JP2010188482A - 研磨布用複合布帛および研磨布 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】単繊維径50〜1500nmのポリエステルマルチフィラメント糸Aを含む布帛にシート状物を積層して研磨布用複合布帛を得て、研磨布とする。
【選択図】なし
Description
このため、被研磨物表面の欠点(スクラッチ)発生率を低減させるため、極細繊維を用いた研磨布が提案されている(例えば、特許文献1、特許文献2参照)。
なお、極細繊維を用いた研磨布は、例えば特許文献3などにより提案されている。
まず、本発明において、ポリエステルマルチフィラメント糸Aはその単繊維径(単繊維の直径)が50〜1500nm(好ましくは100〜1000nm、特に好ましくは400〜800nm)の範囲内であることが肝要である。かかる単繊維径を単糸繊度に換算すると、0.00002〜0.022dtexに相当する。ここで、単繊維径が50nm未満の場合には製造が困難となるだけでなく、繊維強度が低くなるため実用上好ましくない。逆に、単繊維径が1500nmを超える場合には、研磨布用布帛を研磨布として使用する際、被研磨物表面を高度に平坦化することができず好ましくない。なお、単繊維の断面形状が丸断面以外の異型断面である場合には外接円の直径を単繊維径とする。また、単繊維径は、透過型電子顕微鏡で繊維の横断面を撮影することにより測定が可能である。
CF=(DWp/1.1)1/2×MWp+(DWf/1.1)1/2×MWf
[DWpは経糸総繊度(dtex)、MWpは経糸織密度(本/2.54cm)、DWfは緯糸総繊度(dtex)、MWfは緯糸織密度(本/2.54cm)である。]
透過型電子顕微鏡(TEM)で繊維の横断面を撮影することにより測定した。n数5で測定しその平均値を求め、その最大値と最小値の幅が平均値の50%より小さいものを「繊維径の均一性良好」とした。
(2)複合布帛の厚さ
JIS L 1018 8.5に従って複合布帛の厚みを測定した。
(3)複合布帛の曲げ強度
JIS K 6911 5.17に従って複合布帛の曲げ強度を測定した。
(4)研磨能率
シリコンウエハに対し、研磨剤に0.035μmのコロイダルシリカ砥粒を5重量%含んでいるスラリーを12ml/minで滴下しながら、定盤回転数80rpm、加圧200gf/cm2で10分間ポリッシュ加工した際の、シリコンウエハの重量低下量により測定した。0.4μm/min以上であれば合格とする。
島成分としてポリエチレンテレフタレート、海成分として5−ナトリウムスルホイソフタル酸9モル%と数平均分子量4000のポリエチレングリコール3重量%を共重合したポリエチレンテレフタレートを用い、海:島=30:70、島数=836の海島型複合未延伸繊維を、紡糸温度280℃、紡糸速度1500m/分で溶融紡糸して一旦巻き取った。得られた未延伸糸を、延伸温度80℃、延伸倍率2.5倍でローラー延伸し、次いで150℃で熱セットして巻き取り、ポリエステルマルチフィラメント糸A用糸条とした。得られた海島型複合延伸糸は56dtex/10filであり、透過型電子顕微鏡TEMによる繊維横断面を観察したところ、島の形状は丸形状でかつ島の径は700nmであった。
該複合布帛を直径380mmの円形に裁断し、シリコンウエハのポリッシュ加工に適した研磨パッドとした。該研磨パッドを用い、研磨剤に0.035μmのコロイダルシリカ砥粒を5重量%含んでいるスラリーを12ml/minで滴下しながら、定盤回転数80rpm、加圧200gf/cm2で10分間ポリッシュ加工を実施した。研磨能率は0.6μm/minと良好であり、スクラッチ傷などの欠点が非常に少なかった。
実施例1と同様に編物を得た後、該編物の裏面に、厚さ1.5mmの硬質ポリウレタン発泡体(ロデール・ニッタ社製の「MH−S15A」)を熱ロールラミネート法により、ウレタン樹脂溶剤系接着剤を用い、塗工量28g/m2、プレス温度80℃、プレス圧力2000kgf/cm、速度8m/秒の条件で貼り合せ、研磨層が編物、下地層が硬質ポリウレタン発泡体からなる複合布帛を得た。
該複合布帛を直径380mmの円形に裁断し、シリコンウエハのポリッシュ加工に適した研磨パッドとした。該研磨パッドを用い、研磨剤に0.035μmのコロイダルシリカ砥粒を5重量%含んでいるスラリーを12ml/minで滴下しながら、定盤回転数80rpm、加圧200gf/cm2で10分間ポリッシュ加工を実施した。研磨能率は0.56μm/minと良好であり、スクラッチ傷などの欠点が非常に少なかった。
実施例1と同様に海島型複合延伸糸56dtex/10filを得た。次いで、該延伸糸2本と通常のポリエチレンテレフタレートからなるマルチフィラメント(33dtex/12fil)とインターレース加工にて混繊糸を得た。
該混繊糸を300回/m(S方向)にて撚糸し、経糸に全量配し、一方、通常のポリエチレンテレフタレートからなるマルチフィラメント仮撚捲縮加工糸(56dtex/144fil)を2本引き揃え300回/m(S方向)にて合撚後、緯糸に全量配し、経密度171本/2.54cm、緯密度67本/2.54cmの織密度にて、通常の製織方法により5枚サテン組織の織物生機を得た。次いで、該織物を50℃にて湿熱処理した後、海島型複合延伸糸の海成分を除去するために、2.5%NaOH水溶液で、55℃にて20%減量(アルカリ減量)した。その後、常法の湿熱加工、乾熱加工を行った。
該複合布帛を直径380mmの円形に裁断し、シリコンウエハのポリッシュ加工に適した研磨パッドとした。該研磨パッドを用い、研磨剤に0.035μmのコロイダルシリカ砥粒を5重量%含んでいるスラリーを12ml/minで滴下しながら、定盤回転数80rpm、加圧200gf/cm2で10分間ポリッシュ加工を実施した。研磨能率は0.48μm/minと良好であり、スクラッチ傷などの欠点が非常に少なかった。
実施例1と同様に編物を得た後、そのまま該編物を直径380mmの円形に裁断し、シリコンウエハのポリッシュ加工に適した研磨パッドとした。得られた研磨パッドにおいて、フィラメント糸Aの平均単繊維径は700nm、最大値と最小値の幅は平均繊維径に対し15%であり、厚みは0.47mmであり、曲げ強度はタテ方向17cN/mm2、ヨコ方向7cN/mm2であった。
該研磨パッドを用い、研磨剤に0.035μmのコロイダルシリカ砥粒を5重量%含んでいるスラリーを12ml/minで滴下しながら、定盤回転数80rpm、加圧200gf/cm2で10分間ポリッシュ加工を実施した。研磨能率は0.58μm/minと良好であったが、研磨中に研磨パッドにシワが発生し、スクラッチ傷の欠点が多発した。
Claims (9)
- 単繊維径50〜1500nmのポリエステルマルチフィラメント糸Aを含む布帛にシート状物が積層されてなる研磨布用複合布帛。
- 前記ポリエステルマルチフィラメント糸Aのフィラメント数が1000本以上である、請求項1に記載の研磨布用複合布帛。
- 前記ポリエステルマルチフィラメント糸Aが、海成分と島成分とからなる海島型複合繊維の海成分を溶解除去して得られた糸条である、請求項1または請求項2に記載の研磨布用複合布帛。
- 前記布帛に、他糸条として、単繊維径が1500nmより大のポリエステルマルチフィラメント糸Bが含まれる、請求項1〜3のいずれかに記載の研磨布用複合布帛。
- 前記布帛が織物または編物である、請求項1〜4のいずれかに記載の研磨布用複合布帛。
- 前記シート状物が、織物または編物または不織布またはフィルムまたはウレタン樹脂発泡体である、請求項1〜5のいずれかに記載の研磨布用複合布帛。
- 複合布帛の厚さが0.02〜10mmの範囲内である、請求項1〜6のいずれかに記載の研磨布用複合布帛。
- 複合布帛の曲げ強度が50cN/mm2以上である、請求項1〜7のいずれかに記載の研磨布用複合布帛。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の研磨布用複合布帛を用いてなる、記録媒体のテキスチャリング用研磨布、記録媒体のポリッシング用研磨布、電子部品の仕上げ用研磨布、および電子部品のバフ研磨用研磨布からなる群より選択されるいずれかの研磨布。
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