JP2010045207A - 塗布、現像装置、及び塗布、現像装置の搬送アーム洗浄方法、並びに記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】洗浄液または薬液をウェハWに供給して処理を行う、ベベル部洗浄ノズル72が設けられた洗浄モジュール100と、IFアームA5の基板載置部材切片55a、55b、55cにベベル部が保持され当該基板載置部材切片55a、55b、55cに付着している汚染物を転写させる、洗浄冶具載置棚C2に格納された洗浄用ウェハ6と、洗浄モジュール100にてベベル部が洗浄された洗浄用ウェハ6をIFアームA5に保持させるように制御する制御部110とを備え、洗浄用ウェハ6に基板載置部材切片55a、55b、55cの汚染物を転写させることにより、ウェハW用の洗浄モジュール100で自動的にIFアームA5を洗浄する。
【選択図】図12
Description
複数枚の基板を収納したキャリアが搬入されるキャリアブロックと、基板にレジスト液を塗布し、レジスト膜が形成され、露光装置にて露光された基板に対して現像液により現像を行う処理ブロックと、キャリアブロック内のキャリアから基板を取り出して露光装置に対する受け渡し位置に至るまでの搬送経路に沿って搬送を行い、基板の裏面周縁のベベル部を保持する搬送アームを含む基板搬送手段と、を備えた塗布、現像装置において、
洗浄液または薬液を基板に供給して基板に対して処理を行う液処理モジュールと、
前記搬送アームにおける基板のベベル部の保持領域によりそのベベル部が保持され、当該搬送アームの保持領域に付着している汚染物を転写させるための洗浄用治具と、
この洗浄用治具を格納する治具格納部と、
前記液処理モジュールに設けられ、洗浄用治具のベベル部を洗浄するためのベベル部洗浄手段と、
前記液処理モジュールにてベベル部が洗浄された洗浄用治具を前記搬送アームに保持させるように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴としている。
複数枚の基板を収納したキャリアが搬入されるキャリアブロックと、基板にレジスト液を塗布し、レジスト膜が形成され、露光装置にて露光された基板に対して現像液により現像を行う処理ブロックと、キャリアブロック内のキャリアから基板を取り出して露光装置に対する受け渡し位置に至るまでの搬送経路に沿って搬送を行い、基板の裏面周縁のベベル部を保持する搬送アームを含む基板搬送手段と、を備えた塗布、現像装置において、
洗浄液または薬液を基板に供給して基板に対して処理を行い、洗浄用治具のベベル部を洗浄するためのベベル部洗浄手段が設けられた液処理モジュールを用い、
前記搬送アームにおける基板のベベル部の保持領域によりそのベベル部が保持され、当該搬送アームの保持領域に付着している汚染物を転写させるための洗浄用治具を、治具格納部から取り出して前記液処理モジュールに搬入する工程と、
この液処理モジュールにて洗浄用治具のベベル部をベベル部洗浄手段により洗浄する工程と、
前記液処理モジュールにてベベル部が洗浄された洗浄用治具を前記搬送アームに保持させる工程と、を含むことを特徴としている。
複数枚の基板を収納したキャリアが搬入されるキャリアブロックと、基板にレジスト液を塗布し、レジスト膜が形成され、露光装置にて露光された基板に対して現像液により現像を行う処理ブロックと、キャリアブロック内のキャリアから基板を取り出して露光装置に対する受け渡し位置に至るまでの搬送経路に沿って搬送を行い、基板の裏面周縁のベベル部を保持する搬送アームを含む基板搬送手段と、を備えた塗布、現像装置に用いられ、コンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、上記搬送アーム洗浄方法を実行するようにステップ群が組まれていることを特徴としている。
本発明の実施形態に係る塗布、現像装置の一例について説明する。図1は、本実施形態の塗布、現像装置と露光装置とを接続して構成したレジストパターン形成システムの平面図であり、図2は同概略斜視図である。図中B1は、基板であるウェハWが例えば13枚密閉収納された密閉型搬送容器(キャリア)であるFOUP1を搬入出するためのキャリアブロックであり、複数のキャリア載置台120と、FOUP1に対してウェハWの受け渡しを行うための受け渡しアームA1とを備えている。121は、FOUP1の蓋を開閉する機構である。
また洗浄用治具を洗浄する洗浄モジュールとしては、インターフェイスブロックB3に設けられた液浸露光前洗浄用の洗浄モジュール100に限らず、液浸露光の後にウェハWを洗浄する洗浄モジュールであってもよい。液浸露光後洗浄用の洗浄モジュールにウェハWのベベル部を洗浄するための洗浄ノズルが設けられていない場合には、洗浄用治具のベベル部を洗浄するための洗浄ノズルを付設することになる。
また本発明の実施の形態としては、次の第3の実施形態に示す形態であってもよい。この第3の実施形態の塗布、現像装置について図16を参照して説明する。本実施形態の塗布、現像装置では、棚ユニットU1に洗浄冶具載置棚C2を設け、複数枚の洗浄用ウェハ6を収納している。この実施形態の洗浄処理は、図16に示す経路に沿って洗浄用ウェハ6を搬送することにより行われる。なお第3の実施形態の棚ユニットU1、U2、U3の構成は、棚ユニットU1に洗浄冶具載置棚C2が追加で積層されている以外は、第1の実施形態の棚ユニットU1、U2、U3と同じである。洗浄用ウェハ6の搬送経路は、洗浄冶具載置棚C2→メインアームA2→COT→メインアームA2→TRS2→メインアームA3→TRS3→IFアームA4→受け渡しモジュールU41→IFアームA5→洗浄モジュール100となる。また洗浄モジュール100から洗浄冶具載置棚C2までの洗浄用ウェハ6の経路は、棚ユニットU1と受け渡しアームA1に搬送されない以外は、第2の実施形態と同様の経路を搬送される。そして搬送される洗浄用ウェハ6は、メインアームA2、A3、IFアームA4、A5からパーティクル等が転写され、洗浄モジュール100、及びベベルリンスノズルを備えた塗布モジュールCOTに搬送されてベベル洗浄が行われる。
6 洗浄用ウェハ(洗浄用冶具)
50 搬送基台
51a、51b ピンセット
55a、55b、55c 基板載置部材切片
61 ケーシング
62 シャッタ
63 搬入口
64 スピンチャック
65 スピンチャックモータ
66 カップ
67 ドレイン管
68 排気管
71 洗浄ノズル
72 ベベル部洗浄ノズル
100 洗浄モジュール
110 制御部
120 載置部
A1 受け渡しアーム
A2、A3 メインアーム
A4、A5 IFアーム
B1 キャリアブロック
B2 処理ブロック
B3 インターフェイスブロック
B4 露光装置
CO バッファカセット
C1 棚
C2 洗浄冶具載置棚
C3 洗浄冶具用キャリア
E1、E2 液処理モジュール
U1、U2、U3、U4 棚ユニット
U41 受け渡しモジュール
W ウェハ
Claims (16)
- 複数枚の基板を収納したキャリアが搬入されるキャリアブロックと、基板にレジスト液を塗布し、レジスト膜が形成され、露光装置にて露光された基板に対して現像液により現像を行う処理ブロックと、キャリアブロック内のキャリアから基板を取り出して露光装置に対する受け渡し位置に至るまでの搬送経路に沿って搬送を行い、基板の裏面周縁のベベル部を保持する搬送アームを含む基板搬送手段と、を備えた塗布、現像装置において、
洗浄液または薬液を基板に供給して基板に対して処理を行う液処理モジュールと、
前記搬送アームにおける基板のベベル部の保持領域によりそのベベル部が保持され、当該搬送アームの保持領域に付着している汚染物を転写させるための洗浄用治具と、
この洗浄用治具を格納する治具格納部と、
前記液処理モジュールに設けられ、洗浄用治具のベベル部を洗浄するためのベベル部洗浄手段と、
前記液処理モジュールにてベベル部が洗浄された洗浄用治具を前記搬送アームに保持させるように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。 - ベベル部洗浄手段は、基板のベベル部を洗浄する手段と兼用されていることを特徴とする請求項1記載の塗布、現像装置。
- 前記洗浄用治具が保持される搬送アームは、露光装置に接続されるインターフェイスブロックに設けられ、露光装置に基板を受け渡すためのものであることを特徴とする請求項1または2記載の塗布、現像装置。
- 洗浄用治具のベベル部を洗浄し、次いでこの洗浄用治具を搬送アームに保持させるステップを同一の搬送アームに対して複数回行うように制御信号を出力することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の塗布、現像装置。
- 前記ステップの実行回数を設定する設定部を備えていることを特徴とする請求項4記載の塗布、現像装置。
- 前記ステップの各々に用いられる洗浄用治具は同一の洗浄用治具であることを特徴とする請求項4または5に記載の塗布、現像装置。
- 各ステップの洗浄用治具は互いに異なる洗浄用治具であることを特徴とする請求項4または5記載の塗布、現像装置。
- 前記液処理モジュールは複数設けられ、洗浄用治具はこれら液処理モジュールにて順番にベベル部が洗浄され、
制御部は、各液処理モジュールの搬入前後にて搬送アームに洗浄用治具を保持させるように制御信号を出力するものであることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一つに記載の塗布、現像装置。 - 複数枚の基板を収納したキャリアが搬入されるキャリアブロックと、基板にレジスト液を塗布し、レジスト膜が形成され、露光装置にて露光された基板に対して現像液により現像を行う処理ブロックと、キャリアブロック内のキャリアから基板を取り出して露光装置に対する受け渡し位置に至るまでの搬送経路に沿って搬送を行い、基板の裏面周縁のベベル部を保持する搬送アームを含む基板搬送手段と、を備えた塗布、現像装置において、
洗浄液または薬液を基板に供給して基板に対して処理を行い、洗浄用治具のベベル部を洗浄するためのベベル部洗浄手段が設けられた液処理モジュールを用い、
前記搬送アームにおける基板のベベル部の保持領域によりそのベベル部が保持され、当該搬送アームの保持領域に付着している汚染物を転写させるための洗浄用治具を、治具格納部から取り出して前記液処理モジュールに搬入する工程と、
この液処理モジュールにて洗浄用治具のベベル部をベベル部洗浄手段により洗浄する工程と、
前記液処理モジュールにてベベル部が洗浄された洗浄用治具を前記搬送アームに保持させる工程と、を含むことを特徴とする塗布、現像装置の搬送アーム洗浄方法。 - 前記ベベル部洗浄手段は、基板のベベル部を洗浄する手段と兼用されていることを特徴とする請求項9記載の塗布、現像装置の搬送アーム洗浄方法。
- 前記洗浄用治具が保持される搬送アームは、露光装置に接続されるインターフェイスブロックに設けられ、露光装置に基板を受け渡すためのものであることを特徴とする請求項9または10記載の塗布、現像装置の搬送アーム洗浄方法。
- 洗浄用治具のベベル部を洗浄し、次いでこの洗浄用治具を搬送アームに保持させるステップを同一の搬送アームに対して複数回行うことを特徴とする請求項9ないし11のいずれか一つに記載の塗布、現像装置の搬送アーム洗浄方法。
- 各ステップに用いられる洗浄用治具は同一の洗浄用治具であるであることを特徴とする請求項12に記載の塗布、現像装置の搬送アーム洗浄方法。
- 各ステップの洗浄用治具は互いに異なる洗浄用治具であることを特徴とする請求項12記載の塗布、現像装置の搬送アーム洗浄方法。
- 液処理モジュールは複数設けられ、洗浄用治具はこれら液処理モジュールにて順番にベベル部が洗浄され、
各液処理モジュールの搬入前後にて搬送アームに洗浄用治具を保持させることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一つに記載の塗布、現像装置の搬送アーム洗浄方法。 - 複数枚の基板を収納したキャリアが搬入されるキャリアブロックと、基板にレジスト液を塗布し、レジスト膜が形成され、露光装置にて露光された基板に対して現像液により現像を行う処理ブロックと、キャリアブロック内のキャリアから基板を取り出して露光装置に対する受け渡し位置に至るまでの搬送経路に沿って搬送を行い、基板の裏面周縁のベベル部を保持する搬送アームを含む基板搬送手段と、を備えた塗布、現像装置に用いられ、コンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項9ないし16のいずれか一つに記載された搬送アーム洗浄方法を実行するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008208442A JP5374961B2 (ja) | 2008-08-13 | 2008-08-13 | 塗布、現像装置、及び塗布、現像装置の搬送アーム洗浄方法、並びに記憶媒体 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010045207A true JP2010045207A (ja) | 2010-02-25 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP5374961B2 (ja) |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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