JP2010043159A - 酸化チタン分散液の製造方法及び酸化チタン膜 - Google Patents
酸化チタン分散液の製造方法及び酸化チタン膜 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010043159A JP2010043159A JP2008206862A JP2008206862A JP2010043159A JP 2010043159 A JP2010043159 A JP 2010043159A JP 2008206862 A JP2008206862 A JP 2008206862A JP 2008206862 A JP2008206862 A JP 2008206862A JP 2010043159 A JP2010043159 A JP 2010043159A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium oxide
- dispersion
- mass
- hydrolyzate
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 107
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 107
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 92
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 claims abstract description 106
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 71
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 64
- -1 aminosilane compound Chemical class 0.000 claims abstract description 52
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 39
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 17
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 16
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 57
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 28
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 18
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 13
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 abstract description 15
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 abstract description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 6
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 abstract description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 90
- 230000008569 process Effects 0.000 description 57
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 51
- 239000000047 product Substances 0.000 description 43
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 36
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 32
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 18
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 11
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 7
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 7
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 7
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- YIYBQIKDCADOSF-UHFFFAOYSA-N alpha-Butylen-alpha-carbonsaeure Natural products CCC=CC(O)=O YIYBQIKDCADOSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid Chemical compound CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N pivalic acid Chemical compound CC(C)(C)C(O)=O IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 2
- UAXOELSVPTZZQG-UHFFFAOYSA-N tiglic acid Natural products CC(C)=C(C)C(O)=O UAXOELSVPTZZQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIYBQIKDCADOSF-ONEGZZNKSA-N trans-pent-2-enoic acid Chemical compound CC\C=C\C(O)=O YIYBQIKDCADOSF-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYHKNCXZYYTLRG-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazole-2-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=NC=CN1 XYHKNCXZYYTLRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-ARJAWSKDSA-M 2-Methyl-2-butenoic acid Natural products C\C=C(\C)C([O-])=O UIERETOOQGIECD-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLAMNBDJUVNPJU-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutyric acid Chemical compound CCC(C)C(O)=O WLAMNBDJUVNPJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 3-Methylbutanoic acid Natural products CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N Angelic acid Natural products CC=C(C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004887 air purification Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N beta-methyl-butyric acid Natural products CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid Chemical compound OC(=O)CC=C PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- TXWOGHSRPAYOML-UHFFFAOYSA-N cyclobutanecarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC1 TXWOGHSRPAYOML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 1
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- DRRZZMBHJXLZRS-UHFFFAOYSA-N n-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]cyclohexanamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNC1CCCCC1 DRRZZMBHJXLZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 238000013032 photocatalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010020 roller printing Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N tiglic acid Chemical compound C\C=C(/C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHQAGGVXTSFTPO-UHFFFAOYSA-N tripropylsilyloxymethanamine Chemical compound CCC[Si](CCC)(CCC)OCN GHQAGGVXTSFTPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
- Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Colloid Chemistry (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
【解決課題】酸化チタン粒子が高分散されており、且つ、酸性又はアルカリ性に起因する光触媒活性の低下が少なく、高い光触媒活性が得られる酸化チタン分散液及びその製造方法並びに酸化チタン膜を提供すること。
【解決手段】下記一般式(1):
【化1】
で表されるアミノシラン化合物の加水分解物に、pHが5〜8となるように硝酸、塩酸及び1価のカルボン酸より選ばれる少なくとも一種の酸を混合し、該加水分解物の中和物を得る中和工程と、該中和物に、水又は親水性溶媒と、酸化チタン粉末とを混合し、該酸化チタン粉末を分散させて、酸化チタン分散液を得る分散工程と、を行い得られる酸化チタン分散液であり、該分散工程での該酸化チタン粉末の混合量が、該酸化チタン分散液中の該酸化チタン粉末の含有量が1〜40質量%となる量であり、該加水分解物の中和物が、該酸化チタン粉末100質量部に対して、0.5〜20質量部の前記一般式(1)を加水分解して得られたものであること、を特徴とする酸化チタン分散液。
【選択図】なし
【解決手段】下記一般式(1):
【化1】
で表されるアミノシラン化合物の加水分解物に、pHが5〜8となるように硝酸、塩酸及び1価のカルボン酸より選ばれる少なくとも一種の酸を混合し、該加水分解物の中和物を得る中和工程と、該中和物に、水又は親水性溶媒と、酸化チタン粉末とを混合し、該酸化チタン粉末を分散させて、酸化チタン分散液を得る分散工程と、を行い得られる酸化チタン分散液であり、該分散工程での該酸化チタン粉末の混合量が、該酸化チタン分散液中の該酸化チタン粉末の含有量が1〜40質量%となる量であり、該加水分解物の中和物が、該酸化チタン粉末100質量部に対して、0.5〜20質量部の前記一般式(1)を加水分解して得られたものであること、を特徴とする酸化チタン分散液。
【選択図】なし
Description
本発明は、酸化チタン粒子を高分散させた酸化チタン分散液の製造方法に関するものである。
酸化チタン粉末は、白色顔料として古くから利用されており、近年は化粧品などの紫外線遮蔽材料、光触媒、コンデンサ、サーミスタの構成材料あるいはチタン酸バリウムの原料等電子材料に用いられる焼結材料に広く利用されている。特にここ数年、光触媒としての利用が盛んに試みられており、光触媒反応の用途開発が盛んに行われている。
この酸化チタン光触媒の用途は非常に多岐に亘っており、水の分解による水素の発生、酸化還元反応を利用した有機化合物の合成、排ガス処理、空気清浄、防臭、殺菌、抗菌、水処理、照明機器等の汚れ防止等、数多くの用途開発が行われている。
しかしながら、酸化チタンは可視光付近の波長領域において大きな屈折率を示すため、可視光領域では殆ど光吸収は起こらない。屋内での蛍光灯などの下での利用を考えると、蛍光灯のスペクトルは殆どが400nm以上であるため、光触媒として十分な特性を発現することはできない。そこで、可視光領域での触媒活性を発現させ、より利用性の高い高活性の光触媒の開発が行なわれている。
近年、従前の金属イオンを酸化チタンにドープした光触媒の不十分な触媒活性を改善するものとして、特開2006−1774号公報(特許文献1)には、硫黄含有酸化チタン粉末を用いた分散剤が開示されている。この酸化チタン分散体塗膜形成物によれば、紫外線領域だけではなく可視光領域の光触媒活性が高いことから、太陽光の当たらない蛍光灯等の室内においても十分に光触媒作用を発揮することができるものである。
また、通常の酸化チタン分散液として、特開平11−319577号公報(特許文献2)には、有機系界面活性剤や強酸を用いず、非酸性条件下で高分散させ、高い透明性と光触媒活性を有する膜をコーティングできる分散液が開示されている。具体的には、光触媒微粒子を多孔質シリカにより表面被覆することにより得られる複合光触媒微粒子が、アルカリ条件下で分散、安定化した複合光触媒微粒子分散液である。
また、特開2007−217268号公報(特許文献3)には、主成分として屈折率が1.50以上の有機酸を分散安定剤として用いた、透明性及び安定性に優れた有機溶媒分散液が開示されている。
また、特開2008−120961号公報(特許文献4)には、 (a)以下の式で表わされるアミノ基を含むシラン化合物 R4−n−Si−(OR’)n (式中、Rはアミノ基含有の有機基を表わし、R’はメチル基、エチル基またはプロピル基を表わし、nは1〜3から選択される整数を表わす)及び(b)H3BO3及びB2O3からなる群から選択される少なくとも1種のホウ素化合物を、(a)成分1モルに対して(b)成分0.02モル以上の比率で反応させて得られる反応生成物を含む、高分子物質と、(c)光触媒活性を有する酸化物半導体と、を含む、高分子組成物が開示されている。
また、特開2008−120961号公報(特許文献4)には、 (a)以下の式で表わされるアミノ基を含むシラン化合物 R4−n−Si−(OR’)n (式中、Rはアミノ基含有の有機基を表わし、R’はメチル基、エチル基またはプロピル基を表わし、nは1〜3から選択される整数を表わす)及び(b)H3BO3及びB2O3からなる群から選択される少なくとも1種のホウ素化合物を、(a)成分1モルに対して(b)成分0.02モル以上の比率で反応させて得られる反応生成物を含む、高分子物質と、(c)光触媒活性を有する酸化物半導体と、を含む、高分子組成物が開示されている。
本発明者が検討したところ、特許文献2は、ポリシロキサンを用いた表面被覆によって得られる分散のメカニズムであるため、アルカリ側でしか、分散の安定化が困難であり、また、難分解性のシリカが酸化チタン表面を被覆するため、光触媒活性の低下に繋がる虞があった。また、特許文献3では、有機酸を分散安定剤として用いるため、光触媒分散液は酸性となる。従って、腐食しやすい金属への接触は好ましくないという欠点があった。更には、特許文献2及び特許文献3では、分散液の液性は酸性又はアルカリ性が強いであるため、この酸性あるいはアルカリ性に起因する物質が光触媒活性を低下させる虞があった。また、特許文献4では、高分子組成物が中性付近となる領域では、酸化チタンが良好に分散しないという欠点があった。
したがって、本発明の目的は、酸化チタン粒子が高分散されており、且つ、酸性又はアルカリ性に起因する光触媒活性の低下が少なく、高い光触媒活性が得られる酸化チタン分散液及びその製造方法並びに酸化チタン膜を提供することにある。
すなわち、本発明(1)は、下記一般式(1):
(式中、R1は、アミノ基を有する炭化水素基を示し、R2、R3及びR4は、炭素数が1〜8の炭化水素基を示し、R2、R3及びR4は同一でも異なっていてもよい。)
で表されるアミノシラン化合物の加水分解物に、pHが5〜8となるように硝酸、塩酸及び1価のカルボン酸より選ばれる少なくとも一種の酸を混合し、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物を得る中和工程と、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物に、水又は親水性溶媒と、酸化チタン粉末とを混合し、該酸化チタン粉末を分散させて、酸化チタン分散液を得る分散工程と、を有する酸化チタン分散液の製造方法であり、
該分散工程での該酸化チタン粉末の混合量が、該酸化チタン分散液中の該酸化チタン粉末の含有量が1〜40質量%となる量であり、
前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物が、該酸化チタン粉末100質量部に対して、0.5〜20質量部であること、
を特徴とする酸化チタン分散液の製造方法を提供するものである。
で表されるアミノシラン化合物の加水分解物に、pHが5〜8となるように硝酸、塩酸及び1価のカルボン酸より選ばれる少なくとも一種の酸を混合し、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物を得る中和工程と、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物に、水又は親水性溶媒と、酸化チタン粉末とを混合し、該酸化チタン粉末を分散させて、酸化チタン分散液を得る分散工程と、を有する酸化チタン分散液の製造方法であり、
該分散工程での該酸化チタン粉末の混合量が、該酸化チタン分散液中の該酸化チタン粉末の含有量が1〜40質量%となる量であり、
前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物が、該酸化チタン粉末100質量部に対して、0.5〜20質量部であること、
を特徴とする酸化チタン分散液の製造方法を提供するものである。
また、本発明(2)は、前記本発明(1)の製造方法で得られた酸化チタン分散液を用いて形成されたことを特徴とする酸化チタン膜を提供するものである。
本発明によれば、酸化チタン粒子が高分散されており、且つ、酸性又はアルカリ性に起因する光触媒活性の低下が少なく、高い光触媒活性が得られる酸化チタン分散液の製造方法並びに酸化チタン膜を提供することができる。
本発明の酸化チタン分散液の製造方法は、下記一般式(1):
(式中、R1は、アミノ基を有する炭化水素基を示し、R2、R3及びR4は、炭素数が1〜8の炭化水素基を示し、R2、R3及びR4は同一でも異なっていてもよい。)
で表されるアミノシラン化合物の加水分解物に、pHが5〜8となるように硝酸、塩酸及び1価のカルボン酸より選ばれる少なくとも一種の酸を混合し、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物を得る中和工程と、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物に、水又は親水性溶媒と酸化チタン粉末とを混合し、該酸化チタン粉末を分散させて、酸化チタン分散液を得る分散工程と、を有する酸化チタン分散液の製造方法であり、
該分散工程での該酸化チタン粉末の混合量が、該酸化チタン分散液中の該酸化チタン粉末の含有量が1〜40質量%となる量であり、
前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物の量が、該酸化チタン粉末100質量部に対して、0.5〜20質量部である酸化チタン分散液の製造方法である。
なお、通常、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物は、含水物又は該中和物が分散している中和物分散液であるため、ここで定義するアミノシラン化合物の加水分解物の中和物の量は、含水物の乾燥物又は中和物分散液中の乾燥物の質量である。そして、乾燥物の質量は、乾燥前のアミノシラン化合物の加水分解物の中和物の含水物又は中和物分散液の測定試料を、大気中で、120℃で加熱し、質量変化が0.2質量%/分以下となったときの測定試料の質量である。例えば、乾燥前のアミノシラン化合物の加水分解物の中和物の含水物又は中和物分散液の質量がX(g)、大気中で、120℃で加熱し、質量変化が0.2質量%/分以下となったときの質量がY(g)であったとすると、乾燥前のアミノシラン化合物の加水分解物の中和物の含水物又は中和物分散液中の乾燥物の質量割合は、(Y/X)×100(%)になるので、乾燥物の質量割合が(Y/X)×100(%)として、アミノシラン化合物の加水分解物の中和物の含水物又は中和物分散液の使用量を算出する(アミノシラン化合物の加水分解物の中和物の質量=乾燥前のアミノシラン化合物の加水分解物の中和物の含水物又は中和物分散液の使用量×(Y/X)で算出)。
で表されるアミノシラン化合物の加水分解物に、pHが5〜8となるように硝酸、塩酸及び1価のカルボン酸より選ばれる少なくとも一種の酸を混合し、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物を得る中和工程と、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物に、水又は親水性溶媒と酸化チタン粉末とを混合し、該酸化チタン粉末を分散させて、酸化チタン分散液を得る分散工程と、を有する酸化チタン分散液の製造方法であり、
該分散工程での該酸化チタン粉末の混合量が、該酸化チタン分散液中の該酸化チタン粉末の含有量が1〜40質量%となる量であり、
前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物の量が、該酸化チタン粉末100質量部に対して、0.5〜20質量部である酸化チタン分散液の製造方法である。
なお、通常、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物は、含水物又は該中和物が分散している中和物分散液であるため、ここで定義するアミノシラン化合物の加水分解物の中和物の量は、含水物の乾燥物又は中和物分散液中の乾燥物の質量である。そして、乾燥物の質量は、乾燥前のアミノシラン化合物の加水分解物の中和物の含水物又は中和物分散液の測定試料を、大気中で、120℃で加熱し、質量変化が0.2質量%/分以下となったときの測定試料の質量である。例えば、乾燥前のアミノシラン化合物の加水分解物の中和物の含水物又は中和物分散液の質量がX(g)、大気中で、120℃で加熱し、質量変化が0.2質量%/分以下となったときの質量がY(g)であったとすると、乾燥前のアミノシラン化合物の加水分解物の中和物の含水物又は中和物分散液中の乾燥物の質量割合は、(Y/X)×100(%)になるので、乾燥物の質量割合が(Y/X)×100(%)として、アミノシラン化合物の加水分解物の中和物の含水物又は中和物分散液の使用量を算出する(アミノシラン化合物の加水分解物の中和物の質量=乾燥前のアミノシラン化合物の加水分解物の中和物の含水物又は中和物分散液の使用量×(Y/X)で算出)。
本発明の酸化チタン分散液の製造方法では、先ず、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物に、pHが5〜8となるように、硝酸、塩酸及び1価のカルボン酸より選ばれる少なくとも一種の酸を混合し、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物を中和して、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物を得る中和工程を行う。
前記一般式(1)中、R1は、アミノ基、すなわち、第一級アミノ基、第二級アミノ基又は第三級アミノ基を有する炭化水素基である。そして、R1に係る該アミノ基は、該酸により中和される基である。R1に係る該アミノ基が、第二級アミノ基又は第三級アミノ基の場合、その第二級アミノ基又は第三級アミノ基の窒素原子に結合する基としては、直鎖、分岐鎖又は脂環式のアルキル基、芳香族基などが挙げられる。R1に係る該アミノ基は、1種であっても、2種以上であってもよく、また、1つのR1中に、1個の該アミノ基を有していてもよく、2個以上の該アミノ基を有していてもよい。また、R1に係る該アミノ基が、R1に係る該炭化水素基に結合している位置は、特に制限されない。
R1に係る該炭化水素基としては、直鎖、分岐鎖又は脂環式のアルキル基、芳香族基などが挙げられる。また、R1は、酸素原子又はR1に係る該アミノ基の窒素原子以外の窒素原子を有している炭化水素基であっても、R1に係る該アミノ基の窒素原子以外には、窒素原子又は酸素原子を有さない炭化水素基であってもよい。R1に係る該炭化水素基が、R1に係る該アミノ基の窒素原子以外の窒素原子又は酸素原子を有している場合、R1に係る該炭化水素基は、直鎖、分岐鎖、脂環式、芳香族環式等の炭化水素鎖中に、例えば、エーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、アミド結合等、あるいは、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、第四級アンモニウム基、水酸基等を有する基である。
前記一般式(1)中、R2、R3及びR4は、炭素数が1〜8の炭化水素基であり、例えば、直鎖、分岐鎖又は脂環式のアルキル基、芳香族基等が挙げられる。また、R2、R3及びR4は同一でも異なっていてもよい。
R2、R3及びR4は、いずれも、R2O−、R3O−及びR4O−とのように、酸素原子を介して、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物のSi原子に結合している。
そして、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物のうち、下記一般式(2):
(式中、R5及びR6は、水素原子、又は基中に1個以上の酸素原子又は窒素原子を有してもよい炭化水素基を示し、R5及びR6は、同一であっても異なってもよく、R7は、炭素数1〜8の二価の有機基を示し、R8、R9及びR10は、炭素数が1〜8の炭化水素基を示し、R8、R9及びR10は同一でも異なっていてもよい。)
で表わされるアミノシラン化合物が、酸化チタンの分散性が良好となる点で好ましい。
で表わされるアミノシラン化合物が、酸化チタンの分散性が良好となる点で好ましい。
前記一般式(2)中、R5及びR6は、水素原子、又は基中に1個以上の酸素原子又は窒素原子を有してもよい炭化水素基である。つまり、R5及びR6の両方が水素原子の場合、前記一般式(2)で表わされるアミノシラン化合物は、第一級のアミノ基を有するアミノシラン化合物であり、R5及びR6のいずれか一方が水素原子で、他方が基中に1個以上の酸素原子又は窒素原子を有してもよい炭化水素基の場合、前記一般式(2)で表わされるアミノシラン化合物は、第二級のアミノ基を有するアミノシラン化合物であり、R5及びR6の両方が基中に1個以上の酸素原子又は窒素原子を有してもよい炭化水素基の場合、前記一般式(2)で表わされるアミノシラン化合物は、第三級のアミノ基を有するアミノシラン化合物である。
R5及びR6が、該基中に1個以上の酸素原子又は窒素原子を有してもよい炭化水素基の場合、R5及びR6としては、酸化チタンの分散性が高くなる点で、炭素数が1〜3の直鎖、分岐鎖又は脂環式のアルキル基が好ましく、そのうち、炭素数が1〜3のアルキル基が特に好ましく、メチル基、エチル基がより好ましい。
また、R5及びR6に係る該基中に1個以上の酸素原子又は窒素原子を有する炭化水素基としては、直鎖、分岐鎖、脂環式、芳香族環式等の炭化水素鎖中に、例えば、エーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、アミド結合等、あるいは、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、第四級アンモニウム基、水酸基、等を有する基である。これらのうち、R5及びR6に係る該基中に1個以上の酸素原子又は窒素原子を有する炭化水素基としては、第一級アミノ基、第二級アミノ基又は第三級アミノ基を有する炭素数が1〜3の炭化水素基が好ましい。
前記一般式(2)中、R7は、炭素数1〜8の二価の有機基であり、例えば、直鎖、分岐鎖又は脂環式のアルキレン基、アルキル基を有してもよいフェニレン基等である。
前記一般式(2)中、R8、R9及びR10は、炭素数1〜3のアルキル基であり、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基である。また、R8、R9及びR10は、同一であっても異なってもよい。
前記一般式(2)で表わされるアミノシラン化合物としては、例えば、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシランなどが挙げられ、市販製品としては、信越化学工業株式会社製品KBM−903、KBE−903、KBM−603、KBE−603等が挙げられる。これらのうち、3−アミノプロピルトリメトキシシランが、保存安定性、酸化チタン分散液を用いて得られる酸化チタン膜の硬化性に優れる点で好ましい。
前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物を得る方法としては、特に制限されず、例えば、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物に、水を添加して、50℃以下で、1〜8時間撹拌する方法が挙げられる。また、市販の前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物としては、例えば、3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物である信越化学工業株式会社製品KBP−90が挙げられる。
そして、該中和工程では、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物に、pHが5〜8となるように、好ましくはpHが6〜7となるように、該酸を混合し、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物を中和する。前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物に該酸を加えて、pHを上記範囲とすることにより、鉄、アルミニウム等の金属上に塗布する際に、腐食の問題が生じず、且つ、酸化チタン分散液の保存安定性及び分散性が優れる。
本発明の酸化チタン分散液の製造方法に係る酸は、酸化チタンの分散性が高くなる点で、硝酸、塩酸及び1価のカルボン酸から選ばれる少なくとも一種以上の酸である。1価のカルボン酸とは、化合物中に1個のカルボキシル基を有する化合物である。例えば、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、n−酪酸、イソ酪酸、n−吉草酸、イソ吉草酸、2−メチル酪酸、ピバリン酸、トリメチル酢酸、アクリル酸、クロトン酸、ビニル酢酸、チグリン酸、4−ペンテン酸、trans−2−ペンテン酸、シクロブタンカルボン酸、安息香酸などが挙げられる。該酸の混合量は、酸の種類によって、適宜選択される。特に、硝酸及び酢酸が光触媒活性に優れる点、酸化チタンの分散性に優れる点で好ましい。
次いで、本発明の酸化チタン分散液の製造方法では、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物に、水又は該親水性溶媒と、酸化チタン粉末とを混合し、該酸化チタン粉末を分散させることにより、酸化チタン分散液を得る分散工程を行う。
前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物の量は、該分散工程で混合する該酸化チタン粉末100質量部に対して、0.5〜20質量部、好ましくは4〜10質量部である。前記範囲にあることにより、酸化チタンの分散性に優れ、且つ、光触媒活性が高い酸化チタン分散液が得られる。
前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物の量は、該分散工程で混合する該酸化チタン粉末100質量部に対して、0.5〜20質量部、好ましくは4〜10質量部である。前記範囲にあることにより、酸化チタンの分散性に優れ、且つ、光触媒活性が高い酸化チタン分散液が得られる。
本発明の酸化チタン分散液の製造方法に係る該酸化チタン粉末としては、酸化チタン、窒素や硫黄を内部に含む酸化チタン、硫黄をTiサイトにドープした酸化チタン、酸素が欠損した酸化チタン、貴金属を担持した酸化チタン、遷移金属が担持された酸化チタン、遷移金属を内部に含む酸化チタンなどが挙げられる。これらのうち、可視光で高活性を示す点で、硫黄をTiサイトにドープした酸化チタンが好ましい。また、該酸化チタン粉末は、酸化チタンに遷移金属や貴金属が添加又は担持されたものでもよい。遷移金属や貴金属の担持量は、種類によって異なるが、触媒活性が高くなるように設定され、通常、0.1〜5質量%である。
該酸化チタン粉末を混合する際の該酸化チタンの混合量は、酸化チタン分散液中の該酸化チタン粉末の含有量が1〜40質量%、好ましくは10〜20質量%となる量である。該酸化チタンの混合量が、上記範囲未満だと、酸化チタン光触媒膜の活性が低くなり、また、上記範囲を超えると、酸化チタンの分散性が悪くなる。
本発明の酸化チタン分散液に係る該親水性有機溶媒は、水と相溶性のある溶媒であればよく、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、アセトニトリル、アセトン、n−ブタノール、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられ、これらのうち、エタノールが好ましい。
前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物に、水又は該親水性有機溶媒と、該酸化チタン粉末とを混合した後、混合液を撹拌すること等により、該混合液に該酸化チタン粉末を分散させ、酸化チタン分散液を得る。該分散工程では、該混合液に該酸化チタン粉末を分散させる際、より高い分散性を得るために、該酸化チタン粉末の凝集を緩和することを目的として、該混合液を湿式粉砕処理することもできる。該湿式粉砕処理には、酸化チタン分散液中の酸化チタン粉末の凝集を緩和することができるものであれば、せん断作用や摩砕作用を利用した解砕装置、撹拌式の解砕装置等の公知の湿式解砕装置を使用することができる。具体的には、ジェットミル、ビーズミル、ロールミル、ハンマーミル、振動ミル、流星型ボールミル、サンドミル、三本ロールミル等の解砕装置を使用することができ、これらのうち、ビールミル解砕装置が、効率的に解砕できる点で好ましい。また、該湿式粉砕処理に先立って、酸化チタン分散体をボールミルにより予備解砕処理することより、酸化チタン粉末の凝集をより緩和することができるので、酸化チタン粉末の分散性を高めることができる。
本発明の酸化チタン分散液の製造方法の形態例としては、例えば、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物に、水を添加し加水分解することより、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物を含有する加水分解液を得、次いで、得られた加水分解液に該酸を混合して、pHを5〜8にし、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物を含有する中和反応液を得(中和工程)、次いで、得られた中和反応液に、水又は該親水性溶媒を混合し、酸化チタン分散液中の含有量が1〜40質量%となる量の該酸化チタン粉末を混合した後、混合液を撹拌する等により、該混合液中に該酸化チタン粉末を分散させて、酸化チタン分散液を得る(分散工程)方法が挙げられる。アミノシラン化合物の加水分解物の中和物の量は、該分散工程で混合する該酸化チタン粉末100質量部に対して、0.5〜20質量部となる量である。
本発明の酸化チタン分散液は、下記一般式(1):
(式中、R1は、アミノ基を有する炭化水素基を示し、R2、R3及びR4は、炭素数が1〜8の炭化水素基を示し、R2、R3及びR4は同一でも異なっていてもよい。)
で表されるアミノシラン化合物の加水分解物に、pHが5〜8となるように硝酸、塩酸及び1価のカルボン酸より選ばれる少なくとも一種の酸を混合し、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物を得る中和工程と、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物に、水又は親水性溶媒と、酸化チタン粉末とを混合し、該酸化チタン粉末を分散させて、酸化チタン分散液を得る分散工程と、を行い得られる酸化チタン分散液であり、
該分散工程での該酸化チタン粉末の混合量が、該酸化チタン分散液中の該酸化チタン粉末の含有量が1〜40質量%となる量であり、
前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物の量が、該酸化チタン粉末100質量部に対して、0.5〜20質量部である酸化チタン分散液である。
で表されるアミノシラン化合物の加水分解物に、pHが5〜8となるように硝酸、塩酸及び1価のカルボン酸より選ばれる少なくとも一種の酸を混合し、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物を得る中和工程と、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物に、水又は親水性溶媒と、酸化チタン粉末とを混合し、該酸化チタン粉末を分散させて、酸化チタン分散液を得る分散工程と、を行い得られる酸化チタン分散液であり、
該分散工程での該酸化チタン粉末の混合量が、該酸化チタン分散液中の該酸化チタン粉末の含有量が1〜40質量%となる量であり、
前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物の量が、該酸化チタン粉末100質量部に対して、0.5〜20質量部である酸化チタン分散液である。
本発明の酸化チタン分散液に係る該中和工程及び該分散工程は、本発明の酸化チタン分散液の製造方法に係る該中和工程及び該分散工程と同様である。
本発明の酸化チタン分散液には、本願発明の効果を損なわない範囲で、バインダーとして任意成分を加えてもよい。任意成分としては、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸アンモニウムのようなアルカリシリケート、シリカ、コロイダルシリカ(シリカゾル)、加水分解性珪素化合物、フッ素樹脂モノマー、フッ素樹脂エマルジョンが挙げられる。該加水分解性珪素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシランなどのオルガノシラン、これらのオリゴマーであるポリオルガノシロキサンなどが挙げられる。
本発明の酸化チタン膜は、本発明の酸化チタン分散液を用いて形成される酸化チタン膜である。
本発明の酸化チタン膜は、本発明の酸化チタン分散液を基材上に塗布した後、乾燥することにより形成される。
本発明の酸化チタン分散液が塗布される基材としては、合成樹脂、鉄、アルミニウム、SUS等の金属材、ガラス等が挙げられる。
本発明の酸化チタン分散液は中性であるため、鉄、アルミニウム、SUS等の金属材へも腐食の虞はない。本発明の酸化チタンの塗布方法は、特に制限されず、従来の方法を用いることができ、例えば、刷毛刷り、ローラー刷り、スプレーコーティング、ディップコーティング、ロールコーティング、フローコーティング、スピンコーティングなどがある。
塗膜の乾燥処理は、オーブンなどの加熱設備にて行なわれる。該塗膜の乾燥処理の条件は、乾燥処理温度が120℃以下、好ましくは25〜110℃であり、乾燥処理時間が1時間以内、好ましくは5分以内、より好ましくは0.5分〜1分である。該塗膜の乾燥処理の際の乾燥雰囲気は、特に制限されないが、大気雰囲気が経済的である。
本発明の酸化チタン分散液を用いて形成される本発明の酸化チタン膜は、透明性に優れ、光触媒活性も高い。
次に、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、これは単に例示であって、本発明を制限するものではない。
[実施例1]
[酸化チタン分散液の調製]
(中和工程)
3−アミノプロピルトリメトキシシラン加水分解物液(信越化学工業株式会社、KBP90、3−アミノプロピルトリメトキシシラン加水分解物の含有量:32.8質量%、溶媒:水)に、酢酸(和光純薬工業株式会社製、含有量:99%)及び水を添加し、pH7に調整すると共に、3−アミノプロピルトリメトキシシラン加水分解物の中和物の含有量が10質量%となるように調整し、アミノシランの加水分解物の中和物を含有する中和反応液Aを得た。なお、3−アミノプロピルトリメトキシシラン加水分解物の中和物の含有量は、加熱乾燥式水分計 ML−50(株式会社エー・アンド・デイ)により、中和反応液Aの測定試料5gを、大気中で、120℃まで昇温及び加熱し、測定試料の質量変化が0.2質量%/分以下となったときの質量を、中和反応液A中のアミノトリプロピルメトキシシランの加水分解物の中和物の質量として、算出した(なお、以下でも同様である)。
[酸化チタン分散液の調製]
(中和工程)
3−アミノプロピルトリメトキシシラン加水分解物液(信越化学工業株式会社、KBP90、3−アミノプロピルトリメトキシシラン加水分解物の含有量:32.8質量%、溶媒:水)に、酢酸(和光純薬工業株式会社製、含有量:99%)及び水を添加し、pH7に調整すると共に、3−アミノプロピルトリメトキシシラン加水分解物の中和物の含有量が10質量%となるように調整し、アミノシランの加水分解物の中和物を含有する中和反応液Aを得た。なお、3−アミノプロピルトリメトキシシラン加水分解物の中和物の含有量は、加熱乾燥式水分計 ML−50(株式会社エー・アンド・デイ)により、中和反応液Aの測定試料5gを、大気中で、120℃まで昇温及び加熱し、測定試料の質量変化が0.2質量%/分以下となったときの質量を、中和反応液A中のアミノトリプロピルメトキシシランの加水分解物の中和物の質量として、算出した(なお、以下でも同様である)。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に、溶媒として水を加えた後、Tiサイトを硫黄が置換した酸化チタン粉末(硫黄0.01%含有酸化チタン、可視光応答型光触媒)100質量部を加え、混合した。次いで、0.05μmジルコニアビーズをメディアとしたビーズミルにて、混合液の分散処理を行ない、酸化チタン分散液を作製した。なお、酸化チタン分散液全量で1000重量部となるように調整した。
(評価)
下記評価方法により、得られた酸化チタン分散液のpH、保存安定性、分散性、透明性、酸化チタン膜の活性を評価した。結果を表2に示す。
中和反応液A 50質量部に、溶媒として水を加えた後、Tiサイトを硫黄が置換した酸化チタン粉末(硫黄0.01%含有酸化チタン、可視光応答型光触媒)100質量部を加え、混合した。次いで、0.05μmジルコニアビーズをメディアとしたビーズミルにて、混合液の分散処理を行ない、酸化チタン分散液を作製した。なお、酸化チタン分散液全量で1000重量部となるように調整した。
(評価)
下記評価方法により、得られた酸化チタン分散液のpH、保存安定性、分散性、透明性、酸化チタン膜の活性を評価した。結果を表2に示す。
[酸化チタン分散液の評価方法]
1.pHの評価方法
pHメータ(株式会社堀場製作所製 pHメータD−51)を用いて測定した。pHが、5未満か、5〜8か、8を超えるかで評価した。
2.保存安定性の評価方法
作製した酸化チタン分散液を安静にして一ヶ月間保管し、沈降又は分離を起していないか目視で確認した。○は沈降及び分離のいずれも無かった場合、△は若干の沈降又は分離が見られた場合、×は著しく沈降又は分離の傾向が見られた場合である。
3.分散性の評価方法
作製した酸化チタン分散液の粒度分布を、動的散乱法による粒度分布計(大塚電子株式会社製FPRA1000)によって測定した。「5」は50nm以下、「4」は50nm以上55nm未満、「3」は55nm以上100nm未満、「2」は100nm以上250nm未満、「1」は250nm以上を示す。
4.透明性の評価方法
酸化チタン含有量が1wt%となるように、純水で希釈し、超音波ホモジナイザー40Wで1分間分散処理を行ない、吸光度測定用分散液を作製した。吸光度測定機(日本分光株式会社製V−550)を用いて、作製した吸光度測定用分散液の透過度を測定した。
◎は透過度90%以上、○は透過度80%以上90%未満、△は透過度70%以上80%未満、×は透過度70%未満である。
5.活性の評価方法
先ず、実施例及び比較例の酸化チタン分散液を、10×10cmのガラス板に塗布し、塗膜を常温で乾燥させてサンプルピースを作製した。次にこのサンプルピースを1000mlのテドラーバックに封入し、そこにアセトアルデヒドガス濃度100ppm、酸素濃度200ppm、他窒素ガスとなるよう調製した混合ガス1000mlを投入した。混合ガスの入ったテドラーバックを、暗所に12時間放置した後、4000lxの蛍光灯で2時間照射を行い、アセトアルデヒドを分解したことによって発生したCO2の発生量を測定した。実施例3のCO2発生量を基準特性の100とし、各実施例及び比較例を相対的に比較した。◎は150以上、○は100以上150未満、△は40以上100未満、×は40未満を示す。
1.pHの評価方法
pHメータ(株式会社堀場製作所製 pHメータD−51)を用いて測定した。pHが、5未満か、5〜8か、8を超えるかで評価した。
2.保存安定性の評価方法
作製した酸化チタン分散液を安静にして一ヶ月間保管し、沈降又は分離を起していないか目視で確認した。○は沈降及び分離のいずれも無かった場合、△は若干の沈降又は分離が見られた場合、×は著しく沈降又は分離の傾向が見られた場合である。
3.分散性の評価方法
作製した酸化チタン分散液の粒度分布を、動的散乱法による粒度分布計(大塚電子株式会社製FPRA1000)によって測定した。「5」は50nm以下、「4」は50nm以上55nm未満、「3」は55nm以上100nm未満、「2」は100nm以上250nm未満、「1」は250nm以上を示す。
4.透明性の評価方法
酸化チタン含有量が1wt%となるように、純水で希釈し、超音波ホモジナイザー40Wで1分間分散処理を行ない、吸光度測定用分散液を作製した。吸光度測定機(日本分光株式会社製V−550)を用いて、作製した吸光度測定用分散液の透過度を測定した。
◎は透過度90%以上、○は透過度80%以上90%未満、△は透過度70%以上80%未満、×は透過度70%未満である。
5.活性の評価方法
先ず、実施例及び比較例の酸化チタン分散液を、10×10cmのガラス板に塗布し、塗膜を常温で乾燥させてサンプルピースを作製した。次にこのサンプルピースを1000mlのテドラーバックに封入し、そこにアセトアルデヒドガス濃度100ppm、酸素濃度200ppm、他窒素ガスとなるよう調製した混合ガス1000mlを投入した。混合ガスの入ったテドラーバックを、暗所に12時間放置した後、4000lxの蛍光灯で2時間照射を行い、アセトアルデヒドを分解したことによって発生したCO2の発生量を測定した。実施例3のCO2発生量を基準特性の100とし、各実施例及び比較例を相対的に比較した。◎は150以上、○は100以上150未満、△は40以上100未満、×は40未満を示す。
[実施例2]
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液A 200質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液A 200質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[実施例3]
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液A 5質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液A 5質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[実施例4]
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
溶媒として水を加えることに代えて、溶媒としてエタノール(和光純薬工業株式会社製、含有量:95%)を加えること以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
溶媒として水を加えることに代えて、溶媒としてエタノール(和光純薬工業株式会社製、含有量:95%)を加えること以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[実施例5]
(中和工程)
酢酸を添加することに代えて、硝酸を添加すること以外は、実施例1と同様に行い、中和反応液Bを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液B 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
酢酸を添加することに代えて、硝酸を添加すること以外は、実施例1と同様に行い、中和反応液Bを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液B 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[実施例6]
(中和工程)
酢酸を添加することに代えて、塩酸を添加すること以外は、実施例1と同様に行い、中和反応液Cを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液C 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
酢酸を添加することに代えて、塩酸を添加すること以外は、実施例1と同様に行い、中和反応液Cを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液C 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[実施例7]
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
酸化チタン粉末100質量部に代えて、酸化チタン粉末50質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
酸化チタン粉末100質量部に代えて、酸化チタン粉末50質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[実施例8]
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
酸化チタン粉末100質量部に代えて、酸化チタン粉末300質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
酸化チタン粉末100質量部に代えて、酸化チタン粉末300質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[実施例9]
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液A 40質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液A 40質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[実施例10]
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液A 100質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液A 100質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[実施例11]
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
酸化チタン粉末100質量部に代えて、酸化チタン粉末200質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
酸化チタン粉末100質量部に代えて、酸化チタン粉末200質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[実施例12]
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液A 10質量部とすること及び酸化チタン粉末100質量部に代えて、酸化チタン粉末10質量部としたこと以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液A 10質量部とすること及び酸化チタン粉末100質量部に代えて、酸化チタン粉末10質量部としたこと以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[実施例13]
(中和工程)
3−アミノプロピルトリメトキシシラン加水分解物液(信越化学工業(株)KBP90、3−アミノプロピルトリメトキシシラン加水分解物の含有量:32.8質量%、溶媒:水)に、酢酸(和光純薬工業(株)製、含有量:99%)及び水を添加し、pH5に調整すると共に、3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物の中和物の含有量が10質量%となるように調整し、中和反応液Dを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液D 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
3−アミノプロピルトリメトキシシラン加水分解物液(信越化学工業(株)KBP90、3−アミノプロピルトリメトキシシラン加水分解物の含有量:32.8質量%、溶媒:水)に、酢酸(和光純薬工業(株)製、含有量:99%)及び水を添加し、pH5に調整すると共に、3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物の中和物の含有量が10質量%となるように調整し、中和反応液Dを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液D 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[実施例14]
(中和工程)
3−アミノプロピルトリメトキシシラン加水分解物液(信越化学工業(株)KBP90、3−アミノプロピルトリメトキシシラン加水分解物の含有量:32.8質量%、溶媒:水)に、酢酸(和光純薬工業(株)製、含有量:99%)及び水を添加し、pH8に調整すると共に、3−アミノプロピルトリメトキシシラン換算の含有量が10質量%となるように調整し、中和反応液Eを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液E 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
3−アミノプロピルトリメトキシシラン加水分解物液(信越化学工業(株)KBP90、3−アミノプロピルトリメトキシシラン加水分解物の含有量:32.8質量%、溶媒:水)に、酢酸(和光純薬工業(株)製、含有量:99%)及び水を添加し、pH8に調整すると共に、3−アミノプロピルトリメトキシシラン換算の含有量が10質量%となるように調整し、中和反応液Eを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液E 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[実施例15]
(中和工程)
N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社、KBM603)15質量部に、水30質量部を加えて、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物液を得、次いで、酢酸(和光純薬工業株式会社製、含有量:99%)及び水を添加し、pH7に調整すると共に、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物の中和物の含有量が10質量%となるように調整し、中和反応液Fを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液F 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社、KBM603)15質量部に、水30質量部を加えて、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物液を得、次いで、酢酸(和光純薬工業株式会社製、含有量:99%)及び水を添加し、pH7に調整すると共に、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物の中和物の含有量が10質量%となるように調整し、中和反応液Fを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液F 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[実施例16]
(中和工程)
N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業株式会社、KBE603)15質量部に、水30質量部を加えて、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシランの加水分解物液を得、次いで、酢酸(和光純薬工業株式会社製、含有量:99%)及び水を添加し、pH7に調整すると共に、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシランの加水分解物の中和物の含有量が10質量%となるように調整し、中和反応液Gを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液G 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業株式会社、KBE603)15質量部に、水30質量部を加えて、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシランの加水分解物液を得、次いで、酢酸(和光純薬工業株式会社製、含有量:99%)及び水を添加し、pH7に調整すると共に、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシランの加水分解物の中和物の含有量が10質量%となるように調整し、中和反応液Gを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液G 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[実施例17]
(中和工程)
3−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社、KBM903)15質量部に、水30質量部を加えて、3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物液を得、次いで、酢酸(和光純薬工業株式会社製、含有量:99%)及び水を添加し、pH7に調整すると共に、3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物の中和物の含有量が10質量%となるように調整し、中和反応液Hを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液H 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
3−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社、KBM903)15質量部に、水30質量部を加えて、3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物液を得、次いで、酢酸(和光純薬工業株式会社製、含有量:99%)及び水を添加し、pH7に調整すると共に、3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物の中和物の含有量が10質量%となるように調整し、中和反応液Hを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液H 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[実施例18]
(中和工程)
3−アミノプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業株式会社、KBE903)15質量部に、水30質量部を加えて、3−アミノプロピルトリエトキシシランの加水分解物液を得、次いで、酢酸(和光純薬工業株式会社製、含有量:99%)及び水を添加し、pH7に調整すると共に、3−アミノプロピルトリエトキシシランの加水分解物の中和物の含有量が10質量%となるように調整し、中和反応液Iを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液I 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
3−アミノプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業株式会社、KBE903)15質量部に、水30質量部を加えて、3−アミノプロピルトリエトキシシランの加水分解物液を得、次いで、酢酸(和光純薬工業株式会社製、含有量:99%)及び水を添加し、pH7に調整すると共に、3−アミノプロピルトリエトキシシランの加水分解物の中和物の含有量が10質量%となるように調整し、中和反応液Iを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液I 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[比較例1]
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液A 1質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液A 1質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[比較例2]
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液A 220質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液A 220質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[比較例3]
(アミノシランの加水分解)
3−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社、KBM903)15質量部に、水30質量部を加えて、3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物液aを得た。
(分散)
3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物液aに、溶媒として水を加えた後、Tiサイトを硫黄が置換した酸化チタン粉末(硫黄0.01%含有酸化チタン、可視光応答型光触媒)を加え、混合した。次いで、0.05μmジルコニアビーズをメディアとしたビーズミルにて、混合液の分散処理を行ない、酸化チタン分散液を作製した。なお、3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物が50質量部、酸化チタン粉末が100質量部、酸化チタン分散液全量で1000重量部となるように調整した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(アミノシランの加水分解)
3−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社、KBM903)15質量部に、水30質量部を加えて、3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物液aを得た。
(分散)
3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物液aに、溶媒として水を加えた後、Tiサイトを硫黄が置換した酸化チタン粉末(硫黄0.01%含有酸化チタン、可視光応答型光触媒)を加え、混合した。次いで、0.05μmジルコニアビーズをメディアとしたビーズミルにて、混合液の分散処理を行ない、酸化チタン分散液を作製した。なお、3−アミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物が50質量部、酸化チタン粉末が100質量部、酸化チタン分散液全量で1000重量部となるように調整した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[比較例4]
(分散)
溶媒としての水に、実施例1と同量の酢酸を加え、次いで、Tiサイトを硫黄が置換した酸化チタン粉末(硫黄0.01%含有酸化チタン、可視光応答型光触媒)100質量部を加え、混合した。次いで、0.05μmジルコニアビーズをメディアとしたビーズミルにて、混合液の分散処理を行ない、酸化チタン分散液を作製した。なお、酸化チタン分散液全量で1000重量部となるように調整した。
(分散)
溶媒としての水に、実施例1と同量の酢酸を加え、次いで、Tiサイトを硫黄が置換した酸化チタン粉末(硫黄0.01%含有酸化チタン、可視光応答型光触媒)100質量部を加え、混合した。次いで、0.05μmジルコニアビーズをメディアとしたビーズミルにて、混合液の分散処理を行ない、酸化チタン分散液を作製した。なお、酸化チタン分散液全量で1000重量部となるように調整した。
[比較例5]
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
酸化チタン粉末100質量部に代えて、酸化チタン粉末450質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
酸化チタン粉末100質量部に代えて、酸化チタン粉末450質量部とした以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[比較例6]
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液A 5質量部とすること及び酸化チタン粉末100質量部に代えて、酸化チタン粉末5質量部としたこと以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
実施例1と同様の方法で行い、中和反応液Aを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液A 5質量部とすること及び酸化チタン粉末100質量部に代えて、酸化チタン粉末5質量部としたこと以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[比較例7]
(中和工程)
N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン(信越化学工業株式会社、KBM602)15質量部に、水30質量部を加えて、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシランの加水分解物液を得、次いで、酢酸(和光純薬工業株式会社製、含有量:99%)及び水を添加し、pH7に調整すると共に、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン加水分解物の中和物の含有量が10質量%となるように調整し、中和反応液Jを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液J 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン(信越化学工業株式会社、KBM602)15質量部に、水30質量部を加えて、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシランの加水分解物液を得、次いで、酢酸(和光純薬工業株式会社製、含有量:99%)及び水を添加し、pH7に調整すると共に、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン加水分解物の中和物の含有量が10質量%となるように調整し、中和反応液Jを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液J 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[比較例8]
(中和工程)
酢酸を添加することに代えて、硼酸を添加すること以外は、実施例1と同様に行い、中和反応液Kを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液K 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
酢酸を添加することに代えて、硼酸を添加すること以外は、実施例1と同様に行い、中和反応液Kを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液K 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[比較例9]
(中和工程)
酢酸を添加することに代えて、蓚酸を添加すること以外は、実施例1と同様に行い、中和反応液Lを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液L 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
酢酸を添加することに代えて、蓚酸を添加すること以外は、実施例1と同様に行い、中和反応液Lを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液L 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[比較例10]
(中和工程)
酢酸を添加することに代えて、マレイン酸を添加すること以外は、実施例1と同様に行い、中和反応液Mを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液M 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
酢酸を添加することに代えて、マレイン酸を添加すること以外は、実施例1と同様に行い、中和反応液Mを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液M 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[比較例11]
(中和工程)
酢酸を添加することに代えて、フタル酸を添加すること以外は、実施例1と同様に行い、中和反応液Nを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液N 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
酢酸を添加することに代えて、フタル酸を添加すること以外は、実施例1と同様に行い、中和反応液Nを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液N 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[比較例12]
(中和工程)
酢酸を添加することに代えて、コハク酸を添加すること以外は、実施例1と同様に行い、中和反応液Oを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液O 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
(中和工程)
酢酸を添加することに代えて、コハク酸を添加すること以外は、実施例1と同様に行い、中和反応液Oを得た。
(分散工程)
中和反応液A 50質量部に代えて、中和反応液O 50質量部とする以外は、実施例1と同様に行い、酸化チタン分散液を作製した。
(評価)
実施例1と同様の方法で行った。
[参考例1]
10×10cm角のシャーレに実施例1で使用したTiサイトを硫黄が置換した酸化チタン粉末0.1gを入れ、次いで純水を2g入れ、該粉末を純水に馴染ませ、シャーレ一面に該粉末が行き渡るようにした後に、110℃で1時間乾燥したものサンプルとし、同様に光触媒活性を評価した。その結果、◎であった。
10×10cm角のシャーレに実施例1で使用したTiサイトを硫黄が置換した酸化チタン粉末0.1gを入れ、次いで純水を2g入れ、該粉末を純水に馴染ませ、シャーレ一面に該粉末が行き渡るようにした後に、110℃で1時間乾燥したものサンプルとし、同様に光触媒活性を評価した。その結果、◎であった。
1)1は、3−アミノプロピルトリメトキシシラン
2は、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン
3は、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン
4は、3−アミノプロピルトリエトキシシラン
5は、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン
2)中和反応液中、アミノシラン換算の含有量は10質量%
3)分散工程で混合した酸化チタン粉末100質量部に対するアミノシラン加水分解物の中和物の使用量
4)分散液全量中の酸化チタンの質量割合
2は、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン
3は、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン
4は、3−アミノプロピルトリエトキシシラン
5は、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン
2)中和反応液中、アミノシラン換算の含有量は10質量%
3)分散工程で混合した酸化チタン粉末100質量部に対するアミノシラン加水分解物の中和物の使用量
4)分散液全量中の酸化チタンの質量割合
Claims (4)
- 下記一般式(1):
(式中、R1は、アミノ基を有する炭化水素基を示し、R2、R3及びR4は、炭素数が1〜8の炭化水素基を示し、R2、R3及びR4は同一でも異なっていてもよい。)
で表されるアミノシラン化合物の加水分解物に、pHが5〜8となるように硝酸、塩酸及び1価のカルボン酸より選ばれる少なくとも一種の酸を混合し、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物を得る中和工程と、前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物に、水又は親水性溶媒と、酸化チタン粉末とを混合し、該酸化チタン粉末を分散させて、酸化チタン分散液を得る分散工程と、を有する酸化チタン分散液の製造方法であり、
該分散工程での該酸化チタン粉末の混合量が、該酸化チタン分散液中の該酸化チタン粉末の含有量が1〜40質量%となる量であり、
前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物の加水分解物の中和物が、該酸化チタン粉末100質量部に対して、0.5〜20質量部であること、
を特徴とする酸化チタン分散液の製造方法。 - 前記酸が、酢酸及び硝酸から選ばれる少なくとも一種以上の酸であることを特徴とする請求項1記載の酸化チタン分散液の製造方法。
- 前記一般式(1)で表わされるアミノシラン化合物が、下記一般式(2):
(式中、R5及びR6は、水素原子、又は基中に1個以上の酸素原子又は窒素原子を有してもよい炭化水素基を示し、R5及びR6は、同一であっても異なってもよく、R7は、炭素数1〜8の二価の有機基を示し、R8、R9及びR10は、炭素数が1〜8の炭化水素基を示し、R8、R9及びR10は同一でも異なっていてもよい。)
で表わされるアミノシラン化合物であることを特徴とする請求項1又は2いずれか1項記載の酸化チタン分散液の製造方法。 - 請求項1〜3に記載の製造方法で得られた酸化チタン分散液を用いて形成されたことを特徴とする酸化チタン膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008206862A JP2010043159A (ja) | 2008-08-11 | 2008-08-11 | 酸化チタン分散液の製造方法及び酸化チタン膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008206862A JP2010043159A (ja) | 2008-08-11 | 2008-08-11 | 酸化チタン分散液の製造方法及び酸化チタン膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010043159A true JP2010043159A (ja) | 2010-02-25 |
Family
ID=42014792
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008206862A Pending JP2010043159A (ja) | 2008-08-11 | 2008-08-11 | 酸化チタン分散液の製造方法及び酸化チタン膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010043159A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012059476A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Nippon Shokubai Co Ltd | アノード支持型ハーフセルおよびその製造方法、ならびに、アノード支持型セル |
JP2015157739A (ja) * | 2014-01-21 | 2015-09-03 | 株式会社ダイセル | 鉄化合物担持酸化チタン粒子 |
JP2019056070A (ja) * | 2017-09-22 | 2019-04-11 | シャープ株式会社 | 水系光触媒塗料および浄化方法 |
-
2008
- 2008-08-11 JP JP2008206862A patent/JP2010043159A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012059476A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Nippon Shokubai Co Ltd | アノード支持型ハーフセルおよびその製造方法、ならびに、アノード支持型セル |
JP2015157739A (ja) * | 2014-01-21 | 2015-09-03 | 株式会社ダイセル | 鉄化合物担持酸化チタン粒子 |
JP2019056070A (ja) * | 2017-09-22 | 2019-04-11 | シャープ株式会社 | 水系光触媒塗料および浄化方法 |
JP7034644B2 (ja) | 2017-09-22 | 2022-03-14 | シャープ株式会社 | 水系光触媒塗料および浄化方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI481677B (zh) | 常溫硬化性近紅外線遮蔽塗佈劑及使用其之近紅外線遮蔽膜以及其製造方法 | |
JP5427093B2 (ja) | 均一分散性光触媒コーティング液及びその製造方法並びにこれを用いて得られる光触媒活性複合材 | |
EP1036826B1 (en) | Photocatalytic oxide composition, thin film, and composite | |
EP2351787A2 (en) | Silicone resin composition | |
JP4619601B2 (ja) | 光触媒性コーティング組成物および光触媒性薄膜を有する製品 | |
WO2018042803A1 (ja) | コーティング組成物および被覆物品 | |
JP2012250134A (ja) | 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液 | |
CN107614436B (zh) | 含有氧化锌的复合粒子、紫外线屏蔽用组合物、以及化妆品 | |
JP2010043159A (ja) | 酸化チタン分散液の製造方法及び酸化チタン膜 | |
WO2018025610A1 (ja) | 酸化亜鉛含有複合粒子、紫外線遮蔽用組成物、及び化粧料 | |
JP2013107926A (ja) | 被膜形成用組成物およびその製造方法ならびにそれを用いた太陽電池モジュール | |
JP4820152B2 (ja) | 複合被膜構造及び塗装外装材 | |
WO2018096914A1 (ja) | 無機粒子-シロキサン複合物およびその製造方法、並びに無機粒子含有シリコーン組成物 | |
JP2009209250A (ja) | 光触媒塗膜形成用組成物、光触媒塗膜および光触媒塗膜の形成方法 | |
JP4972268B2 (ja) | 酸化チタン膜形成用液体、酸化チタン膜の形成法、酸化チタン膜及び光触媒性部材 | |
JP2003138163A (ja) | 光触媒コーティング用組成物及びその製造方法並びにそれを使用した光触媒体 | |
JP5084418B2 (ja) | 有機溶媒に再分散可能な塊状組成物、その製造方法および該塊状組成物を再分散させた有機溶媒分散ゾル | |
JP7463164B2 (ja) | コーティング液 | |
JP2005113023A (ja) | 光触媒含有ケイ素組成物 | |
JP4227802B2 (ja) | 光触媒分散トナー | |
JP2023150249A (ja) | コーティング液 | |
JP2023148192A (ja) | 親水化剤及びその製造方法 | |
KR100563556B1 (ko) | 표면개질용 코팅제제 및 그 제조방법 | |
JP4079248B2 (ja) | 変性チタニアゾル組成物 | |
JP2001337211A (ja) | 防曇鏡及びその製法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110310 |
|
A072 | Dismissal of procedure [no reply to invitation to correct request for examination] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A073 Effective date: 20120717 |