JP2011168805A - 蒸発源及びこれを用いた真空蒸着装置 - Google Patents
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- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims abstract description 134
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title claims abstract description 133
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims abstract description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 45
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 40
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 17
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 16
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 15
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 63
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 45
- 239000011368 organic material Substances 0.000 abstract description 21
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 18
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 15
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】長手方向を有する蒸発源1及び前記蒸発源1を前記蒸発源1の長手方向と垂直なスキャン方向に駆動させる機構を有する真空蒸着装置において、前記蒸発源1の長手方向に複数の異なる形状を有するノズル2を備え、前記ノズル2から噴射する蒸気の放射分布が、長手方向の中央部に対して両端部では狭まった放射分布を有する。これによって、長手方向の両端部付近のノズル2から噴射して基板3の有効面の外側に蒸着される無駄な有機材料の消費量を抑え、膜厚均一性の高い有機薄膜を高い材料利用効率で成膜することができる。
【選択図】図1
Description
Claims (11)
- 長手方向を有する蒸発源を備え、前記長手方向と垂直なスキャン方向に移動させる機構を有する真空蒸着装置において、
前記蒸発源は前記長手方向に対して複数の異なる形状を有するノズルを備え、前記ノズルから噴射する蒸気の放射分布は、前記蒸発源の前記長手方向の中央部よりも両端部において狭まった放射分布を有することを特徴とする真空蒸着装置。 - 請求項1の真空蒸着装置において、
前記ノズルの形状は、前記中央部ではノズルの開口が大きく、前記両端ではノズルの開口が小さいことを特徴とする。 - 請求項1の真空蒸着装置において、
前記ノズルの形状は、前記蒸発源の前記長手方向において、前記中央部におけるノズルの長さは、前記両端におけるノズルの長さよりも短いことを特徴とする。 - 請求項1の真空蒸着装置において、
前記ノズル形状は、前記長手方向に長軸、前記スキャン方向に短軸を有する開口を有し、前記蒸発源の前記長手方向における中央部における前記長軸方向の開口は、前記両端部における前記長軸方向の開口よりも大きいことを特徴とする。 - 請求項1の真空蒸着装置において、
前記ノズルは、前記蒸発源の前記中央部においては、前記ノズルの開口が形成されている前記蒸発源の面に対して垂直に形成されており、前記両端部において前記ノズルは前記ノズルの開口が形成されている前記蒸発源の面に対して傾斜して形成されていることを特徴とする。 - 請求項1から5のいずれか1項に記載の真空蒸着装置において、
前記蒸発源は、複数の隔壁により複数の区画に分割されており、前記区画毎に複数のノズル、オリフィス、材料室を有し、それぞれの前記区画におけるコンダクタンスが長手方向に左右対称であることを特徴とする。 - 請求項1から5のいずれか1項に記載の真空蒸着装置において、
前記蒸発源は前記ノズルを挟む形で2枚の整流板を有し、前記2枚の整流板の間隔は、蒸発源の長手方向の中央部では狭く、その両端部で広いことを特徴とする。 - 請求項1から5のいずれか1項に記載の真空蒸着装置において、
前記蒸発源は蒸着材料と前記ノズルを挟む形で2枚の整流板を有し、前記2枚の整流板の間隔は、前記蒸着材料に近い側よりも、前記蒸着材料から遠い側において広いことを特徴とする。 - 請求項7または請求項8の真空蒸着装置において、
前記整流板は、加熱用のヒーターとその輻射熱を遮蔽する反射板を有することを特徴とする。 - 長軸と短軸を有する蒸発源を前記短軸方向にスキャンして蒸着をおこなう真空蒸着装置であって、
前記蒸発源は、長軸方向に複数のノズルが形成され、
前記長軸方向中央部における前記複数のノズルの径は、前記長軸方向端部における前記複数のノズルの径よりも大きく、
前記長軸方向中央部における前記複数のノズルのピッチは、前記長軸方向端部における前記複数のノズルのピッチよりも大きいことを特徴とする真空蒸着装置。 - 長軸と短軸を有し、長軸方向に複数のノズルが形成された蒸発源であって、
前記長軸方向中央部における前記複数のノズルの径は、前記長軸方向端部における前記複数のノズルの径よりも大きく、
前記長軸方向中央部における前記複数のノズルのピッチは、前記長軸方向端部における前記複数のノズルのピッチよりも大きいことを特徴とする蒸発源。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010031133A JP5400653B2 (ja) | 2010-02-16 | 2010-02-16 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011168805A true JP2011168805A (ja) | 2011-09-01 |
JP5400653B2 JP5400653B2 (ja) | 2014-01-29 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101442787B1 (ko) | 2013-02-27 | 2014-09-24 | 공주대학교 산학협력단 | 태양전지용 cigs 박막 제조장치 |
JP2014201833A (ja) * | 2013-04-01 | 2014-10-27 | 上海和輝光電有限公司Everdisplay Optronics (Shanghai) Limited | 蒸発源アセンブリ |
CN104131253A (zh) * | 2013-05-02 | 2014-11-05 | 三星显示有限公司 | 沉积源以及具有其的沉积设备 |
KR20150069833A (ko) * | 2013-12-16 | 2015-06-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증발장치 |
KR20160090988A (ko) * | 2015-01-22 | 2016-08-02 | 삼성디스플레이 주식회사 | 복수의 모듈을 갖는 증착원 |
KR101699168B1 (ko) * | 2015-07-22 | 2017-01-31 | 주식회사 야스 | 쉐도우 효과를 방지하기 위한 선형증발원용 차단판 |
WO2019049453A1 (ja) * | 2017-09-07 | 2019-03-14 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスク、蒸着マスクの作製方法、および表示装置の製造方法 |
JP6713093B1 (ja) * | 2019-05-13 | 2020-06-24 | 株式会社アルバック | 蒸着ユニット及びこの蒸着ユニットを備える真空蒸着装置 |
CN111788330A (zh) * | 2018-03-08 | 2020-10-16 | 堺显示器制品株式会社 | 成膜装置、蒸镀膜的成膜方法以及有机el显示装置的制造方法 |
WO2020230359A1 (ja) * | 2019-05-13 | 2020-11-19 | 株式会社アルバック | 蒸着ユニット及びこの蒸着ユニットを備える真空蒸着装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007314873A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Semes Co Ltd | 複数のルツボを利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源 |
JP2008208443A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-11 | Sony Corp | 蒸着成膜装置、蒸着成膜方法、および表示装置の製造方法 |
-
2010
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007314873A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Semes Co Ltd | 複数のルツボを利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源 |
JP2008208443A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-11 | Sony Corp | 蒸着成膜装置、蒸着成膜方法、および表示装置の製造方法 |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101442787B1 (ko) | 2013-02-27 | 2014-09-24 | 공주대학교 산학협력단 | 태양전지용 cigs 박막 제조장치 |
JP2014201833A (ja) * | 2013-04-01 | 2014-10-27 | 上海和輝光電有限公司Everdisplay Optronics (Shanghai) Limited | 蒸発源アセンブリ |
CN104131253B (zh) * | 2013-05-02 | 2018-05-22 | 三星显示有限公司 | 沉积源以及具有其的沉积设备 |
CN104131253A (zh) * | 2013-05-02 | 2014-11-05 | 三星显示有限公司 | 沉积源以及具有其的沉积设备 |
KR20150069833A (ko) * | 2013-12-16 | 2015-06-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증발장치 |
KR102182114B1 (ko) | 2013-12-16 | 2020-11-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증발장치 |
KR20160090988A (ko) * | 2015-01-22 | 2016-08-02 | 삼성디스플레이 주식회사 | 복수의 모듈을 갖는 증착원 |
KR102307431B1 (ko) * | 2015-01-22 | 2021-09-30 | 삼성디스플레이 주식회사 | 복수의 모듈을 갖는 증착원 |
KR101699168B1 (ko) * | 2015-07-22 | 2017-01-31 | 주식회사 야스 | 쉐도우 효과를 방지하기 위한 선형증발원용 차단판 |
WO2019049453A1 (ja) * | 2017-09-07 | 2019-03-14 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスク、蒸着マスクの作製方法、および表示装置の製造方法 |
CN111788330A (zh) * | 2018-03-08 | 2020-10-16 | 堺显示器制品株式会社 | 成膜装置、蒸镀膜的成膜方法以及有机el显示装置的制造方法 |
JP6713093B1 (ja) * | 2019-05-13 | 2020-06-24 | 株式会社アルバック | 蒸着ユニット及びこの蒸着ユニットを備える真空蒸着装置 |
WO2020230359A1 (ja) * | 2019-05-13 | 2020-11-19 | 株式会社アルバック | 蒸着ユニット及びこの蒸着ユニットを備える真空蒸着装置 |
CN113574202A (zh) * | 2019-05-13 | 2021-10-29 | 株式会社爱发科 | 蒸镀单元及具有该蒸镀单元的真空蒸镀装置 |
CN113574202B (zh) * | 2019-05-13 | 2022-12-02 | 株式会社爱发科 | 蒸镀单元及具有该蒸镀单元的真空蒸镀装置 |
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