JP2011181351A - Electron emission element and method of manufacturing cathode electrode of the same - Google Patents

Electron emission element and method of manufacturing cathode electrode of the same Download PDF

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清彦 當山
Ryota Yuge
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貞則 服部
Tetsuya Okawa
哲也 大川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electron emission element that has a gas absorption material uniformly distributed therein and therefore can provide uniform light emission; and also to provide lighting equipment that uses the electron emission element as a light source and a method of manufacturing a cathode electrode of the electron emission element. <P>SOLUTION: The cathode electrode 2 of the electron emission element 1 comprises a carbon nanostructure 13 and an electron emission material 14, which are fixed on the surface of an electron transport layer 9. The carbon nanostructure 13 is a material that serves as the gas absorption material for absorbing a gas generated during the operation of the electron emission element 1 and a gas that could not have been eliminated during the manufacture of the electron emission element 1. The carbon nanostructure 13 is manufactured with its size under control. The leading end of the electron emission material 14 projects from above the top face of the carbon nanostructure 13. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、両極間にガス吸着材料を配置した電子放出素子、および該電子放出素子のカソード電極の製造方法に関する。   The present invention relates to an electron-emitting device in which a gas adsorbing material is disposed between both electrodes, and a method for manufacturing a cathode electrode of the electron-emitting device.

電子放出素子は対向配置されたカソード電極とアノード電極の間に電位差を与えることによって、カソード電極からアノード電極へ電子を放出する素子であり、表示装置や照明装置の光源、あるいはX線発生装置の電子源に用いられる。   The electron-emitting device is an element that emits electrons from the cathode electrode to the anode electrode by applying a potential difference between the cathode electrode and the anode electrode arranged opposite to each other. Used for electron sources.

電子放出素子の動作中にカソード電極から放出された電子が、アノード電極に衝突すると微量のガスが発生する。また、製造時に除去できずに電子放出素子の内部に残留するガスもある。これらのガスは電子放出素子の性能を低下させるので、電子放出素子の内部の空間から除去する必要がある。   When electrons emitted from the cathode electrode collide with the anode electrode during the operation of the electron-emitting device, a trace amount of gas is generated. There is also a gas that cannot be removed during manufacture and remains inside the electron-emitting device. Since these gases deteriorate the performance of the electron-emitting device, it is necessary to remove them from the space inside the electron-emitting device.

そこで、電子放出素子のカソード電極とアノード電極の間の空間に、動作中に発生したガスや製造時に残留したガスを捕集して固定するガス吸着材料を配置することが知られている(例えば、特許文献1,2)。   Therefore, it is known to dispose a gas adsorbing material that collects and fixes a gas generated during operation or a gas remaining during manufacturing in a space between the cathode electrode and the anode electrode of the electron-emitting device (for example, Patent Documents 1, 2).

ガス吸着材料にはガスを化学的に吸着する物質や、ガスを物理的に吸着する材料(例えば、活性炭のような多孔性材料)が用いられる(特許文献1)。また、活性金属(例えば、バリウム)を含むガス吸着材料が用いられる(特許文献2)。   A substance that chemically adsorbs gas or a material that physically adsorbs gas (for example, a porous material such as activated carbon) is used as the gas adsorbing material (Patent Document 1). Moreover, the gas adsorption material containing an active metal (for example, barium) is used (patent document 2).

特開2002−124177号公報JP 2002-124177 A 特開2004−63103号公報JP 2004-63103 A

さて、ガス吸着材料は電子放出素子内に均一に分布される必要がある。ガス吸着材料の分布が不均一で、カソード電極表面の高さが不均一だと、カソード電極上での電界集中が不均一になるからである。カソード電極から電子が不均一に放出され、電子放出素子の輝度の分布が不均一になるからである。   Now, the gas adsorbing material needs to be uniformly distributed in the electron-emitting device. This is because when the distribution of the gas adsorbing material is non-uniform and the height of the cathode electrode surface is non-uniform, the electric field concentration on the cathode electrode becomes non-uniform. This is because electrons are emitted non-uniformly from the cathode electrode, and the luminance distribution of the electron-emitting devices becomes non-uniform.

しかしながら、電子放出素子用のガス吸着材料として従来知られていた物質は、その製造時に粒径をコントロールするのが難しく、粒径の揃ったガス吸着材料を得るのが難しかった。そのため、例えば、カソード電極上にガス吸着材料の層を形成する場合に層の厚さを均一にすることが難しかった。つまり、ガス吸着材料を電子放出素子内に均一に分布させることが難しかった。そして、電子放出素子の輝度の分布を均一にすることが難しかった。   However, it has been difficult to control the particle size of a substance conventionally known as a gas adsorbing material for an electron-emitting device, and it is difficult to obtain a gas adsorbing material having a uniform particle size. Therefore, for example, when forming a layer of a gas adsorbing material on the cathode electrode, it has been difficult to make the layer thickness uniform. That is, it is difficult to uniformly distribute the gas adsorbing material in the electron-emitting devices. It has been difficult to make the luminance distribution of the electron-emitting devices uniform.

本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、ガス吸着材料が電子放出素子内に均一に分布されて、均一な発光が得られる電子放出素子を提供することを目的とする。また、該電子放出素子を光源とする照明装置を提供することを目的とする。また、該電子放出素子のカソード電極を製造する方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide an electron-emitting device in which a gas adsorbing material is uniformly distributed in the electron-emitting device and uniform light emission is obtained. It is another object of the present invention to provide a lighting device using the electron-emitting device as a light source. It is another object of the present invention to provide a method for manufacturing a cathode electrode of the electron-emitting device.

本発明の第1の観点に係る電子放出素子は、カソード電極とアノード電極を対向配置するとともに、両電極間にガス吸着材料を配置して、前記両電極間に電位差を与えることによって、前記カソード電極から前記アノード電極へ電子を放出する電子放出素子において、前記ガス吸着材料はカーボンナノ構造体であることを特徴とする。   The electron-emitting device according to the first aspect of the present invention is configured such that the cathode electrode and the anode electrode are disposed opposite to each other, and a gas adsorbing material is disposed between the two electrodes to give a potential difference between the two electrodes. In the electron-emitting device that emits electrons from the electrode to the anode electrode, the gas adsorbing material is a carbon nanostructure.

本発明の第2の観点に係る照明装置は、前記電子放出素子を光源として備えることを特徴とする。   An illumination device according to a second aspect of the present invention includes the electron-emitting device as a light source.

本発明の第3の観点に係る電子放出素子のカソード電極の製造方法は、電子放出素子のカソード電極を製造する方法において、電子放出材料とカーボンナノ構造体を溶媒と混合してペーストを調製するペースト調製工程と、前記ペーストをカソード基板の電子輸送層の表面に塗布するペースト塗布工程と、前記カソード基板を加熱し前記溶媒を除去する熱処理工程と、を有することを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device. In the method of manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device, a paste is prepared by mixing an electron-emitting material and a carbon nanostructure with a solvent. The method includes a paste preparation step, a paste application step for applying the paste to the surface of the electron transport layer of the cathode substrate, and a heat treatment step for heating the cathode substrate to remove the solvent.

本発明の第4の観点に係る電子放出素子のカソード電極の製造方法は、電子放出素子のカソード電極を製造する方法において、カーボンナノ構造体を溶媒と混合して第1のペーストを調製する第1のペースト調製工程と、電子放出材料を溶媒と混合して第2のペーストを調製する第2のペースト調製工程と、マスクでカソード基板の電子輸送層の表面を覆って、前記電子輸送層の表面の所定の領域に前記第1のペーストを塗布する第1のペースト塗布工程と、マスクで前記カソード基板の表面を覆って、前記電子輸送層の表面の前記第1のペーストが塗布されていない領域に、前記第2のペーストを塗布する第2のペースト塗布工程と、前記カソード基板を加熱して、前記溶媒を除去する熱処理工程と、を有することを特徴とすることを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device, wherein the first paste is prepared by mixing carbon nanostructures with a solvent in the method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device. A paste preparing step of 1; a second paste preparing step of preparing a second paste by mixing an electron emitting material with a solvent; and covering a surface of the electron transporting layer of the cathode substrate with a mask; A first paste application step of applying the first paste to a predetermined region of the surface; and the surface of the cathode substrate is covered with a mask, and the first paste on the surface of the electron transport layer is not applied The region has a second paste application step for applying the second paste, and a heat treatment step for heating the cathode substrate to remove the solvent. To.

本発明の第5の観点に係る電子放出素子のカソード電極の製造方法は、電子放出素子のカソード電極を製造する方法において、カーボンナノ構造体を溶媒と混合してペーストを調製するペースト調製工程と、マスクでカソード基板の電子輸送層の表面を覆って、前記電子輸送層の表面の所定の領域に前記ペーストを塗布するペースト塗布工程と、マスクで前記カソード基板の表面を覆って、前記電子輸送層の表面の前記ペーストが塗布されていない領域に、触媒粒子を担持させる触媒粒子担持工程と、前記カソード基板を加熱して、前記溶媒を除去する熱処理工程と、前記電子輸送層の表面に電子放出材料の原料となる気体を接触させて、前記電子輸送層の表面に担持させた前記触媒粒子を起点に、電子放出材料を成長させる電子放出材料成長工程と、を有することを特徴とする。   A method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device according to a fifth aspect of the present invention includes a paste preparation step of preparing a paste by mixing carbon nanostructures with a solvent in a method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device. A paste coating step of covering the surface of the electron transport layer of the cathode substrate with a mask and applying the paste to a predetermined region of the surface of the electron transport layer; and covering the surface of the cathode substrate with a mask and transporting the electron A catalyst particle supporting step for supporting catalyst particles on the surface of the layer where the paste is not applied, a heat treatment step for heating the cathode substrate to remove the solvent, and an electron on the surface of the electron transport layer. An electron emission material composition for growing an electron emission material starting from the catalyst particles supported on the surface of the electron transport layer by contacting a gas as a raw material of the emission material. And having a step.

本発明の第6の観点に係る電子放出素子のカソード電極の製造方法は、電子放出素子のカソード電極を製造する方法において、カーボンナノ構造体を溶媒と混合して第1のペーストを調製する第1のペースト調製工程と、電子放出材料を溶媒と混合して第2のペーストを調製する第2のペースト調製工程と、前記第1のペーストをカソード基板の電子輸送層の表面に塗布する第1のペースト塗布工程と、前記カソード基板を加熱し前記溶媒を除去して、前記電子輸送層の表面に前記カーボンナノ構造体の層を形成する第1の熱処理工程と、前記カーボンナノ構造体の層の表面に、前記第2のペーストを塗布する第2のペースト塗布工程と、前記カソード基板を加熱し前記溶媒を除去して、前記電子放出材料を前記カーボンナノ構造体の層の表面に固定する第2の熱処理工程と、を有することを特徴とする。   According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device, wherein the first paste is prepared by mixing a carbon nanostructure with a solvent in the method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device. A first paste preparation step, a second paste preparation step in which an electron emission material is mixed with a solvent to prepare a second paste, and the first paste is applied to the surface of the electron transport layer of the cathode substrate. A paste applying step, a first heat treatment step of heating the cathode substrate and removing the solvent to form the carbon nanostructure layer on the surface of the electron transport layer, and the carbon nanostructure layer. A second paste application step of applying the second paste to the surface of the substrate, heating the cathode substrate to remove the solvent, and then applying the electron emission material to the surface of the carbon nanostructure layer. And having a second heat treatment step of fixing the.

本発明によれば、ガス吸着材料が電子放出素子内に均一に分布される。また、カソード電極上のガス吸着材料の厚さを均一にして、その表面を平坦にすることができるので、カソード電極から電子が均一に放出される。そのため、電気放出素子の輝度の分布が均一になる。   According to the present invention, the gas adsorbing material is uniformly distributed in the electron-emitting device. Further, since the thickness of the gas adsorbing material on the cathode electrode can be made uniform and the surface thereof can be made flat, electrons are emitted uniformly from the cathode electrode. Therefore, the luminance distribution of the electroluminescent device becomes uniform.

本発明の実施形態に係る電子放出素子の全体構成を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the whole structure of the electron emission element which concerns on embodiment of this invention. 第1の実施形態に係る電子放出素子のカソード電極を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the cathode electrode of the electron emission element which concerns on 1st Embodiment. 第2の実施形態に係る電子放出素子のカソード電極を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the cathode electrode of the electron emission element which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施形態に係る電子放出素子のカソード電極を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the cathode electrode of the electron emission element which concerns on 3rd Embodiment. ガス吸着材料の表面を開口した状態を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the state which opened the surface of the gas adsorption material. ガス吸着材料にゲッター粒子を担持した状態を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the state which carry | supported the getter particle | grains on the gas adsorption material. 第1の実施形態に係る電子放出素子のカソード電極の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the cathode electrode of the electron emission element which concerns on 1st Embodiment. 第2の実施形態に係る電子放出素子のカソード電極の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the cathode electrode of the electron-emitting element which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施形態に係る電子放出素子のカソード電極の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the cathode electrode of the electron-emitting element which concerns on 3rd Embodiment. 第4の実施形態に係る電子放出素子のカソード電極の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the cathode electrode of the electron emission element which concerns on 4th Embodiment. 第5の実施形態に係る電子放出素子のカソード電極の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the cathode electrode of the electron emission element which concerns on 5th Embodiment.

