JP5427093B2 - 均一分散性光触媒コーティング液及びその製造方法並びにこれを用いて得られる光触媒活性複合材 - Google Patents
均一分散性光触媒コーティング液及びその製造方法並びにこれを用いて得られる光触媒活性複合材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5427093B2 JP5427093B2 JP2010087247A JP2010087247A JP5427093B2 JP 5427093 B2 JP5427093 B2 JP 5427093B2 JP 2010087247 A JP2010087247 A JP 2010087247A JP 2010087247 A JP2010087247 A JP 2010087247A JP 5427093 B2 JP5427093 B2 JP 5427093B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium oxide
- photocatalyst coating
- coating liquid
- dispersed
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 141
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 136
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 title claims description 109
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 64
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title description 20
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 121
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 71
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 71
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 44
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 36
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 36
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 33
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 27
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 19
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 18
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 12
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 10
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 10
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 9
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 8
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 8
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- -1 silver ions Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 claims description 4
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000007540 photo-reduction reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000013032 photocatalytic reaction Methods 0.000 claims description 3
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 claims description 3
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GFEPDPYXKGSTNK-UHFFFAOYSA-N [OH-].[NH4+].CC(CO)(C)C Chemical compound [OH-].[NH4+].CC(CO)(C)C GFEPDPYXKGSTNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 claims 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 claims 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 35
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 23
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 19
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 9
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 5
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 5
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 4
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000013068 control sample Substances 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 2-hydroxyethyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CCO KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 241000588724 Escherichia coli Species 0.000 description 1
- 241000233866 Fungi Species 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000000845 anti-microbial effect Effects 0.000 description 1
