JP2011107348A - マーク認識装置 - Google Patents
マーク認識装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011107348A JP2011107348A JP2009261358A JP2009261358A JP2011107348A JP 2011107348 A JP2011107348 A JP 2011107348A JP 2009261358 A JP2009261358 A JP 2009261358A JP 2009261358 A JP2009261358 A JP 2009261358A JP 2011107348 A JP2011107348 A JP 2011107348A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mark
- marks
- gravity
- alignment
- voting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims abstract description 78
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 30
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims abstract description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 40
- 238000013461 design Methods 0.000 claims description 15
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 7
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 55
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 40
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 24
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 8
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 8
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000012567 pattern recognition method Methods 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】アライメントマークが形成された基板を撮像し、撮像画像を取得する。次に、テンプレートマッチングにより撮像画像から個々のマークを検出する。次に、投票空間を利用して投票により仮重心の位置を決定する。次に、仮重心の決定に寄与した検出マークMを抽出する。次に、検出マーク群の各マークに対応するモデルのマークを抽出する。次に、検出マーク群の重心と抽出したモデルマーク群の重心とを一致させる。次に、最小二乗法によりモデルマーク群の回転角度t及び拡縮係数kの最適値を算出する。次に、姿勢を調整した後のモデルマーク群の重心Gの位置座標を「真の重心」の位置座標として算出する。
【選択図】図11
Description
図1は、本発明の実施の形態に係る露光装置の概略構成を示す斜視図である。この露光装置は、複数の配線パターン等の画像を1枚の基板上に描画露光する装置であって、多層プリント配線板等の多層基板の各層の配線パターンを描画露光する装置である。なお、本実施の形態では、単層の基板を対象とすることもできる。また、基板は、表示装置用のフィルタや半導体等の各種構造体であってもよい。
次に、本実施の形態に係る露光装置の電気的構成について説明する。
図4は露光装置の電気制御系の構成を示すブロック図である。
露光装置10は、図4に示すように、CAM(Computer Aided Manufacturing)ステーションを有するデータ作成装置40から出力された、露光対象の配線パターンを表わすベクトルデータを受け付け、このベクトルデータをラスターデータ(ビットマップデータ)に変換するラスター変換処理部50、基板12上に設けられたアライメントマークの「設定位置情報」等が記憶される基準位置記憶手段52、カメラ26により検出されたアライメントマークの位置を示す「検出位置情報」等に基づいて描画位置を補正する描画位置補正手段54、描画位置補正手段54により補正された描画位置に基づいて配線パターン(描画領域)のラスターデータを補正して補正済画像データを生成する画像データ補正手段56、画像データ補正手段56により変換された補正済画像データに基づいて露光ヘッド30を駆動制御する描画制御部58、移動ステージ14を駆動制御するステージ制御部60、及び本露光装置全体を制御するコントローラ70を備えている。
ここで、アライメントマークについて説明する。図5(A)は基板に設けられるアライメントマークを説明するための平面図である。図5(B)は図5(A)の点線に沿った断面図である。図5(C)はアライメントマークの一例を示す図である。
次に、図5を参照して本実施の形態に係る露光装置の動作について説明する。
まず、データ作成装置40において、基板12に露光すべき複数の配線パターンを含む画像パターン全体を表すベクトルデータが作成される。作成されたベクトルデータはラスター変換処理部50に入力され、ラスター変換処理部50において、そのベクトルデータがラスターデータに変換されて画像データ補正手段56に入力され、画像データ補正手段56は入力されたラスターデータを一時記憶する。
次に、本実施の形態で実行されるマーク認識処理について詳しく説明する。図15はマーク認識装置(図4の符号55)の機能として実行されるマーク認識処理のルーチンを示すフローチャートである。マーク認識装置55では、カメラ26で撮像された撮像画像から、複数のマークの集合体から構成されたアライメントマーク(4個のマークMから構成される第2アライメントマークLM)の重心Gの位置を検出する(図5(C)及び図6参照)。即ち、各「集合マーク」の重心位置を検出する。この処理ルーチンは、プログラムとして、露光装置のハードディスク装置等の図示しない記憶手段に記憶されており、該記憶手段から読み出されてコントローラ70により実行される。
