JPWO2017010521A1 - 透明電極フィルム、調光素子、および透明電極フィルムの製造方法 - Google Patents
透明電極フィルム、調光素子、および透明電極フィルムの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2017010521A1 JPWO2017010521A1 JP2017528711A JP2017528711A JPWO2017010521A1 JP WO2017010521 A1 JPWO2017010521 A1 JP WO2017010521A1 JP 2017528711 A JP2017528711 A JP 2017528711A JP 2017528711 A JP2017528711 A JP 2017528711A JP WO2017010521 A1 JPWO2017010521 A1 JP WO2017010521A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- transparent
- metal pattern
- transparent electrode
- conductive metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 399
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 268
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 268
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 126
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 72
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 213
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 45
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 35
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 9
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 5
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 15
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 13
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 12
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 12
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 11
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 9
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 9
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 6
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 6
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 4
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 3
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJZYPAHZQPAADA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,5-dioxooxolan-3-yl)-4-triethoxysilylbutanoic acid Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(C(O)=O)C1CC(=O)OC1=O JJZYPAHZQPAADA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNHJSBBGDCSRJV-UHFFFAOYSA-N 3-(3-diethoxysilylpropyl)oxolane-2,5-dione Chemical compound CCO[SiH](CCCC1CC(=O)OC1=O)OCC MNHJSBBGDCSRJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTGUPRMSKLDTIW-UHFFFAOYSA-N 3-(3-dimethoxysilylpropyl)-4-methyloxolane-2,5-dione Chemical compound CC1C(C(=O)OC1=O)CCC[SiH](OC)OC CTGUPRMSKLDTIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXDMUOPCQNLBCZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-triethoxysilylpropyl)oxolane-2,5-dione Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCC1CC(=O)OC1=O GXDMUOPCQNLBCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZADOWCXTUZWAKL-UHFFFAOYSA-N 3-(3-trimethoxysilylpropyl)oxolane-2,5-dione Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCC1CC(=O)OC1=O ZADOWCXTUZWAKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018054 Ni-Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018481 Ni—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000756 V alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 238000000813 microcontact printing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940105570 ornex Drugs 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- UKLNMMHNWFDKNT-UHFFFAOYSA-M sodium chlorite Chemical compound [Na+].[O-]Cl=O UKLNMMHNWFDKNT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960002218 sodium chlorite Drugs 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B23/00—Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose
- B32B23/04—Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose comprising such cellulosic plastic substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B23/00—Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
- B32B27/281—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyimides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
- B32B27/325—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins comprising polycycloolefins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
- B32B27/365—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters comprising polycarbonates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/153—Constructional details
- G02F1/155—Electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
- H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2250/00—Layers arrangement
- B32B2250/03—3 layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2250/00—Layers arrangement
- B32B2250/40—Symmetrical or sandwich layers, e.g. ABA, ABCBA, ABCCBA
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/10—Coating on the layer surface on synthetic resin layer or on natural or synthetic rubber layer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/20—Inorganic coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/20—Inorganic coating
- B32B2255/205—Metallic coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/28—Multiple coating on one surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/20—Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/20—Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
- B32B2307/202—Conductive
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/20—Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
- B32B2307/204—Di-electric
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/30—Properties of the layers or laminate having particular thermal properties
- B32B2307/306—Resistant to heat
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
- B32B2307/41—Opaque
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
- B32B2307/412—Transparent
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
- B32B2307/416—Reflective
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
- B32B2307/418—Refractive
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
- B32B2307/546—Flexural strength; Flexion stiffness
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/70—Other properties
- B32B2307/732—Dimensional properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/70—Other properties
