JP2010067646A - 半導体チップの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウエハの回路面に紫外線硬化型粘着剤層を有する表面保護シート12の紫外線硬化型粘着剤層16が貼着された状態で、ウエハ裏面を研削し、ウエハを多数のチップ20に分割、個片化する。そして、表面保護シート12の紫外線硬化性粘着剤層16に紫外線を照射し、紫外線硬化型粘着剤層16を硬化させる(硬化工程)。硬化工程において、矢印AおよびBの示すように貼着面12Aと非貼着面12Bとの両面に紫外線を照射し、チップ20の端部等に紫外線硬化型粘着剤層16の一部が残留することを確実に防止する。
【選択図】図3
Description
無:DBGプロセス後のウエハ上に、水浸入が観察されなかった。
有:DBGプロセス後のウエハ上に、水浸入が観察された。
◎:DBGプロセス後のウエハ上に、粘着剤残渣物が全く観察されなかった。
○:DBGプロセス後のウエハ上に、実用上問題ない範囲での粘着剤残渣物がごくわずかに観察された。
△:DBGプロセス後のウエハ上に、粘着剤残渣物が観察された。
×:DBGプロセス後のウエハ上に、粘着剤残渣物が多く観察された。
10K 溝
10R 裏面
10S 回路面
12 表面保護シート
12A 貼着面
12B 非貼着面
16 紫外線硬化型粘着剤層
20 チップ
20G 研削面(裏面)
20K チップの隙間
20S 回路面
24 ピックアップシート
26 ピン
28 ダイシングテープ
28A 貼着面
28B 非貼着面
Claims (7)
- 半導体回路が形成された回路面に溝を有するウエハに、紫外線硬化型粘着剤層を有する表面保護シートの前記紫外線硬化型粘着剤層が前記回路面に貼着された状態で、前記回路面とは反対側の裏面を研削して前記溝により分割されたチップを形成する半導体チップの製造方法において、前記ウエハの研削後に、前記表面保護シートの表面であって分割された前記チップが貼着されている貼着面と、前記貼着面とは反対側の表面である非貼着面との両面に紫外線を照射して前記紫外線硬化型粘着剤層を硬化させる硬化工程を備えることを特徴とする半導体チップの製造方法。
- 前記硬化工程において、空気雰囲気下で前記表面保護シートに前記紫外線を照射することを特徴とする請求項1に記載の半導体チップの製造方法。
- 前記硬化工程において、前記貼着面と前記非貼着面とに同時に前記紫外線を照射することを特徴とする請求項1に記載の半導体チップの製造方法。
- 前記硬化工程において、前記非貼着面よりも先に前記貼着面に前記紫外線を照射することを特徴とする請求項1に記載の半導体チップの製造方法。
- 硬化した前記表面保護シートを前記チップの回路面から剥離する剥離工程をさらに有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の半導体チップの製造方法。
- 前記硬化工程と前記剥離工程との間で、前記チップにおける回路面とは反対側の裏面にピックアップシートを貼着し、前記剥離工程の後で前記チップをピックアップするピックアップ工程をさらに有することを特徴とする請求項5に記載の半導体チップの製造方法。
- 紫外線硬化型粘着剤層を有するダイシングテープがウエハに貼着された状態で、ウエハを分割してチップを形成する半導体チップの製造方法において、ウエハをチップに個片化した後に、紫外線を前記ダイシングテープの粘着剤面であって、前記チップが貼着されている貼着面と、前記貼着面とは反対側の前記ダイシングテープの基材表面との両方に紫外線を照射して、前記紫外線硬化型粘着剤層を硬化させる硬化工程を備えることを特徴とする半導体チップの製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2013172115A (ja) * | 2012-02-23 | 2013-09-02 | Zhihao Chen | エコ加工のウェハー製造方法 |
WO2022131904A1 (en) * | 2020-12-17 | 2022-06-23 | Inari Technology Sdn Bhd | A method for fabricating semiconductor articles and system thereof |
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-
2008
- 2008-09-08 JP JP2008230208A patent/JP2010067646A/ja active Pending
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