JP2011222739A - 気相成長装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】サセプタ16の上面に形成した基板載置部21aに載置した基板20をサセプタ下方のヒータ14によって加熱する気相成長装置において、前記サセプタを、前記基板載置部を有する上部サセプタ部材21と、前記加熱手段によって加熱される下部サセプタ部材22とに分割形成して上部サセプタ部材の下面と下部サセプタ部材の上面との間に伝熱量調整用の空間部を形成するとともに、前記空間部の寸法を調節して下部サセプタ部材から上部サセプタ部材への伝熱量を調節する伝熱量調整部を備えている。
【選択図】図1
Description
Claims (3)
- チャンバー内に回転可能に設けられた円盤状のサセプタと、該サセプタの上面に設けられた基板載置部と、前記チャンバー内に原料ガスを導入する原料ガス導入部と、前記チャンバーの反原料ガス導入部側に設けられた排気部と、前記基板載置部に載置された基板を前記サセプタの下面側から加熱する加熱手段とを備え、前記サセプタの回転に伴って前記基板を回転させるとともに、前記原料ガス導入部から原料ガスを導入して前記加熱手段により加熱された基板の上面に薄膜を気相成長させる気相成長装置において、前記サセプタは、前記基板載置部を有する上部サセプタ部材と、前記加熱手段によって加熱される下部サセプタ部材と、前記上部サセプタ部材の下面と前記下部サセプタ部材の上面との間に形成される空間部の寸法を調節して下部サセプタ部材から上部サセプタ部材への伝熱量を調節する伝熱量調整部とを備えていることを特徴とする気相成長装置。
- 前記サセプタは、チャンバー内に回転可能に設けられた円盤状のサセプタ支持部材の外周部の周方向に複数個が等間隔で回転可能に設けられ、前記サセプタ支持部材の回転に伴い、サセプタ支持部材の中心軸を中心として公転するとともに、サセプタ中心軸を中心として自転することを特徴とする請求項1記載の気相成長装置。
- 前記サセプタの伝熱量調整部は、前記基板載置部の外周側の上部サセプタ部材の外周部下面と、該上部サセプタ部材の下面に対向する前記下部サセプタ部材の外周部上面とのいずれか一方の面に、他方の面に向かう突出寸法が異なる階段状当接面を有する階段部を周方向に複数形成するとともに、他方の面には、前記複数の階段部における突出寸法が同一の各階段状当接面に当接する複数の突出面を形成し、前記階段状当接面のいずれか一つの当接面と前記突出面とを当接させた際の階段状当接面の突出寸法によって前記上部サセプタ部材の下面と前記下部サセプタ部材の上面との間隔が調節可能となっていることを特徴とする請求項1又は2記載の気相成長装置。
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