- B32B2307/75—Printability
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/70—Other properties
- B32B2307/752—Corrosion inhibitor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
- B32B2457/202—LCD, i.e. liquid crystal displays
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
- B32B2457/204—Plasma displays
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
- B32B2457/206—Organic displays, e.g. OLED
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
- H01B1/08—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances oxides
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/10—Transparent electrodes, e.g. using graphene
- H10K2102/101—Transparent electrodes, e.g. using graphene comprising transparent conductive oxides [TCO]
- H10K2102/103—Transparent electrodes, e.g. using graphene comprising transparent conductive oxides [TCO] comprising indium oxides, e.g. ITO
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
- H10K50/81—Anodes
- H10K50/816—Multilayers, e.g. transparent multilayers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
- H10K50/82—Cathodes
- H10K50/828—Transparent cathodes, e.g. comprising thin metal layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
Abstract
Description
透明フィルム基材12は、少なくとも可視光領域で無色透明であり、その上に金属層や透明導電層を形成する際の加熱温度における耐熱性を有していれば、その材料は特に限定されない。透明フィルム基材12の材料としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、およびセルロース系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、安価で透明性に優れる観点から、ポリエステル系樹脂が好ましく、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
導電性金属パターン層13は、透明電極フィルム10の導電性を担う層の1つである。一般に、導電性の金属層は光遮蔽性である。導電性金属層をストライプ状やメッシュ状にパターニングして開口部23を設けることにより、透明電極フィルムの光透過性を担保できる。パターニングされた金属層は目視では視認され難いため、視認上は透明であるといえる。
金属接着層13Aは、金属薄膜層13Bを透明フィルム基材12により強固に接着させるための層である。金属接着層13Aの材料は金属であれば特に限定されないが、金属薄膜層と透明フィルム基材との接着性を高める観点から、クロム・コバルト合金、アルミニウム・チタン合金、アルミニウム・クロム合金、アルミニウム・バナジウム合金、ニッケル・クロム・モリブデン合金、コバルト・ニッケル合金、ニッケル・チタン合金、銅・アルミ・亜鉛合金、ニッケル・銅合金、およびニッケル・クロム・シリコン合金等の合金材料が好ましい。中でも、ニッケルを含む合金が好ましく、ニッケル・銅合金が特に好ましい。
金属薄膜層13Bの材料は金属であれば特に限定されず、例えば、ニッケル、コバルト、モリブデン、アルミニウム、スズ、銀、チタン、バナジウム、クロム、鉄、銅、およびタングステン等が挙げられる。金属薄膜層13Bは、これらの金属を2種類以上含む合金であってもよい。
保護層11は、導電性金属パターン層13を直接的または間接的に覆うことにより、導電性金属パターン層13の劣化(腐食等)を抑制する作用を有する。保護層11は、単層でも積層構造でもよい。
透明導電層15は、導電性金属パターン層13とともに、透明電極フィルム10の導電性を担う層である。透明導電層15は、単層でも、積層構造でもよい。
図1に示す透明電極フィルム10は、透明フィルム基材12上に導電性金属パターン層13を設け、その上に保護層11および透明導電層15を形成することにより得られる。金属層をパターニングする方法として、金属層上にレジスト等によるマスクパターンを設け、マスクにより被覆されていない領域をエッチングする方法(いわゆるサブトラクティブ法)が挙げられる。
本発明の透明電極フィルムは、図2に示すように、導電性金属パターン層13上に、透明導電層15が設けられ、その上に保護層11が設けられていてもよい。この積層形態では、導電性金属パターン層13が、間接的に保護層11に被覆される。
本発明の透明電極フィルムは、例えば、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ(FPD)の透明電極基板や、有機EL照明用の電極として使用できる。また、本発明の透明電極フィルムは、エレクトロクロミック方式の調光素子の透明電極基板として使用できる。エレクトロクロミック方式の調光素子としては、一対の電極間に、液晶層、電解質層、電気泳動層等の電圧印可の有無によって光の透過状態が変化する調光層を挟持したものが挙げられる。
表面に易接着層を有するPETフィルムを、スパッタリング装置内にセットし、60原子%のニッケルと40原子%の銅からなる合金ターゲットを用い、アルゴンガスおよび酸素ガスを装置内に導入しながら、製膜室内圧力0.2Pa、基板温度0℃、パワー密度0.9W/cm2の条件で、スパッタリング製膜を行い、層厚25nmの金属接着層を製膜した。その上に、銅ターゲットを用いて、アルゴンガスを装置内に導入しながら、上記と同様の条件でスパッタリング製膜を行い、厚み575nmの金属薄膜層を製膜した。これらの工程により、合計厚みが600nmの導電性金属膜を製膜した。
実施例1と同様にして導電性金属パターン層を形成後、ITO透明導電層およびTiO2保護層を順に製膜した。すなわち、実施例2では、保護層と透明導電層の製膜順序を入れ替えたこと以外は、実施例1と同様にして透明電極フィルムを得た。
実施例1と同様にして導電性金属パターン層を形成後、無電解めっきにより導電性金属パターン層の表面に銀を析出させて保護層を形成した。無電解めっき液として、水、5重量%イミダゾール水溶液(日本マクダーミット社製、商品名:IM44)、硝酸、および5重量%硝酸銀と5重量%硝酸との混合水溶液(日本マクダーミット社製、商品名:IM448)を、体積比で、75.2:20:2.3:2.5で混合した水溶液(液温:23℃)を用いた。この水溶液に、導電性金属パターン層を形成後のフィルム基材を10秒間浸漬した後、純水でリンスし、乾燥させて、導電性金属パターン層および開口部に露出した透明フィルム基材の表面にAg保護層を形成した。保護層の厚みは、約25nmであった。
実施例3と同様にして導電性金属パターン層を形成後に、カップリング剤層を形成した。カップリング剤層形成用のコート剤として、3−アミノプロピルトリメトキシシラン(MOMENTIVE社製、商品名:SilQuest A−1110)100重量部に対して、光塩基発生剤として1,2−ジイソプロピル−3−[ビス(ジメチルアミノ)メチレン]グアニジウム 2−(3−ベンゾイルフェニル)プロピオネート(和光純薬工業社製、商品名:WPBG−266)2重量部、および希釈溶剤として酢酸エチル400重量部を混合した溶液を用意した。このコート剤を、導電性金属パターン層を形成後の透明フィルム基材に、乾燥後厚みが0.2μmとなるように塗布し、80℃で1分間乾燥させた後、紫外線(積算光量1000mJ/cm2)を照射して硬化させた。
実施例1と同様にストライプ状の導電性金属パターン層を形成後、保護層を形成せずに、透明導電層を形成した。すなわち、比較例1では、保護層を形成しなかった点を除いて、実施例1と同様にして透明電極フィルムを作製した。
以下に示す方法により、導電性金属パターン層における金属薄膜層を2層構造とした点以外は、比較例1と同様にして透明電極フィルムを作製した。
実施例1〜4および比較例1,2で得られた透明電極フィルムに対して、以下の評価を行った。
渦電流式抵抗測定装置(ナプソン株式会社製、商品名:EC−80)を用いて、透明電極フィルムのシート抵抗を測定した。
ヘーズメーター(日本電色工業社製、商品名:NDH7000)を用いて、透明電極を含む領域の光線透過率を測定した。
JIS K 0213に準拠して、導電性金属パターン層および保護層の酸化還元電位を測定した。実施例1,2のTiO2保護層の酸化還元電位は3.0V、実施例3のAg保護層の酸化還元電位は1.8V、導電性金属パターン層の酸化還元電位は0.34Vであった。
ガラス基板上に、電子線蒸着法により、実施例1と同様の保護層(酸化チタン層)を1μmの厚みで製膜した。R8340/R12702A ULTRA HIGH RESISTANCE METER (ADVANTEST 社製)を用い、温度23℃、湿度55%の環境下で、この単層膜の比誘電率を測定した。
透明電極35側を互いに向けた2枚の透明電極フィルム10の間に、導電性の硬化性組成物61を挟み込み、その周囲を絶縁テープ62で封止した耐久性確認キット60を用いて、透明電極フィルム10の耐久性を評価した。図8(A)は、耐久性確認キットの平面図である。図8(B)および図8(C)は、それぞれ図8(A)のB−B’線およびC−C’線における断面図である。なお、図8では、透明電極フィルムの透明フィルム基材12以外の部材は、便宜上簡略化して図示している。
11,311 保護層
12 透明フィルム基材
13 導電性金属パターン層
13A 金属接着層
13B 金属薄膜層
16 導電性金属膜
15 透明導電層
35 透明電極
17 カップリング剤層
23,123,223,323,423 開口部
25 マスクパターン
ML 積層部分
Claims (15)
- 透明フィルム基材上に、透明導電層および導電性金属パターン層を含む透明電極が設けられた透明電極フィルムであって、
前記導電性金属パターン層は、前記透明フィルム基材の面内方向にパターニングされており、
前記導電性金属パターン層が設けられた領域では、透明導電層および保護層が設けられており、前記導電性金属パターン層が、前記透明導電層および前記保護層よりも、前記透明フィルム基材に近い側に配置されており、
前記保護層は、貴金属および金属酸化物からなる群から選択される少なくとも1種により構成され、
導電性金属パターン層が設けられていない開口部にも前記透明導電層が設けられている透明電極フィルム。 - 前記導電性金属パターン層が、前記透明フィルム基材に接して設けられた金属接着層と、前記金属接着層上に設けられた金属薄膜層とを含む積層構成である、請求項1に記載の透明電極フィルム。
- 前記保護層の厚みが、1〜50nmである、請求項1または2に記載の透明電極フィルム。
- 前記保護層の酸化還元電位が、前記導電性金属パターン層の酸化還元電位よりも高い、請求項1〜3のいずれか1項に記載の透明電極フィルム。
- 前記保護層は、比誘電率が10以上の酸化物層である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の透明電極フィルム。
- 前記保護層が酸化チタンを含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の透明電極フィルム。
- 前記保護層が、前記導電性金属パターン層を構成する金属の酸化被膜である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の透明電極フィルム。
- 前記保護層が、金または銀を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の透明電極フィルム。
- 導電性金属パターン層が設けられていない開口部にも前記保護層が設けられている、請求項1〜8のいずれか1項に記載の透明電極フィルム。
- 前記導電性金属パターン層が設けられた領域では、前記導電性金属パターン層上に、カップリング剤層、前記保護層、および前記透明導電層が順に設けられており、
導電性金属パターン層が設けられていない開口部には、前記カップリング剤層および前記保護層が設けられていない、請求項1〜8のいずれか1項に記載の透明電極フィルム。 - 前記カップリング剤層が、シランカップリング剤の硬化物を含む、請求項10に記載の透明電極フィルム。
- 前記シランカップリング剤が、アミノ基を含むシランカップリング剤および酸無水物基を含むシランカップリング剤からなる群から選択される1種以上を含む、請求項11に記載の透明電極フィルム。
- 2枚の透明電極基板の間に調光層が挟持され、前記透明電極基板の少なくとも一方が、請求項1〜12のいずれか1項に記載の透明電極フィルムである、調光素子。
- 透明フィルム基材上に、透明導電層および導電性金属パターン層を含む透明電極が設けられた透明電極フィルムを製造する方法であって、
透明フィルム基材上に、前記透明フィルム基材の面内方向にパターニングされた導電性金属パターン層を形成する工程;
貴金属および酸化物からなる群から選択される少なくとも1種により構成される保護層を形成する工程;および
透明導電層を形成する工程、を含み、
前記導電性金属パターン層を形成後に、前記透明導電層の形成および前記保護層の形成が行われ、
前記導電性金属パターン層上、および導電性金属パターン層が設けられていない開口部を被覆するように、前記透明導電層が形成される、透明電極フィルムの製造方法。 - 前記導電性金属パターン層を形成する工程の後に、前記導電性金属パターン層上、および導電性金属パターン層が設けられていない開口部を被覆するようにカップリング剤層が形成され、
その後に、前記保護層を形成する工程;および前記透明導電層を形成する工程が、順に実施され、
前記保護層を形成する工程において、前記カップリング剤層が形成された前記導電性金属パターン層上および前記開口部を被覆するように、前記保護層が形成され、
前記開口部上の前記カップリング剤層および前記保護層を除去後に、前記透明導電層を形成する工程が実施される、請求項14に記載の透明電極フィルムの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015142405 | 2015-07-16 | ||
JP2015142405 | 2015-07-16 | ||
PCT/JP2016/070707 WO2017010521A1 (ja) | 2015-07-16 | 2016-07-13 | 透明電極フィルム、調光素子、および透明電極フィルムの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017010521A1 true JPWO2017010521A1 (ja) | 2018-04-26 |
JP6712270B2 JP6712270B2 (ja) | 2020-06-17 |
Family
ID=57757995
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017528711A Active JP6712270B2 (ja) | 2015-07-16 | 2016-07-13 | 透明電極フィルム、調光素子、および透明電極フィルムの製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10373732B2 (ja) |
JP (1) | JP6712270B2 (ja) |
WO (1) | WO2017010521A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9793436B2 (en) * | 2015-01-16 | 2017-10-17 | Epistar Corporation | Semiconductor light-emitting device |
CN111602211B (zh) * | 2017-12-28 | 2022-03-25 | 日东电工株式会社 | 透光性导电薄膜、其制造方法、调光薄膜、及调光构件 |
WO2019130841A1 (ja) * | 2017-12-28 | 2019-07-04 | 日東電工株式会社 | 光透過性導電フィルム、その製造方法、調光フィルム、および、調光部材 |
JP7005092B2 (ja) | 2018-03-14 | 2022-01-21 | エルジー・ケム・リミテッド | 埋め込み型透明電極基板およびその製造方法 |
TWI671913B (zh) * | 2018-05-02 | 2019-09-11 | 友達光電股份有限公司 | 半導體裝置及其製造方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20100135126A (ko) * | 2009-06-16 | 2010-12-24 | (주) 태양기전 | 정전용량 터치패널 및 그 제조방법 |
JP2011077068A (ja) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 電磁波シールド材 |
JP2011124075A (ja) * | 2009-12-10 | 2011-06-23 | Sekisui Chem Co Ltd | 絶縁シート、積層構造体及び積層構造体の製造方法 |
JP2013224397A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-10-31 | Fujifilm Corp | 銀イオン拡散抑制層形成用組成物、銀イオン拡散抑制層用フィルム、配線基板、電子機器、導電膜積層体、およびタッチパネル |
JP2014044934A (ja) * | 2012-08-01 | 2014-03-13 | Nitto Denko Corp | 透明導電性積層フィルム、その製造方法及びタッチパネル |
JP2014072041A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Jnc Corp | 透明導電膜の製造方法、透明導電膜およびデバイス素子 |
JP2014197183A (ja) * | 2013-03-06 | 2014-10-16 | 日東電工株式会社 | 画像表示装置 |
JP2014219667A (ja) * | 2013-04-04 | 2014-11-20 | 日東電工株式会社 | 導電性フィルムおよび画像表示装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4677314B2 (ja) * | 2005-09-20 | 2011-04-27 | 富士フイルム株式会社 | センサーおよび有機光電変換素子の駆動方法 |
JP2008107549A (ja) | 2006-10-25 | 2008-05-08 | Tokai Rubber Ind Ltd | 調光フィルム |
US20150226512A1 (en) * | 2014-02-12 | 2015-08-13 | Peter Butsook | Suspended arrow rest assembly for a sling bow |
-
2016