回転角度tで回転し且つ拡縮係数kで拡縮した場合のモデルマーク群の重心Gの位置座標(「真の重心」の位置座標)は、「認識座標系」で全部のマーク検出された場合の重心gの位置座標(gx、gy)と略同じである。従って、回転角度t、拡縮係数k及び検出された一部のマークから求めた重心gmの位置座標(mgx、mgy)を用いて、下記式(A)及び(B)で表される座標変換により「認識座標系」での「真の重心」の位置座標(gx、gy)が算出される。
上記では、4個のマークMで構成された集合マークを用いて、検出されたマークMの周囲にある投票空間に対し投票を行い、最も得票数の多い投票空間に集合マークの仮重心が存在すると決定する例について説明した。しかしながら、図7及び図8に示したように、10個以上のマークMを含む集合マークの場合には、一部のマークの欠落により仮重心の位置を決定できる場合と決定できない場合とがある。最大の得票数の投票空間が複数存在する等して、仮重心の位置を決定できない場合には、仮重心の決定方法を変更してもよい。
ここで、最小二乗法による姿勢調整方法、即ち、回転角度t及び拡縮係数kの算出方法について具体的に説明する。
設計マーク座標:pl1(lx1,ly1), pl2(lx2,ly2),…,pln(lxn,lyn)
計測マーク座標:pm1(mx1,my1), pm2(mx2,my2),…,pmn(mxn,myn)
但し、Σlxi=0、Σlyi=0、Σmxi=0、Σmyi=0とするように、重心は重なりあっているものとする。
lx'= k * (lx * cos(t) -ly * sin(t))
ly'= k * (lx * sin(t) +ly * cos(t))
Σei=e1+e2+…+en
ei= (mxi-k(cos(t)*lxi-sin(t)*lyi))2+(myi-k(sin(t)*lxi+cos(t)*lyi))2
図8(A)及び(B)に示した「円周状集合マーク」の場合には、同じ直径の円毎に円周状集合マークに特有の最小二乗法を適用することができる。図8(B)に示した複数のマークが複数の同心円を形成するように円周状に配置された集合マークであっても、同じ円周上にあるマークを選択して特有の最小二乗法を適用し、最後に平均を求めればよい。図20は円周状集合マークに適用する最小二乗法に用いるパラメータを説明するための図である。
12 基板
14 移動ステージ
16 脚部
18 設置台
20 ガイド
22 ゲート
24 スキャナ
24A 描画領域
26 カメラ
26A 撮像領域
30 露光ヘッド
32 露光エリア
34A ラスターデータ
34B ラスターデータ
40 データ作成装置
50 ラスター変換処理部
52 基準位置記憶手段
54 描画位置補正手段
55 マーク認識装置
56 画像データ補正手段
58 描画制御部
60 ステージ制御部
70 コントローラ
80 テンプレート
Claims (5)
- 設計情報に基づいて対象物に付された複数のマークから所定数以上のマークの位置を各々検出する検出手段と、
前記検出手段で検出された前記所定数以上のマークの位置に基づいて、前記所定数以上のマークからなる集合体の仮重心位置を推定する推定手段と、
前記検出手段で検出された前記所定数以上のマークから前記仮重心位置の推定に寄与したマークを検出マーク群として抽出する第1の抽出手段と、
前記設計情報に基づいた複数のマークから前記第1の抽出手段で抽出された検出マーク群のマークの各々に対応するマークをアライメントマーク群として抽出する第2の抽出手段と、
前記アライメントマーク群のマークの各々を前記検出マーク群のマークの各々に最も一致するように前記アライメントマーク群のマークの位置の各々を変更させたマーク群から、前記検出マーク群のマークの各々によって定まる基準点を算出する基準位置算出手段と、
を含むマーク認識装置。 - 前記基準位置算出手段を、
前記アライメントマーク群のマークの各々を前記検出マーク群のマークの各々に最も一致させるための回転角度及び拡縮倍率を最小二乗法により算出する第1の算出手段と、
前記アライメントマーク群のマークの位置を前記第1の算出手段で算出された回転角度及び拡縮倍率で変更させたマーク群から前記検出マーク群のマークの各々によって定まる基準点を算出する第2の算出手段と、
を含んで構成した請求項1記載のマーク認識装置。 - 前記推定手段は、予め定められた領域を複数に分割して形成された複数の投票空間を用い、前記検出手段で検出された前記所定数以上のマークの位置に基づいて、前記所定数以上のマークからなる集合体の重心が存在すると仮定される投票領域に投票し、投票数が最も多い投票空間の位置を、前記所定数以上のマークからなる集合体の仮重心位置が存在する位置として推定する請求項1または請求項2記載のマーク認識装置。
- 前記推定手段は、前記投票数が最も多い投票空間が複数ある場合には、前記マークの位置と重ならない投票空間の位置を、前記仮重心位置が存在する位置として推定する請求項3記載のマーク認識装置。
- 前記推定手段は、前記投票数が最も多い投票空間が複数ある場合には、前記仮重心位置が存在する位置は推定不能とする請求項3記載のマーク認識装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009261358A JP5441633B2 (ja) | 2009-11-16 | 2009-11-16 | マーク認識装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009261358A JP5441633B2 (ja) | 2009-11-16 | 2009-11-16 | マーク認識装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011107348A true JP2011107348A (ja) | 2011-06-02 |
JP5441633B2 JP5441633B2 (ja) | 2014-03-12 |
Family
ID=44230895
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009261358A Active JP5441633B2 (ja) | 2009-11-16 | 2009-11-16 | マーク認識装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5441633B2 (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013135200A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 配線基板の加工位置の補正方法 |
WO2014027483A1 (ja) * | 2012-08-14 | 2014-02-20 | 富士フイルム株式会社 | 描画装置、露光描画装置、描画方法、及び、プログラムを記憶した記録媒体 |
WO2014027484A1 (ja) * | 2012-08-14 | 2014-02-20 | 富士フイルム株式会社 | 描画装置、露光描画装置、描画方法及びプログラムを記憶した記録媒体 |
JP2014199298A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-23 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法 |
JP2014206648A (ja) * | 2013-04-12 | 2014-10-30 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法 |
CN104281009A (zh) * | 2013-07-12 | 2015-01-14 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 光刻重叠采样 |
JP2017067992A (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置、露光装置のアライメント方法、およびプログラム |
CN110113899A (zh) * | 2019-06-11 | 2019-08-09 | 博敏电子股份有限公司 | 一种多层芯板靶标制作方法 |
CN111142343A (zh) * | 2020-01-02 | 2020-05-12 | 长江存储科技有限责任公司 | 对准标记的中心坐标的生成方法 |
CN111960206A (zh) * | 2019-05-20 | 2020-11-20 | 东芝电梯株式会社 | 图像处理装置及标记 |
CN114415484A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-04-29 | 上海大溥实业有限公司 | 一种光刻提高对准精度的异向多点同步错位对准法 |
WO2024029221A1 (ja) * | 2022-08-04 | 2024-02-08 | キヤノントッキ株式会社 | アライメント装置、成膜装置、アライメント方法、電子デバイスの製造方法、プログラム及び記憶媒体 |
JP7496710B2 (ja) | 2020-04-28 | 2024-06-07 | ローム株式会社 | サーマルプリントヘッドの製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104964253B (zh) * | 2015-07-07 | 2018-05-04 | 广东威创视讯科技股份有限公司 | 一种Mark点设置方法及PCB |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06349706A (ja) * | 1993-06-08 | 1994-12-22 | Nikon Corp | 位置合わせ方法 |
JPH1091788A (ja) * | 1996-09-19 | 1998-04-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン位置合わせ装置およびパターン位置合わせ方法 |
JP2000112151A (ja) * | 1998-08-06 | 2000-04-21 | Sanee Giken Kk | 位置決め用マ―ク、位置決め方法および位置合わせ方法 |
-
2009
- 2009-11-16 JP JP2009261358A patent/JP5441633B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06349706A (ja) * | 1993-06-08 | 1994-12-22 | Nikon Corp | 位置合わせ方法 |
JPH1091788A (ja) * | 1996-09-19 | 1998-04-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン位置合わせ装置およびパターン位置合わせ方法 |
JP2000112151A (ja) * | 1998-08-06 | 2000-04-21 | Sanee Giken Kk | 位置決め用マ―ク、位置決め方法および位置合わせ方法 |
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013135200A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 配線基板の加工位置の補正方法 |
WO2014027483A1 (ja) * | 2012-08-14 | 2014-02-20 | 富士フイルム株式会社 | 描画装置、露光描画装置、描画方法、及び、プログラムを記憶した記録媒体 |
WO2014027484A1 (ja) * | 2012-08-14 | 2014-02-20 | 富士フイルム株式会社 | 描画装置、露光描画装置、描画方法及びプログラムを記憶した記録媒体 |
JP2014199298A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-23 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法 |
JP2014206648A (ja) * | 2013-04-12 | 2014-10-30 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法 |
CN104281009A (zh) * | 2013-07-12 | 2015-01-14 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 光刻重叠采样 |
JP2017067992A (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置、露光装置のアライメント方法、およびプログラム |
KR20170038648A (ko) * | 2015-09-30 | 2017-04-07 | 가부시키가이샤 오크세이사쿠쇼 | 노광 장치, 노광 장치의 얼라인먼트 방법, 및 프로그램 |
CN107015439A (zh) * | 2015-09-30 | 2017-08-04 | 株式会社Orc制作所 | 曝光装置以及曝光装置的对准方法 |
KR102504473B1 (ko) | 2015-09-30 | 2023-02-27 | 가부시키가이샤 오크세이사쿠쇼 | 노광 장치, 노광 장치의 얼라인먼트 방법, 및 프로그램 |
CN107015439B (zh) * | 2015-09-30 | 2020-07-24 | 株式会社Orc制作所 | 曝光装置以及曝光装置的对准方法 |
CN111960206A (zh) * | 2019-05-20 | 2020-11-20 | 东芝电梯株式会社 | 图像处理装置及标记 |
JP2020189713A (ja) * | 2019-05-20 | 2020-11-26 | 東芝エレベータ株式会社 | 画像処理装置およびマーカ |
CN111960206B (zh) * | 2019-05-20 | 2022-02-01 | 东芝电梯株式会社 | 图像处理装置及标记 |
CN110113899A (zh) * | 2019-06-11 | 2019-08-09 | 博敏电子股份有限公司 | 一种多层芯板靶标制作方法 |
CN111142343A (zh) * | 2020-01-02 | 2020-05-12 | 长江存储科技有限责任公司 | 对准标记的中心坐标的生成方法 |
CN111142343B (zh) * | 2020-01-02 | 2022-11-18 | 长江存储科技有限责任公司 | 对准标记的中心坐标的生成方法 |
JP7496710B2 (ja) | 2020-04-28 | 2024-06-07 | ローム株式会社 | サーマルプリントヘッドの製造方法 |
CN114415484A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-04-29 | 上海大溥实业有限公司 | 一种光刻提高对准精度的异向多点同步错位对准法 |
WO2024029221A1 (ja) * | 2022-08-04 | 2024-02-08 | キヤノントッキ株式会社 | アライメント装置、成膜装置、アライメント方法、電子デバイスの製造方法、プログラム及び記憶媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5441633B2 (ja) | 2014-03-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5441633B2 (ja) | マーク認識装置 | |
US10977829B2 (en) | Depth camera calibration device and method thereof | |
JP4563170B2 (ja) | 電気回路パターンの製造方法及びシステム | |
US8886350B2 (en) | Displacement calculation method, drawing data correction method, substrate manufacturing method, and drawing apparatus | |
TWI448839B (zh) | 描繪資料之補正裝置及描繪裝置 | |
KR102504473B1 (ko) | 노광 장치, 노광 장치의 얼라인먼트 방법, 및 프로그램 | |
TWI575307B (zh) | 資料補正裝置,描繪裝置,資料補正方法及描繪方法 | |
JP2006214816A (ja) | 半導体検査装置 | |
JP2011155412A (ja) | 投影システムおよび投影システムにおける歪み修正方法 | |
TWI728344B (zh) | 描繪裝置以及描繪方法 | |
JP4823751B2 (ja) | 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 | |
JP2011022329A (ja) | 描画装置、プログラム及び描画方法 | |
WO2020012707A1 (ja) | 3次元測定装置及び方法 | |
JP2007033040A (ja) | 光切断法による3次元形状計測装置における光学ヘッド部のキャリブレーション方法及び装置 | |
JP2007094033A (ja) | 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 | |
JP2006269651A (ja) | 画像抽出装置および方法、並びにそれらを有する露光装置および方法 | |
JP2007034186A (ja) | 描画方法および装置 | |
JP5336301B2 (ja) | パターン描画方法、パターン描画装置および描画データ生成方法 | |
JP6595870B2 (ja) | 補正情報生成装置、描画装置、補正情報生成方法および描画方法 | |
CN114295331A (zh) | 一种多摄模组光轴测试方法、装置、设备和介质 | |
JP2006292453A (ja) | 画像認識方法 | |
JP2006202152A (ja) | 画像処理装置および画像処理方法並びにこれらに用いるプログラム | |
TWI588625B (zh) | 描繪裝置、曝光描繪裝置、描繪方法以及記錄媒體 | |
JP6515946B2 (ja) | 画像処理装置、画像処理方法、プログラム | |
JP2024053178A (ja) | 画像処理方法および画像処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120614 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131115 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131126 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131217 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5441633 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |