JP2011134221A - 撮像装置、3dモデリングデータ生成方法、および、プログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】制御部210は、第1撮像部110と第2撮像部120で撮像する被写体について、当該被写体の明部を適正露出とする露出条件と、暗部を適正露出とする露出条件を設定する。制御部210は、設定した各露出で撮像するよう第1撮像部110と第2撮像部120を制御することで、露出の異なる画像ペアを得る。制御部210は、得られた画像ペアを構成する画像において、パターン投影部130が被写体に投影したパターンを特定する。制御部210は、特定されたパターンについて、同一露出の画像ペアを構成する画像間で、パターンの密度に基づく最適化をおこなうとともに、露出の異なる画像間で、パターンの画像状態に基づく最適化をおこなう。制御部210は、最適化されたパターンの対応点を用いて3Dモデリングデータを生成する。
【選択図】図2
Description
同一の被写体について光軸位置が異なる2つの撮像画像を取得する撮像手段と、
前記撮像手段による前記被写体の撮像にかかる1または複数の露出条件を設定する露出設定手段と、
前記撮像手段を制御し、前記露出設定手段が設定した露出条件の数に応じた回数の撮像動作をおこなう撮像制御手段と、
前記撮像制御手段の制御によって得られた撮像画像に示されている、前記被写体に投影されたパターンを特定するパターン特定手段と、
前記露出設定手段が設定した露出に基づいて、前記パターン特定手段が特定したパターンを最適化するパターン最適化手段と、
前記パターン最適化手段が最適化した前記パターンを用いて3Dモデリングデータを生成する3Dモデリングデータ生成手段と、
を備えることを特徴とする。
被写体にパターンを投影するパターン投影手段をさらに備えていることが望ましい。
前記露出設定手段は、少なくとも、前記被写体の明部が適正露出となる露出条件と、前記被写体の暗部が適正露出となる露出条件とを設定することが望ましい。
前記パターン最適化手段は、前記パターン特定手段が特定したパターンの密度に基づいて該パターンを最適化することが望ましい。
前記パターン最適化手段は、前記パターン特定手段が特定したパターンの画像状態に基づいて該パターンを最適化することが望ましい。
前記パターン最適化手段が最適化したパターンを合成するパターン合成手段をさらに備えていることが望ましく、この場合、
前記3Dモデリングデータ生成手段は、前記パターン合成手段が合成したパターンを用いて前記3Dモデリングデータを生成することが望ましい。
前記被写体の明暗差を判別する判別手段をさらに備えていてもよく、この場合、
前記露出設定手段は、前記判別手段の判別結果に応じて露出条件を設定することが望ましい。
同一の被写体について光軸位置が異なる画像ペアを得る撮像手段を備える撮像装置で当該被写体の3Dモデリングデータを生成する3Dモデリングデータ生成方法であって、
被写体の明部を適正露出とする前記撮像手段の撮像動作で第1の画像ペアを取得する第1の撮像ステップと、
前記被写体の暗部を適正露出とする前記撮像手段の撮像動作で第2の画像ペアを取得する第2の撮像ステップと、
取得された前記画像ペアのそれぞれにおいて、前記被写体に投影されたパターンを特定するパターン特定ステップと、
前記画像ペアのそれぞれにおいて、前記パターン特定ステップで特定されたパターンの密度に基づいて、当該パターンを最適化する第1の最適化ステップと、
露出の異なる画像ペア間において、前記パターン特定ステップで特定されたパターンの画像状態に基づいて、当該パターンを最適化する第2の最適化ステップと、
前記最適化されたパターンを合成し、該合成したパターン用いて3Dモデリングデータを生成する3Dモデリングデータ生成ステップと、
を含むことを特徴とする。
同一の被写体について光軸位置が異なる2つの撮像画像を取得する撮像手段を備える撮像装置のコンピュータに、
前記撮像手段による前記被写体の撮像にかかる1または複数の露出条件を設定する機能と、
前記撮像手段を制御し、前記設定された露出条件の数に応じた回数の撮像動作をおこなう機能と、
前記撮像動作によって得られた撮像画像に示されている、前記被写体に投影されたパターンを特定する機能と、
前記設定した露出に基づいて、前記特定されたパターンを最適化する機能と、
前記最適化されたパターンを用いて3Dモデリングデータを生成する機能と、
を実現させることを特徴とする。
X1=(b×(u1))/((u'1)−u1)
Y1=(b×(v1))/((u'1)−u1)
Z1=(b×f)/((u'1)−u1)
Claims (9)
- 同一の被写体について光軸位置が異なる2つの撮像画像を取得する撮像手段と、
前記撮像手段による前記被写体の撮像にかかる1または複数の露出条件を設定する露出設定手段と、
前記撮像手段を制御し、前記露出設定手段が設定した露出条件の数に応じた回数の撮像動作をおこなう撮像制御手段と、
前記撮像制御手段の制御によって得られた撮像画像に示されている、前記被写体に投影されたパターンを特定するパターン特定手段と、
前記露出設定手段が設定した露出に基づいて、前記パターン特定手段が特定したパターンを最適化するパターン最適化手段と、
前記パターン最適化手段が最適化した前記パターンを用いて3Dモデリングデータを生成する3Dモデリングデータ生成手段と、
を備えることを特徴とする撮像装置。 - 被写体にパターンを投影するパターン投影手段をさらに備える、
ことを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。 - 前記露出設定手段は、少なくとも、前記被写体の明部が適正露出となる露出条件と、前記被写体の暗部が適正露出となる露出条件とを設定する、
ことを特徴とする請求項1または2に記載の撮像装置。 - 前記パターン最適化手段は、前記パターン特定手段が特定したパターンの密度に基づいて該パターンを最適化する、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の撮像装置。 - 前記パターン最適化手段は、前記パターン特定手段が特定したパターンの画像状態に基づいて該パターンを最適化する、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の撮像装置。 - 前記パターン最適化手段が最適化したパターンを合成するパターン合成手段をさらに備え、
前記3Dモデリングデータ生成手段は、前記パターン合成手段が合成したパターンを用いて前記3Dモデリングデータを生成する、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の撮像装置。 - 前記被写体の明暗差を判別する判別手段をさらに備え、
前記露出設定手段は、前記判別手段の判別結果に応じて露出条件を設定する、
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の撮像装置。 - 同一の被写体について光軸位置が異なる画像ペアを得る撮像手段を備える撮像装置で当該被写体の3Dモデリングデータを生成する3Dモデリングデータ生成方法であって、
被写体の明部を適正露出とする前記撮像手段の撮像動作で第1の画像ペアを取得する第1の撮像ステップと、
前記被写体の暗部を適正露出とする前記撮像手段の撮像動作で第2の画像ペアを取得する第2の撮像ステップと、
取得された前記画像ペアのそれぞれにおいて、前記被写体に投影されたパターンを特定するパターン特定ステップと、
前記画像ペアのそれぞれにおいて、前記パターン特定ステップで特定されたパターンの密度に基づいて、当該パターンを最適化する第1の最適化ステップと、
露出の異なる画像ペア間において、前記パターン特定ステップで特定されたパターンの画像状態に基づいて、当該パターンを最適化する第2の最適化ステップと、
前記最適化されたパターンを合成し、該合成したパターン用いて3Dモデリングデータを生成する3Dモデリングデータ生成ステップと、
を含むことを特徴とする3Dモデリングデータ生成方法。 - 同一の被写体について光軸位置が異なる2つの撮像画像を取得する撮像手段を備える撮像装置のコンピュータに、
前記撮像手段による前記被写体の撮像にかかる1または複数の露出条件を設定する機能と、
前記撮像手段を制御し、前記設定された露出条件の数に応じた回数の撮像動作をおこなう機能と、
前記撮像動作によって得られた撮像画像に示されている、前記被写体に投影されたパターンを特定する機能と、
前記設定した露出に基づいて、前記特定されたパターンを最適化する機能と、
前記最適化されたパターンを用いて3Dモデリングデータを生成する機能と、
を実現させることを特徴とするプログラム。
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