JP2011198642A - 透明導電膜付き基材及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】透明基材1の上に、金属ナノワイヤ2を含む透明塗膜3からなる透明導電膜4が設けられた透明導電膜付き基材に関する。透明基材1と透明導電膜4の間に透明樹脂6からなる中間層5が形成されており、透明導電膜4の表面は表面粗さRaが10nm以下の平滑面に形成されている。そして透明導電膜4の表面は、加圧によって平滑面に形成されていると共に、中間層5を形成する透明樹脂6は、透明導電膜4の表面を加圧する際に可塑性を呈する樹脂であることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
透光性粒子としてアクリル粒子(綜研化学社製、粒径300nm)を用い、UV硬化型アクリル樹脂(新中村化学工業(株)製「A−DPH」)10.00質量部とアクリル粒子5.00質量部を、メチルエチルケトン42.14質量部とメチルイソブチルケトン42.14質量部の混合溶媒に分散・溶解した。さらに光重合開始剤1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバガイギー製「イルガキュア184」)0.72質量部を加えてよく混合し、25℃の恒温雰囲気下で1時間撹拌混合することによって、固形分15質量%の中間層形成用材料を調製した。
中間層を形成するシートとして非晶質ポリエチレンテレフタレートシートを用い、まず、このシートの上に実施例1で用いた透明導電膜形成用材料をワイヤバーコーター#2によって塗布し、常温(23℃)で2分間乾燥した後、120℃で3分間加熱して乾燥することによって、透明導電膜を形成した。次に、透明基材としてフィルム基材(PET製、厚み125μm)を用い、透明導電膜を形成した非晶質ポリエチレンテレフタレートシートを透明基材の表面に重ね合わせ、160℃に加熱した二軸ロールプレス機に通して1MPaの圧力で加圧処理することによって、透明基材に非晶質ポリエチレンテレフタレートシートからなる中間層と透明導電膜を積層した透明導電膜付き基材を得た。
透光性粒子としてITO粒子(粒径100nm)を用い、UV硬化型アクリル樹脂(新中村化学工業(株)製「A−DPH」)10.00質量部とITO粒子5.00質量部を、メチルエチルケトン42.14質量部とメチルイソブチルケトン42.14質量部の混合溶媒に分散・溶解した。さらに光重合開始剤1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバガイギー製「イルガキュア184」)0.72質量部を加えてよく混合し、25℃の恒温雰囲気下で1時間撹拌混合することによって、固形分15質量%の中間層形成用材料を調製した。
透明基材としてフィルム基材(PET製、厚み125μm)を用い、透明基材の表面に実施例1で用いた透明導電膜形成用材料をワイヤバーコーター#2によって塗布し、常温(23℃)で2分間乾燥した後、120℃で3分間加熱して乾燥し、さらに紫外線を強度500mJ/cm2にて照射して硬化させることによって、透明導電膜を作製した。この後、160℃に加熱した二軸ロールプレス機に通して1MPaの圧力で加圧処理することによって、透明導電膜付き基材を得た。
透明基材としてフィルム基材(PET製、厚み125μm)を用い、透明基材の表面に実施例1で用いた透明導電膜形成用材料をワイヤバーコーター#2によって塗布し、常温(23℃)で2分間乾燥した後、120℃で3分間加熱して乾燥し、さらに紫外線を強度500mJ/cm2にて照射して硬化させることによって、透明導電膜を作製し、透明導電膜付き基材を得た。
2 金属ナノワイヤ
3 透明塗膜
4 透明導電膜
5 中間層
6 透明樹脂
7 透光性粒子
Claims (7)
- 透明基材の上に、金属ナノワイヤを含む透明塗膜からなる透明導電膜が設けられた透明導電膜付き基材であって、透明基材と透明導電膜の間に透明樹脂からなる中間層が形成されており、透明導電膜の表面は表面粗さRaが10nm以下の平滑面に形成されていることを特徴とする透明導電膜付き基材。
- 透明導電膜の表面は、加圧によって平滑面に形成されていると共に、中間層を形成する透明樹脂は、少なくとも透明導電膜の表面を加圧する際に可塑性を呈する樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の透明導電膜付き基材。
- 中間層に、中間層の膜厚の0.3〜1.2倍の粒子径を有する透光性粒子が含有されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の透明導電膜付き基材。
- 上記の透光性粒子は、導電性粒子であることを特徴とする請求項3に記載の透明導電膜付き基材。
- 上記の透光性粒子は、屈折率制御用粒子であることを特徴とする請求項3又は4に記載の透明導電膜付き基材。
- 透明基材の上に、可塑性を呈する透明樹脂からなる中間層と、金属ナノワイヤを含む透明塗膜からなる透明導電膜を、この順に設け、透明導電膜の表面を加圧して、透明導電膜の表面を表面粗さRa10nm以下になるように平滑化することを特徴とする透明導電膜付き基材の製造方法。
- 上記の加圧を、熱ロールによる加熱、熱プレスによる加熱のうち、少なくとも一方で行なうことを特徴とする請求項6に記載の透明導電膜付き基材の製造方法。
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