JP2011210748A - Ccd型固体撮像素子及びその製造方法並びに撮像装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体基板の表面部に二次元アレイ状に複数の画素2を配列形成し、画素2で構成される複数の画素列に対し1本置きの画素列に沿って電荷転送路3を形成すると共に、両脇の2本の画素列で該電荷転送路3を共用させ、共用する電荷転送路3を挟んで隣接する2つの画素2a,2bを位相差画素とすべく、該位相差画素の2つの画素の夫々に遮光膜開口4a,4bを設けると共に、2つの遮光膜開口4a,4bを、当該画素の中央部に対して電荷転送路3に沿う方向で逆方向、及び電荷転送路3に沿う方向に対して直角の方向で逆方向、かつ、該共用する電荷転送路3から離れる方向に偏心して設ける。
【選択図】図2
Description
該画素で構成される複数の画素列に対し1本置きの画素列に沿って形成され、両脇の2本の画素列に共用される電荷転送路と、
共用する前記電荷転送路を挟んで隣接する2つの前記画素を位相差画素とすべく、該位相差画素の2つの画素の夫々に設けられる遮光膜開口であって、当該画素の中央部に対して前記電荷転送路に沿う方向で逆方向、及び該電荷転送路に沿う方向に対して直角の方向で逆方向、且つ、該共用する電荷転送路から離れる方向に偏心された遮光膜開口と
を備えることを特徴とする。
該画素で構成される複数の画素列に対し1本置きの画素列に沿って電荷転送路を形成すると共に、両脇の2本の画素列で該電荷転送路を共用し、
共用する前記電荷転送路を挟んで隣接する2つの前記画素を位相差画素とすべく、該位相差画素の2つの画素の夫々に遮光膜開口を設けると共に、2つの該遮光膜開口の夫々を、当該画素の中央部に対して前記電荷転送路に沿う方向で逆方向、及び該電荷転送路に沿う方向に対して直角の方向で逆方向、且つ、該共用する電荷転送路から離れる方向に偏心して設ける
ことを特徴とする。
該画素で構成される複数の画素列に対し1本置きの画素列に沿って電荷転送路を形成すると共に、両脇の2本の画素列で該電荷転送路を共用し、
共用する前記電荷転送路を挟んで隣接する2つの前記画素を位相差画素とすべく、該位相差画素の2つの画素の夫々に遮光膜開口を設けると共に、2つの該遮光膜開口の夫々を、当該画素の中央部に対して前記電荷転送路に沿う方向で逆方向、及び該電荷転送路に沿う方向に対して直角の方向で逆方向、且つ、該共用する電荷転送路から離れる方向に偏心して設けることを特徴とする。
2a,2b 位相差画素
3,3a,3b,3c 垂直電荷転送路(VCCD)
4 遮光膜開口
4a,4b,4c 位相差画素の遮光膜開口
21 CCD型固体撮像素子
29 システム制御部(CPU)
Claims (16)
- 半導体基板の表面部に二次元アレイ状に配列形成された複数の画素と、
該画素で構成される複数の画素列に対し1本置きの画素列に沿って形成され、両脇の2本の画素列に共用される電荷転送路と、
共用する前記電荷転送路を挟んで隣接する2つの前記画素を位相差画素とすべく、該位相差画素の2つの画素の夫々に設けられる遮光膜開口であって、当該画素の中央部に対して前記電荷転送路に沿う方向で逆方向、及び該電荷転送路に沿う方向に対して直角の方向で逆方向、且つ、該共用する電荷転送路から離れる方向に偏心された遮光膜開口と
を備えるCCD型固体撮像素子。 - 請求項1に記載のCCD固体撮像素子であって、前記垂直電荷転送路を介さずに隣接する2つの前記画素列の各画素の受光面積が前記隣接する方向に拡大して形成されるCCD型固体撮像素子。
- 請求項1又は請求項2に記載のCCD型固体撮像素子であって、前記複数の画素の各々にはカラーフィルタが積層されると共に前記位相差画素を構成する2つの画素には同色カラーフィルタが積層されるCCD型固体撮像素子。
- 請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のCCD型固体撮像素子であって、隣接する2つの前記位相差画素のうち前記電荷転送路を介さずに隣接する2つの画素の前記遮光膜開口を1つの開口で開けたCCD型固体撮像素子。
- 請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のCCD型固体撮像素子であって、前記半導体基板に形成された複数の画素の全画素を前記位相差画素とするCCD型固体撮像素子。
- 請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のCCD型固体撮像素子であって、前記半導体基板に形成された複数の画素が設けられた全域のうち離散的等方的位置の画素を前記位相差画素とするCCD型固体撮像素子。
- 請求項6に記載のCCD型固体撮像素子であって、特定色フィルタが積層された画素を前記位相差画素とするCCD型固体撮像素子。
- 請求項1乃至請求項7のいずれかに1項に記載のCCD型固体撮像素子を搭載した撮像装置。
- 請求項6に記載の撮像装置であって、前記位相差画素の検出信号を被写体の撮像画像信号として該被写体の画像生成を行う信号処理手段を備える撮像装置。
- 半導体基板の表面部に二次元アレイ状に複数の画素を配列形成し、
該画素で構成される複数の画素列に対し1本置きの画素列に沿って電荷転送路を形成すると共に、両脇の2本の画素列で該電荷転送路を共用し、
共用する前記電荷転送路を挟んで隣接する2つの前記画素を位相差画素とすべく、該位相差画素の2つの画素の夫々に遮光膜開口を設けると共に、2つの該遮光膜開口の夫々を、当該画素の中央部に対して前記電荷転送路に沿う方向で逆方向、及び該電荷転送路に沿う方向に対して直角の方向で逆方向、且つ、該共用する電荷転送路から離れる方向に偏心して設ける
CCD型固体撮像素子の製造方法。 - 請求項10に記載のCCD固体撮像素子の製造方法であって、前記垂直電荷転送路を介さずに隣接する2つの前記画素列の各画素の受光面積が前記隣接する方向に拡大して形成されるCCD型固体撮像素子の製造方法。
- 請求項10又は請求項11に記載のCCD型固体撮像素子の製造方法であって、前記複数の画素の各々にはカラーフィルタが積層されると共に前記位相差画素を構成する2つの画素には同色カラーフィルタが積層されるCCD型固体撮像素子の製造方法。
- 請求項10乃至請求項12のいずれか1項に記載のCCD型固体撮像素子の製造方法であって、隣接する2つの前記位相差画素のうち前記電荷転送路を介さずに隣接する2つの画素の前記遮光膜開口を1つの開口で開けたCCD型固体撮像素子の製造方法。
- 請求項10乃至請求項13のいずれか1項に記載のCCD型固体撮像素子の製造方法であって、前記半導体基板に形成された複数の画素の全画素を前記位相差画素とするCCD型固体撮像素子の製造方法。
- 請求項10乃至請求項13のいずれか1項に記載のCCD型固体撮像素子の製造方法であって、前記半導体基板に形成された複数の画素が設けられた全域のうち離散的等方的位置の画素を前記位相差画素とするCCD型固体撮像素子の製造方法。
- 請求項15に記載のCCD型固体撮像素子の製造方法であって、特定色フィルタが積層された画素を前記位相差画素とするCCD型固体撮像素子の製造方法。
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