- 2016-07-13 WO PCT/JP2016/070707 patent/WO2017010521A1/ja active Application Filing
- 2016-07-13 JP JP2017528711A patent/JP6712270B2/ja active Active
- 2016-07-13 US US15/741,853 patent/US10373732B2/en active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20100135126A (ko) * | 2009-06-16 | 2010-12-24 | (주) 태양기전 | 정전용량 터치패널 및 그 제조방법 |
JP2011077068A (ja) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 電磁波シールド材 |
JP2011124075A (ja) * | 2009-12-10 | 2011-06-23 | Sekisui Chem Co Ltd | 絶縁シート、積層構造体及び積層構造体の製造方法 |
JP2013224397A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-10-31 | Fujifilm Corp | 銀イオン拡散抑制層形成用組成物、銀イオン拡散抑制層用フィルム、配線基板、電子機器、導電膜積層体、およびタッチパネル |
JP2014044934A (ja) * | 2012-08-01 | 2014-03-13 | Nitto Denko Corp | 透明導電性積層フィルム、その製造方法及びタッチパネル |
JP2014072041A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Jnc Corp | 透明導電膜の製造方法、透明導電膜およびデバイス素子 |
JP2014197183A (ja) * | 2013-03-06 | 2014-10-16 | 日東電工株式会社 | 画像表示装置 |
JP2014219667A (ja) * | 2013-04-04 | 2014-11-20 | 日東電工株式会社 | 導電性フィルムおよび画像表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20180204651A1 (en) | 2018-07-19 |
US10373732B2 (en) | 2019-08-06 |
JP6712270B2 (ja) | 2020-06-17 |
WO2017010521A1 (ja) | 2017-01-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6712270B2 (ja) | 透明電極フィルム、調光素子、および透明電極フィルムの製造方法 | |
TWI590136B (zh) | 靜電電容式觸碰面板及其製造方法以及輸入裝置 | |
JP4601710B1 (ja) | 狭額縁タッチ入力シートとその製造方法 | |
KR101707288B1 (ko) | 은이온 확산 억제층 형성용 조성물, 은이온 확산 억제층용 필름, 배선 기판, 전자 기기, 도전막 적층체, 및 터치 패널 | |
KR101307296B1 (ko) | 방청성이 우수한 협소 프레임 터치 입력 시트와 그 제조 방법 | |
WO2015146097A1 (ja) | 透明導電性積層体および透明導電性積層体を備えたタッチパネル | |
WO2013168773A1 (ja) | 導電膜積層体、タッチパネル、配線基板、電子機器、透明両面粘着シート、透明粘着シート | |
JP5887940B2 (ja) | タッチパネルセンサおよびその製造方法 | |
WO2015045408A1 (ja) | タッチパネル | |
KR20170021849A (ko) | 터치 센서 기판, 터치 패널, 표시 장치 및 터치 센서 기판의 제조 방법 | |
JP6433707B2 (ja) | 透明導電性積層体およびその製造方法、透明導電性フィルムの製造方法、ならびに透明導電性フィルム巻回体の製造方法 | |
WO2015053230A1 (ja) | タッチパネル用積層体 | |
JP2012133486A (ja) | 防錆性に優れたタッチ入力シートの製造方法 | |
JP6070675B2 (ja) | 透明導電基材の製造方法およびタッチパネルセンサ | |
JP6308211B2 (ja) | タッチパネル | |
WO2010082514A1 (ja) | 電磁波シールド性前面フィルターのアース電極取り出し用導電性部材並びにそれを用いた構成体及びディスプレイ | |
JP6722291B2 (ja) | 導電性フィルム、タッチパネル、フォトマスク、インプリントテンプレート、導電性フィルム形成用積層体、導電性フィルムの製造方法、および電子デバイスの製造方法 | |
WO2015045965A1 (ja) | タッチパネル用積層体、タッチパネル | |
JP4870830B2 (ja) | 防錆性に優れた両面透明導電膜シートとその製造方法 | |
JP2017107426A (ja) | 導電パターン付き基材、導電パターン付き基材の製造方法、及びタッチパネル | |
KR20200114559A (ko) | 은나노 와이어 터치센서를 포함하는 터치패널 및 이의 제조방법 | |
JP6556483B2 (ja) | 電極付き基板およびその製造方法 | |
JP6428942B2 (ja) | 導電性基板、導電性基板の製造方法 | |
JP6626759B2 (ja) | 導電性フィルム、タッチパネルおよび電子デバイス | |
JP2016171225A (ja) | エッチング液、透明導電体、及び透明導電体のパターニング方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190527 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200212 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200407 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200526 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200529 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6712270 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |