CN107735509B - 蒸镀源、蒸镀装置和蒸镀膜制造方法 - Google Patents

蒸镀源、蒸镀装置和蒸镀膜制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供能够在成膜分布均匀的同时实现高的蒸镀材料利用效率的线源。线源(10)上设置的狭缝喷嘴(1)的长度/宽度比率为4～50，狭缝喷嘴(1)的宽度为1mm～5mm，狭缝喷嘴(1)的深度为5mm～20mm。

Description

蒸镀源、蒸镀装置和蒸镀膜制造方法
技术领域
本发明涉及具备将蒸镀材料以蒸镀颗粒的形式射出的孔(以下称为“喷嘴”)的蒸镀源、具备上述蒸镀源的蒸镀装置、和使用上述蒸镀源的蒸镀膜制造方法。
背景技术
近年来，开发了各种平板显示器，特别是有机EL(Electro luminescence：电致发光)显示装置，从能够实现低耗电化、薄型化和高画质化等的方面来看，作为优异的平板显示器受到高度关注。
在这样的有机EL显示装置的领域，从显示画面的大型化和抑制制造成本的观点出发，优选使用更大型的母基板。在作为这样的大面积基板的大型的母基板上进行蒸镀膜的成膜的情况下，使用被称为“线源(line source)”或“线性源(linear source)”的蒸镀源。上述蒸镀源沿一个方向配置有将蒸镀材料以蒸镀颗粒的形式射出的喷嘴，因此，通常第一方向的蒸镀源的长度比与上述第一方向正交且蒸镀源或基板移动的第二方向的蒸镀源的长度长。此外，下面，将在大型的母基板上进行蒸镀膜的成膜的情况下使用的蒸镀源称为“线源”。
图10的(a)是表示以往的线源的概略形状的俯视图，图10的(b)是表示以往的线源的概略形状的立体图。
在大型的母基板上进行蒸镀膜的成膜的情况下，使所形成的蒸镀膜的膜厚分布均匀是非常重要的，因此，如图10的(a)和图10的(b)所示，通常在线源100上设置有多个将蒸镀材料以蒸镀颗粒的形式射出的圆形的喷嘴101。
线源100的加热方法等没有特别限定，通过被加热，将蒸镀材料以蒸镀颗粒的形式经由喷嘴101射出至外部。线源100的材质没有特别限定，通常使用由热的影响导致的伸缩少的材质。线源100的形状为图中X方向的长度比与上述X方向正交的图中Y方向的长度长的形状。
从线源100的射出面的各个喷嘴101射出的蒸镀颗粒在基板上重叠，由此，能够进行大面积的均匀的蒸镀。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本公开特许公报“特开2003-297570号公报(2003年10月17日公开)”
专利文献2：日本特许公报“特公平7-93249号公报(1995年10月9日公告)”
发明内容
发明要解决的技术问题
但是，在使用图10的(a)和图10的(b)所示的以往的线源100的情况下，会产生蒸镀材料的利用效率差的问题。
图11的(a)和图11的(b)是用于说明在使用以往的线源100的情况下，蒸镀材料的利用效率变差的理由的图。
在以往的线源100(参照图10的(a)和图10的(b))中，通常设置有圆形的喷嘴101。在这样设置有圆形的喷嘴101的情况下，如图11的(a)所示，在图中X方向，从各个喷嘴101射出的蒸镀颗粒一边大幅地扩展一边射出。因此，为了防止蒸镀颗粒扩展到作为不存在基板104的区域的非蒸镀区域，在蒸镀颗粒飞散的方向上设置有防附着板102。在作为存在基板104的区域的蒸镀区域，使蒸镀颗粒通过掩模103蒸镀到基板104上，由此，能够在基板104的整个宽度方向上形成规定形状的蒸镀膜。
在此，当考虑图中X方向的蒸镀材料的利用效率时可知，线源100的长轴方向(图中X方向)的长度与基板104的宽度大致相同，因此，扩展后的蒸镀颗粒大部分到达作为存在基板104的区域的蒸镀区域而被有效利用的比例高。即，一部分蒸镀颗粒，具体地说，从在靠近线源100的长轴方向(图中X方向)的偏离中心的两端的区域设置的喷嘴101射出的蒸镀颗粒的一部分未到达基板104而附着在防附着板102上，或者在没有形成防附着板102的部位直接飞散到真空腔室内。
另一方面，线源100，如图11的(b)所示，沿基板104的长度方向、即图中的线源的移动方向中的任一方向移动，但是在线源100通过基板104上的非蒸镀区域时不射出蒸镀颗粒，仅在线源100处于基板104上的蒸镀区域时射出蒸镀颗粒。
如上所述，在以往的线源100中设置有圆形的喷嘴101，因此，在图中Y方向，从各个喷嘴101射出的蒸镀颗粒也一边大幅地扩展一边射出，为了防止蒸镀颗粒扩展到基板104上的非蒸镀区域，设置有防附着板105。
在此，当考虑图中Y方向的蒸镀材料的利用效率时，线源100的短轴方向(图中Y方向)的长度与基板104的长度相比，非常短，线源100与基板104相对的部分也很小，因此，基板104上的蒸镀区域为极少一部分，非蒸镀区域占大半。从喷嘴101射出的蒸镀颗粒中未到达基板104上的蒸镀区域的蒸镀颗粒，全部会导致材料的损失，并且会附着在防附着板105上，或者在没有形成防附着板105的部位会直接飞散到真空腔室内。
因此可知，从各个喷嘴101射出并扩展后的蒸镀颗粒大部分未到达基板104上的蒸镀区域，蒸镀颗粒被有效利用的比例低。
为了改善这样的问题，也可考虑使线源100的短轴方向(图中Y方向)的长度更长，使基板104上的蒸镀区域大幅地扩大，但是，在这样做的情况下，会导致蒸镀装置的极端大型化和量产性的降低。
而且，在近年的有机EL显示装置的情况下，有可能对其器件特性造成不良影响，或者在使用FMM(Fine Metal Mask：精细金属掩模)这样的掩模分涂方法的情况下有可能产生阴影等，因此，需要将蒸镀颗粒相对于基板104的入射角限制得高，线源100的在短轴方向(图中Y方向)的长度越来越受到限制。
如以上所述，以往的线源100，结果会引起显著的蒸镀材料的利用效率的降低。
另外，在专利文献1和2中，记载有具备与圆形不同的喷嘴形状(开口形状)的情况。
在专利文献1中记载有：通过改变蒸气流出开口部的尺寸和相邻的蒸气流出开口部之间的间隔中的至少一者，实质性地改善沿线源的长度方向储存的蒸镀材料的射出量的均匀性。
图12是表示构成专利文献1中公开的线源的气化加热器和电绝缘性容器的概略结构的图。
如图所示，装入有固体有机材料的细长的电绝缘性容器230由侧壁232、与侧壁232相对的侧壁(未图示)、末端壁236、238和底壁235划定，上述侧壁和上述末端壁共有共同的上表面。形成电绝缘性容器230的盖的气化加热器240，通过形成气化加热器240的一部分的密封凸缘246，密封配置在电绝缘性容器230的共同上表面之上。气化加热器240实质上为平面状，且具备电连接凸缘241、243。
多个蒸气流出开口部242形成在沿气化加热器240的长度方向的中心，贯通气化加热器240，使在电绝缘性容器230内形成的有机材料的蒸气从蒸气流出开口部242流出。
如图所示，多个蒸气流出开口部242中的一部分形成为长度和宽度不同的狭缝形状。但是，就蒸气流出开口部242的长度和宽度而言，因为仅考虑了实质性地改善沿线源的长度方向储存的蒸镀材料的射出量的均匀性，所以至少在与线源的短轴方向平行地排列的蒸气流出开口部242的宽度方向上，没有规定成使得能够将蒸镀颗粒的飞散范围控制得窄。另外，线源的长度方向的中央部分的蒸气流出开口部242也不是狭缝形状。另外，对于在气化加热器240上形成的蒸气流出开口部242的深度也没有特别地考虑，对于在与线源的短轴方向平行地排列的蒸气流出开口部242的宽度方向上，能够将蒸镀颗粒的飞散范围控制得窄的深度没有规定。
因此，专利文献1中公开的蒸气流出开口部242中的各个蒸气流出开口部242，不是在蒸气流出开口部242的长度方向和蒸气流出开口部242的宽度方向上能够得到充分的各向异性效果的特定的狭缝形状，因此，在使用专利文献1中公开的线源的情况下，也会导致蒸镀材料的利用效率的显著降低。
在专利文献2中记载有具备形成有开口部的掩模的蒸镀源装置，并记载有：在上述掩模中，通过在开口部的短轴方向上进行桥连而形成为多个狭缝形状的开口部，抑制因热的影响而产生伸长从而上述开口部的狭缝的宽度发生变化，能够提高膜宽度方向的金属膜厚的均匀性。
但是，在专利文献2中公开的蒸镀源装置中，对于在掩模上形成的多个狭缝形状的开口部的深度，没有特别地考虑，对于在与上述掩模的短轴方向平行地排列的狭缝形状的开口部的宽度方向上，能够将蒸镀颗粒的飞散范围控制得窄的深度没有规定。
因此，在使用专利文献2中公开的蒸镀源装置的情况下，也无法提高蒸镀材料的利用效率。
本发明是鉴于上述的问题点而做出的发明，其目的在于提供能够在成膜分布均匀的同时实现高的蒸镀材料利用效率的蒸镀源、蒸镀装置和形成蒸镀膜的方法。
用于解决技术问题的手段
为了解决上述的技术问题，本发明的蒸镀源，在该蒸镀源的一个面上形成有射出蒸镀颗粒的多个开口部，该蒸镀源的第一方向的长度比在同一平面内与上述第一方向正交的第二方向的长度长，上述蒸镀源的特征在于：上述多个开口部中的各个开口部，由与上述第一方向平行且相互相对的相同长度的2个第一边和与上述第二方向平行且相互相对的相同长度的2个第二边包围而形成为狭缝形状，并且，沿上述第一方向以一定间隔形成为直线状，上述第一边的长度为上述第二边的长度的4倍以上50倍以下，上述第二边的长度为1mm以上5mm以下，与上述第一方向及上述第二方向正交的第三方向上的上述开口部的深度为5mm以上20mm以下。
采用上述结构，在上述开口部中的各个开口部中，上述第一边的长度为上述第二边的长度的4倍以上50倍以下，上述第二边的长度为1mm以上5mm以下，与上述第一方向及上述第二方向正交的第三方向上的上述开口部的深度为5mm以上20mm以下，因此，上述多个开口部中的各个开口部，成为在上述开口部的第一方向和第二方向上能够得到充分的各向异性效果的某种特定的狭缝形状。另外，上述多个开口部中的各个开口部的更长的一方沿上述蒸镀源的第一方向形成。
因此，采用上述开口部，能够将上述蒸镀颗粒在上述第一方向上的飞散范围控制得宽，将上述蒸镀颗粒在上述第二方向上的飞散范围控制得窄，因此，能够实现能够在成膜分布均匀的同时实现高的蒸镀材料利用效率的蒸镀源。
本发明的蒸镀装置具备上述蒸镀源。
采用上述结构，上述蒸镀装置具备上述蒸镀源，因此，能够在成膜分布均匀的同时实现高的蒸镀材料利用效率。
本发明的蒸镀膜制造方法是使用上述蒸镀源在基板上形成蒸镀膜的方法，其特征在于：一边使上述基板和上述蒸镀源中的至少一个沿上述第二方向移动，一边进行蒸镀。
采用上述方法，能够在基板上形成的成膜分布均匀的同时实现高的蒸镀材料利用效率。
发明效果
采用本发明一个方式，能够提供能够在成膜分布均匀的同时实现高的蒸镀材料利用效率的蒸镀源、蒸镀装置和蒸镀膜制造方法。
附图说明
图1的(a)～(c)是表示本发明的实施方式1的线源和线源上设置的狭缝喷嘴的形状的图。
图2的(a)是表示本发明的实施方式1的线源的顶板的图，(b)是表示具备上述线源和基板的蒸镀装置的图。
图3的(a)是用于说明狭缝喷嘴的宽度方向上的蒸镀颗粒的指向性的图，(b)是用于说明狭缝喷嘴的长度方向上的蒸镀颗粒的指向性的图。
图4的(a)是表示蒸镀颗粒的在狭缝喷嘴宽度方向上的指向性(n值)与狭缝喷嘴长度/宽度比率的关系的图，(b)是表示蒸镀颗粒的在狭缝喷嘴长度方向上的指向性(n值)与狭缝喷嘴长度/宽度比率的关系的图。
图5是表示在基板上形成的蒸镀膜的在狭缝喷嘴宽度方向上的膜厚分布与狭缝喷嘴宽度方向n值的关系的图。
图6是使用图2所示的蒸镀装置在基板上形成蒸镀膜的情况，(a)是表示在基板上形成的蒸镀膜的在线源长轴方向上的膜厚分布的图，(b)是表示在基板上形成的蒸镀膜的在线源短轴方向上的膜厚分布的图。
图7的(a)是表示本发明的实施方式2的线源的顶板的图，(b)是表示具备上述线源和基板的蒸镀装置的图。
图8是使用图7所示的蒸镀装置形成蒸镀膜的情况，(a)是表示在基板上形成的蒸镀膜的在线源长轴方向上的膜厚分布的图，(b)是表示在基板上形成的蒸镀膜的在线源短轴方向上的膜厚分布的图。
图9是表示本发明的实施方式3的线源的顶板的图。
图10的(a)是表示以往的线源的概略形状的俯视图，(b)是表示以往的线源的概略形状的立体图。
图11的(a)和(b)是用于说明在使用图10所示的以往的线源100的情况下，蒸镀材料的利用效率变差的理由的图。
图12是表示构成专利文献1中公开的线源的气化加热器和电绝缘性容器的概略结构的图。
具体实施方式
基于图1至图9对本发明的实施方式进行说明如下。以下，为了说明上的方便，对于与在特定的实施方式中已说明的结构具有相同功能的结构，有时标注相同的符号，并省略其说明。
[实施方式1]
基于图1至图6，对例如在有机EL(Electro luminescence：电致发光)显示装置的制造工序中，在基板上形成蒸镀膜时使用的线源10(蒸镀源)和具备线源10的蒸镀装置30进行说明。
图1的(a)是表示线源10上设置的狭缝喷嘴1的形状的平面图，图1的(b)是表示线源10的形状的平面图，图1的(c)是表示线源10的形状的立体图。
图1的(a)表示线源10上设置的狭缝喷嘴1的形状，如图所示，当将狭缝喷嘴1在X轴方向(第一方向)上的长度设为L、将狭缝喷嘴1在Y轴方向(第二方向)上的长度(即宽度)设为W时，狭缝喷嘴1具有其长度L比其宽度W长的形状，并且，在与上述X轴方向及上述Y轴方向正交的Z轴方向(第三方向)上具有规定的深度。此外，狭缝喷嘴1的Y轴方向(第二方向)在同一平面内与狭缝喷嘴1的X轴方向(第一方向)正交。即，狭缝喷嘴1具有由相互相对的相同长度的2个第一边A和相互相对的相同长度的2个第二边B包围而成的狭缝形状。
如图1的(b)、(c)所示，线源10具有X轴方向(第一方向)的长度比与X轴方向正交的Y轴方向(第二方向)的长度长的四棱柱状。以下，将X轴方向作为长度方向、将Y轴方向作为宽度方向进行说明。
线源10是射出蒸镀颗粒的蒸镀源。线源10可以是在容器内部直接收纳蒸镀材料的容器，也可以形成为具有负载锁定式的配管，从外部供给蒸镀材料。
设置在线源10的顶板11上的多个狭缝喷嘴1是喷嘴状(筒状)的射出口，在俯视时，具有由与上述X轴方向平行且相互相对的相同长度的2个第一边A和与上述Y轴方向(即，线源10的短轴方向)平行且相互相对的相同长度的2个第二边B包围而成的狭缝形状。
在本实施方式中，作为进行向上沉积的情况的例子，列举在线源10的顶板11上设置有多个狭缝喷嘴1的情况为例进行了说明。但是并不限定于此，例如也可以在线源10的下侧的一个面上设置多个狭缝喷嘴1，在该情况下，能够适合用于向下沉积。
线源10通过对蒸镀材料进行加热使其蒸发(蒸镀材料为液体材料的情况)或升华(蒸镀材料为固体材料的情况)而产生气态的蒸镀颗粒，并将该蒸镀颗粒从狭缝喷嘴1向外部射出。为了防止蒸镀材料堵塞，线源10的顶板11被加热至蒸镀材料的蒸发温度或升华温度以上。
在线源10的顶板11上，多个狭缝喷嘴1沿作为线源10的长轴方向的X轴方向以一定间隔形成为直线状。
图2的(a)是在表示线源10的形状的平面图中表示出作为其一个例子的尺寸的图，图2的(b)是表示具备线源10和基板20的蒸镀装置30的主要部分的概略结构的图。
如图2的(a)和图2的(b)所示，在本实施方式中，在考虑使用宽度为600mm的基板20以及从线源10的顶板11到基板20的距离为200mm的基础上，为了在该基板20的宽度方向上形成均匀的蒸镀膜，使用了长轴方向(图中X轴方向)的长度为850mm的线源10，但是并不限定于此，线源10的长轴方向(图中X轴方向)的长度，根据基板20的宽度、设置在线源10的顶板11上的狭缝喷嘴1的数量和从线源10的顶板11到基板20的距离，其优选的值可改变。
如图2的(a)所示，形成为线源10的长轴方向(图中X轴方向)的长度为850mm，各个狭缝喷嘴1的宽度为2mm，各个狭缝喷嘴1的长度为36mm。狭缝喷嘴1以狭缝喷嘴1的长度36mm和狭缝喷嘴1之间的间隙84mm相加为120mm的方式，沿线源10的长轴方向(图中X轴方向)呈直线状配置有7个，狭缝喷嘴1在线源10的短轴方向(图中Y轴方向)配置在大致中心。即，狭缝喷嘴1以其间距(从狭缝喷嘴1的左端到相邻的狭缝喷嘴1的左端的距离)为120mm的方式配置。从线源10的长轴方向(图中X轴方向)的两端到最相邻的狭缝喷嘴1为47mm，在最相邻的狭缝喷嘴1之间有84mm的间隙。图2的(a)中图示的具体尺寸和狭缝喷嘴1的个数是一个例子，这是不言而喻的。
在本实施方式中，列举各个狭缝喷嘴1的宽度为2mm的情形为例进行了说明，但是并不限定于此，只要各个狭缝喷嘴1的宽度为1mm以上5mm以下即可。在各个狭缝喷嘴1的宽度小于1mm的情况下，有加工性和蒸镀颗粒的射出效率变差的问题，在各个狭缝喷嘴1的宽度大于5mm的情况下，难以将蒸镀颗粒在狭缝喷嘴1的宽度方向上的飞散范围控制得窄。
在本实施方式中，如图2的(a)和图2的(b)所示，就线源10而言，一边使线源10以狭缝喷嘴1的宽度方向(图中Y轴方向)成为扫描方向(基板扫描方向)的方式相对于基板20移动(相对移动)一边进行蒸镀，但是并不限定于此。也可以以狭缝喷嘴1的宽度方向(图中Y轴方向)成为扫描方向的方式，使基板20相对于线源10移动(相对移动)。另外，也可以以狭缝喷嘴1的宽度方向(图中Y轴方向)成为扫描方向的方式，使线源10和基板20都在狭缝喷嘴1的宽度方向(图中Y轴方向)上移动。
如图2的(b)所示，在本实施方式中，列举设置在线源10的顶板11上的多个狭缝喷嘴1在Z轴方向(第三方向)上的深度为10mm的情况为例进行了说明，但是并不限定于此，根据以下理由，上述深度只要为5mm以上20mm以下即可。当狭缝喷嘴1的深度过浅时(小于5mm的情况)，会产生蒸镀分布的各向异性弱的问题，当狭缝喷嘴1的深度过深时(大于20mm的情况)，加工性变差，容易产生堵塞等。
虽然从线源的狭缝喷嘴射出的蒸镀颗粒产生方向分布(也称为“各向异性”)、即指向性的详细机理不清楚，但是认为：来自狭缝喷嘴的热能的供给、在通过狭缝喷嘴时各个蒸镀颗粒相互产生碰撞的现象相互相关，形成最终的方向分布。
作为表示从线源的狭缝喷嘴射出的蒸镀颗粒所产生的方向分布、即指向性的参数，通常使用被称“n值”的参数。该n值能够用下述式(1)表示，也有将下述式(1)中的n+3称为n值的情况。
R＝R0×cosn+3θ 式(1)
上述式(1)中，R表示基板20上的相对于喷嘴正上方向的角度为θ的位置(第一位置)的蒸镀膜厚，R0表示基板20上的喷嘴正上方的位置(第二位置)的蒸镀膜厚，θ表示上述第一位置与上述第二位置之间的角度。
由上述式(1)可知，蒸镀在基板20上的蒸镀膜的厚度，在喷嘴正上方最大，随着远离喷嘴正上方而减小。另外，上述n值是表示喷嘴的指向性的参数，因此，上述n值越大，意味着其指向性越高。换言之，当假设仅存在一个喷嘴的蒸镀源时，可以说上述n值越大，从该蒸镀源射出的蒸镀颗粒所形成的蒸镀膜的膜厚分布越差。
图3是将上述式(1)应用于本实施方式的情况，图3的(a)是用于说明狭缝喷嘴1的宽度方向上的蒸镀颗粒的指向性的图，图3的(b)是用于说明狭缝喷嘴1的长度方向上的蒸镀颗粒的指向性的图。
如图3的(a)所示可知：在狭缝喷嘴1的宽度方向(图中Y方向)上，详细情况将在后面说明，上述n值为比较大的值，从仅存在一个狭缝喷嘴1的蒸镀源10U射出的蒸镀颗粒所形成的蒸镀膜21的膜厚，即使在从狭缝喷嘴1的正上方稍微离开的位置也变小。这意味着狭缝喷嘴1形成为在宽度方向(图中Y方向)上指向性高的形状。
另一方面，如图3的(b)所示可知，在狭缝喷嘴1的长度方向(图中X方向)上，详细情况将在后面说明，上述n值为比较小的值，从仅存在一个狭缝喷嘴1的蒸镀源10U射出的蒸镀颗粒所形成的蒸镀膜21的膜厚，即使在从狭缝喷嘴1的正上方稍微离开的位置也比较大。这意味着狭缝喷嘴1形成为在长度方向(图中X方向)上指向性低的形状。
图4是使用图2的(b)所示的蒸镀装置30在基板20上形成蒸镀膜的情况，图4的(a)是表示蒸镀颗粒的在狭缝喷嘴宽度方向上的指向性(n值)与狭缝喷嘴长度/宽度比率的关系的图，图4的(b)是表示蒸镀颗粒的在狭缝喷嘴长度方向上的指向性(n值)与狭缝喷嘴长度/宽度比率的关系的图。
如图4的(a)所示，形成为线源10的各个狭缝喷嘴1的宽度为2mm，各个狭缝喷嘴1的长度为36mm，因此，作为图中的横轴的狭缝喷嘴长度/宽度比率为18，作为图中的纵轴的狭缝喷嘴宽度方向n值约为250，可知狭缝喷嘴1形成为在狭缝喷嘴1的宽度方向上指向性高的形状。
另一方面，如图4的(b)所示，形成为线源10的各个狭缝喷嘴1的宽度为2mm，各个狭缝喷嘴1的长度为36mm，因此，作为图中的横轴的狭缝喷嘴长度/宽度比率为18，作为图中的纵轴的狭缝喷嘴长度方向n值约为3，可知狭缝喷嘴1形成为在狭缝喷嘴1的长度方向上指向性低的形状。
即，线源10的各个狭缝喷嘴1形成为在狭缝喷嘴1的宽度方向和长度方向上可得到充分的各向异性效果的特定的狭缝形状。
图5表示使用图2的(b)所示的蒸镀装置30在基板20上形成蒸镀膜的情况，是表示在基板20上形成的蒸镀膜在狭缝喷嘴1的宽度方向上的膜厚分布与狭缝喷嘴1的宽度方向n值的关系的图。
根据在基板20上形成的蒸镀膜在狭缝喷嘴1的宽度方向上的膜厚分布可知，狭缝喷嘴1的宽度方向n值越大，仅在基板20的狭缝喷嘴1的宽度方向的非常窄的区域形成蒸镀膜。
图6是使用图2的(b)所示的蒸镀装置30在基板20上形成蒸镀膜的情况，图6的(a)是表示在基板20上形成的蒸镀膜在线源10的长轴方向上的膜厚分布的图，图6的(b)是表示在基板20上形成的蒸镀膜在线源10的短轴方向上的膜厚分布的图。
如图6的(a)所示，在基板20上的蒸镀膜在线源10的长轴方向上的膜厚分布，大致是平的，能够得到均匀的膜厚分布。具体地说，在基板宽度600mm的区域，能够得到±5％的膜厚分布，在其更内侧的500mm的区域，能够得到±2％的膜厚分布。
另一方面，如图6的(b)所示，线源10的各个狭缝喷嘴1的狭缝喷嘴宽度方向n值约为250，因此，蒸镀颗粒几乎不到达基板20的在狭缝喷嘴宽度方向上的±30mm范围的外侧，仅能够在基板20的在狭缝喷嘴宽度方向上的非常窄的区域(基板20的在狭缝喷嘴宽度方向上的±30mm的范围以内)形成蒸镀膜。
因此，在狭缝喷嘴宽度方向上，即使不像以往那样使用防附着板(也称为“控制板”)，也能够抑制蒸镀颗粒飞散至真空腔室内。
因此，能够提供能够实现蒸镀膜的高的面内均匀性、高的材料利用效率、高精度的掩模蒸镀和小型化的线源10和蒸镀装置30。
在本实施方式中，如图4的(a)和图4的(b)所示，列举线源10的各个狭缝喷嘴1的宽度为2mm、各个狭缝喷嘴1的长度为36mm、狭缝喷嘴长度/宽度比率为18的情况作为一个例子进行了说明，但是并不限定于此，只要狭缝喷嘴宽度方向n值与狭缝喷嘴长度方向n值之差为能够在狭缝喷嘴的宽度方向和长度方向上得到充分的各向异性效果的狭缝喷嘴长度/宽度比率以上即可，能够在狭缝喷嘴的宽度方向和长度方向上得到充分的各向异性效果的狭缝喷嘴长度/宽度比率只要为4以上即可。另外，因为狭缝喷嘴宽度方向n值与狭缝喷嘴长度方向n值之差进一步变大，所以狭缝喷嘴长度/宽度比率优选为10以上，更优选为狭缝喷嘴宽度方向n值成为250左右的15以上。
以下，对狭缝喷嘴长度/宽度比率需要至少为4以上的理由进行说明。狭缝喷嘴长度/宽度比率应该设定为如下这样的值：如上所述充分确保材料利用效率，而且能够消除特别是近年的有机EL显示装置中的对器件特性造成不良影响的可能、使用“FMM(Fine MetalMask：精细金属掩模)”这样的掩模分涂方法的情况下的产生阴影的可能。当考虑这些时，在狭缝喷嘴宽度方向(图2的(a)和图2的(b)中的Y方向)上的蒸镀范围应该在基板20上的±50mm左右的范围，此时，为了消除材料利用损失，根据图5，狭缝喷嘴宽度方向n值需要具有n＝100左右的值。因此，根据图4的(a)，狭缝喷嘴长度/宽度比率应该为4以上。
另一方面，在狭缝喷嘴长度/宽度比率过大的情况下，有可能会导致蒸镀在基板20上的蒸镀膜在狭缝喷嘴长度方向上的膜厚分布变差。如图4的(b)所示，狭缝喷嘴长度方向n值与狭缝喷嘴长度/宽度比率成比例。因此，狭缝喷嘴长度方向n值能够根据狭缝喷嘴长度/宽度比率通过计算求得。从在基板20的整个宽度方向上确保面内均匀性的观点来看，狭缝喷嘴长度方向n值优选为5以下，更优选小于4。因此，狭缝喷嘴长度/宽度比率优选为50以下。从抑制由蒸镀速率或线源10的热分布的变动导致的蒸镀分布形状的变动显著变大的观点来看，狭缝喷嘴长度/宽度比率更优选为30以下。
另外，虽然用于显现本发明那样的蒸镀分布的各向异性的详细机理还没有找出，但是可推测是因为多个蒸镀颗粒在通过狭缝喷嘴1时强烈地受到通路限制。实际上，蒸镀分布不仅受到狭缝喷嘴1的形状的影响，而且也受到狭缝喷嘴1的尺寸(长度、宽度和深度)的影响。因此，为了显现本发明那样的强的蒸镀分布的各向异性，如图2的(a)和图2的(b)所示，需要使狭缝喷嘴1的深度为5mm以上20mm以下，狭缝喷嘴1的宽度为1mm以上5mm以下，狭缝喷嘴1的长度(第一边的长度)为狭缝喷嘴1的宽度(第二边的长度)的4倍以上50倍以下。当狭缝喷嘴1的深度过浅时(小于5mm的情况)，会产生蒸镀分布的各向异性弱的问题，当狭缝喷嘴1的深度过深时(大于20mm的情况)，加工性变差，容易产生堵塞等。
另外，如上所述，蒸镀在基板20上的蒸镀膜需要在线源10的整个长轴方向上进行膜厚分布的均匀化，为此需要从多个狭缝喷嘴1射出的蒸镀颗粒在基板20上重叠。根据这样的观点，如图2的(a)所示，决定设置狭缝喷嘴1的数量，在通常尺寸的线源的情况下，优选设置有至少5个以上的狭缝喷嘴1，这样，也可利用设置狭缝喷嘴1的数量来限制狭缝喷嘴1的长度。
另外，在本实施方式中，如图2的(a)所示，列举狭缝喷嘴1配置成狭缝喷嘴1的长度36mm和狭缝喷嘴1之间的间隙84mm相加为120mm、即狭缝喷嘴1的间距(从狭缝喷嘴1的左端到相邻的狭缝喷嘴1的左端的距离)为120mm的情况为例进行了说明，但是，当将狭缝喷嘴1之间的间隙设定得过窄时，部件的加工精度达不到，或者会发生由热膨胀导致的变形的影响，因此不优选。另一方面，当将狭缝喷嘴1之间的间隙设定得过宽时，难以在基板20的整个宽度方向上确保蒸镀膜的面内均匀性。因此，狭缝喷嘴1之间的间隙和狭缝喷嘴1的长度相加的长度，优选为狭缝喷嘴1的长度的1.5倍以上、线源10的长度的0.2倍以下。
在本实施方式中，列举在有机EL显示装置的制造工序中使用线源10和蒸镀装置30的情况作为一个例子进行了说明，但是并不限定于此，线源10和蒸镀装置30可以应用于以蒸镀为代表的所有气相生长技术。
[实施方式2]
接着，基于图7的(a)～(b)和图8对本发明的实施方式2进行说明。在本实施方式中，设定成将狭缝喷嘴1a之间的间隙缩至24mm，使其间距(从狭缝喷嘴1a的左端到相邻的狭缝喷嘴1a的左端的距离)为60mm，使在线源10a的顶板11a上形成的狭缝喷嘴1a的数量增加，相应地使基板20与线源10a的顶板11a之间的距离缩短，以上的设定与实施方式1不同，其它如在实施方式1中所说明的那样。为了说明上的方便，对于与在实施方式1的附图中所示的部件具有相同功能的部件，标注相同的符号，并省略其说明。
图7的(a)是表示线源10a的顶板11a的图，图7的(b)是表示具备线源10a和基板20的蒸镀装置30a的图。
如图7的(a)所示，狭缝喷嘴1a的宽度为2mm、长度为36mm，与上述的实施方式1中的狭缝喷嘴1相同。不同点是，在本实施方式中，以在最相邻的狭缝喷嘴1a之间具有24mm的间隙的方式，以一定间隔形成狭缝喷嘴1a，而在上述的实施方式1中，以在最相邻的狭缝喷嘴1之间具有84mm的间隙的方式，以一定间隔形成狭缝喷嘴1。
通过将在最相邻的狭缝喷嘴1a之间设置的间隙缩至24mm，在线源10a的顶板11a上能够设置13个狭缝喷嘴1a，能够提高在线源10a的顶板11a上形成的狭缝喷嘴1a的形成密度。狭缝喷嘴1a以狭缝喷嘴1a的长度36mm和狭缝喷嘴1a之间的间隙24mm相加为60mm的方式，沿线源10a的长轴方向(图中X轴方向)呈直线状配置有13个，狭缝喷嘴1a在线源10a的短轴方向(图中Y轴方向)上配置在大致中心。
如图7的(b)所示，在线源10a中，将在线源10a的顶板11a上形成的狭缝喷嘴1a的密度提高至实施方式1的约2倍(准确地说是1.86倍)，因此，即使将线源10a的顶板11a与基板20之间的距离设定为实施方式1的一半即100mm，也能够确保线源10a的长轴方向(图中X轴方向)的膜厚均匀性。
如图7的(a)和图7的(b)所示，设置在线源10a的顶板11a上的多个狭缝喷嘴1a的Z轴方向(第三方向)的深度，与上述的实施方式1相同，为10mm，但是并不限定于此，只要为5mm以上20mm以下即可。
在本实施方式中，如图7的(a)和图7的(b)所示，就线源10a而言，一边使线源10a以狭缝喷嘴1a的宽度方向(图中Y轴方向)成为扫描方向(基板扫描方向)的方式相对于基板20移动(相对移动)一边进行蒸镀，但是并不限定于此。也可以以狭缝喷嘴1a的宽度方向(图中Y轴方向)成为扫描方向的方式，使基板20相对于线源10a移动(相对移动)。另外，也可以以狭缝喷嘴1a的宽度方向(图中Y轴方向)成为扫描方向的方式，使线源10a和基板20都在狭缝喷嘴1a的宽度方向(图中Y轴方向)上移动。
图8是使用图7的(b)所示的蒸镀装置30a在基板20上形成蒸镀膜的情况，图8的(a)是表示在基板20上形成的蒸镀膜在线源10a的长轴方向上的膜厚分布的图，图8的(b)是表示在基板20上形成的蒸镀膜在线源10a的短轴方向上的膜厚分布的图。
狭缝喷嘴1a的宽度为2mm、长度为36mm，与上述的实施方式1相同，因此，线源10a的各个狭缝喷嘴1a的狭缝喷嘴宽度方向n值约为250，狭缝喷嘴长度方向n值约为3，与上述的实施方式1相同。
即，线源10a的各个狭缝喷嘴1a形成为在狭缝喷嘴1a的宽度方向和长度方向能够得到充分的各向异性效果的特定的狭缝形状。
如图8的(a)所示，在基板20上形成的蒸镀膜在线源长轴方向上的膜厚分布，大致是平的，能够得到均匀的膜厚分布。具体地说，在基板宽度600mm的区域，能够得到±2％的膜厚分布，在其更内侧的500mm的区域，能够得到±0.5％的膜厚分布，能够得到比上述的实施方式1更良好的膜厚分布。
另一方面，如图8的(b)所示，蒸镀颗粒几乎不到达基板20的在狭缝喷嘴宽度方向上的±20mm范围的外侧，仅能够在基板20的在狭缝喷嘴宽度方向上的非常窄的区域(基板20的在狭缝喷嘴宽度方向上的±20mm范围以内)形成蒸镀膜。即使与上述的实施方式1相比，也仅能够在基板20的在狭缝喷嘴宽度方向上的更加非常窄的区域形成蒸镀膜。
如以上所述，当将基板20与线源10a的顶板11a之间的距离设定得短时，蒸镀速率提高，能够提高量产性，并且也能够实现蒸镀装置自身的紧凑化，因此优点大。
但是，在单纯地将基板20与线源10a的顶板11a之间的距离缩短的情况下，难以得到蒸镀膜的在线源10a的长轴方向上的膜厚分布的均匀性。于是，在本实施方式中，通过将狭缝喷嘴1a之间的间隙缩至24mm，使其间距为60mm，使在线源10a的顶板11a上形成的狭缝喷嘴1a的数量增加，使得即使在将基板20与线源10a的顶板11a之间的距离缩短的情况下，也能够确保蒸镀膜的在线源10a的长轴方向上的膜厚分布的均匀性。
因此，在狭缝喷嘴宽度方向上，即使不像以往那样使用防附着板(也称为“控制板”)，也能够抑制蒸镀颗粒飞散至真空腔室内，因此，能够提供能够实现紧凑化和高的材料利用效率的线源10a和蒸镀装置30a。另外，在具备蒸镀从线源10a的顶板11a的狭缝喷嘴1a射出的蒸镀颗粒的基板20的蒸镀装置30a中，狭缝喷嘴1a之间的间隙和狭缝喷嘴1a的长度相加的长度越短，线源10a的顶板11a与基板20之间的距离设定得越短，因此，能够使蒸镀装置30a进一步紧凑化。
[实施方式3]
接着，基于图9对本发明的实施方式3进行说明。在本实施方式中，狭缝喷嘴长度/宽度比率与上述的实施方式1和2相同为18，实际上，因为狭缝喷嘴的宽度大至4mm，所以可考虑相对于上述的实施方式1和2稍微产生n值的变动，但是线源10b的各个狭缝喷嘴1b的狭缝喷嘴宽度n值约为250，狭缝喷嘴长度方向n值约为3。狭缝喷嘴1b、1b’的长度为72mm，狭缝喷嘴1b、1b’的宽度为4mm，分别为实施方式1和2中的狭缝喷嘴1、1a的长度和宽度的2倍，在这点上与实施方式1和2不同，其它如在实施方式1中所说明的那样。为了说明上的方便，对于与实施方式1和2的附图中所示的部件具有相同功能的部件，标注相同的符号，并省略其说明。
图9是表示线源10b的顶板11b的图。
如图9所示，狭缝喷嘴1b、1b’的宽度为4mm、长度为72mm，狭缝喷嘴1b、1b’以最相邻的第一列狭缝喷嘴1b之间及最相邻的第二列狭缝喷嘴1b’之间具有48mm间隙的方式，以一定间隔形成为多列的直线状。狭缝喷嘴1b、1b’的尺寸本身为上述的实施方式1和2中的狭缝喷嘴1、1a的尺寸的2倍，因此，不能像上述的实施方式1和2那样在线源10b的长轴方向上在1列形成13个狭缝喷嘴1b、1b’。因此，在本实施方式中，在第一列配置7个狭缝喷嘴1b，在第二列配置6个狭缝喷嘴1b’，而且，为了提高线源10b的长轴方向的膜厚均匀性，在线源10b的短轴方向上相互相邻的第一列狭缝喷嘴1b和第二列狭缝喷嘴1b’以在线源10b的长轴方向上的中心相互错开的方式配置。具体地说，例如以在图中X方向上相邻的2个第一列狭缝喷嘴1b间的中点与第二列狭缝喷嘴1b’的在图中X方向上的中点一致的方式配置(或者，以在图中X方向上相邻的2个第二列狭缝喷嘴1b’间的中点与第一列狭缝喷嘴1b的在图中X方向上的中点一致的方式配置)。即，在图中Y方向上相互相邻的狭缝喷嘴中的一个狭缝喷嘴和与该一个狭缝喷嘴在图中X方向上相邻的狭缝喷嘴之间的区域的中心，与在图中Y方向上相互相邻的狭缝喷嘴中的另一个狭缝喷嘴的在图中X方向上的中心一致。
在本实施方式中，在使线源10b沿着图中的扫描方向中为上方向的Y方向扫描的情况下，将先到达基板20的狭缝喷嘴设为第一列狭缝喷嘴1b，将后到达基板20的狭缝喷嘴设为第二列狭缝喷嘴1b’。
在本实施方式中，列举形成2列、每1列的狭缝喷嘴1b的个数为6个和7个的情况为例进行了说明，但是列的数量和每1列的狭缝喷嘴1b的个数并不限定于此。另外，在线源10b的短轴方向上相互相邻的第一列狭缝喷嘴1b和第二列狭缝喷嘴1b’，可以不必以在线源10b的长轴方向上的中心相互错开的方式配置，例如可以不以在图中X方向上相邻的2个第一列狭缝喷嘴1b间的中点与第二列狭缝喷嘴1b’的在图中X方向上的中点一致的方式配置。
在本实施方式中，狭缝喷嘴1b、1b’以狭缝喷嘴1b、1b’的长度72mm和狭缝喷嘴1b、1b’之间的间隙48mm相加为120mm、即其间距与实施方式1相同为120mm的方式配置，因此，为了确保线源10b的长轴方向上的膜厚均匀性，将线源10b的顶板11b和基板20之间的距离与实施方式1相同地设定为200mm。
另外，在本实施方式中也与上述的实施方式1和2相同，设置在线源10b的顶板11b上的多个狭缝喷嘴1b、1b’的Z轴方向(第三方向)的深度为10mm，但是并不限定于此，只要为5mm以上20mm以下即可。
通过使用狭缝喷嘴1b、1b’的尺寸本身大的线源10b，能够增大蒸镀速率，能够得到高的生产率。
相反，当仅单纯地增大狭缝喷嘴1b、1b’的尺寸本身时，只会产生膜厚分布的变动和在线源10b内不能形成规定个数的狭缝喷嘴1b的现象。
在本实施方式中，虽然使狭缝喷嘴1b、1b’的尺寸本身增大，但是使得满足以下的用于显现强的蒸镀分布的各向异性的条件：狭缝喷嘴1b、1b’的深度为5mm以上20mm以下，狭缝喷嘴1b、1b’的宽度为1mm以上5mm以下，狭缝喷嘴1b、1b’的长度(第一边的长度)为狭缝喷嘴1b、1b’的宽度(第二边的长度)的4倍以上50倍以下。
因此，能够实现能够在成膜分布均匀的同时实现高的蒸镀材料利用效率的线源10b和蒸镀装置，并且，能够增大蒸镀速率，也能够得到高的生产率。
[总结]
本发明的方式1的蒸镀源，在该蒸镀源的一个面上形成有射出蒸镀颗粒的多个开口部，该蒸镀源的第一方向的长度比在同一平面内与上述第一方向正交的第二方向的长度长，上述蒸镀源的特征在于：上述多个开口部中的各个开口部，由与上述第一方向平行且相互相对的相同长度的2个第一边和与上述第二方向平行且相互相对的相同长度的2个第二边包围而形成为狭缝形状，并且，沿上述第一方向以一定间隔形成为直线状，上述第一边的长度为上述第二边的长度的4倍以上50倍以下，上述第二边的长度为1mm以上5mm以下，与上述第一方向及上述第二方向正交的第三方向上的上述开口部的深度为5mm以上20mm以下。
采用上述结构，在上述开口部中的各个开口部中，上述第一边的长度为上述第二边的长度的4倍以上50倍以下，上述第二边的长度为1mm以上5mm以下，与上述第一方向及上述第二方向正交的第三方向上的上述开口部的深度为5mm以上20mm以下，因此，上述多个开口部中的各个开口部，成为在上述开口部的第一方向和第二方向上能够得到充分的各向异性效果的某种特定的狭缝形状。另外，上述多个开口部中的各个开口部的更长的一方沿上述蒸镀源的第一方向形成。
因此，采用上述开口部，能够将上述蒸镀颗粒在上述第一方向上的飞散范围控制得宽，将上述蒸镀颗粒在上述第二方向上的飞散范围控制得窄，因此，能够实现能够在成膜分布均匀的同时实现高的蒸镀材料利用效率的蒸镀源。
本发明的方式2的蒸镀源优选：在上述方式1中，上述第一边的长度为上述第二边的长度的10倍以上。
采用上述结构，可在上述开口部的第一方向和第二方向得到更大的各向异性效果。
本发明的方式3的蒸镀源优选：在上述方式1或2中，上述第一边的长度为上述第二边的长度的30倍以下。
采用上述结构，能够抑制由蒸镀速率或蒸镀源的热分布的变动导致的蒸镀分布形状的变动显著变大。
本发明的方式4的蒸镀源优选：在上述方式1至3中的任一方式中，在上述一个面上，上述多个开口部设置有至少5个以上。
采用上述结构，上述蒸镀颗粒在上述第一方向上的飞散范围宽，在上述第一方向能够得到均匀的成膜分布。
本发明的方式5的蒸镀源优选：在上述方式1至4中的任一方式中，上述一定间隔和上述第一边的长度相加的长度为上述第一边的长度的1.5倍以上、上述蒸镀源的在上述第一方向上的长度的0.2倍以下。
采用上述结构，在上述第一方向能够得到均匀的成膜分布。
本发明的方式6的蒸镀源可以：在上述方式1至5中的任一方式中，上述多个开口部中的各个开口部沿上述第一方向以一定间隔形成为多列的直线状。
采用上述结构，即使在上述开口部的尺寸大的情况下，也能够在上述蒸镀源的上述一个面上形成全部的上述开口部。
本发明的方式7的蒸镀源优选：在上述方式6中，在上述第二方向上相互相邻的开口部彼此，上述开口部的在第一方向上的中心相互错开。
采用上述结构，能够抑制导致膜厚均匀性变差。
本发明的方式8的蒸镀源优选：在上述方式7中，在上述第二方向上相互相邻的开口部中的一个开口部和与该一个开口部在上述第二方向上相邻的开口部之间的区域的中心，与在上述第二方向上相互相邻的开口部中的另一个开口部的在上述第一方向上的中心一致。
采用上述结构，能够抑制导致膜厚均匀性变差。
本发明的方式9的蒸镀装置的特征在于，具备上述方式1至8中的任一方式的蒸镀源。
采用上述结构，上述蒸镀装置具备上述蒸镀源，因此，能够在成膜分布均匀的同时实现高的蒸镀材料利用效率。
本发明的方式10的蒸镀装置优选：在上述方式9中，使从上述蒸镀源射出的蒸镀颗粒蒸镀在基板上，并且，上述一定间隔和上述第一边的长度相加的长度越短，上述蒸镀源的上述一个面与上述基板之间的距离设定得越短。
采用上述结构，能够在成膜分布均匀的同时实现高的蒸镀材料利用效率，并且也能够实现蒸镀装置的紧凑化。
本发明的方式11的蒸镀膜制造方法是使用上述方式1至8中的任一方式的蒸镀源在基板上形成蒸镀膜的方法，其特征在于，优选一边使上述基板和上述蒸镀源中的至少一个沿上述第二方向移动，一边进行蒸镀。
采用上述方法，能够在基板上形成的成膜分布均匀的同时实现高的蒸镀材料利用效率。
本发明的方式12的蒸镀膜制造方法优选：在上述方式11中，上述一定间隔和上述第一边的长度相加的长度越短，将上述蒸镀源的上述一个面与上述基板之间的距离设定得越短。
采用上述方法，能够在基板上形成的成膜分布均匀的同时实现高的蒸镀材料利用效率。
[附记事项]
本发明并不限定于上述的各实施方式，能够在权利要求所表示的范围内进行各种变更，将在不同的实施方式中分别公开的技术手段适当组合而得到的实施方式也包含在本发明的技术范围中。而且，通过将在各实施方式中分别公开的技术手段组合，能够形成新的技术特征。
产业上的可利用性
本发明能够利用于蒸镀源、蒸镀装置和蒸镀膜制造方法。
符号说明
1 狭缝喷嘴(开口部)
1a 狭缝喷嘴(开口部)
1b 狭缝喷嘴(开口部)
1b’ 狭缝喷嘴(开口部)
10 线源(蒸镀源)
10a 线源(蒸镀源)
10b 线源(蒸镀源)
10U 仅存在一个狭缝喷嘴的蒸镀源
11 顶板
11a 顶板
11b 顶板
20 基板
21 蒸镀膜
30 蒸镀装置
30a 蒸镀装置
W 狭缝喷嘴的宽度(第二边的长度)
L 狭缝喷嘴的长度(第一边的长度)
A 第一边
B 第二边

Claims (12)

1.一种蒸镀源，在该蒸镀源的一个面上形成有射出蒸镀颗粒的多个开口部，该蒸镀源的第一方向的长度比在同一平面内与所述第一方向正交的第二方向的长度长，所述蒸镀源的特征在于：
所述多个开口部中的各个开口部，由与所述第一方向平行且相互相对的相同长度的2个第一边和与所述第二方向平行且相互相对的相同长度的2个第二边包围而形成为狭缝形状，并且，沿所述第一方向以一定间隔形成为直线状，
所述第一边的长度为所述第二边的长度的4倍以上50倍以下，
所述第二边的长度为1mm以上5mm以下，
与所述第一方向及所述第二方向正交的第三方向上的所述开口部的深度为5mm以上20mm以下。
2.如权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于：
所述第一边的长度为所述第二边的长度的10倍以上。
3.如权利要求1或2所述的蒸镀源，其特征在于：
所述第一边的长度为所述第二边的长度的30倍以下。
4.如权利要求1或2所述的蒸镀源，其特征在于：
在所述一个面上，所述多个开口部设置有至少5个以上。
5.如权利要求1或2所述的蒸镀源，其特征在于：
所述一定间隔和所述第一边的长度相加的长度为所述第一边的长度的1.5倍以上、所述蒸镀源的在所述第一方向上的长度的0.2倍以下。
6.如权利要求1或2所述的蒸镀源，其特征在于：
所述多个开口部中的各个开口部沿所述第一方向以一定间隔形成为多列的直线状。
7.如权利要求6所述的蒸镀源，其特征在于：
在所述第二方向上相互相邻的所述开口部彼此的在所述第一方向上的中心相互错开。
8.如权利要求7所述的蒸镀源，其特征在于：
在所述第二方向上相互相邻的开口部中的一个开口部和与该一个开口部在所述第一方向上相邻的开口部之间的区域的中心，与在所述第二方向上相互相邻的开口部中的另一个开口部的在所述第一方向上的中心一致。
9.一种蒸镀装置，其特征在于：
具备权利要求1～8中任一项所述的蒸镀源。
10.如权利要求9所述的蒸镀装置，其特征在于：
使从所述蒸镀源射出的蒸镀颗粒蒸镀在基板上，并且，
所述一定间隔和所述第一边的长度相加的长度越短，所述蒸镀源的所述一个面与所述基板之间的距离设定得越短。
11.一种蒸镀膜制造方法，其是使用权利要求1～8中任一项所述的蒸镀源在基板上形成蒸镀膜的方法，其特征在于：
一边使所述基板和所述蒸镀源中的至少一个沿所述第二方向移动，一边进行蒸镀。
12.如权利要求11所述的蒸镀膜制造方法，其特征在于：
所述一定间隔和所述第一边的长度相加的长度越短，将所述蒸镀源的所述一个面与所述基板之间的距离设定得越短。
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