以下、本発明の具体的実施形態について説明するが、本発明の具体的実施形態はいずれも電子放出素子のガス吸着材料としてカーボンナノ構造体を使用する点で共通する。そこで、最初にカーボンナノ構造体について概説する。   Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described, but all the specific embodiments of the present invention are common in that carbon nanostructures are used as a gas adsorbing material for an electron-emitting device. First, the carbon nanostructure will be outlined.

さて、本明細書では、「カーボンナノ構造体」を「カーボンナノチューブ」および「カーボンナノホーン」を包括する上位概念を示す用語として使用している。   In the present specification, “carbon nanostructure” is used as a term indicating a general concept encompassing “carbon nanotube” and “carbon nanohorn”.

カーボンナノチューブは、炭素の同素体であり、炭素によって作られる六員環ネットワーク(グラフェンシート)が単層あるいは多層の同軸管状になった物質である。カーボンナノチューブのサイズは典型的に、外径が1nm〜数10nm程度、長さが100nm〜1mm程度である。また、カーボンナノチューブの比表面積は1000m/gにもなるので、ガスを物理的に吸着する能力が高い。また、カーボンナノチューブはメタンやアセチレンなどの炭化水素やメタノール、エタノールなどのアルコールなどを原料にして、化学気相成長法(CVD法)などで作成され、外径や長さの制御は容易である。つまり、所望の外径や長さを有するカーボンナノチューブを容易に得ることができる。 A carbon nanotube is an allotrope of carbon, and is a material in which a six-membered ring network (graphene sheet) made of carbon is formed into a single-layer or multilayer coaxial tube. The carbon nanotube typically has an outer diameter of about 1 nm to several tens of nm and a length of about 100 nm to 1 mm. Moreover, since the specific surface area of the carbon nanotube is 1000 m 2 / g, the ability to physically adsorb the gas is high. Carbon nanotubes are created by chemical vapor deposition (CVD) using hydrocarbons such as methane and acetylene, alcohols such as methanol and ethanol, etc., and the outer diameter and length can be easily controlled. . That is, a carbon nanotube having a desired outer diameter and length can be easily obtained.

また、カーボンナノホーンも、炭素の同素体の一つであり、六員環ネットワーク(グラフェンシート)を円錐形に丸めた構造をしている。カーボンナノホーンも、部分的にはカーボンナノチューブと同じ構造を取るため、カーボンナノチューブに含められることがある。カーボンナノホーンの外径は1nm〜5nm程度、長さは50nm程度である。また、多数のカーボンナノホーンが、ラッパ状に広がった端部を内側にして放射状に集合して、全体として直径100nm程度の海栗の殻のような形態をなすカーボンナノホーン凝集体を形成する。カーボンナノホーンも、比表面積300〜400m/g、細孔容積0.2ml/g程度を有するので、ガスを物理的に吸着する能力が高い。また、カーボンナノホーンは、グラファイトなどの固体材料を原料として、レーザーアブレーション法により作成され、外径や長さを制御することが可能である。また、カーボンナノホーン凝集体を、直径を揃えて製造することができる。 Carbon nanohorns are also an allotrope of carbon and have a structure in which a six-membered ring network (graphene sheet) is rolled into a conical shape. Since carbon nanohorns also have the same structure as carbon nanotubes in part, they may be included in carbon nanotubes. The carbon nanohorn has an outer diameter of about 1 nm to 5 nm and a length of about 50 nm. In addition, a large number of carbon nanohorns are gathered radially with the trumpet-shaped end portions inside to form carbon nanohorn aggregates having a shape like a sea chestnut shell with a diameter of about 100 nm as a whole. Since carbon nanohorn also has a specific surface area of 300 to 400 m 2 / g and a pore volume of about 0.2 ml / g, it has a high ability to physically adsorb gas. Carbon nanohorns are produced by a laser ablation method using a solid material such as graphite as a raw material, and the outer diameter and length can be controlled. Moreover, carbon nanohorn aggregates can be produced with the same diameter.

本願発明者らは、カーボンナノチューブおよびカーボンナノホーンのガス吸着能力の高さと、外径や長さが制御できること、つまり、外径や長さを所望の大きさに揃えたカーボンナノチューブおよびカーボンナノホーンが得られる点に着目して、鋭意研究した結果、カーボンナノチューブあるいはカーボンナノホーン、すなわちカーボンナノ構造体を電子放出素子のガス吸着材料として使用すると、輝度分布に偏りが生じにくい電子放出素子が得られることを発見した。   The inventors of the present application can control the high gas adsorption capacity of carbon nanotubes and carbon nanohorns, and the outer diameter and length, that is, carbon nanotubes and carbon nanohorns having outer diameters and lengths adjusted to a desired size. As a result of earnest research focusing on this point, it was found that when carbon nanotubes or carbon nanohorns, that is, carbon nanostructures, are used as gas adsorbing materials for electron-emitting devices, it is possible to obtain an electron-emitting device in which the luminance distribution is not easily biased. discovered.

以下、カーボンナノ構造体をガス吸着材料として使用する電子放出素子の具体的な構成と、製造方法を説明する。   Hereinafter, a specific configuration and manufacturing method of an electron-emitting device using a carbon nanostructure as a gas adsorbing material will be described.

図1は、電子放出素子1の全体構成を示す図であり、この構成は以下に示す本発明の実施形態の全てに共通する。   FIG. 1 is a diagram showing the overall configuration of the electron-emitting device 1, and this configuration is common to all the embodiments of the present invention described below.

図1に示すように、電子放出素子1はカソード電極2とアノード電極3を対向配置してなる素子である。電子放出素子1を電源装置4に接続して、両電極間に電位差を与えて、カソード電極2から電子を放出させて、アノード電極3上の蛍光体層5に衝突させると、発光を得ることができる。なお、カソード電極2とアノード電極3の間の間隔は、0.1mm〜200mmの範囲にすると好ましく、1mm〜10mmの範囲にするとさらに好ましい。   As shown in FIG. 1, the electron-emitting device 1 is a device in which a cathode electrode 2 and an anode electrode 3 are arranged to face each other. When the electron-emitting device 1 is connected to the power supply device 4 and a potential difference is applied between both electrodes, electrons are emitted from the cathode electrode 2 and collide with the phosphor layer 5 on the anode electrode 3 to obtain light emission. Can do. The interval between the cathode electrode 2 and the anode electrode 3 is preferably in the range of 0.1 mm to 200 mm, and more preferably in the range of 1 mm to 10 mm.

なお、両電極間の空間6はシール部材7で大気から隔離されて、真空に保たれる。また、シール部材7の素材には、例えば、ガラスが用いられる。また、空間6の真空度は1×10−3Pa以下にすると好ましく、1×10−4Pa以下にするとさらに好ましい。 The space 6 between both electrodes is isolated from the atmosphere by the seal member 7 and kept in a vacuum. Moreover, glass is used for the raw material of the sealing member 7, for example. The degree of vacuum in the space 6 is preferably 1 × 10 −3 Pa or less, and more preferably 1 × 10 −4 Pa or less.

カソード電極2は、カソード基板8の表面に電子輸送層9を形成し、電子輸送層9の上に電子放出部10を固定して構成される。   The cathode electrode 2 is configured by forming an electron transport layer 9 on the surface of a cathode substrate 8 and fixing an electron emission portion 10 on the electron transport layer 9.

カソード基板8は電子輸送層9と電子放出部10を保持するとともに、電子輸送層9と電子放出部10を外部から電気的に絶縁する基板である。なお、カソード基板8の素材には、ガラス、石英、非ドープのシリコンなどの絶縁材料が使用される。   The cathode substrate 8 is a substrate that holds the electron transport layer 9 and the electron emission portion 10 and electrically insulates the electron transport layer 9 and the electron emission portion 10 from the outside. The cathode substrate 8 is made of an insulating material such as glass, quartz, or undoped silicon.

電子輸送層9は電源装置4の負極に接続されて、電源装置4の負極から供給される電子を電子放出部10に輸送する物質である。なお、電子輸送層9の素材には、導電性材料、例えば、アルミニウム、銅などの金属材料、ITO(Indium Tin Oxide)や酸化亜鉛、二酸化チタンなどの金属酸化物材料、カーボンナノチューブやカーボンナノホーンなどの炭素材料が使用される。また、電子放出部10が十分に面内の導電性を持つ場合には、電子輸送層9を省略することもできる。   The electron transport layer 9 is a substance that is connected to the negative electrode of the power supply device 4 and transports electrons supplied from the negative electrode of the power supply device 4 to the electron emission unit 10. The material of the electron transport layer 9 includes a conductive material, for example, a metal material such as aluminum or copper, a metal oxide material such as ITO (Indium Tin Oxide), zinc oxide, or titanium dioxide, a carbon nanotube, or a carbon nanohorn. The carbon material is used. In addition, when the electron emission portion 10 has sufficient in-plane conductivity, the electron transport layer 9 can be omitted.

電子放出部10は、電子輸送層9から供給された電子をアノード電極3に向けて放出する物質である。電子放出部10の詳細な構成については後述する。   The electron emission unit 10 is a substance that emits electrons supplied from the electron transport layer 9 toward the anode electrode 3. The detailed configuration of the electron emission unit 10 will be described later.

アノード電極3は、アノード基板11の表面に電子輸送層12を形成し、電子輸送層12の上に前述の蛍光体層5を固定して構成される。なお、電子輸送層12の素材には、導電性材料、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)や酸化亜鉛、二酸化チタンなどの金属酸化物材料、カーボンナノチューブやカーボンナノホーンなどの炭素材料が使用される。これらは透明電極として機能する素材である。電子放出素子1をX線発生装置に使用する場合、電子輸送層12は必ずしも透明電極である必要はなく、例えば、アルミニウム、銅などの金属材料も用いることができる。またこの場合、蛍光体層5は必ずしも必要ではなく、素材は蛍光体以外の物質、例えば銅などの金属であってもよい。   The anode electrode 3 is configured by forming an electron transport layer 12 on the surface of an anode substrate 11 and fixing the phosphor layer 5 described above on the electron transport layer 12. As the material for the electron transport layer 12, a conductive material, for example, a metal oxide material such as ITO (Indium Tin Oxide), zinc oxide, or titanium dioxide, or a carbon material such as carbon nanotube or carbon nanohorn is used. These are materials that function as transparent electrodes. When the electron-emitting device 1 is used in an X-ray generator, the electron transport layer 12 is not necessarily a transparent electrode, and for example, a metal material such as aluminum or copper can be used. In this case, the phosphor layer 5 is not necessarily required, and the material may be a substance other than the phosphor, for example, a metal such as copper.

アノード基板11は、電子輸送層12と蛍光体層5を保持するとともに、電子輸送層12と蛍光体層5を外部から電気的に絶縁する基板である。なお、アノード基板11の素材には、カソード基板8と同様に、ガラス、石英などの絶縁材料が使用される。   The anode substrate 11 is a substrate that holds the electron transport layer 12 and the phosphor layer 5 and electrically insulates the electron transport layer 12 and the phosphor layer 5 from the outside. As the material of the anode substrate 11, an insulating material such as glass or quartz is used as in the cathode substrate 8.

さて、電子放出素子1はカソード電極2に特徴がある。さらに詳しく言えば、カソード電極2上のガス吸着材料に特徴がある。その他の構成、つまり、アノード電極3やシール部材7の構成は上記と変わることがない。そこで、以下に、電子放出素子1のカソード電極2の具体的構成例を詳述する。   The electron-emitting device 1 is characterized by the cathode electrode 2. More specifically, the gas adsorption material on the cathode electrode 2 is characterized. Other configurations, that is, configurations of the anode electrode 3 and the seal member 7 are not changed from the above. Therefore, a specific configuration example of the cathode electrode 2 of the electron-emitting device 1 will be described in detail below.

[第1の実施形態]
図2は本発明の第1の実施形態に係る電子放出素子1のカソード電極2の構成を示す概念図である。図2に示すように、カソード電極2は電子輸送層9上にカーボンナノ構造体13と電子放出材料14を固定して構成されている。図2では、電子放出材料14を電子輸送層9の表面に直接固定された状態を示しているが、電子放出材料14が、電子輸送層9から多少離れる場合もある。
[First Embodiment]
FIG. 2 is a conceptual diagram showing the configuration of the cathode electrode 2 of the electron-emitting device 1 according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, the cathode electrode 2 is configured by fixing a carbon nanostructure 13 and an electron emission material 14 on an electron transport layer 9. Although FIG. 2 shows a state in which the electron emission material 14 is directly fixed to the surface of the electron transport layer 9, the electron emission material 14 may be slightly separated from the electron transport layer 9.

カーボンナノ構造体13は、電子放出素子1の動作中に発生するガスや電子放出素子1の製造時に除去出来なかったガスを吸着するガス吸着材料として機能する物質である。また、前述したように、本明細書では、「カーボンナノ構造体」は「カーボンナノチューブ」と「カーボンナノホーン」を包括する上位概念を示す用語であり、図2(a)はカーボンナノホーンをガス吸着材料としてカソード電極2に備えた状態を示し、図2(b)はカーボンナノチューブをガス吸着材料としてカソード電極2に備えた状態を示している(図3以降についても同様である)。なお、図2(b)ではガス吸着材料としてのカーボンナノチューブが基板に垂直に配向した場合を例示しているが、カーボンナノチューブの方向は水平であっても、ランダムであってもよい。ただし、表面の凹凸が少ないほうがよい(これも図3以降についても同様である)。   The carbon nanostructure 13 is a substance that functions as a gas adsorbing material that adsorbs a gas generated during the operation of the electron-emitting device 1 or a gas that cannot be removed during the manufacture of the electron-emitting device 1. In addition, as described above, in this specification, “carbon nanostructure” is a term indicating a general concept including “carbon nanotube” and “carbon nanohorn”, and FIG. A state in which the cathode electrode 2 is provided as a material is shown, and FIG. 2B shows a state in which the carbon electrode is provided in the cathode electrode 2 as a gas adsorbing material (the same applies to FIG. 3 and subsequent figures). 2B illustrates the case where the carbon nanotubes as the gas adsorbing material are oriented perpendicular to the substrate, the direction of the carbon nanotubes may be horizontal or random. However, it is better that the surface has less unevenness (this is also true for FIG. 3 and subsequent figures).

また、前述したように、カーボンナノ構造体13は、製造時に大きさ(長さ、径)を制御できるので、大きさの揃ったカーボンナノ構造体13を製造することができる。この大きさの揃ったカーボンナノ構造体13を使用すれば、カソード電極2上にカーボンナノ構造体13を均一に分布させることができる。また、カソード電極2上のカーボンナノ構造体13の層の高さ(厚さ)を揃えることができる。   Further, as described above, since the size (length, diameter) of the carbon nanostructure 13 can be controlled at the time of manufacture, the carbon nanostructure 13 having a uniform size can be manufactured. If the carbon nanostructures 13 having the same size are used, the carbon nanostructures 13 can be uniformly distributed on the cathode electrode 2. Moreover, the height (thickness) of the layer of the carbon nanostructure 13 on the cathode electrode 2 can be made uniform.

なお、空間6を真空引きする際に、カーボンナノ構造体13を100℃〜300℃の温度で熱処理すれば、カーボンナノ構造体13に付着していたガスが取り除かれるので、カーボンナノホーン構造体13のガス吸着材料としての能力が向上する。   In addition, when the space 6 is evacuated, if the carbon nanostructure 13 is heat-treated at a temperature of 100 ° C. to 300 ° C., the gas attached to the carbon nanostructure 13 is removed, so the carbon nanohorn structure 13 The ability as a gas adsorbing material is improved.

電子放出材料14は電子放出部10を構成する物質であり、その先端がカーボンナノ構造体13の上面から突出している。つまり、その先端はカーボンナノ構造体13の先端を超えて、アノード電極3の方に延びている。また、電子放出材料14の素材には、その先端に電界が集中するような形状を取り得る物質、つまりアスペクト比の大きい形状を取り得る物質(後述)が選ばれる。   The electron emission material 14 is a substance constituting the electron emission portion 10, and the tip thereof protrudes from the upper surface of the carbon nanostructure 13. That is, the tip extends beyond the tip of the carbon nanostructure 13 toward the anode electrode 3. Further, as the material of the electron emission material 14, a substance that can take a shape in which an electric field concentrates at the tip thereof, that is, a substance that can take a shape with a large aspect ratio (described later) is selected.

電子放出材料14の形状は、図2中の突出部15(カーボンナノ構造体13の先端を超えて、アノード電極3の方に延びている部分)のアスペクト比が5〜1000の範囲になるようにするのが望ましい。アスペクト比が5よりも小さいと電子放出材料14の先端への電界集中が弱くなり、また、アスペクト比が1000よりも大きいと電子放出材料14が直立した状態を保つのが困難となる。   The shape of the electron emission material 14 is such that the aspect ratio of the protruding portion 15 (the portion extending toward the anode electrode 3 beyond the tip of the carbon nanostructure 13) in FIG. It is desirable to make it. When the aspect ratio is smaller than 5, the electric field concentration at the tip of the electron emitting material 14 becomes weak, and when the aspect ratio is larger than 1000, it is difficult to keep the electron emitting material 14 in an upright state.

また、電子放出材料14は、電子輸送層9の表面に所定の間隔を空けて固定される。間隔16は、間隔16と突出部15の長さの比(間隔/突出部の長さ)が、0.5〜100の範囲になるようにすると好ましい。   Further, the electron emission material 14 is fixed to the surface of the electron transport layer 9 with a predetermined interval. The interval 16 is preferably such that the ratio of the length between the interval 16 and the protrusion 15 (interval / length of the protrusion) is in the range of 0.5 to 100.

この比が0.5よりも小さいと、隣り合う電子放出材料14が互いに電界を遮蔽し合って先端部への電界集中が弱くなり、また、この比が100よりも大きいと、電子輸送層9上の電子放出材料14の分布密度が疎になり、電子放出素子1の輝度が低下するからである。この比を1〜3の範囲にするとさらに好ましい。こうすると、電子放出材料14の先端部への電界集中が強くなり、かつ、電子放出素子の輝度の低下を防止できる。   If this ratio is less than 0.5, the adjacent electron emission materials 14 shield each other from the electric field, and the electric field concentration at the tip portion becomes weak. If this ratio is greater than 100, the electron transport layer 9 This is because the distribution density of the upper electron-emitting material 14 becomes sparse, and the luminance of the electron-emitting device 1 decreases. More preferably, this ratio is in the range of 1-3. In this way, the electric field concentration at the tip of the electron emission material 14 becomes stronger, and the luminance of the electron emission element can be prevented from lowering.

前述したように、電子放出材料14にはアスペクト比の大きい形状を取り得る物質、例えば、繊維状カーボン、金属ナノワイヤー、金属ナノチューブなどを使用する。   As described above, the electron emitting material 14 is made of a substance that can take a shape with a large aspect ratio, such as fibrous carbon, metal nanowires, and metal nanotubes.

繊維状カーボンとは、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン凝集体とカーボンナノチューブから構成されるカーボンナノチューブ・カーボンナノホーン凝集体、カーボンファイバー、カーボンナノウォール、カーボンナノスティックなどである。   The fibrous carbon includes carbon nanotubes, carbon nanohorn aggregates and carbon nanotube / carbon nanohorn aggregates composed of carbon nanotubes, carbon fibers, carbon nanowalls, carbon nanosticks, and the like.

金属ナノワイヤーとは、ニッケル、コバルト、鉄、金などの金属を繊維状に形成した材料である。   A metal nanowire is a material in which a metal such as nickel, cobalt, iron, or gold is formed into a fiber.

金属ナノチューブとは、金、銀、白金、ロジウム、イリジウムなどの金属を管状に形成した材料である。   A metal nanotube is a material in which a metal such as gold, silver, platinum, rhodium, or iridium is formed in a tubular shape.

中でも、カーボンナノチューブは、特にアスペクト比の大きい形状、つまり、先端に電界が集中するような形状を取り得、また許容電流密度が高いので、電子放出材料14として好ましい。カーボンナノチューブは、単層、二層、多層のいずれであっても良いが、低電圧で電界集中を発生させるためには単層が望ましい。耐久性を求めるならば多層を選ぶと良い。低電圧での電界集中と耐久性の両立を求めるならば、二層を選ぶ。   Among these, carbon nanotubes are particularly preferable as the electron-emitting material 14 because they can take a shape having a particularly large aspect ratio, that is, a shape in which an electric field concentrates at the tip, and a high allowable current density. The carbon nanotube may be single-walled, double-walled, or multi-walled, but a single-walled carbon nanotube is desirable for generating electric field concentration at a low voltage. If you want durability, choose multilayer. If you want both electric field concentration and durability at low voltage, choose two layers.

[第2の実施形態]
カソード電極2は、図3に示すように構成されても良い。すなわち、電子輸送層9の表面を、カーボンナノ構造体が固定された領域17と電子放出材料が固定された領域18に区画するようにしても良い。
[Second Embodiment]
The cathode electrode 2 may be configured as shown in FIG. That is, the surface of the electron transport layer 9 may be partitioned into a region 17 where the carbon nanostructure is fixed and a region 18 where the electron emission material is fixed.

このように、カーボンナノ構造体13と電子放出材料14を区画して別個に配置するので、カーボンナノ構造体13と電子放出材料14を別個のプロセスで固定できる。そのため、各材料を固定するプロセスをそれぞれ別個に最適化することができる。例えば、インクジェット印刷やスプレー印刷のインク化条件、スクリーン印刷のペースト化条件、あるいはその他の印刷の塗布条件を最適に選ぶことができる。また、化学気相成長法で電子輸送層9の表面からカーボンナノチューブを成長させるときの合成条件を最適に選ぶことができる。   Thus, since the carbon nanostructure 13 and the electron emission material 14 are partitioned and separately arranged, the carbon nanostructure 13 and the electron emission material 14 can be fixed by separate processes. Therefore, the process of fixing each material can be optimized separately. For example, it is possible to optimally select ink forming conditions for ink jet printing or spray printing, paste forming conditions for screen printing, or other printing application conditions. Moreover, the synthesis conditions for growing carbon nanotubes from the surface of the electron transport layer 9 by chemical vapor deposition can be selected optimally.

[第3の実施形態]
また、カソード電極2は、図4に示すように構成されても良い。すなわち、電子輸送層9の表面にカーボンナノ構造体13を固定してカーボンナノ構造体13の層を形成し、その層の表面に電子放出材料14を固定してもよい。
[Third Embodiment]
Further, the cathode electrode 2 may be configured as shown in FIG. That is, the carbon nanostructure 13 may be fixed to the surface of the electron transport layer 9 to form a carbon nanostructure 13 layer, and the electron emission material 14 may be fixed to the surface of the layer.

第2の実施形態と同様にこの場合も、カーボンナノ構造体13と電子放出材料14を別個のプロセスで固定するので、インク化条件、ペースト化条件あるいは塗布条件などを最適に選ぶことができる。また、化学気相成長法でカーボンナノ構造体13の層の表面からカーボンナノチューブを成長させるときの合成条件を最適に選ぶことができる。   As in the second embodiment, in this case as well, the carbon nanostructure 13 and the electron emission material 14 are fixed by separate processes, so that the ink forming conditions, pasting conditions, coating conditions, and the like can be optimally selected. Moreover, the synthesis conditions for growing carbon nanotubes from the surface of the layer of the carbon nanostructure 13 by chemical vapor deposition can be selected optimally.

[第4の実施形態]
図5に示すように、カーボンナノ構造体13の表面に開孔部19を設けても良い。
[Fourth Embodiment]
As shown in FIG. 5, an opening 19 may be provided on the surface of the carbon nanostructure 13.

図5(a)は、カーボンナノ構造体13の一種であるカーボンナノホーン20が球状に集合したカーボンナノホーン凝集体21をガス吸着材料として使用する例を示す図であり、カーボンナノホーン20の側面が開口されて、開孔部19が形成される状態を示している。開孔部19はカーボンナノホーン20の先端に形成されてもよい。   FIG. 5A is a diagram illustrating an example in which carbon nanohorn aggregates 21 in which carbon nanohorns 20 that are a kind of carbon nanostructures 13 are assembled into a spherical shape are used as a gas adsorbing material, and the side surfaces of the carbon nanohorns 20 are open. Thus, the state where the opening 19 is formed is shown. The opening 19 may be formed at the tip of the carbon nanohorn 20.

このように開孔部19を形成すれば、カーボンナノホーン20の比表面積は1300m/g〜1400m/g、細孔容積は0.9mL/gまで大きくなるので、未開孔のカーボンナノホーン20と比べてガス吸着能力は高くなる。 Thus forming the opening 19, the specific surface area of the carbon nanohorn 20 1300m 2 / g~1400m 2 / g, since the pore volume increases to 0.9 mL / g, a carbon nanohorn 20 unopened hole Compared with the gas adsorption capacity, it becomes higher.

開孔部19の形成は、カーボンナノホーン20を酸化処理または酸処理して行う。酸化処理は、カーボンナノホーン20を酸素雰囲気中で350℃〜550℃に加熱して行う。この処理によれば、0.3nm〜1.0nmの大きさの開孔部19を形成できる。   The opening 19 is formed by oxidizing or acid-treating the carbon nanohorn 20. The oxidation treatment is performed by heating the carbon nanohorn 20 to 350 ° C. to 550 ° C. in an oxygen atmosphere. According to this process, the opening 19 having a size of 0.3 nm to 1.0 nm can be formed.

酸処理は、カーボンナノホーン20を110℃の硝酸溶液に15分間浸漬して行う。この処理によれば、1nmの大きさの開孔部19を形成できる。あるいは、100℃の過酸化水素溶液にカーボンナノホーン20を2時間浸漬しても、同程度の大きさの開孔部19を形成できる。   The acid treatment is performed by immersing the carbon nanohorn 20 in a nitric acid solution at 110 ° C. for 15 minutes. According to this process, the opening portion 19 having a size of 1 nm can be formed. Alternatively, even if the carbon nanohorn 20 is immersed in a hydrogen peroxide solution at 100 ° C. for 2 hours, the opening 19 having the same size can be formed.

また、カーボンナノチューブ22をガス吸着材料とする場合も、酸処理または酸化処理を行って、図5(b)に示すように開孔部19を形成することができる。開孔部19の形成により、カーボンナノチューブ22の比表面積は、2000m/gまで大きくなる。 Further, when the carbon nanotube 22 is used as a gas adsorbing material, the hole 19 can be formed as shown in FIG. 5B by performing acid treatment or oxidation treatment. The formation of the opening 19 increases the specific surface area of the carbon nanotube 22 up to 2000 m 2 / g.

[第5の実施形態]
また、図6に示すように、カーボンナノ構造体13にゲッター粒子23を担持させて、カーボンナノ構造体13のガス吸着能力を高くすることもできる。カーボンナノ構造体13に担持することで、ゲッター粒子23は微粒子化し、その比表面積が上がるため、ゲッター粒子23自身のガス吸着能力も通常より高くなる。
[Fifth Embodiment]
In addition, as shown in FIG. 6, getter particles 23 may be supported on the carbon nanostructure 13 to increase the gas adsorption capability of the carbon nanostructure 13. By carrying the carbon nanostructure 13 on the getter particles 23, the getter particles 23 become fine particles and the specific surface area thereof increases, so that the gas adsorption ability of the getter particles 23 themselves becomes higher than usual.

ゲッター粒子23は、気体と親和性のある物質、例えば、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、鉄、ルテニウム、オスミウム、ニッケル、コバルト、トリウム、アルミニウム、バリウム、銀からなる金属の群、これらの金属の合金または前駆体、あるいはこれらの金属の酸化物の粒子である。   The getter particles 23 are substances having an affinity for gas, for example, titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, chromium, molybdenum, tungsten, iron, ruthenium, osmium, nickel, cobalt, thorium, aluminum, barium, silver. A group of metals, alloys or precursors of these metals, or particles of oxides of these metals.

「担持」とは、ゲッター粒子23をカーボンナノホーン20と接触させて、何らかの力(例えば、ファンデルワールス力)でカーボンナノホーン20に付着させることを言い、表面、開孔部19など、どのような場所に付着させてもよい。ゲッター粒子23を担持させるには、例えば、次のプロセスを用いる。また、ゲッター粒子23は、未開孔のカーボンナノ構造体13の表面にも担持させることができるが、開孔部19を有するカーボンナノ構造体13に担持させると、より大きなガス吸着効果が得られる。   “Supporting” means that the getter particles 23 are brought into contact with the carbon nanohorn 20 and attached to the carbon nanohorn 20 with some force (for example, van der Waals force). It may be attached to the place. In order to carry the getter particles 23, for example, the following process is used. Further, the getter particles 23 can be supported on the surface of the carbon nanostructure 13 having no pores. However, when the getter particles 23 are supported on the carbon nanostructure 13 having the pores 19, a larger gas adsorption effect can be obtained. .

例えば、ゲッター粒子23を溶かした溶媒を含む浸漬槽にカーボンナノ構造体13を浸漬させれば、ゲッター粒子23がカーボンナノ構造体13の外表面あるいは内表面に付着する。   For example, when the carbon nanostructure 13 is immersed in an immersion tank containing a solvent in which the getter particles 23 are dissolved, the getter particles 23 adhere to the outer surface or the inner surface of the carbon nanostructure 13.

また、ゲッター粒子23を所定の温度で昇華させたゲッター粒子23の気体を含む雰囲気にカーボンナノ構造体13を曝して、カーボンナノ構造体13の外表面または内表面にゲッター粒子23を付着させる。   Further, the carbon nanostructure 13 is exposed to an atmosphere containing a gas of the getter particles 23 obtained by sublimating the getter particles 23 at a predetermined temperature, and the getter particles 23 are attached to the outer surface or the inner surface of the carbon nanostructure 13.

また、カーボンナノ構造体13の内部に導入したゲッター粒子23を互いに凝集させて、ゲッター粒子23の凝集体の一部が開孔部19から露出するようにしてもよい。   Alternatively, the getter particles 23 introduced into the carbon nanostructure 13 may be aggregated together so that a part of the aggregate of the getter particles 23 is exposed from the opening 19.

このような電子放出素子1は、例えば、電界放出ディスプレイ装置やバックライト装置などの照明装置の光源として用いることができる。電界放出ディスプレイ装置の場合には、カソード基板8に表示画素に対応する電子放出部10をマトリックス状に配列し、このカソード基板8に、同じく表示画素ごとに蛍光体をマトリックス状に配列したアノード基板11を対向配置する。また、バックライト装置の場合には、アノード基板11あるいはカソード基板8のいずれかを透明にする。   Such an electron-emitting device 1 can be used, for example, as a light source of an illumination device such as a field emission display device or a backlight device. In the case of a field emission display device, electron emission portions 10 corresponding to display pixels are arranged in a matrix on the cathode substrate 8, and an anode substrate in which phosphors are similarly arranged in a matrix for each display pixel on the cathode substrate 8. 11 are arranged opposite to each other. In the case of a backlight device, either the anode substrate 11 or the cathode substrate 8 is made transparent.

以下、カソード電極2を製造する方法を説明する。なお、カソード基板8の表面に電子輸送層9を形成するプロセスは各種公知のプロセスを選択すればよいので、ここでは説明を省略する。つまり、以下では、カソード基板8の表面に形成された電子輸送層9の表面に、カーボンナノ構造体13と電子放出材料14を固定するプロセスを説明する。なお、以下のプロセスの説明においては、カーボンナノホーン凝集体をカーボンナノ構造体13の代表例として図示しているが、カーボンナノチューブの場合も同様のプロセスを実行できる。   Hereinafter, a method for manufacturing the cathode electrode 2 will be described. Note that various known processes may be selected as the process for forming the electron transport layer 9 on the surface of the cathode substrate 8, and the description thereof is omitted here. That is, hereinafter, a process for fixing the carbon nanostructure 13 and the electron emission material 14 to the surface of the electron transport layer 9 formed on the surface of the cathode substrate 8 will be described. In the following description of the process, the carbon nanohorn aggregate is illustrated as a representative example of the carbon nanostructure 13, but the same process can be executed in the case of carbon nanotubes.

[第1の実施形態]
前記第1の実施形態に係るカソード電極2(図2参照)は、以下に示すように、カーボンナノ構造体13と電子放出材料14を同一の媒体に混合分散させてなる単一のペーストをカソード基板8の電子輸送層9の表面に塗布して製造する。
[First Embodiment]
As shown below, the cathode electrode 2 (see FIG. 2) according to the first embodiment is a cathode made of a single paste obtained by mixing and dispersing the carbon nanostructure 13 and the electron emission material 14 in the same medium. It is manufactured by applying to the surface of the electron transport layer 9 of the substrate 8.

(ペースト調製工程)
まず、有機バインダを混ぜたαテルピオネール溶液(以下、「混合溶液」と言う)に、カーボンナノ構造体13と電子放出材料14を分散してペーストを調製する。
(Paste preparation process)
First, a paste is prepared by dispersing the carbon nanostructure 13 and the electron emission material 14 in an α-terpione solution (hereinafter referred to as “mixed solution”) mixed with an organic binder.

なお、αテルピオネールに代えて、トルエンなどの炭化水素、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール、アセトンなどのケトン、水などを溶媒として混合溶液を調製してもよい。   Instead of α-terpioneel, a mixed solution may be prepared using hydrocarbons such as toluene, alcohols such as ethanol and isopropyl alcohol, ketones such as acetone, water and the like as a solvent.

また、有機バインダには、ニトロセルロース、エチルセルロース、アクリル樹脂などを用いる。   As the organic binder, nitrocellulose, ethyl cellulose, acrylic resin, or the like is used.

また、前述のペーストに結着剤を添加してもよい。結着剤には、ガラスフリット、金属錯体、導電性微粒子などを用いる。   Moreover, you may add a binder to the above-mentioned paste. As the binder, glass frit, metal complex, conductive fine particles, or the like is used.

(ペースト塗布工程)
次に、前記ペーストを、カソード基板8の電子輸送層9の表面に塗布する(図7(a)参照)。
(Paste application process)
Next, the paste is applied to the surface of the electron transport layer 9 of the cathode substrate 8 (see FIG. 7A).

(熱処理工程)
次に、カソード基板8を加熱装置(不図示)で加熱して、αテルピオネールと有機バインダおよびその他の有機物(カーボンナノチューブやカーボンナノホーン以外の不純物)を除去すると、残ったカーボンナノ構造体13と電子放出材料14が固定されて、カソード電極2が完成する(図7(b)参照)。
(Heat treatment process)
Next, when the cathode substrate 8 is heated with a heating device (not shown) to remove α-terpione, organic binder, and other organic substances (impurities other than carbon nanotubes and carbon nanohorns), the remaining carbon nanostructures 13 and The electron emission material 14 is fixed, and the cathode electrode 2 is completed (see FIG. 7B).

なお、熱処理は、大気中、窒素などの不活性ガス雰囲中、あるいは真空中などで行うことができる。   The heat treatment can be performed in the atmosphere, in an inert gas atmosphere such as nitrogen, or in a vacuum.

また、粘着テープを用いたピーリング、電界印加、プラズマ照射、レーザー照射、サンドブラスト、ドライアイスブラストなどの各種公知の処理を施せば、電子放出材料14をカーボンナノ構造体13から、さらに突出させることができる。   Moreover, the electron emission material 14 can be further protruded from the carbon nanostructure 13 by performing various known treatments such as peeling using an adhesive tape, electric field application, plasma irradiation, laser irradiation, sand blasting, and dry ice blasting. it can.

[第2の実施形態]
前記第2の実施形態に係るカソード電極2(図3参照)は、以下に示すように、カソード基板8の電子輸送層9の表面をマスクで覆って、カーボンナノ構造体13を媒体に分散させてなる第1のペーストと、電子放出材料14を別の媒体に分散させてなる第2のペーストを、それぞれ電子輸送層9の表面の異なる領域に塗布して製造する。
[Second Embodiment]
In the cathode electrode 2 (see FIG. 3) according to the second embodiment, as shown below, the surface of the electron transport layer 9 of the cathode substrate 8 is covered with a mask, and the carbon nanostructures 13 are dispersed in a medium. The first paste and the second paste in which the electron emission material 14 is dispersed in another medium are applied to different regions on the surface of the electron transport layer 9 to be manufactured.

(第1のペースト調製工程)
まず、カーボンナノ構造体13を、混合溶液に分散させて第1のペーストを調製する。
(First paste preparation step)
First, the carbon nanostructure 13 is dispersed in a mixed solution to prepare a first paste.

(第2のペースト調製工程)
次に、電子放出材料14を、別の混合溶液に分散させて第2のペーストを調製する。
(Second paste preparation step)
Next, the electron emission material 14 is dispersed in another mixed solution to prepare a second paste.

(第1のペースト塗布工程)
次に、開口25と閉口26を交互に並べたマスク24で電子輸送層9を覆って、マスク24の上から、第1のペーストを塗布する(図8(a)参照)と、電子輸送層9の表面の開口25の直下にある領域に第1のペーストが付着する。
(First paste application process)
Next, the electron transport layer 9 is covered with a mask 24 in which openings 25 and closed openings 26 are alternately arranged, and a first paste is applied from above the mask 24 (see FIG. 8A). The first paste adheres to a region immediately below the opening 25 on the surface of 9.

(第2のペースト塗布工程)
次に、別のマスク27で電子輸送層9を覆って、マスク27の上から第2のペーストを塗布して、電子輸送層9の第1のペーストが付着していない領域に、第2のペーストを付着させる(図8(b)参照)。ただし、第2のペーストの塗布前に、熱処理を行い、溶媒や有機バインダなどを除去しても良い。
(Second paste application process)
Next, the electron transport layer 9 is covered with another mask 27, a second paste is applied from above the mask 27, and the second paste is applied to the region where the first paste of the electron transport layer 9 is not attached. A paste is adhered (see FIG. 8B). However, before applying the second paste, heat treatment may be performed to remove the solvent, the organic binder, and the like.

(熱処理工程)
次に、カソード基板8を加熱して、αテルピオネールと有機バインダおよびその他の有機物(カーボンナノチューブやカーボンナノホーン以外の不純物)を除去する。残ったカーボンナノ構造体13と電子放出材料14は、電子輸送層9の表面に区画された、それぞれ別の領域に固定され、カソード電極2が完成する(図8(c)参照)。
(Heat treatment process)
Next, the cathode substrate 8 is heated to remove α-terpione, organic binder, and other organic substances (impurities other than carbon nanotubes and carbon nanohorns). The remaining carbon nanostructure 13 and the electron emission material 14 are fixed to different regions partitioned on the surface of the electron transport layer 9 to complete the cathode electrode 2 (see FIG. 8C).

[第3の実施形態]
前記第2の実施形態に係るカソード電極2(図3参照)は、以下に示すように、カソード基板8の電子輸送層9の表面をマスクで覆って、カーボンナノ構造体13を媒体に分散させてなるペーストを電子輸送層9の表面の所定の領域に塗布し、さらに前記ペーストが塗布された領域とは異なる領域に触媒粒子28を担持させて、触媒粒子28を起点にして電子放出材料14の結晶を成長させても製造できる。
[Third Embodiment]
In the cathode electrode 2 (see FIG. 3) according to the second embodiment, as shown below, the surface of the electron transport layer 9 of the cathode substrate 8 is covered with a mask, and the carbon nanostructures 13 are dispersed in a medium. The paste is applied to a predetermined region on the surface of the electron transport layer 9, and the catalyst particles 28 are supported on a region different from the region where the paste is applied, and the electron emission material 14 starts from the catalyst particles 28. It can also be produced by growing the crystal.

(ペースト調製工程)
まず、カーボンナノ構造体13を、混合溶液に分散させてペーストを調製する。
(Paste preparation process)
First, a paste is prepared by dispersing the carbon nanostructures 13 in a mixed solution.

(ペースト塗布工程)
次に、マスク24で電子輸送層9を覆って、マスク24の上から、ペーストを塗布する(図9(a)参照)。
(Paste application process)
Next, the electron transport layer 9 is covered with the mask 24, and a paste is applied from above the mask 24 (see FIG. 9A).

(触媒粒子担持工程)
次に、別のマスク27で電子輸送層9を覆って、マスク27の上から、電子輸送層9の第1のペーストが付着していない領域に、触媒粒子28を担持させる(図9(b)参照)。ただし、触媒粒子28の担持前に、熱処理を行い、溶媒や有機バインダなどを除去しても良い。
(Catalyst particle loading process)
Next, the electron transport layer 9 is covered with another mask 27, and the catalyst particles 28 are supported on the mask 27 in a region where the first paste of the electron transport layer 9 is not attached (FIG. 9B). )reference). However, before the catalyst particles 28 are supported, heat treatment may be performed to remove the solvent, the organic binder, and the like.

また、触媒粒子28の担持は、例えば、公知の蒸着法を用いて行う。また、触媒粒子28には、例えば、鉄、コバルト、ニッケルなどを用いる。   The catalyst particles 28 are supported using, for example, a known vapor deposition method. Further, for example, iron, cobalt, nickel or the like is used for the catalyst particles 28.

(熱処理工程)
次に、カソード基板8を加熱して、αテルピオネールと有機バインダおよびその他の有機物(カーボンナノチューブやカーボンナノホーン以外の不純物)を除去すると、残ったカーボンナノ構造体13と触媒粒子28は、電子輸送層9の表面に区画されて固定される(図9(c)参照)。
(Heat treatment process)
Next, when the cathode substrate 8 is heated to remove α-terpione, organic binder, and other organic substances (impurities other than carbon nanotubes and carbon nanohorns), the remaining carbon nanostructure 13 and catalyst particles 28 are transported by electrons. It is partitioned and fixed on the surface of the layer 9 (see FIG. 9C).

(電子放出材料成長工程)
次に、電子放出材料の原料となる気体を、キャリアガスを用いて電子輸送層9の表面に接触させ、触媒粒子28を起点にカーボンナノ構造体13を超える長さまで電子放出材料14の結晶を成長させると、カソード電極2が完成する(図9(d)参照)。
(Electron emission material growth process)
Next, a gas that is a raw material of the electron emission material is brought into contact with the surface of the electron transport layer 9 using a carrier gas, and the crystal of the electron emission material 14 is formed to a length exceeding the carbon nanostructure 13 starting from the catalyst particles 28. When grown, the cathode electrode 2 is completed (see FIG. 9D).

電子放出材料14の原料には、メタン、エタン、エチレン、アセチレン、メタノールまたはエタノールなどの炭素化合物のガス、あるいはCOガスなどを用いる。また、キャリアガスには、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガスを用いる。   As a raw material of the electron emission material 14, a gas of carbon compound such as methane, ethane, ethylene, acetylene, methanol or ethanol, or CO gas is used. Further, an inert gas such as argon or helium is used as the carrier gas.

[第4の実施形態]
前記第3の実施形態に係るカソード電極2(図4参照)は、以下に示すように、カーボンナノ構造体13を媒体に分散させてなる第1のペーストを電子輸送層9の表面に塗布して、カーボンナノ構造体13を固定し、カーボンナノ構造体13の表面に電子放出材料14を分散させてなる第2のペーストをさらに塗布して製造する。
[Fourth Embodiment]
As shown below, the cathode electrode 2 (see FIG. 4) according to the third embodiment is obtained by applying a first paste obtained by dispersing carbon nanostructures 13 in a medium to the surface of the electron transport layer 9. Then, the carbon nanostructure 13 is fixed, and the second paste formed by dispersing the electron emission material 14 on the surface of the carbon nanostructure 13 is further applied and manufactured.

(第1のペースト調製工程)
まず、カーボンナノ構造体13を、混合溶液に分散させて第1のペーストを調製する。
(First paste preparation step)
First, the carbon nanostructure 13 is dispersed in a mixed solution to prepare a first paste.

(第2のペースト調製工程)
次に、電子放出材料14を、別の混合溶液に分散させて第2のペーストを調製する。
(Second paste preparation step)
Next, the electron emission material 14 is dispersed in another mixed solution to prepare a second paste.

(第1のペースト塗布工程)
次に、第1のペーストを、電子輸送層9の表面に塗布する(図10(a)参照)。
(First paste application process)
Next, the first paste is applied to the surface of the electron transport layer 9 (see FIG. 10A).

(第1の熱処理工程)
次に、カソード基板8を加熱してαテルピオネールと有機バインダおよびその他の有機物(カーボンナノチューブやカーボンナノホーン以外の不純物)を除去すると、残ったカーボンナノ構造体13が電子輸送層9に固定されて、カーボンナノ構造体13の層が形成される(図10(b)参照)。
(First heat treatment step)
Next, when the cathode substrate 8 is heated to remove α-terpione, an organic binder, and other organic substances (impurities other than carbon nanotubes and carbon nanohorns), the remaining carbon nanostructure 13 is fixed to the electron transport layer 9. Then, a layer of the carbon nanostructure 13 is formed (see FIG. 10B).

(第2のペースト塗布工程)
次に、第2のペーストを、カーボンナノ構造体13の層の表面に塗布する(図10(c)参照)。
(Second paste application process)
Next, the second paste is applied to the surface of the layer of the carbon nanostructure 13 (see FIG. 10C).

(第2の熱処理工程)
次に、カソード基板8を加熱してαテルピオネールと有機バインダおよびその他の有機物(カーボンナノチューブやカーボンナノホーン以外の不純物)を除去すると、残った電子放出材料14がカーボンナノ構造体13の層の表面に固定されて、カソード電極2が完成する(図10(d)参照)。
(Second heat treatment step)
Next, when the cathode substrate 8 is heated to remove α-terpione, an organic binder, and other organic substances (impurities other than carbon nanotubes and carbon nanohorns), the remaining electron emission material 14 becomes the surface of the carbon nanostructure 13 layer. The cathode electrode 2 is completed (see FIG. 10D).

[第5の実施形態]
前記第3の実施形態に係るカソード電極2(図4参照)は、以下に示すように、触媒粒子28を担持させたカーボンナノ構造体13を媒体に分散させてなるペーストを電子輸送層9の表面に塗布して、カーボンナノ構造体13を固定し、触媒粒子28を起点にして電子放出材料14の結晶を成長させても製造できる。
[Fifth Embodiment]
In the cathode electrode 2 (see FIG. 4) according to the third embodiment, as shown below, a paste formed by dispersing carbon nanostructures 13 carrying catalyst particles 28 in a medium is formed on the electron transport layer 9. It can also be produced by coating the surface, fixing the carbon nanostructure 13, and growing the crystal of the electron emission material 14 starting from the catalyst particles 28.

(触媒粒子担持工程)
まず、カーボンナノ構造体13に触媒粒子28を担持させる。
(Catalyst particle loading process)
First, the catalyst particles 28 are supported on the carbon nanostructure 13.

触媒粒子28を担持するプロセスは、前述のゲッター粒子23をカーボンナノ構造体13に担持させたプロセスと同様である、つまり、触媒粒子28を含む溶液あるいは触媒粒子28の気体を含む雰囲気中にカーボンナノ構造体13を置いて行う。なお、触媒粒子28は、カーボンナノ構造体13の表面あるいは開孔部に担持される。   The process of supporting the catalyst particles 28 is the same as the process of supporting the getter particles 23 on the carbon nanostructure 13 described above, that is, carbon in a solution containing the catalyst particles 28 or an atmosphere containing the gas of the catalyst particles 28. This is done by placing the nanostructure 13. The catalyst particles 28 are supported on the surface of the carbon nanostructure 13 or on the opening.

(ペースト調製工程)
次に、触媒粒子28を担持させたカーボンナノ構造体13を、混合溶液に分散させてペーストを調製する。
(Paste preparation process)
Next, the carbon nanostructure 13 carrying the catalyst particles 28 is dispersed in the mixed solution to prepare a paste.

(ペースト塗布工程)
次に、ペーストを、電子輸送層9の表面に塗布する(図11(a)参照)。
(Paste application process)
Next, the paste is applied to the surface of the electron transport layer 9 (see FIG. 11A).

(熱処理工程)
次に、カソード基板8を加熱してαテルピオネールと有機バインダおよびその他の有機物(カーボンナノチューブやカーボンナノホーン以外の不純物)を除去する。残ったカーボンナノ構造体13が電子輸送層9に固定されて、カーボンナノ構造体13の層が形成される(図11(b)参照)。
(Heat treatment process)
Next, the cathode substrate 8 is heated to remove α-terpione, organic binder, and other organic substances (impurities other than carbon nanotubes and carbon nanohorns). The remaining carbon nanostructure 13 is fixed to the electron transport layer 9, and a layer of the carbon nanostructure 13 is formed (see FIG. 11B).

(電子放出材料成長工程)
次に、電子放出材料14の原料となる気体を、キャリアガスを用いてカーボンナノ構造体13の層の表面に接触させ、触媒粒子28を起点に所望の長さまで電子放出材料14の結晶を成長させると、図11(c)に示すようなカソード電極2が完成する。
(Electron emission material growth process)
Next, a gas that is a raw material of the electron emission material 14 is brought into contact with the surface of the layer of the carbon nanostructure 13 using a carrier gas, and the crystal of the electron emission material 14 is grown to a desired length starting from the catalyst particles 28. As a result, the cathode electrode 2 as shown in FIG. 11C is completed.

以下に実施例を示し、さらに詳しく本発明について例示する。以下の例は、本発明の技術的範囲を制限するものではない。   The following examples illustrate the invention in more detail. The following examples do not limit the technical scope of the present invention.

[実施例1]
前記第1の実施形態に係る製造方法で電子放出素子のカソード電極を作製し、電界放出特性を評価した。電子放出材料にはカーボンナノチューブを、ガス吸着材料にはカーボンナノホーンを用いた。
[Example 1]
The cathode electrode of the electron-emitting device was produced by the manufacturing method according to the first embodiment, and the field emission characteristics were evaluated. Carbon nanotubes were used as electron emission materials, and carbon nanohorns were used as gas adsorption materials.

(ペーストの調製)
カーボンナノチューブ10mg、カーボンナノホーン150mg、セルロース系有機バインダ100mgを、αテルピオネール5mLに加えて混合して混合液を調製した後、その混合液を30分間超音波処理し、機械的混練を5時間行ってペーストを調製した。
(Preparation of paste)
Carbon nanotube 10 mg, carbon nanohorn 150 mg, and cellulose organic binder 100 mg were added to 5 mL of α-terpione and mixed to prepare a mixed solution, which was then sonicated for 30 minutes and mechanically kneaded for 5 hours. A paste was prepared.

(ペーストの塗布)
次に、調製したペーストを、ITOをスパッタしたガラス基板上に、厚さが1μm程度になるようにスクリーン印刷によって塗布した。
(Paste application)
Next, the prepared paste was applied by screen printing on a glass substrate sputtered with ITO so as to have a thickness of about 1 μm.

(カソード基板の熱処理)
ガラス基板にペーストを塗布した後、窒素雰囲気下500℃で1時間熱処理して、有機バインダとαテルピオネールを除去して、ITOの表面にカーボンナノチューブとカーボンナノホーンを固定した。なお、比較のため、上記と同じ手順でカーボンナノチューブのみをITOの表面に固定したカソード電極を作製した。
(Cathode substrate heat treatment)
After applying the paste to the glass substrate, heat treatment was performed at 500 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere to remove the organic binder and α-terpioneer, and the carbon nanotubes and carbon nanohorns were fixed on the ITO surface. For comparison, a cathode electrode in which only carbon nanotubes were fixed on the surface of ITO was prepared by the same procedure as described above.

