしながら、良好な機能は、ビューポートを使用しなくても得ることが可能である。x-yにおいて、基準ポイントを特定することが可能である。平面性を判定するために、透明または半透明のハンドルチップ/ウェーハを用いることによって、それを介して、x-yにおいて3つ以上の異なるポイントを見て、平面性を決定することが可能である。電気的な接触が用いられている場合には、3つの異なるx-yポイントにおいて、接触を測定することが可能である。
2Dナノプリントアレイ・デバイスは、多くの場合、基板に対して完全には平行(平坦)になっていない。このため、アレイのコーナーをサンプルに突っ込むこと(これは、リソグラフィー中に、サンプルを傷つける、パターンを歪める、および/またはアレイ形成におけるブレを引き起こすことになるであろう)なく、全てのチップ、または多くのもしくは大多数のチップが均一に接触している状態を、どのように取得および検証するのかということが、処理中におけるもっともな疑問となる。基板に対する2Dナノプリントアレイの「平坦性」(すなわち「平面性」)は、z軸モーターによって測定されるような、2Dナノプリントアレイ上の3つの別個のポイントにおける相対的なz位置の観点から、またはゴニオメータ(goiniometer)・モーター(すなわち、ψ、θ)によって測定されるような、2つの相対的な角度差の測定値として、説明することが可能である。これらのパラメータの概略的な図が、図6に提示されている。
利用されている一つのレベリングアプローチは、少量のエポキシを用いて、スキャナーをサンプル表面上においてデバイスと接触させることを伴う。この方法における一つの欠点は、エポキシが乾燥するのに1時間ほどかかることおよびエポキシが体積歪みを引き起こしうること(これは、レベリングに悪影響を及ぼす可能性がある)である。レベリングは、一般的に視覚的検査とモーター位置の測定との組み合わせによって得られる、z高さにおける差異を修正することによって、一般的に実行される。
この方法は、肉眼的に基板をレベリングするための手段を提供することが可能である。この手段では、人の裸眼の能力に依存しながら、約500および800μmの基板内において2Dナノプリントアレイを操作するとともに、zモーターを使用することによって、巨視的な平面上のずれを捕捉するための修正を行う。これは、近似値を与えることを意図されているとともに、一般的に、後続するミクロスケールのレベリングの前に実行される。ビューポートの数、そして、基板のアライメントを制御するモーターの数を、3つ、4つ、5つ、またはそれより多くすることも可能であることに留意されたい。
態様によっては、任意でさらにチップを備える少なくとも一つのカンチレバー備える少なくとも一つのアレイと連動した、NSCRIPTOR機器(NanoInk, Inc)によって、レベリングが実行された。マクロスケールのレベリングが完了した後、カンチレバーの偏向が、モーターおよびzピエゾによって、ビューポートを介して、監視および制御された。これにより、レベリングを、デバイスの重要な、すなわちクリティカルな寸法によって決定される許容範囲内とした。反復的なプロセスの一例を要約するための例示的なフローチャートが、図10に提示されている。なお、反復的な計算は、ソフトウェアルーチンによって実行され、完全なプロセスは、同一のアセンブリに関しては、1度だけ実行すればよい。
接触ポイントを決定するための、異なる態様が存在することも可能である。これらは、たとえば、カンチレバーの偏向、チップからまたはカンチレバーからの任意の観察可能な色変化、横滑りを表象するx-y平面内における移動の徴候、形状の変形または変化(特に、たとえば、半透明のポリマーチップが使用されている場合)、サイズ、焦点、またはシェーディングの変化を含む。接触ポイントを決定するために、人による判断または画像認識ソフトウェアを使用することが可能である。
Claims (83)
- 少なくとも一つの支持構造体によって支持される、少なくとも一つのカンチレバーアレイを提供する工程、
少なくとも一つの基板を提供する工程、
基板に対するアレイの位置を制御するための、モーターおよび圧電性エクステンダーを備える少なくとも一つの機器を提供する工程、
基板に対してアレイをレベリングする工程、
を備える方法であって、
レベリングが、前記機器におけるユーザーインターフェイスを介して遂行され、ユーザーインターフェイスが、少なくとも一つのカンチレバーが基板から偏向するときに、モーターおよび圧電性エクステンダーからの位置情報をユーザーに入力させるように適合されている、方法。 - アレイがカンチレバーの一次元アレイである、請求項1記載の方法。
- アレイがカンチレバーの二次元アレイである、請求項1記載の方法。
- アレイが、少なくとも250個のカンチレバーを備える、請求項1記載の方法。
- アレイが、少なくとも10,000個のカンチレバーを備える、請求項1記載の方法。
- アレイが、少なくとも55,000個のカンチレバーを備える、請求項1記載の方法。
- カンチレバーが、支持構造体から離れるような角度で曲がっている、請求項1記載の方法。
- カンチレバーが、支持構造体から離れるように少なくとも5°の角度で曲がっている、請求項1記載の方法。
- カンチレバーの少なくとも一部がチップを備える、請求項1記載の方法。
- カンチレバーの少なくとも一部がチップを備えていない、請求項1記載の方法。
- カンチレバーが、チップから基板表面に材料を移すために適合されているチップを備える、請求項1記載の方法。
- カンチレバーが、AFM測定に適合されているチップを備える、請求項1記載の方法。
- カンチレバーが、リソグラフィーに適合されているチップを備える、請求項1記載の方法。
- 支持構造体がシリコンを備える、請求項1記載の方法。
- 支持構造体がシリコン支持構造体である、請求項1記載の方法。
- 支持構造体が、カンチレバーの観察を可能とするように適合されている少なくとも一つのビューポートを備える、請求項1記載の方法。
- 支持構造体が、少なくとも一つのエッジ・スタンドオフ・スペーサを備える、請求項1記載の方法。
- 支持構造体が、支持構造体に対してカンチレバーのアレイを支持するように適合されている金を備える、請求項1記載の方法。
- 支持構造体が、少なくとも一部のカンチレバーの観察を可能とするように適合されている少なくとも3つのビューポートを備える、請求項1記載の方法。
- 支持構造体が、カンチレバーの観察を可能とするように適合されている少なくとも一つのビューポートを備え、該ビューポートが、傾斜壁を備える、請求項1記載の方法。
- 基板が平らである、請求項1記載の方法。
- 基板が平らでない、請求項1記載の方法。
- 基板が、少なくとも1cmの長さおよび少なくとも1cmの幅である、請求項1記載の方法。
- レベリングが、ビューポートの相対的な位置の間の差異を約500nm未満とする、請求項1記載の方法。
- レベリングが、少なくとも一つのz軸圧電性エクステンダーを部分的に伸長させる、請求項1記載の方法。
- 機器が、少なくとも一つのz軸圧電性エクステンダーを備える、請求項1記載の方法。
- 位置情報が、少なくとも3つのビューポートによって得られる、請求項1記載の方法。
- モーターがz軸モーターである、請求項1記載の方法。
- モーターがゴニオメータ・モーターである、請求項1記載の方法。
- 圧電性エクステンダーが、レベリングの際に部分的に伸長される、請求項1記載の方法。
- 少なくとも一つのビューポートを備える少なくとも一つの支持構造体によって支持される、少なくとも一つのカンチレバーアレイを提供する工程、
少なくとも一つの基板を提供する工程、
基板に対するアレイの位置を制御するための、少なくとも一つの機器を提供する工程、
基板に対してアレイをレベリングする工程、
を備える方法であって、
レベリングが、ソフトウェアを備える前記機器によって実行され、該機器が、さらに、動作制御と、基板に対するビューポートの相対的な位置の間の差異の反復的な測定とを提供するように適合されているユーザーインターフェイスを備える、方法。 - アレイがカンチレバーの一次元アレイである、請求項31記載の方法。
- アレイがカンチレバーの二次元アレイである、請求項31記載の方法。
- アレイが、少なくとも250個のカンチレバーを備える、請求項31記載の方法。
- アレイが、少なくとも10,000個のカンチレバーを備える、請求項31記載の方法。
- アレイが、少なくとも55,000個のカンチレバーを備える、請求項31記載の方法。
- カンチレバーが、支持構造体から離れるような角度で曲がっている、請求項31記載の方法。
- カンチレバーが、支持構造体から離れるように少なくとも5°の角度で曲がっている、請求項31記載の方法。
- カンチレバーの少なくとも一部がチップを備える、請求項31記載の方法。
- カンチレバーの少なくとも一部がチップを備えていない、請求項31記載の方法。
- カンチレバーが、チップから基板表面に材料を移すために適合されているチップを備える、請求項31記載の方法。
- カンチレバーが、AFM測定に適合されているチップを備える、請求項31記載の方法。
- カンチレバーが、リソグラフィーに適合されているチップを備える、請求項31記載の方法。
- 支持構造体がシリコンを含む、請求項31記載の方法。
- 支持構造体がシリコン支持構造体である、請求項31記載の方法。
- 支持構造体が、カンチレバーの観察を可能とするように適合されている少なくとも一つのビューポートを備える、請求項31記載の方法。
- 支持構造体が、少なくとも一つのエッジ・スタンドオフ・スペーサを備える、請求項31記載の方法。
- 支持構造体が、支持構造体に対してカンチレバーのアレイを支持するように適合されている金を備える、請求項31記載の方法。
- 支持構造体が、少なくとも一部のカンチレバーの観察を可能とするように適合されている少なくとも3つのビューポートを備える、請求項31記載の方法。
- 支持構造体が、カンチレバーの観察を可能とするように適合されている少なくとも一つのビューポートを備え、該ビューポートが傾斜壁を備える、請求項31記載の方法。
- 基板が平らである、請求項31記載の方法。
- 基板が平らでない、請求項31記載の方法。
- 基板が、少なくとも1cmの長さおよび少なくとも1cmの幅である、請求項31記載の方法。
- レベリングが、ビューポートの相対的な位置の間の差異を約500nm未満とする、請求項31記載の方法。
- レベリングが、少なくとも一つのz軸圧電性エクステンダーを部分的に伸長させる、請求項31記載の方法。
- 機器が、少なくとも一つのz軸圧電性エクステンダーを備える、請求項31記載の方法。
- ソフトウェアが、少なくとも一つのz軸圧電性エクステンダーおよび少なくとも3つのz軸モーターを監視および制御する、請求項31記載の方法。
- ソフトウェアが、少なくとも一つのz軸圧電性エクステンダーまたは少なくとも2つのゴニオメータ・モーターを監視および制御する、請求項31記載の方法。
- ソフトウェアが、将来の改良形に適合可能である、請求項31記載の方法。
- ユーザーインターフェイスがオペレーターの入力を促す、請求項31記載の方法。
- 少なくとも一つのカンチレバーアレイを提供する工程、
少なくとも一つの基板を提供する工程、
アレイの位置を制御するための、少なくとも一つの機器を提供する工程、
基板に対してアレイをレベリングする工程、
を備える方法であって、
前記機器が、少なくとも一つの圧電性エクステンダーおよび少なくとも3つのモーターを備え、圧電性エクステンダーおよびモーターが、アレイのレベリングを提供するように適合されている、方法。 - アレイが一次元である、請求項61記載の方法。
- アレイが二次元である、請求項61記載の方法。
- 基板が平らである、請求項61記載の方法。
- 基板が平らでない、請求項61記載の方法。
- 基板が、少なくとも1cmの幅および少なくとも1cmの長さである、請求項61記載の方法。
- レベリングが、圧電性エクステンダーの部分的な伸長を使用することによって実行される、請求項61記載の方法。
- 圧電性エクステンダーおよびモーターが、ソフトウェアによって制御および監視される、請求項61記載の方法。
- 基板が生体分子である、請求項61記載の方法。
- 位置が、少なくとも一つのビューポートによって監視される、請求項61記載の方法。
- カンチレバーチップを備える少なくとも一つのカンチレバーアレイを提供する工程、
少なくとも一つの基板を提供する工程、
を備える方法であって、
基板に対するカンチレバーチップのアレイの位置が、少なくとも一つのz圧電性エクステンダーと、アレイを三角形状に取り囲むように関連している少なくとも3つのz軸モーターとによって制御され、
z軸モーターが、基板に対してカンチレバーチップを上昇および下降させるように適合されており、
すべてのカンチレバーチップが基板に対して肉眼で実質的に平坦になるまで、z軸モーターを調整する工程、
z圧電性エクステンダーを完全に伸長したときに、カンチレバーが無視できない量まで偏向するように、アレイを配置する工程、
z軸モーターの相対的な位置を決定するために、z圧電性エクステンダーを調整する工程、および
方法を一度実行する必要があるように、将来のキャリブレーション基準のために位置を記録する工程、
を含む、方法。 - 構造的特徴を有する少なくとも一つの表面を提供する工程、
少なくとも一つの基板を提供する工程、
前記特徴の位置を制御するための、少なくとも一つの機器を提供する工程、
基板に対してアレイをレベリングする工程、
を備える方法であって、
前記機器が、アレイの位置に対する反復的な測定を提供するように適合されているソフトウェアルーチンによって前記表面のレベリングを提供するように適合されている、方法。 - 構造的特徴を有する少なくとも一つの表面を提供する工程、
少なくとも一つの基板を提供する工程、
アレイの空間的な位置を制御するための、少なくとも一つの機器を提供する工程、
基板に対してアレイをレベリングする工程、
を備えるレベリング方法であって、
前記機器が、アレイのレベリングを提供するように適合されている少なくとも一つの圧電性エクステンダーおよび少なくとも3つのモーターを備える、レベリング方法。 - 構造的特徴を有する少なくとも一つの表面を提供する工程、
v基板を提供する工程、
を備える方法であって、
基板に対する前記特徴の位置が、少なくとも圧電性エクステンダーと、表面を三角形状に取り囲むように関連している少なくとも3つのモーターとによって制御されており、
モーターが、基板に対して前記特徴を上昇および下降させるように適合されており、
前記特徴のすべてが基板に対して肉眼で実質的に平坦になるまで、モーターを調整する工程、
表面の前記特徴が基板に対して無視できない量まで触れるように、アレイを配置する工程、
モーターの相対的な位置を決定するために、圧電性エクステンダーを調整する工程、および
方法を一度実行する必要があるように、将来のキャリブレーション基準のために位置を記録する工程、
を備える、方法。 - ユーザーインターフェイスを含むソフトウェアルーチンであって、該ルーチンが、測定を実行するようにおよび該インターフェイスを介して測定結果を入力するようにユーザーを促し、該ルーチンが、該結果に基づいて計算を実行するとともに、少なくとも一つの圧電性エクステンダーおよび少なくとも3つのモーターを制御および監視することによって、基板に対するデバイスのレベリングを提供する、ソフトウェアルーチン。
- ユーザーインターフェイスを含むソフトウェアルーチンであって、該ルーチンを自動測定および反復的な計算を実行するように適合させることが可能であるとともに、該ルーチンが、少なくとも一つの圧電性エクステンダーおよび少なくとも3つのモーターを制御および監視することによって基板に対するデバイスのレベリングを提供する、ソフトウェアルーチン。
- デバイスが、一次元または二次元のカンチレバーアレイを含む、請求項75記載のソフトウェアルーチン。
- 少なくとも一つの圧電性エクステンダーおよび少なくとも3つのモーターを制御および監視する、請求項75記載のソフトウェアルーチン。
- レベリングによって、z高さにおける平面性からの最大の逸脱が500nmとなる、請求項75記載のソフトウェアルーチン。
- レベリングが、圧電性エクステンダーの部分的な伸長を使用することによって実行される、請求項75記載のソフトウェアルーチン。
- 少なくとも一つの支持構造体によって支持される、少なくとも一つのカンチレバーアレイを提供する工程、
少なくとも一つの基板を提供する工程、
基板に対するアレイの位置を制御するための、モーターを備える少なくとも一つの機器を提供する工程、
基板に対してアレイをレベリングする工程、
を備える方法であって、
レベリング工程が、前記機器におけるユーザーインターフェイスを介して遂行され、該ユーザーインターフェイスが、少なくとも一つのカンチレバーが基板から偏向するときに、モーターに関する位置情報をユーザーに入力させるように適合されている、方法。 - (i)少なくとも一つのチップアレイを提供する工程、
(ii)少なくとも一つの基板を提供する工程、
(iii)基板に対するチップアレイの位置を制御するための、少なくとも一つの機器を提供する工程、
基板に対してアレイをレベリングする工程、
を備える方法であって、
レベリングが、前記機器におけるユーザーインターフェイスを介して実行され、該ユーザーインターフェイスが、少なくとも一つのチップが基板に接触するときに、少なくとも一つのモーターおよび少なくとも一つの圧電性エクステンダーからの位置情報をユーザーに入力させるように適合されている、方法。 - 少なくとも一つの支持構造体によって支持される、少なくとも一つのナノスコピックチップアレイを提供する工程、
少なくとも一つの基板を提供する工程、
チップと基板との間の接触ポイントを決定するために、基板に対するX-Y平面における少なくとも3つの基準ポイントを提供する工程、
基板に対するアレイの位置を制御するための、モーターおよび圧電性エクステンダーを備える少なくとも一つの機器を提供する工程、
基板に対してアレイをレベリングする工程、
を備える方法であって、
レベリングが、前記機器におけるユーザーインターフェイスを介して遂行され、該ユーザーインターフェイスが、少なくとも一つナノスコピックチップが表面に接触するときに、モーターおよび圧電性エクステンダーからの位置情報をユーザーに入力させるように適合されている、方法。
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