JP2011138048A - 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 - Google Patents
空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011138048A JP2011138048A JP2009298843A JP2009298843A JP2011138048A JP 2011138048 A JP2011138048 A JP 2011138048A JP 2009298843 A JP2009298843 A JP 2009298843A JP 2009298843 A JP2009298843 A JP 2009298843A JP 2011138048 A JP2011138048 A JP 2011138048A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reflective film
- film material
- layer
- light modulator
- spatial light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 43
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 158
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 55
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 210
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 55
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 12
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 9
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 5
- 239000011435 rock Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 110
- 238000000034 method Methods 0.000 description 59
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 38
- 230000008569 process Effects 0.000 description 31
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 27
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 11
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 9
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 8
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 5
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 4
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000276498 Pollachius virens Species 0.000 description 1
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】基板と、基板に対して揺動する反射鏡とを備えた空間光変調器であって、反射鏡は、反射膜材料により形成された一対の反射膜材料層と、非反射膜材料により形成され、一対の反射膜材料層に挟まれた非反射膜材料層とを含む積層体を有し、一対の反射膜材料層の一方が反射鏡の反射面となる。反射膜材料はアルミニウムであり、非反射膜材料は窒化珪素であってもよい。また、反射膜材料層の一方は、反射面を被覆する気密且つ透明な保護層を更に有してもよい。
【選択図】図2
Description
[先行技術文献]
[特許文献]
[特許文献1] 特開平09−101467号公報
Claims (10)
- 基板と、前記基板に対して揺動する反射鏡とを備えた空間光変調器であって、
前記反射鏡は、反射膜材料により形成された一対の反射膜材料層と、非反射膜材料により形成され、前記一対の反射膜材料層に挟まれた非反射膜材料層とを含む積層体を有し、前記一対の反射膜材料層の一方が前記反射鏡の反射面となる空間光変調器。 - 前記反射膜材料はアルミニウムであり、前記非反射膜材料は窒化珪素である請求項1に記載の空間光変調器。
- 前記反射膜材料層の一方は、前記反射面を被覆する気密且つ透明な保護層を更に有する請求項1または請求項2に記載の空間光変調器。
- 前記基板に配された電極と、
前記基板に対して一端を固定されて弾性変形する捩じり軸部と、
前記捩じり軸部の他端に支持され、静電力により前記電極に引き付けられて前記基板に対して揺動する可動部と
を更に備え、
前記反射鏡は、前記可動部に支持されて前記可動部と共に前記基板に対して揺動する請求項1から請求項3までのいずれかに記載の空間光変調器。 - 前記可動部は、前記非反射膜材料により形成された一対の非反射膜材料層と、非反射膜材料により形成され、前記一対の反射膜材料層に挟まれた反射膜材料層とを含む積層体を有する請求項4に記載の空間光変調器。
- 請求項1から請求項5までのいずれかに記載の空間光変調器を備える露光装置。
- 前記空間光変調器は、光源から入射した照明光を反射して、露光マスクに照射される照明光に照度分布を形成する請求項6に記載の露光装置。
- 基板と、前記基板に対して揺動する反射鏡とを備え、
前記反射鏡は、反射膜材料により形成された一対の反射膜材料層と、非反射膜材料により形成され、前記一対の反射膜材料層に挟まれた非反射膜材料層とを含む積層体を有し、前記一対の反射膜材料層の一方が前記反射鏡の反射面となる空間光変調器を製造する製造方法であって、
下地の上に、パターニングされた犠牲材料の層を堆積する段階と、
前記犠牲材料の層の上に前記反射膜材料の層を堆積する段階と、
前記反射膜材料の層の上に、非反射膜材料の層を堆積する段階と、
前記非反射膜材料の層の上に、前記反射膜材料の層を堆積する段階と、
前記犠牲材料の層を除去する段階と
を備え、前記積層体が、前記下地から離間した領域を形成する工程を含む製造方法。 - 前記反射面となる前記反射膜材料の層を堆積する前に、前記非反射膜材料の層の表面を化学機械研磨する段階を更に備える請求項8に記載の製造方法。
- 前記反射面となる前記反射膜材料の層の表面を化学機械研磨する段階を更に備える請求項8または請求項9に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009298843A JP5549222B2 (ja) | 2009-12-28 | 2009-12-28 | 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009298843A JP5549222B2 (ja) | 2009-12-28 | 2009-12-28 | 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011138048A true JP2011138048A (ja) | 2011-07-14 |
JP5549222B2 JP5549222B2 (ja) | 2014-07-16 |
Family
ID=44349523
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009298843A Active JP5549222B2 (ja) | 2009-12-28 | 2009-12-28 | 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5549222B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104950434A (zh) * | 2014-03-27 | 2015-09-30 | 精工爱普生株式会社 | 光学器件以及图像显示装置 |
JP2016035485A (ja) * | 2014-08-01 | 2016-03-17 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器 |
JP2016139015A (ja) * | 2015-01-28 | 2016-08-04 | セイコーエプソン株式会社 | ミラーデバイス、ミラーデバイスの製造方法、及び画像表示装置 |
JP2017126062A (ja) * | 2015-12-16 | 2017-07-20 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置用のミラー素子 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08313842A (ja) * | 1995-05-15 | 1996-11-29 | Nikon Corp | 照明光学系および該光学系を備えた露光装置 |
