JP6587354B2 - サセプタ - Google Patents
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Description
特許文献1、2に開示された発明にあっては、このようなザグリを有するサセプタの形状を工夫することによりシリコンウエハに対する成膜処理を改善するようになされている。
しかしながら、前記ザグリ53にシリコンウエハWを保持する際、ウエハ面が水平に保持されない場合があり、その状態で回転するシリコンウエハWに対し反応ガスGを供給すると、反応ガスGがウエハ面に均一に当たらす、成膜後の膜厚にバラツキが生じるという課題があった。
しかしながら、サセプタに形成したザグリの深さ、接触部の平面度、平坦度といったパラメータが同じであっても、複数のサセプタ間でエピタキシャル膜の膜厚にばらつきが生じるという課題があった。
前記課題を解決するため、更に本願発明者らが鋭意研究を行った結果、サセプタ外周端からザグリ端までの傾斜がエピタキシャル膜の膜厚ばらつきに関係していることを見出し、本発明に至った。
また、前記ザグリが形成された面とは反対の面において、前記周縁部の外周端から内周端に相当する位置まで、径方向に沿って前記ザグリ側に傾斜する第2の傾きが0.0005rad以上0.005rad以下であることが望ましい。
また、前記周縁部の下面が傾斜しているため、サセプタ下面の全体に反応ガスが流れ、サセプタの温度均一性が向上する。その結果、被処理基板に成膜される膜の膜厚均一性をより向上することができる。
ウエハ載置部2は、シリコンウエハが保持される円形凹部状に形成されたザグリ21と、ザグリ21の周りに段状に(凸状に)高く形成された周縁部22とを有する。
尚、前記ウエハ載置部2のザグリ21に対するシリコンウエハの搬入出は、例えば図示しない複数の昇降ピンをザグリ21底面に形成された貫通孔から上下に進退させ、シリコンウエハを昇降させることにより可能である。
具体的には、周縁部22の上面は、径内側に向かってザグリ21側(下側)に傾斜しており、周縁部22の外周端Z9から内周端Z8までの第1の傾きθ1が、0.003rad以上0.01rad以下に形成されている。
また、周方向における第2のバラツキθ2は、0〜0.005radの範囲内となされている。これによりサセプタ下面部に流れるソースガスの整流化が期待でき、周方向における前記第1の傾きによるエピタキシャル膜の高低差をより容易に制御することができる。
前記炭素基材の表面にSiC被覆膜を形成するCVDコート条件は、チャンバ内の炉内圧力を15〜25Pa、炉内温度を1700℃以上1780℃以下で20時間以上維持しソースガスを流す。成膜量を面内に均等とするめに炭素基材Bを円周方向に回転させながらCVDコートする。また、治具などにより炭素基材Bに当たるソースガスの流れを他の部分よりもサセプタ周縁部22に当たるように制御することでサセプタ周縁部22のSiC膜厚および傾斜を調整することが可能となる。
また、前記周縁部22の下面が傾斜しているため、サセプタ1下面の全体に反応ガスGが流れ、サセプタ1の温度均一性が向上する。その結果、シリコンウエハWに成膜されるエピタキシャル膜の膜厚の均一性をより向上することができる。
本実施例では、炭素基材の表面にSiC被覆膜を形成することにより、サセプタの周縁部(上下面)に傾斜を形成した。周縁部とは、前記実施形態に示したようにザグリの周りに段状に(凸状に)高く形成された円環状の部分である。
また、前記サセプタ周縁部の傾き(rad)を実施例の条件とし、各実施例において、作製したサセプタを用いてシリコンウエハにエピタキシャル膜を形成し、その成膜状態を評価した。その他の実施例の条件、及び評価結果を表1に示す。
また、表中の成膜評価結果における○は、シリコンウエハ上に形成したエピタキシャル膜の膜厚が均一(膜厚Xに対してウエハ面内の膜厚バラツキが±2%以内)であったものを示し、△は膜厚に多少のばらつき(膜厚Xに対してウエハ面内の膜厚バラツキが±2%<X<±4%の範囲内)が生じたものを示し、×は膜厚に大きくばらつき(膜厚Xに対してウエハ面内の膜厚バラツキが±4%以上)が生じたものを示す。
また、サセプタ下面の外周端からザグリ端相当位置までの第2の傾きは、0.0005rad〜0.005radの範囲において成膜結果が良好であった(実施例2,3,6,7,8)。
以上の実施例の結果より、本発明に係るサセプタを用いて、シリコンウエハに成膜処理を施すことにより、膜厚のバラツキを抑え均一化できることを確認した。
2 ウエハ載置部
21 ザグリ
22 周縁部
Z8 内周端
Z9 外周端
W シリコンウエハ(被処理基板)
Claims (4)
- 円板上面に円形凹状のザグリが形成され、前記ザグリに被処理基板を保持するサセプタであって、
前記ザグリの周りには凸状の周縁部を有し、
前記周縁部の外周端から内周端まで、径方向に沿って前記ザグリ側に傾斜し、
前記ザグリが形成された面とは反対の面において、前記周縁部の外周端から内周端に相当する位置まで、径方向に沿って前記ザグリ側に傾斜していることを特徴とするサセプタ。 - 前記周縁部の外周端から内周端まで、径方向に沿って前記ザグリ側に傾斜する第1の傾きは、0.003rad以上0.01rad以下であることを特徴とする請求項1に記載されたサセプタ。
- 前記ザグリが形成された面とは反対の面において、前記周縁部の外周端から内周端に相当する位置まで、径方向に沿って前記ザグリ側に傾斜する第2の傾きが0.0005rad以上0.005rad以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載されたサセプタ。
- 円板上面に円形凹状のザグリが形成され、前記ザグリの周りに凸状の周縁部を有するとともに、前記周縁部の上下面が平坦に形成された基材と、前記基材上に形成された被覆膜とを有し、
前記被覆膜の厚さにより前記周縁部における傾斜が形成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載されたサセプタ。
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