JP2011181389A - 荷電粒子線顕微鏡 - Google Patents
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Abstract
パターン寸法計測のスループットを低下させることなくパターンの材料や立体構造に関する情報を得ることができる荷電粒子線顕微鏡を提供する。
【解決手段】
荷電粒子線顕微鏡において、試料の観察視野を走査して得られたフレーム画像を複数枚取得し(S304、S305)、それらの画像を積算し(S307)、試料上に形成されたパターンの寸法を算出(S308)すると共に、フレーム画像を構成する1フレーム画像またはサブフレーム画像等からなる分別画像(S309,S310)を用いてパターン情報を取得する(S314)。
【選択図】図3
Description
(1)試料の観察視野を走査して得られたフレーム画像を複数枚取得し、複数枚のフレーム画像を積算して作成した測長画像を用いて試料上に形成されたパターンの寸法を算出する荷電粒子線顕微鏡において、得られたフレーム画像から形成される、取得したフレーム枚数より少ないフレーム数で積算した画像や1フレーム画像またはサブフレーム画像からなる分別画像を用いてパターンの材料や立体構造に関する情報を作成することを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。
(2)前項(1)記載の荷電粒子線顕微鏡において、取得するパターンの材料や立体構造に関する情報に応じて保存する分別画像のフレーム数を選択できることを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。
(3)前項(1)記載の荷電粒子線顕微鏡において、前記分別画像を動画圧縮技術を用いて動画像形式で保存することを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。
(4)前項(3)記載の荷電粒子線顕微鏡において、取得するパターンの材料や立体構造に関する情報に応じて動画像の圧縮率を選択できることを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。
(5)前項(1)記載の荷電粒子線顕微鏡において、荷電粒子線の照射によるレジストのシュリンクの大きさの違いから、レジストパターンの立体構造の差を推定することを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。
(6)前項(1)記載の荷電粒子線顕微鏡において、複数フレーム内でのパターン寸法の変化から初期のパターン寸法を算出することを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。
(7)前項(1)記載の荷電粒子線顕微鏡において、複数フレーム内での二箇所以上のパターン寸法の変化からレジストパターンの抜き部か残し部かを判定することを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。
(8)前項(1)記載の荷電粒子線顕微鏡において、複数フレーム内での階調値の変化から材料を推定することを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。
Claims (19)
- 試料の観察視野を走査して得られたフレーム画像を複数枚取得し、複数枚のフレーム画像を積算して作成した測長画像を用いて試料上に形成されたパターンの寸法を算出する荷電粒子線顕微鏡において、
得られたフレーム画像から形成される、取得したフレーム枚数より少ないフレーム数で積算した画像や1フレーム画像またはサブフレーム画像からなる分別画像を用いてパターンの材料や立体構造に関する情報を作成することを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 請求項1に記載の荷電粒子線顕微鏡において、
取得するパターンの材料や立体構造に関する情報に応じて保存する分別画像のフレーム数を選択できることを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 請求項1に記載の荷電粒子線顕微鏡において、
前記分別画像を、動画圧縮技術を用いて動画像形式で保存することを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 請求項3に記載の荷電粒子線顕微鏡において、
取得するパターンの材料や形状に関する情報に応じて動画像の圧縮率を選択できることを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 請求項1に記載の荷電粒子線顕微鏡において、
荷電粒子の照射によるレジストのシュリンクの大きさの違いから、レジストパターンの立体構造の差を推定することを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 請求項1に記載の荷電粒子線顕微鏡において、
複数フレーム内でのパターン寸法の変化から初期のパターン寸法を算出することを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 請求項1に記載の荷電粒子線顕微鏡において、
複数フレーム内での二箇所以上のパターン寸法の変化からレジストパターンの抜き部か残し部かを判定することを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 請求項1に記載の荷電粒子線顕微鏡において、
複数フレーム内での階調値の変化から材料を推定することを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 荷電粒子源と、試料台と、前記荷電粒子源から放出された荷電粒子の照射に因る前記試料台上に配置される試料からの荷電粒子を検出する検出部と、を有する顕微鏡部と、
前記検出器からの検出信号のフレーム画像への変換や複数の前記フレーム画像を積算して測長画像とするデータ処理部と、前記フレーム画像を保存する画像記憶部と、前記測長画像から前記試料上に形成されたパターンの寸法を求める演算処理部とを有する制御部と、を備えた荷電粒子線顕微鏡であって、
前記データ処理部は、前記測長画像を構成するフレーム枚数より少ないフレーム数で積算した複数フレーム画像や1フレーム画像またはサブフレーム画像を分別画像として形成する機能を有することを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 請求項9に記載の荷電粒子線顕微鏡において、
前記分別画像のフレーム数は、取得する前記パターンの材料や立体構造に関する情報に応じて選択されるものであることを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 請求項9に記載の荷電粒子線顕微鏡において、
前記分別画像は、動画圧縮技術を用いて動画像形式で前記画像記憶部に保存されるものであることを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 請求項11に記載の荷電粒子線顕微鏡において、
前記動画像の圧縮率は、取得する前記パターンの材料や立体構造に関する情報に応じて選択されるものであることを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 請求項9に記載の荷電粒子線顕微鏡において、
前記試料上に形成されたパターンはレジストパターンであり、前記レジストパターンの立体構造は、前記分別画像に基づいて得られる前記レジストパターンの測長値と前記荷電粒子の照射時間との関係から推定されるものであることを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 請求項9に記載の荷電粒子線顕微鏡において、
前記試料上に形成されたパターンはレジストパターンであり、前記レジストパターンの前記荷電粒子照射前の寸法は、前記分別画像に基づいて得られる前記レジストパターンの測長値と前記分別画像の測定回数との関係から求められるものであることを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 請求項9に記載の荷電粒子線顕微鏡において、
前記試料上に形成されたパターンはレジストパターンであり、前記レジストパターンの抜き部か残し部かの判定は、前記分別画像に基づいて得られる前記レジストパターンの抜き部と残し部の測長値と前記分別画像のフレーム数との関係を用いて行われるものであることを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 請求項9に記載の荷電粒子線顕微鏡において、
前記試料上に形成されたパターンの材料の推定は、前記分別画像に基づいて得られるパターンの階調値と前記分別画像のフレーム数との関係を用いて行われるものであることを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 荷電粒子源と、試料台と、前記荷電粒子源から放出された荷電粒子の照射により前記試料台上に配置される試料からの荷電粒子を検出する検出部とを有する顕微鏡部と、
前記検出部で検出された信号を処理するデータ処理部を有する制御部と、
前記制御部からの情報を表示するモニタと、を備えた荷電粒子線顕微鏡であって、
前記モニタは、前記試料上に形成されたパターンのLine−Space判定の選択画面を表示するものであることを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 請求項17記載の荷電粒子線顕微鏡において、
前記モニタは、更に、フレーム数設定画面を表示するものであることを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。 - 請求項17記載の荷電粒子線顕微鏡において、
前記制御部は、前記検出部で検出された信号に基づく画像の一部を保存する画像記憶部を有する画像処理サーバに接続されていることを特徴とする荷電粒子線顕微鏡。
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