JP2002221678A (ja) * | 2001-01-25 | 2002-08-09 | Seiko Epson Corp | 光スイッチングデバイス、その製造方法および画像表示装置 |
JP2005534048A (ja) * | 2002-06-11 | 2005-11-10 | リフレクティヴィティー, インク. | 超小型電子機械装置をウェハ基板上に堆積、切り離し、及びパッケージングする方法 |
JP2005331921A (ja) * | 2004-05-19 | 2005-12-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd | Mems装置のマイクロミラー |
JP2007025505A (ja) * | 2005-07-21 | 2007-02-01 | Nikon Corp | ミラー及びこれを用いた画像表示装置用ミラーデバイス |
JP2007312553A (ja) * | 2006-05-20 | 2007-11-29 | Nikon Corp | マイクロアクチュエータ、光学デバイス及び表示装置 |
WO2009145048A1 (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-03 | 株式会社ニコン | 空間光変調器の検査装置および検査方法、照明光学系、照明光学系の調整方法、露光装置、およびデバイス製造方法 |
-
2009
- 2009-12-28 JP JP2009298843A patent/JP5549222B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08313842A (ja) * | 1995-05-15 | 1996-11-29 | Nikon Corp | 照明光学系および該光学系を備えた露光装置 |
JP2002221678A (ja) * | 2001-01-25 | 2002-08-09 | Seiko Epson Corp | 光スイッチングデバイス、その製造方法および画像表示装置 |
JP2005534048A (ja) * | 2002-06-11 | 2005-11-10 | リフレクティヴィティー, インク. | 超小型電子機械装置をウェハ基板上に堆積、切り離し、及びパッケージングする方法 |
JP2005331921A (ja) * | 2004-05-19 | 2005-12-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd | Mems装置のマイクロミラー |
JP2007025505A (ja) * | 2005-07-21 | 2007-02-01 | Nikon Corp | ミラー及びこれを用いた画像表示装置用ミラーデバイス |
JP2007312553A (ja) * | 2006-05-20 | 2007-11-29 | Nikon Corp | マイクロアクチュエータ、光学デバイス及び表示装置 |
WO2009145048A1 (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-03 | 株式会社ニコン | 空間光変調器の検査装置および検査方法、照明光学系、照明光学系の調整方法、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104950434A (zh) * | 2014-03-27 | 2015-09-30 | 精工爱普生株式会社 | 光学器件以及图像显示装置 |
JP2015187678A (ja) * | 2014-03-27 | 2015-10-29 | セイコーエプソン株式会社 | 光学デバイスおよび画像表示装置 |
JP2016035485A (ja) * | 2014-08-01 | 2016-03-17 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器 |
US10444493B2 (en) | 2014-08-01 | 2019-10-15 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device, manufacturing method for electro-optical device, and electronic apparatus |
JP2016139015A (ja) * | 2015-01-28 | 2016-08-04 | セイコーエプソン株式会社 | ミラーデバイス、ミラーデバイスの製造方法、及び画像表示装置 |
JP2017126062A (ja) * | 2015-12-16 | 2017-07-20 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置用のミラー素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5549222B2 (ja) | 2014-07-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5630015B2 (ja) | 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 | |
JP5751332B2 (ja) | 空間光変調素子の製造方法、空間光変調素子、空間光変調器および露光装置 | |
JP4032216B2 (ja) | 光学多層構造体およびその製造方法、並びに光スイッチング素子および画像表示装置 | |
WO2011080883A1 (ja) | 電気機械変換器、空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 | |
JP2011137961A (ja) | 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 | |
JPH07159708A (ja) | M×nエレクトロディスプレーシブアクチュエーテッドミラーアレーの製法 | |
JP5549222B2 (ja) | 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 | |
JP2011138888A (ja) | 電気機械変換器、空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 | |
JP5509912B2 (ja) | 空間光変調器、照明装置、露光装置およびそれらの製造方法 | |
KR101680494B1 (ko) | 공간 광변조기 및 노광 장치 | |
KR100400223B1 (ko) | 마이크로미러 액튜에이터 | |
WO2013027405A1 (ja) | 空間光変調素子および露光装置 | |
TWI646353B (zh) | Space light modulator, light drawing device, exposure device, and component manufacturing method | |
JP4404787B2 (ja) | 光変調素子及び画像形成装置 | |
JPH11160635A (ja) | 光学素子及びその製造方法並びにそれを用いた装置 | |
JP2010062336A (ja) | 異方性エッチングによる構造体の作製方法、及びエッチングマスク付きシリコン基板 | |
JP5573212B2 (ja) | 空間光変調素子、空間光変調素子の製造方法、照明光発生装置及び露光装置 | |
KR100691476B1 (ko) | 마이크로미러 액튜에이터 | |
KR101870413B1 (ko) | 마이크로 미러 제조방법 | |
JP2003098447A (ja) | 光変調装置及び光変調方法 | |
JP2007024947A (ja) | 光変調素子アレイ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121227 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130731 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130820 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131016 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140422 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140505 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5549222 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |