JP2010147470A - パターニングデバイスの平面位置を非接触で制御するガス圧手段を備えたリソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 リソグラフィ装置は、パターニングデバイスの側面の少なくとも1つに選択的に加圧することによって平面方向でパターニングデバイスの位置を制御するように構成された位置コントローラを含む。位置コントローラはパターニングデバイスの位置を平面方向で非接触式に制御するために、パターニングデバイスの少なくとも1つの側面に加圧ガスを加えるように、ガス圧供給部及びこの側面へと向けられた1つ又は複数の流出開口を含む。
【選択図】 図2
Description
Claims (16)
- 放射ビームを調整する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができ、側面によって相互に接続された上部及び下部平面を有するパターニングデバイスを支持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
前記パターニングデバイスの前記側面の少なくとも1つに選択的に加圧することによって、前記パターニングデバイスの前記平面に実質的に平行な方向で前記パターニングデバイスの位置を制御し、ガス圧供給部、及び前記パターニングデバイスの前記側面の前記少なくとも1つへと向けられた1つ又は複数の流出開口を含む位置コントローラであって、前記ガス圧供給部及び前記1つ又は複数の流出開口が、前記パターニングデバイスの前記平面に実質的に平行な方向で前記パターニングデバイスの位置を非接触式に制御するように、前記側面の前記少なくとも1つに加圧ガスを加える前記位置コントローラと、
を備えるリソグラフィ装置。 - 前記位置コントローラが少なくとも1対の対向する流出開口を含み、前記パターニングデバイスを前記対向する流出開口の前記1対の間で加圧ガスにより非接触式に制約するように、前記流出開口が前記パターニングデバイスの対向する側面へと向けられる、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記位置コントローラが少なくとも2対の対向する流出開口を含み、前記パターニングデバイスを前記2対の対向する流出開口の間で加圧ガスにより非接触式に制約するように、前記流出開口が前記パターニングデバイスの2対の対向する側面へと向けられる、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記位置コントローラが1つ又は複数の位置決め要素を含み、前記位置決め要素が、各位置決め要素と前記パターニングデバイスの間にギャップが存在するように配置され、前記1つ又は複数の流出開口が前記ギャップ内に開放している、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記位置コントローラが、前記パターニングデバイス支持体に対して前記平面に実質的に平行な方向で前記1つ又は複数の位置決め要素を位置決めするドライバを含む、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記位置コントローラが、前記パターニングデバイス支持体に対して動作可能である共通フレーム内にそれぞれが装着された複数の位置決め要素を含み、前記複数の位置決め要素を位置決めする前記ドライバが、前記フレームに直接結合される、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記位置決め要素がそれぞれ、前記パターニングデバイスの前記個々の側にある凹凸に合わせて柔軟に調節されるために、前記フレームに対して柔軟に装着される、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記フレームが前記パターニングデバイスの全周に延在する、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ドライバが、前記パターニングデバイス支持体に対してそれぞれ個別に動作可能である複数の前記位置決め要素を含み、前記複数の位置決め要素を位置決めする前記ドライバが、前記位置決め要素のそれぞれと個別に直接結合される、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記支持体の平面に対して前記パターニングデバイスの浮動状態を維持するエアベアリングをさらに備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記パターニングデバイスが前記支持体の前記平面の下に浮動状態で保持される、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記位置コントローラが、前記パターニングデバイスの全周にわたって延在し、自身と前記パターニングデバイスの間にギャップが存在するように配置されたフレームを含み、前記パターニングデバイスを前記流出開口の間で加圧ガスにより非接触式に制約するように、前記流出開口が前記パターニングデバイスの対向する側面へと向けられた対向位置の前記ギャップ内へと開放し、前記位置コントローラが、前記パターニングデバイスを前記パターニングデバイス支持体に対して前記平面方向で自身内に制約した状態で、前記フレームを位置決めするドライバをさらに備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- パターンをパターニングデバイスから基板に転写する投影システムと、
側面によって相互に接続された上部及び下部平面を有するパターニングデバイスを支持する支持体と、
前記基板を保持する基板テーブルと、
前記パターニングデバイスの前記側面の少なくとも1つに選択的に加圧することによって、前記パターニングデバイスの前記平面に実質的に平行な方向で前記パターニングデバイスの位置を制御し、ガス圧供給部、及び前記パターニングデバイスの前記側面の前記少なくとも1つへと向けられた1つ又は複数の流出開口を含む位置コントローラであって、前記ガス圧供給部及び前記1つ又は複数の流出開口が、前記パターニングデバイスの前記平面に実質的に平行な方向で前記パターニングデバイスの位置を非接触式に制御するように、前記側面の前記少なくとも1つに加圧ガスを加える位置コントローラと、
を備えるリソグラフィ装置。 - パターン付き放射ビームを基板に投影するデバイス製造方法であって、
側面によって相互に接続された上部及び下部平面を有するパターニングデバイスを支持体上で支持し、
パターン付き放射ビームを形成するために、前記パターニングデバイスを使用して放射ビームを与え、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影し、
前記平面に実質的に平行な方向で前記パターニングデバイスの位置を制御することを含み、前記制御することが、
前記パターニングデバイスの前記平面に実質的に平行な方向で前記パターニングデバイスの位置を非接触式に制御するように、1つ又は複数の流出開口及びガス圧供給部を使用して前記パターニングデバイスの前記側面の少なくとも1つに加圧ガスを加えることによって、前記パターニングデバイスの前記側面の前記少なくとも1つに選択的に加圧することを含む方法。 - 前記パターニングデバイスが、前記パターニングデバイスの対向する側面へと向けられた少なくとも1対の対向する流出開口から加えられた加圧ガスの間で非接触式に制約される、請求項14に記載の方法。
- 前記パターニングデバイスが、前記パターニングデバイスの2対の対向する側面へと向けられた少なくとも2対の対向する流出開口から加えられた加圧ガスの間で非接触式に制約される、請求項15に記載の方法。
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