(電界放出特性の評価)
カソード電極の表面を、粘着テープを用いてピーリング処理し、カソード電極上にカーボンナノチューブをそれぞれ直立させた。そして、ITOを表面に固定したアノード電極を、カソード電極に対向配置し、両極間に一定電圧を与えて100時間作動させたところ、カーボンナノホーンを含まないカソード電極の場合、放出電流が10〜15%低下したのに対し、カーボンナノホーンを含むカソード電極の場合は、放出電流の低下が5〜8%に抑えられることが確認された。また、電子線励起用蛍光体をITOの表面に固定したアノード電極を、前述と同様に各カソード電極に対向配置し、両極間に一定電圧を与えたところ、カーボンナノホーンを含むカソード電極の場合は、カーボンナノホーンを含まないカソード電極の場合と比べて、輝度の分布が均一になることが確認された。また、カソード電極の表面を、電子顕微鏡で観察したところ、カーボンナノチューブの先端は、カーボンナノホーンの先端から突出していることが確認された。その突出部は、高さ1〜1.5μm、アスペクト比が100〜200程度であり、その間隔と高さの比(間隔/長さ)は、1〜3程度であった。また、突出部周辺のカーボンナノホーンの高さの差は、典型的に200nm以下と小さく、ガラス基板上にほぼ均一に配置されていることが確認された。
(Evaluation of field emission characteristics)
The surface of the cathode electrode was peeled using an adhesive tape, and the carbon nanotubes were made to stand upright on the cathode electrode. Then, when the anode electrode with ITO fixed on the surface was placed opposite to the cathode electrode and operated for 100 hours by applying a constant voltage between the two electrodes, the emission current was 10-15 in the case of the cathode electrode not containing carbon nanohorn. On the other hand, in the case of the cathode electrode containing carbon nanohorn, it was confirmed that the decrease in emission current was suppressed to 5 to 8%. In addition, when an anode electrode in which a phosphor for electron beam excitation is fixed on the surface of ITO is arranged opposite to each cathode electrode as described above and a constant voltage is applied between both electrodes, in the case of a cathode electrode including carbon nanohorn, It was confirmed that the luminance distribution was uniform compared to the case of the cathode electrode not containing carbon nanohorn. Further, when the surface of the cathode electrode was observed with an electron microscope, it was confirmed that the tip of the carbon nanotube protruded from the tip of the carbon nanohorn. The protrusions had a height of 1 to 1.5 μm and an aspect ratio of about 100 to 200, and the ratio of the interval to the height (interval / length) was about 1 to 3. Moreover, the difference in height of the carbon nanohorns around the protrusions was typically as small as 200 nm or less, and it was confirmed that the carbon nanohorns were arranged almost uniformly on the glass substrate.

[実施例2]
電子放出材料にカーボンナノチューブを、ガス吸着材料に開孔処理したカーボンナノホーンを用いて、カソード電極を作製し、電界放出特性を評価した。
[Example 2]
Cathode electrodes were fabricated using carbon nanohorns that were carbon nanotubes as electron-emitting materials and carbon nanohorns that were subjected to pore opening treatment in gas-adsorbing materials, and field emission characteristics were evaluated.

(カソード電極の作製)
カーボンナノホーンを開孔処理する以外は、実施例1と同じ手順でカソード電極を作製した。開孔処理は、ペースト調製前に処理する場合と、窒素雰囲気下でのカソード基板の熱処理前に処理する場合の2通り行い、いずれも大気中500℃で10分間酸化処理した。カソード電極は、2通りの開孔処理したカーボンナノホーンを用いて作製した。
(Preparation of cathode electrode)
A cathode electrode was produced in the same procedure as in Example 1 except that the carbon nanohorn was subjected to a hole opening treatment. Opening treatment was performed in two ways: when the paste was processed before preparation, and when the cathode substrate was heat-treated in a nitrogen atmosphere, both of which were oxidized at 500 ° C. for 10 minutes in the atmosphere. The cathode electrode was prepared using carbon nanohorns subjected to two types of opening treatment.

(電界放出特性の評価)
実施例1と同様に、ITOを表面に固定したアノード電極を、カソード電極に対向配置し、両極間に一定電圧を与えて100時間作動させたところ、ペースト調製前に開孔処理したカーボンナノホーンを備えるカソード電極を用いた場合は、放出電流の低下が3〜5%に抑えられ、熱処理前に開孔処理したカーボンナノホーンを備えるカソード電極を用いた場合は、放出電流の低下が3〜6%に抑えられることを確認した。
(Evaluation of field emission characteristics)
As in Example 1, an anode electrode with ITO fixed on its surface was placed opposite to the cathode electrode, and a constant voltage was applied between both electrodes to operate for 100 hours. When the cathode electrode provided is used, the reduction of the emission current is suppressed to 3 to 5%, and when the cathode electrode provided with the carbon nanohorn subjected to the opening treatment before the heat treatment is used, the reduction of the emission current is 3 to 6%. It was confirmed that

[実施例3]
電子放出材料にカーボンナノチューブを、ガス吸着材料に金属を担持したカーボンナノホーンを用いて、カソード電極を作製し、電界放出特性を評価した。
[Example 3]
Cathode electrodes were prepared using carbon nanohorns with carbon nanotubes as electron emission materials and metals supported as gas adsorption materials, and field emission characteristics were evaluated.

(カソード電極の作製)
カーボンナノホーンに金属を担持する以外は、実施例1と同じ手順でカソード電極を作製した。金属の担持は、1重量%の酢酸チタン溶液に、開孔処理したカーボンナノホーンを含むガラス基板を10分間浸漬させた後、酸素雰囲気下300℃で酢酸チタンを酸化し、続いて、水素雰囲気下400℃で酸化チタンを還元することにより行った。なお、開孔処理は、金属を担持する前に、大気中500℃で10分間酸化処理して行った。
(Preparation of cathode electrode)
A cathode electrode was prepared in the same procedure as in Example 1 except that a metal was supported on the carbon nanohorn. The metal loading was performed by immersing a glass substrate containing carbon nanohorns that had been subjected to pore opening treatment in a 1 wt% titanium acetate solution for 10 minutes, and then oxidizing titanium acetate at 300 ° C. in an oxygen atmosphere, followed by a hydrogen atmosphere. This was done by reducing titanium oxide at 400 ° C. The opening treatment was performed by oxidizing at 500 ° C. for 10 minutes in the atmosphere before supporting the metal.

(電界放出特性の評価)
実施例1と同様に、ITOを表面に固定したアノード電極を、カソード電極に対向配置し、両極間に一定電圧を与えて100時間作動させたところ、放出電流の低下が1〜3%に抑えられることを確認した。
(Evaluation of field emission characteristics)
As in Example 1, when an anode electrode with ITO fixed on its surface was placed opposite the cathode electrode and operated for 100 hours with a constant voltage applied between the two electrodes, the reduction in emission current was suppressed to 1 to 3%. It was confirmed that

[実施例4]
電子放出材料およびガス吸着材料にカーボンナノチューブを用いて、カソード電極を作製し、電界放出特性を評価した。
[Example 4]
A cathode electrode was fabricated using carbon nanotubes as an electron emission material and a gas adsorption material, and field emission characteristics were evaluated.

(ペーストの調製)
長さ3〜4μmのカーボンナノチューブ10mgと長さ長さ0.2〜0.3μmのカーボンナノチューブ100mgを、セルロース系有機バインダとともにαテルピオネール溶液10mlに加えて、実施例1の場合と同様の処理を行ってペーストを調製した。
(Preparation of paste)
10 mg of carbon nanotubes having a length of 3 to 4 μm and 100 mg of carbon nanotubes having a length of 0.2 to 0.3 μm are added to 10 ml of an α-terpione solution together with a cellulose organic binder, and the same treatment as in Example 1 is performed. To prepare a paste.

(ペーストの塗布)
次に、調製したペーストを、ITOをスパッタしたガラス基板上に、厚さが1μm程度になるようにスクリーン印刷した。
(Paste application)
Next, the prepared paste was screen-printed on a glass substrate sputtered with ITO so as to have a thickness of about 1 μm.

(カソード基板の熱処理)
ガラス基板にペーストを塗布した後、窒素雰囲気下500℃で1時間熱処理して、有機バインダとαテルピオネールを除去して、ITOの表面に長さの異なる2種類のカーボンナノチューブを固定してカソード電極を作製した。
(Cathode substrate heat treatment)
After applying the paste on the glass substrate, heat treatment was performed at 500 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere to remove the organic binder and α-terpione, and to fix the two types of carbon nanotubes with different lengths on the surface of the ITO. An electrode was produced.

(電界放出特性の評価)
各カソード電極の表面を、粘着テープを用いてピーリング処理し、カソード電極上にカーボンナノチューブを直立させた。そして、ITOを表面に固定したアノード電極を、各カソード電極に対向配置し、両極間に一定電圧を与えて100時間作動させたところ、放出電流の低下が6〜9%に抑えられることを確認した。カソード電極の表面を、電子顕微鏡で観察したところ、電子放出材料用のカーボンナノチューブの先端は、ガス吸着材料用のカーボンナノチューブの先端から突出していることが確認された。その突出部は、高さ1.5〜2μm、アスペクト比が100〜200程度であり、その間隔と高さの比(間隔/長さ)は、1〜3程度であった。また、突出部周辺のガス吸着材料用のカーボンナノチューブの高さの差は、典型的に300nm以下と小さく、ガラス基板上にほぼ均一に配置されていることが確認された。
(Evaluation of field emission characteristics)
The surface of each cathode electrode was peeled using an adhesive tape, and the carbon nanotubes were made upright on the cathode electrode. Then, when the anode electrode with ITO fixed on the surface was placed opposite to each cathode electrode and operated for 100 hours with a constant voltage applied between both electrodes, it was confirmed that the decrease in emission current was suppressed to 6-9% did. When the surface of the cathode electrode was observed with an electron microscope, it was confirmed that the tip of the carbon nanotube for the electron emission material protruded from the tip of the carbon nanotube for the gas adsorption material. The protrusions had a height of 1.5 to 2 μm and an aspect ratio of about 100 to 200, and the ratio of the interval to the height (interval / length) was about 1 to 3. Moreover, the difference in height of the carbon nanotubes for the gas adsorbing material around the protrusions is typically as small as 300 nm or less, and it was confirmed that the carbon nanotubes were arranged almost uniformly on the glass substrate.

[実施例5]
前記第2の実施形態に係る製造方法で電子放出素子のカソード電極を作製し、電界放出特性を評価した。電子放出材料にはカーボンナノチューブを、ガス吸着材料には開孔処理したカーボンナノホーンを用いた。
[Example 5]
The cathode electrode of the electron-emitting device was produced by the manufacturing method according to the second embodiment, and the field emission characteristics were evaluated. Carbon nanotubes were used as the electron emission material, and carbon nanohorns subjected to pore opening treatment were used as the gas adsorption material.

(ペーストの調製)
まず、開孔処理したカーボンナノホーンを含むペースト(以下、第1のペーストと言う)とカーボンナノチューブを含むペースト(以下、第2のペーストと言う)を調製した。第1のペーストは、開孔処理したカーボンナノホーン200mgを、セルロース系有機バインダ200mgとともにαテルピオネール10mlに加えて、分散・混練して調製した。また第2のペーストは、カーボンナノチューブ10mgを、セルロース系有機バインダ100mgとともにαテルピオネール10mlに加えて、分散・混練して調製した。分散・混練は実施例1の場合と同様に行った。なお、カーボンナノホーンの開孔処理は、第1のペーストを調製する前に、大気中500℃で10分間熱処理して行った。
(Preparation of paste)
First, a paste containing carbon nanohorns subjected to pore opening treatment (hereinafter referred to as a first paste) and a paste containing carbon nanotubes (hereinafter referred to as a second paste) were prepared. The first paste was prepared by dispersing and kneading 200 mg of carbon nanohorn subjected to pore opening treatment with 10 mg of α-terpioneal together with 200 mg of a cellulose organic binder. The second paste was prepared by adding 10 mg of carbon nanotubes together with 100 mg of cellulose organic binder to 10 ml of α-terpione and dispersing and kneading. Dispersion and kneading were performed in the same manner as in Example 1. In addition, the opening process of carbon nanohorn was performed by heat-treating at 500 ° C. for 10 minutes in the atmosphere before preparing the first paste.

(ペーストの塗布)
ITOをスパッタしたガラス基板の上方に、直径50μmの開口が正方格子状に並んだメッシュを配置して、開口の上から、第1のペーストをガラス基板にスクリーン印刷した。そして、別のメッシュ(開口の位置が逆になっている)をガラス基板の上方に配置して、開口の上から第1のペーストが塗布されていないガラス基板上の領域に、第2のペーストをスクリーン印刷した。
(Paste application)
Above the glass substrate sputtered with ITO, a mesh having openings with a diameter of 50 μm arranged in a square lattice pattern was placed, and the first paste was screen-printed on the glass substrate from above the openings. Then, another mesh (in which the position of the opening is reversed) is arranged above the glass substrate, and the second paste is applied from above the opening to the region on the glass substrate where the first paste is not applied. Screen printed.

(カソード基板の熱処理)
ガラス基板にペーストを塗布した後、窒素雰囲気下500℃で1時間熱処理して、有機バインダとαテルピオネールを除去して、カーボンナノチューブと開孔処理したカーボンナノホーンを、ITOの表面に区画したカソード電極を作製した。
(Cathode substrate heat treatment)
After applying the paste to the glass substrate, heat treatment was performed at 500 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere to remove the organic binder and α-terpioneer, and the carbon nanotubes and the carbon nanohorns subjected to the opening treatment were partitioned on the ITO surface. An electrode was produced.

(電界放出特性の評価)
実施例1と同様に、ITOを表面に固定したアノード電極を、カソード電極に対向配置し、両極間に一定電圧を与えて100時間作動させたところ、放出電流の低下を3〜5%に抑えられることを確認した。
(Evaluation of field emission characteristics)
As in Example 1, when an anode electrode with ITO fixed on the surface was placed opposite the cathode electrode and operated for 100 hours with a constant voltage applied between the two electrodes, the reduction in emission current was suppressed to 3-5%. It was confirmed that

[実施例6]
前記第4の実施形態に係る製造方法で電子放出素子のカソード電極を作製し、電界放出特性を評価した。電子放出材料にはカーボンナノチューブを、ガス吸着材料には開孔処理したカーボンナノホーンを用いた。
[Example 6]
The cathode electrode of the electron-emitting device was produced by the manufacturing method according to the fourth embodiment, and the field emission characteristics were evaluated. Carbon nanotubes were used as the electron emission material, and carbon nanohorns subjected to pore opening treatment were used as the gas adsorption material.

(ペーストの調製)
まず、開孔処理したカーボンナノホーンを含むペースト(以下、第1のペーストと言う)とカーボンナノチューブを含むペースト(以下、第2のペーストと言う)を調製した。第1のペーストは、開孔処理したカーボンナノホーン200mgを、セルロース系有機バインダ200mgとともにαテルピオネール5mlに加えて、分散・混練して調製した。また第2のペーストは、カーボンナノチューブ10mgを、セルロース系有機バインダ30mgとともにαテルピオネール5mlに加えて、分散・混練して調製した。分散・混練は実施例1の場合と同様に行った。なお、カーボンナノホーンの開孔処理は、第1のペーストを調製する前に、大気中500℃で10分間熱処理して行った。
(Preparation of paste)
First, a paste containing carbon nanohorns subjected to pore opening treatment (hereinafter referred to as a first paste) and a paste containing carbon nanotubes (hereinafter referred to as a second paste) were prepared. The first paste was prepared by adding 200 mg of pore-opened carbon nanohorn together with 200 mg of a cellulose organic binder to 5 ml of α-terpione and dispersing and kneading. The second paste was prepared by adding 10 mg of carbon nanotubes together with 30 mg of a cellulose organic binder to 5 ml of α-terpione and dispersing and kneading them. Dispersion and kneading were performed in the same manner as in Example 1. In addition, the opening process of carbon nanohorn was performed by heat-treating at 500 ° C. for 10 minutes in the atmosphere before preparing the first paste.

(ペーストの塗布)
ITOをスパッタしたガラス基板の表面に第1のペーストをスクリーン印刷し、ガラス基板を100℃で加熱してαテルピオネールを除去してカーボンナノホーンの層を形成し、次いで、カーボンナノホーンの層の表面に第2のペーストをスクリーン印刷した。
(Paste application)
The first paste is screen-printed on the surface of the glass substrate sputtered with ITO, and the glass substrate is heated at 100 ° C. to remove α-terpione and form a carbon nanohorn layer, and then the surface of the carbon nanohorn layer. A second paste was screen printed.

(カソード基板の熱処理)
第2のペーストを塗布した後、窒素雰囲気下500℃で1時間熱処理して、有機バインダとαテルピオネールを除去して、カーボンナノホーンの層の表面にカーボンナノチューブが固定されたカソード電極を作製した。
(Cathode substrate heat treatment)
After applying the second paste, heat treatment was performed at 500 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere to remove the organic binder and α-terpioneer, and a cathode electrode in which carbon nanotubes were fixed on the surface of the carbon nanohorn layer was produced. .

(電界放出特性の評価)
実施例1と同様に、ITOを表面に固定したアノード電極を、カソード電極に対向配置し、両極間に一定電圧を与えて100時間作動させたところ、放出電流の低下を3〜5%に抑えられることを確認した。
(Evaluation of field emission characteristics)
As in Example 1, when an anode electrode with ITO fixed on the surface was placed opposite the cathode electrode and operated for 100 hours with a constant voltage applied between the two electrodes, the reduction in emission current was suppressed to 3-5%. It was confirmed that

本明細書の実施形態および実施例は、本発明の具体的実施態様の例示であって、本発明の技術的範囲を限定するものではない。本発明は、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範囲において、自在に変形、応用あるいは改良して実施できる。   The embodiments and examples of the present specification are examples of specific embodiments of the present invention, and are not intended to limit the technical scope of the present invention. The present invention can be freely modified, applied or improved within the scope of the technical idea described in the claims.

例えば、上記実施形態および実施例では、カーボンナノ構造体あるいは電子放出材料を溶媒に溶かしてペーストを調製する際に、バインダや結着剤を添加する例を示しているが、バインダや結着剤あるいはその他の物質の添加の有無は、本発明の技術的範囲の解釈には影響しない。つまり、カーボンナノ構造体あるいは電子放出材料のみでペーストを調製するものであっても良いし、あるいは、これらにバインダや結着剤を添加するものであっても良い。いずれの場合も、本発明の技術的範囲に属する。また、熱処理工程において、溶媒以外の物質の除去が行われるか否かも本発明の技術的範囲の解釈には影響しない。熱処理工程は溶媒のみを除去するものであっても良いし、溶媒と他の物質を除去するものであっても良い。いずれの場合も、本発明の技術的範囲に属する。   For example, in the above-described embodiments and examples, when the paste is prepared by dissolving the carbon nanostructure or the electron emission material in a solvent, an example in which a binder or a binder is added is shown. The presence or absence of addition of other substances does not affect the interpretation of the technical scope of the present invention. That is, the paste may be prepared only from the carbon nanostructure or the electron emission material, or a binder or a binder may be added to these. Either case belongs to the technical scope of the present invention. Further, whether or not substances other than the solvent are removed in the heat treatment step does not affect the interpretation of the technical scope of the present invention. The heat treatment step may remove only the solvent, or may remove the solvent and other substances. Either case belongs to the technical scope of the present invention.

また、上記実施形態および実施例では、カソード電極とアノード電極のみを備える2極構造の電子放出素子の例を示したが、本発明に係る電子放出素子は2極構造のものには限定されない。例えば、カソード電極とアノード電極に加えて、ゲート電極を備えて3極構造の電子放出素子を構成しても良い。   In the above-described embodiments and examples, the example of the electron emission element having the bipolar structure including only the cathode electrode and the anode electrode has been described. However, the electron emission element according to the present invention is not limited to the one having the bipolar structure. For example, in addition to the cathode electrode and the anode electrode, a gate electrode may be provided to constitute a three-electrode electron-emitting device.

また、上記実施形態および実施例では、カーボンナノ構造体や電子放出材料を含むペーストの塗布をスクリーン印刷法で行ったが、塗布方法はこれに限られない。例えば、カーボンナノ構造体や電子放出材料を含むインクを調製して、そのインクをスプレー印刷やインクジェット印刷により塗布しても良い。   Moreover, in the said embodiment and Example, although application | coating of the paste containing a carbon nanostructure and an electron emission material was performed by the screen printing method, the application | coating method is not restricted to this. For example, an ink containing a carbon nanostructure or an electron emission material may be prepared, and the ink may be applied by spray printing or ink jet printing.

また、上記実施形態では、カソード基板の表面をマスクで覆って、カソード基板の表面の所定に領域にカーボンナノ構造体を含むペーストを塗布した後で、カソード基板の表面を別のマスクで覆って、カソード基板の表面の別の領域に電子放出材料を含むペーストあるいは触媒粒子を塗布、担持させる例を示したが、別のマスクを用いる代わりに、カーボンナノ構造体の塗布に用いたものと同じマスクのカソード基板に対する相対的な位置をずらして、電子放出材料を含むペーストあるいは触媒粒子の塗布、担持を行うようにしても良い。   In the above embodiment, the surface of the cathode substrate is covered with a mask, and after applying a paste containing carbon nanostructures to a predetermined region of the surface of the cathode substrate, the surface of the cathode substrate is covered with another mask. An example of applying and supporting paste or catalyst particles containing an electron-emitting material in another region of the surface of the cathode substrate has been shown, but the same as that used for applying the carbon nanostructure instead of using another mask. The relative position of the mask with respect to the cathode substrate may be shifted so that the paste containing the electron-emitting material or the catalyst particles are applied and supported.

以上説明したように、本発明によれば、電子放出素子のガス吸着材料としてカーボンナノ構造体を使用するので、電子放出素子にガス吸着材料を偏りなく均一に分布させることができる。そのため、電子放出素子の劣化や輝度分布の偏りを抑制できる。   As described above, according to the present invention, since the carbon nanostructure is used as the gas adsorbing material of the electron-emitting device, the gas adsorbing material can be evenly distributed in the electron-emitting device. Therefore, it is possible to suppress the deterioration of the electron-emitting device and the unevenness of the luminance distribution.

上記の実施形態の一部または全部は、以下の付記のようにも記載されうるが、以下には限られない。   A part or all of the above-described embodiment can be described as in the following supplementary notes, but is not limited thereto.

(付記1)カソード電極とアノード電極を対向配置するとともに、両電極間にガス吸着材料を配置して、前記両電極間に電位差を与えることによって、前記カソード電極から前記アノード電極へ電子を放出する電子放出素子において、前記ガス吸着材料はカーボンナノ構造体である、
ことを特徴とする電子放出素子。
(Additional remark 1) While arrange | positioning a cathode electrode and an anode electrode facing each other and arrange | positioning gas adsorption material between both electrodes and giving a potential difference between both said electrodes, an electron is discharge | released from the said cathode electrode to the said anode electrode. In the electron-emitting device, the gas adsorbing material is a carbon nanostructure.
An electron-emitting device.

(付記2)前記カソード電極は、電子輸送層が固定されたカソード基板を有し、前記電子輸送層の表面に電子放出材料と前記カーボンナノ構造体を固定して構成されて、前記電子放出材料の先端は、前記カーボンナノ構造体の先端を超えて、前記アノード電極の方向に延びている、
ことを特徴とする付記1に記載の電子放出素子。
(Supplementary Note 2) The cathode electrode includes a cathode substrate on which an electron transport layer is fixed, and is configured by fixing an electron emission material and the carbon nanostructure on a surface of the electron transport layer. The tip of extends beyond the tip of the carbon nanostructure in the direction of the anode electrode,
The electron-emitting device according to appendix 1, wherein:

(付記3)前記電子輸送層の表面は、前記電子放出材料が固定された領域と前記カーボンナノ構造体が固定された領域に区画される、
ことを特徴とする付記2に記載の電子放出素子。
(Appendix 3) The surface of the electron transport layer is partitioned into a region where the electron emission material is fixed and a region where the carbon nanostructure is fixed.
The electron-emitting device according to appendix 2, wherein

(付記4)前記カソード電極は、電子輸送層が固定されたカソード基板を有し、前記電子輸送層の表面には前記カーボンナノ構造体の層が形成され、前記カーボンナノ構造体の層の表面に電子放出材料が固定されている、
ことを特徴とする付記1に記載の電子放出素子。
(Supplementary Note 4) The cathode electrode has a cathode substrate on which an electron transport layer is fixed, and the carbon nanostructure layer is formed on the surface of the electron transport layer, and the surface of the carbon nanostructure layer. The electron emission material is fixed to the
The electron-emitting device according to appendix 1, wherein:

(付記5)前記カーボンナノ構造体は、その表面に開孔部を有するか、表面あるいは前記開孔部にゲッター粒子を担持している、
ことを特徴とする付記1乃至4のいずれか1つに記載の電子放出素子。
(Supplementary Note 5) The carbon nanostructure has an opening on the surface thereof, or carries getter particles on the surface or the opening.
The electron-emitting device according to any one of appendices 1 to 4, characterized in that:

(付記6)ゲッター粒子は、チタンジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、鉄、ルテニウム、オスミウム、ニッケル、コバルト、トリウム、アルミニウム、バリウム、銀からなる金属の群、前記金属の合金、前記金属の前駆体、あるいは前記金属の酸化物のいずれかである、
ことを特徴とする付記5に記載の電子放出素子。
(Additional remark 6) Getter particle | grains are a group of the metal which consists of titanium zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, chromium, molybdenum, tungsten, iron, ruthenium, osmium, nickel, cobalt, thorium, aluminum, barium, silver, the said metal An alloy of the above, a precursor of the metal, or an oxide of the metal,
The electron-emitting device according to appendix 5, wherein

(付記7)付記1乃至6のいずれか1つに記載の電子放出素子を光源として備える、
ことを特徴とする照明装置。
(Supplementary note 7) The electron-emitting device according to any one of supplementary notes 1 to 6 is provided as a light source.
A lighting device characterized by that.

(付記8)電子放出素子のカソード電極を製造する方法において、電子放出材料とカーボンナノ構造体を溶媒と混合してペーストを調製するペースト調製工程と、前記ペーストをカソード基板の電子輸送層の表面に塗布するペースト塗布工程と、前記カソード基板を加熱し前記溶媒を除去する熱処理工程と、を有する、
ことを特徴とする電子放出素子のカソード電極の製造方法。
(Appendix 8) In a method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device, a paste preparation step of preparing a paste by mixing an electron-emitting material and a carbon nanostructure with a solvent, and the paste on the surface of an electron transport layer of a cathode substrate A paste application step for applying to the substrate, and a heat treatment step for heating the cathode substrate to remove the solvent,
A method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device.

(付記9)電子放出素子のカソード電極を製造する方法において、カーボンナノ構造体を溶媒と混合して第1のペーストを調製する第1のペースト調製工程と、電子放出材料を溶媒と混合して第2のペーストを調製する第2のペースト調製工程と、マスクでカソード基板の電子輸送層の表面を覆って、前記電子輸送層の表面の所定の領域に前記第1のペーストを塗布する第1のペースト塗布工程と、マスクで前記カソード基板の表面を覆って、前記電子輸送層の表面の前記第1のペーストが塗布されていない領域に、前記第2のペーストを塗布する第2のペースト塗布工程と、前記カソード基板を加熱して、前記溶媒を除去する熱処理工程と、を有する、
ことを特徴とする電子放出素子のカソード電極の製造方法。
(Supplementary note 9) In a method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device, a first paste preparation step of preparing a first paste by mixing a carbon nanostructure with a solvent, and mixing an electron-emitting material with a solvent A second paste preparing step for preparing a second paste, and a first paste for covering the surface of the electron transport layer of the cathode substrate with a mask and applying the first paste to a predetermined region of the surface of the electron transport layer A paste application step of applying the second paste to a region of the surface of the electron transport layer where the first paste is not applied, covering the surface of the cathode substrate with a mask. And a heat treatment step of heating the cathode substrate to remove the solvent,
A method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device.

(付記10)電子放出素子のカソード電極を製造する方法において、カーボンナノ構造体を溶媒と混合してペーストを調製するペースト調製工程と、マスクでカソード基板の電子輸送層の表面を覆って、前記電子輸送層の表面の所定の領域に前記ペーストを塗布するペースト塗布工程と、マスクで前記カソード基板の表面を覆って、前記電子輸送層の表面の前記ペーストが塗布されていない領域に、触媒粒子を担持させる触媒粒子担持工程と、前記カソード基板を加熱して、前記溶媒を除去する熱処理工程と、前記電子輸送層の表面に電子放出材料の原料となる気体を接触させて、前記電子輸送層の表面に担持させた前記触媒粒子を起点に、電子放出材料を成長させる電子放出材料成長工程と、を有する、
ことを特徴とする電子放出素子のカソード電極の製造方法。
(Supplementary note 10) In the method of manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device, the paste preparation step of preparing a paste by mixing carbon nanostructures with a solvent, covering the surface of the electron transport layer of the cathode substrate with a mask, A paste application step of applying the paste to a predetermined region of the surface of the electron transport layer; and a catalyst particle in a region of the surface of the electron transport layer that is not coated with the paste by covering the surface of the cathode substrate with a mask. A catalyst particle supporting step for supporting the catalyst; a heat treatment step for heating the cathode substrate to remove the solvent; and a surface of the electron transporting layer in contact with a gas serving as a raw material for an electron emitting material, thereby An electron emission material growth step of growing an electron emission material starting from the catalyst particles supported on the surface of
A method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device.

(付記11)電子放出素子のカソード電極を製造する方法において、カーボンナノ構造体を溶媒と混合して第1のペーストを調製する第1のペースト調製工程と、電子放出材料を溶媒と混合して第2のペーストを調製する第2のペースト調製工程と、前記第1のペーストをカソード基板の電子輸送層の表面に塗布する第1のペースト塗布工程と、前記カソード基板を加熱し前記溶媒を除去して、前記電子輸送層の表面に前記カーボンナノ構造体の層を形成する第1の熱処理工程と、前記カーボンナノ構造体の層の表面に、前記第2のペーストを塗布する第2のペースト塗布工程と、前記カソード基板を加熱し前記溶媒を除去して、前記電子放出材料を前記カーボンナノ構造体の層の表面に固定する第2の熱処理工程と、を有する、
ことを特徴とする電子放出素子のカソード電極の製造方法。
(Supplementary note 11) In a method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device, a first paste preparation step of preparing a first paste by mixing a carbon nanostructure with a solvent, and mixing an electron-emitting material with a solvent A second paste preparing step for preparing a second paste; a first paste applying step for applying the first paste to the surface of the electron transport layer of the cathode substrate; and heating the cathode substrate to remove the solvent. Then, a first heat treatment step for forming the carbon nanostructure layer on the surface of the electron transport layer, and a second paste for applying the second paste to the surface of the carbon nanostructure layer An application step; and a second heat treatment step of heating the cathode substrate to remove the solvent and fixing the electron-emitting material to the surface of the carbon nanostructure layer.
A method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device.

1 電子放出素子
2 カソード電極
3 アノード電極
4 電源装置
5 蛍光体層
6 空間
7 シール部材
8 カソード基板
9 電子輸送層
10 電子放出部
11 アノード基板
12 電子輸送層
13 カーボンナノ構造体
14 電子放出材料
15 突出部
16 間隔
17 カーボンナノ構造体が固定された領域
18 電子放出材料が固定された領域
19 開孔部
20 カーボンナノホーン
21 カーボンナノホーン凝集体
22 カーボンナノチューブ
23 ゲッター粒子
24 マスク
25 開口
26 閉口
27 マスク
28 触媒粒子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electron emission element 2 Cathode electrode 3 Anode electrode 4 Power supply device 5 Phosphor layer 6 Space 7 Seal member 8 Cathode substrate 9 Electron transport layer 10 Electron emission part 11 Anode substrate 12 Electron transport layer 13 Carbon nanostructure 14 Electron emission material 15 Protrusions 16 Interval 17 Area where carbon nanostructures are fixed 18 Area where electron-emitting materials are fixed 19 Opening 20 Carbon nanohorn 21 Carbon nanohorn aggregate 22 Carbon nanotube 23 Getter particle 24 Mask 25 Opening 26 Closing 27 Mask 28 Catalyst particles

Claims (10)

カソード電極とアノード電極を対向配置するとともに、両電極間にガス吸着材料を配置して、前記両電極間に電位差を与えることによって、前記カソード電極から前記アノード電極へ電子を放出する電子放出素子において、
前記ガス吸着材料はカーボンナノ構造体である、
ことを特徴とする電子放出素子。
In an electron-emitting device that emits electrons from the cathode electrode to the anode electrode by disposing a cathode electrode and an anode electrode opposite to each other, and disposing a gas adsorbing material between the electrodes, and applying a potential difference between the electrodes. ,
The gas adsorbing material is a carbon nanostructure;
An electron-emitting device.
前記カソード電極は、電子輸送層が固定されたカソード基板を有し、前記電子輸送層の表面に電子放出材料と前記カーボンナノ構造体を固定して構成されて、
前記電子放出材料の先端は、前記カーボンナノ構造体の先端を超えて、前記アノード電極の方向に延びている、
ことを特徴とする請求項1に記載の電子放出素子。
The cathode electrode has a cathode substrate on which an electron transport layer is fixed, and is configured by fixing the electron emission material and the carbon nanostructure on the surface of the electron transport layer,
The tip of the electron emitting material extends in the direction of the anode electrode beyond the tip of the carbon nanostructure.
The electron-emitting device according to claim 1.
前記電子輸送層の表面は、前記電子放出材料が固定された領域と前記カーボンナノ構造体が固定された領域に区画される、
ことを特徴とする請求項2に記載の電子放出素子。
The surface of the electron transport layer is partitioned into a region where the electron emission material is fixed and a region where the carbon nanostructure is fixed.
The electron-emitting device according to claim 2.
前記カソード電極は、電子輸送層が固定されたカソード基板を有し、前記電子輸送層の表面には前記カーボンナノ構造体の層が形成され、前記カーボンナノ構造体の層の表面に電子放出材料が固定されている、
ことを特徴とする請求項1に記載の電子放出素子。
The cathode electrode has a cathode substrate on which an electron transport layer is fixed, and the carbon nanostructure layer is formed on a surface of the electron transport layer, and an electron emission material is formed on the surface of the carbon nanostructure layer. Is fixed,
The electron-emitting device according to claim 1.
前記カーボンナノ構造体は、その表面に開孔部を有するか、表面あるいは前記開孔部にゲッター粒子を担持している、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の電子放出素子。
The carbon nanostructure has an aperture on its surface, or carries getter particles on the surface or in the aperture,
The electron-emitting device according to claim 1, wherein:
請求項1乃至5のいずれか1項に記載の電子放出素子を光源として備える、
ことを特徴とする照明装置。
The electron-emitting device according to any one of claims 1 to 5 is provided as a light source.
A lighting device characterized by that.
電子放出素子のカソード電極を製造する方法において、
電子放出材料とカーボンナノ構造体を溶媒と混合してペーストを調製するペースト調製工程と、
前記ペーストをカソード基板の電子輸送層の表面に塗布するペースト塗布工程と、
前記カソード基板を加熱し前記溶媒を除去する熱処理工程と、を有する、
ことを特徴とする電子放出素子のカソード電極の製造方法。
In a method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device,
A paste preparation step of preparing a paste by mixing an electron emitting material and a carbon nanostructure with a solvent;
A paste application step of applying the paste to the surface of the electron transport layer of the cathode substrate;
A heat treatment step of heating the cathode substrate and removing the solvent,
A method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device.
電子放出素子のカソード電極を製造する方法において、
カーボンナノ構造体を溶媒と混合して第1のペーストを調製する第1のペースト調製工程と、
電子放出材料を溶媒と混合して第2のペーストを調製する第2のペースト調製工程と、
マスクでカソード基板の電子輸送層の表面を覆って、前記電子輸送層の表面の所定の領域に前記第1のペーストを塗布する第1のペースト塗布工程と、
マスクで前記カソード基板の表面を覆って、前記電子輸送層の表面の前記第1のペーストが塗布されていない領域に、前記第2のペーストを塗布する第2のペースト塗布工程と、
前記カソード基板を加熱して、前記溶媒を除去する熱処理工程と、を有する、
ことを特徴とする電子放出素子のカソード電極の製造方法。
In a method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device,
A first paste preparation step of preparing a first paste by mixing the carbon nanostructure with a solvent;
A second paste preparation step of preparing the second paste by mixing the electron emitting material with a solvent;
A first paste application step of covering the surface of the electron transport layer of the cathode substrate with a mask and applying the first paste to a predetermined region of the surface of the electron transport layer;
A second paste application step of covering the surface of the cathode substrate with a mask and applying the second paste to a region of the surface of the electron transport layer where the first paste is not applied;
A heat treatment step of heating the cathode substrate to remove the solvent,
A method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device.
電子放出素子のカソード電極を製造する方法において、
カーボンナノ構造体を溶媒と混合してペーストを調製するペースト調製工程と、
マスクでカソード基板の電子輸送層の表面を覆って、前記電子輸送層の表面の所定の領域に前記ペーストを塗布するペースト塗布工程と、
マスクで前記カソード基板の表面を覆って、前記電子輸送層の表面の前記ペーストが塗布されていない領域に、触媒粒子を担持させる触媒粒子担持工程と、
前記カソード基板を加熱して、前記溶媒を除去する熱処理工程と、
前記電子輸送層の表面に電子放出材料の原料となる気体を接触させて、前記電子輸送層の表面に担持させた前記触媒粒子を起点に、電子放出材料を成長させる電子放出材料成長工程と、を有する、
ことを特徴とする電子放出素子のカソード電極の製造方法。
In a method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device,
A paste preparation step of preparing a paste by mixing the carbon nanostructure with a solvent;
A paste application step of covering the surface of the electron transport layer of the cathode substrate with a mask and applying the paste to a predetermined region of the surface of the electron transport layer;
Covering the surface of the cathode substrate with a mask, a catalyst particle supporting step of supporting catalyst particles in a region where the paste on the surface of the electron transport layer is not applied,
A heat treatment step of heating the cathode substrate to remove the solvent;
An electron emission material growth step for growing an electron emission material starting from the catalyst particles supported on the surface of the electron transport layer by bringing a gas that is a raw material of the electron transport material into contact with the surface of the electron transport layer; Having
A method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device.
電子放出素子のカソード電極を製造する方法において、
カーボンナノ構造体を溶媒と混合して第1のペーストを調製する第1のペースト調製工程と、
電子放出材料を溶媒と混合して第2のペーストを調製する第2のペースト調製工程と、
前記第1のペーストをカソード基板の電子輸送層の表面に塗布する第1のペースト塗布工程と、
前記カソード基板を加熱し前記溶媒を除去して、前記電子輸送層の表面に前記カーボンナノ構造体の層を形成する第1の熱処理工程と、
前記カーボンナノ構造体の層の表面に、前記第2のペーストを塗布する第2のペースト塗布工程と、
前記カソード基板を加熱し前記溶媒を除去して、前記電子放出材料を前記カーボンナノ構造体の層の表面に固定する第2の熱処理工程と、を有する、
ことを特徴とする電子放出素子のカソード電極の製造方法。
In a method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device,
A first paste preparation step of preparing a first paste by mixing the carbon nanostructure with a solvent;
A second paste preparation step of preparing the second paste by mixing the electron emitting material with a solvent;
A first paste application step of applying the first paste to the surface of the electron transport layer of the cathode substrate;
A first heat treatment step of heating the cathode substrate to remove the solvent and forming a layer of the carbon nanostructure on the surface of the electron transport layer;
A second paste application step of applying the second paste to the surface of the carbon nanostructure layer;
A second heat treatment step of heating the cathode substrate to remove the solvent and fixing the electron emitting material to the surface of the layer of the carbon nanostructure.
A method for manufacturing a cathode electrode of an electron-emitting device.
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EP4177935A1 (en) * 2021-11-03 2023-05-10 Schott Ag Hermetic laser-welded enclosure

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