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000008363 phosphate buffer Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/14—Paints containing biocides, e.g. fungicides, insecticides or pesticides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
- C09D5/1606—Antifouling paints; Underwater paints characterised by the anti-fouling agent
- C09D5/1612—Non-macromolecular compounds
- C09D5/1618—Non-macromolecular compounds inorganic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/45—Anti-settling agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/66—Additives characterised by particle size
- C09D7/67—Particle size smaller than 100 nm
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/02—Elements
- C08K3/08—Metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
- Y10T428/256—Heavy metal or aluminum or compound thereof
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Plant Pathology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
RxSi(OR)4−x …… (1)
(但し、式中、Rはアルキル基、メチル基、エチル基、及びプロピル基等から選ばれた置換基であり、互いに同じであっても異なっていてもよい。)で表されるアルコキシシラン類であり、より好ましくは、この一般式(1)で表されるアルコキシシラン類において、置換基Rが炭素数1〜4の低級アルキル基であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等を例示することができ、特に好ましくはテトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシシラン、及びジメチルジエトキシシシランを挙げることができる。また、これらアルコキシシラン類については、その1種のみを単独で用いることができるほか、2種以上の混合物として用いることもでき、更に、部分的に加水分解して得られる低縮合物として用いることもできる。
平均一次粒径21nmの酸化チタン粉体(日本アエロジルP25)と立体反発を利用するタイプの高分子分散剤(ビックケミー・ジャパン社販売の商品名:Disperbyk-180)を水に添加して、分散機としてビーズミル分散機を用いて、粒子濃度30重量%の平均分散粒径80nmの酸化チタン粒子分散水溶液を調製した。この液は、常温で1年以上経過しても酸化チタン粒子が沈降せずに分散安定化していることを確認した。なお、液中の平均分散粒径は光散乱式粒度分布計を用いて確認した。
平均一次粒径21nmの酸化チタン粉体(日本アエロジルP25)と立体反発を利用するタイプの高分子分散剤(ビックケミー・ジャパン社販売の商品名:Disperbyk-180)を水に添加して、分散機としてコロイドミル型分散機を用いて、粒子濃度30重量%の平均分散粒径290nmの酸化チタン粒子分散水溶液を調製した。なお、液中の平均分散粒径は光散乱式粒度分布計を用いて確認した。この酸化チタン分散水溶液は、常温で1日経過すると、酸化チタン粒子が沈降することが確認された。
上記実施例1及び比較例1の光触媒コーティング液を用いて、シリコンウエハ(基材)あるいはガラス板の表面にスプレーコート法によって製膜し、このシリコンウエハの表面にマトリックス膜の平均乾燥膜厚が約90nmである光触媒コーティング塗膜(塗膜の重量組成TiO2/SiO2 =25/75)を形成し、実施例2及び比較例2の光触媒活性複合材を調製した。
上記実施例1で調製した酸化チタン粒子分散水溶液を0.12wt%-硝酸銀水溶液で1/10に希釈し、攪拌下に得られた溶液にブラックライトを照射し、硝酸銀を光還元することによって銀粒子を酸化チタン表面に析出させ、実施例3の銀粒子0.068重量%含有の酸化チタン粒子分散水溶液を調製した。調製された銀含有酸化チタンの分散水溶液50重量部とテトラエトキシシラン加水分解重縮合物溶液50重量部とを用い、後は実施例1と同様にして、ガラス板表面にマトリックス膜の平均乾燥膜厚が約90nmである光触媒コーティング塗膜(塗膜の重量組成TiO2/SiO2/Ag=49.4/49.4/1.2)を形成し実施例3の光触媒コーティング液を作製し、実施例2と同様にして光触媒活性複合材を調製した。
得られた実施例2及び比較例2の光触媒活性複合材について、走査型電子顕微鏡(SEM)を用い、実施例1の光触媒コーティング液を用いて調製された実施例2の光触媒活性複合材の光触媒コーティング塗膜中における酸化チタン分散粒子の分散状態と、比較例1の光触媒コーティング液を用いて調製された比較例2の光触媒活性複合材の光触媒コーティング塗膜中における酸化チタン分散粒子の分散状態との違いを調べた。
結果を図1に示す。
平均分散粒径80nmの実施例1の光触媒コーティング液及び平均分散粒径290nmの比較例1の光触媒コーティング液を用いて、石英ディスク(基材)上に形成させた光触媒コーティング塗膜の紫外・可視吸収スペクトルを図2に示す。コート回数が少ない場合、平均分散粒径80nmのものが平均分散粒径290nmのものより紫外線遮蔽性はやや低いが、コート回数が増加すると、平均分散粒径80nmの方の紫外線遮蔽性も平均分散粒径290nmのものと同程度になる。これは、コート回数が少ない場合、すなわち、膜厚が薄い場合、平均分散粒径が大きい290nmのものが平均分散粒径80nmのものより相対的に酸化チタン粒子の紫外線の散乱が大きいため、紫外線遮蔽性が高まると考えられる。これに対して、コート回数が多くなる、すなわち、膜厚が厚くなると、酸化チタン粒子数の増加に伴って紫外線の吸収による紫外線遮蔽性が相対的に高まるため、粒子が均一に分散している平均分散粒径80nmの紫外線遮蔽性が高まって、平均分散粒径による紫外線遮蔽性の違いは無くなっていくと考えられる。一方、可視光透明性は、平均分散粒径80nmの方はコート回数が増えてもほとんど低下していないが、平均分散粒径290nmのものはコート回数の増加と共に低下していく。これは、一般的に粒子径200〜400nmのものが可視光の散乱が最も大きいため、平均分散粒径290nmのものが平均分散粒径80nmのものより可視光遮蔽性が高まって、可視光透明性が低下すると考えられる。
平均分散粒径80nmの実施例1の光触媒コーティング液及び平均分散粒径290nmの比較例1の光触媒コーティング液を用いて、ガラス板(基材)上に光触媒コーティング塗膜を形成させ、この光触媒コーティング塗膜に紫外線(UV)を照射してその際の光触媒コーティング塗膜の接触角の経時変化(UV照射前、UV 2hr照射後、UV 4hr照射後、UV 6hr照射後、UV 8hr照射後、UV 10hr照射後、及びUV 24hr照射後)を図3に示す。分散粒子径80nmの方が290nmよりも速く水に対する接触角が低下している、すなわち、速く親水化されていることがわかる。
平均分散粒径80nmの実施例1の光触媒コーティング液、又は、平均分散粒径290nmの比較例1の光触媒コーティング液を用い、石英基板(基材)上に光触媒コーティング塗膜を形成し、この光触媒コーティング塗膜の光触媒活性を調べた。この光触媒活性の評価は、各試料の光触媒コーティング塗膜上に1重量%の硝酸銀水溶液を等量ずつ載せ、UV(3mW/cm2)を10分間照射した後、光触媒反応によって生成した銀粒子による透過率の低下を調べ、この透過率の低下の度合いで比較した。透過率の低下の度合いが大きいものほど、光触媒活性が高いことを示す。結果を表1に示す。
平均分散粒径80nmの実施例1の光触媒コーティング液を用いて、ガラス(基材)上にマトリックス膜の平均乾燥膜厚が400nmと90nmの光触媒コーティング塗膜をスプレーコート法によって作製し、300時間の促進耐候試験(装置:スガ試験機製サイクル・キセノン・サンシャイン・ウェザーメーター、光源:水冷式キセノンアークランプ(7.5kw)、ブラックパネル温度:63℃、紫外線照射強度:156W/m2)を行い、試験前後の外観変化を走査型電子顕微鏡で観察した。結果を図4に示す。
図4に示す結果から、膜厚400nmの場合には試験前にミクロクラックが生じ、試験後には部分的な剥離が生じたが、膜厚90nmの場合には、試験前後でもミクロクラックや剥離が観測されなかった。
実施例1及び実施例3の光触媒コーティング液を用いて、スプレーコート法により、ガラス(基材)板上にマトリックス膜の平均乾燥膜厚が90nmの光触媒コーティング塗膜を作製した。
試料1は、対照試料1で菌が2桁近く増殖しているのに対し、およそ1桁菌が減少している、すなわち、試料1の酸化チタン分散シリカ系膜に抗菌効果があることが判明した。これに対し、試料2は、対照試料2で菌が2桁近く増殖しているのに対し、およそ2桁菌が減少しており、試料1に比べて抗菌効果が更に高まっていることが判明した。これらのことから、試料1(実施例2の光触媒コーティング塗膜)でも通常の室内光レベルで抗菌効果があるが、試料2(実施例3の銀粒子1.2重量%含有光触媒コーティング塗膜)のように酸化チタンに銀粒子が加わると、抗菌効果が顕著に向上することが判明した。
(2)組成物が銀粒子を含む(1)に記載の均一分散性光触媒コーティング液。
(3)平均一次粒径5〜50nm及び平均分散粒径10〜100nmの酸化チタン分散粒子と高分子分散剤とを含む酸化チタン分散水溶液と、アルコキシシラン類を加水分解・重縮合させて得られたアルコキシシラン加水分解重縮合物の水・アルコール混合溶液であるアルコキシシラン加水分解重縮合物溶液と、有機アミン類とを混合して得られた(1)に記載の均一分散性光触媒コーティング液。
(4)酸化チタン分散水溶液が銀粒子を含む(3)に記載の均一分散性光触媒コーティング液。
(5)平均一次粒径が5〜50nmであって平均分散粒径が10〜100nmである酸化チタン分散粒子と高分子分散剤とを含む酸化チタン分散水溶液を調製し、また、アルコキシシラン類を加水分解・重縮合させて得られたアルコキシシラン加水分解重縮合物の水・アルコール混合溶液からなるアルコキシシラン加水分解重縮合物溶液を調製し、これら酸化チタン分散水溶液とアルコキシシラン加水分解重縮合物溶液とを混合する際に有機アミン類を添加することを特徴とする均一分散性光触媒コーティング液の製造方法。
(6)酸化チタン分散水溶液は、結晶化した酸化チタン粉体と高分子分散剤を水に加えて分散機を用いて分散安定化することにより調製される(5)に記載の均一分散性光触媒コーティング液の製造方法。
(7)酸化チタン分散水溶液の調製時に、この酸化チタン分散水溶液に銀粒子を含有させる(5)又は(6)に記載の均一分散性光触媒コーティング液の製造方法。
(8)硝酸銀の還元によって銀を生成させる方法により、酸化チタン分散水溶液を構成する酸化チタン粒子表面又はその近傍に銀粒子を生成させる(7)に記載の均一分散性光触媒コーティング液の製造方法。
(9)基材と、この基材の表面に(1)〜(4)のいずれかに記載の均一分散性光触媒コーティング液を塗布して形成された光触媒コーティング塗膜とを有し、上記光触媒コーティング塗膜のマトリックス膜の平均乾燥膜厚が100nm以下であって、このマトリックス膜中に酸化チタン分散粒子が孤立分散に近い状態で固定化されていることを特徴とする光触媒活性複合材。
Claims (3)
- マトリックスの平均乾燥膜厚が100nm以下となる可視光透明性の光触媒コーティング塗膜を形成する光触媒コーティング液の製造方法であって、
平均一次粒径が5〜50nmである結晶化した酸化チタン粉体と高分子分散剤を水に添加して、分散機で分散させて、平均分散粒径が10〜80nmである酸化チタン分散粒子と高分子分散剤とを含む酸化チタン分散水溶液を調製し、硝酸銀水溶液で希釈し、撹拌下に得られた溶液を酸化チタンの光触媒反応によって生成した電子により銀イオンを還元する光還元により、酸化チタン分散水溶液を構成する酸化チタン粒子表面に銀粒子を析出させて、銀粒子含有の酸化チタン分散水溶液を調製し、
また、アルコキシシラン類を加水分解・重縮合させて得られたアルコキシシラン加水分解重縮合物の水・アルコール混合溶液からなるアルコキシシラン加水分解重縮合物溶液を調製し、
これら酸化チタン分散水溶液とアルコキシシラン加水分解重縮合物溶液とを混合する際に有機アミン類を添加することを特徴とする均一分散性光触媒コーティング液の製造方法。 - 前記有機アミン類は、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化トリメチルエタノールアンモニウム(コリン)のうち1種のみ、又は、2種以上である請求項1に記載の均一分散性光触媒コーティング液の製造方法。
- 前記光還元において、ブラックライトを照射する請求項1又は2に記載の均一分散性光触媒コーティング液の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010087247A JP5427093B2 (ja) | 2006-02-20 | 2010-04-05 | 均一分散性光触媒コーティング液及びその製造方法並びにこれを用いて得られる光触媒活性複合材 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006042912 | 2006-02-20 | ||
JP2006042912 | 2006-02-20 | ||
JP2010087247A JP5427093B2 (ja) | 2006-02-20 | 2010-04-05 | 均一分散性光触媒コーティング液及びその製造方法並びにこれを用いて得られる光触媒活性複合材 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008501706A Division JPWO2007097284A1 (ja) | 2006-02-20 | 2007-02-19 | 均一分散性光触媒コーティング液及びその製造方法並びにこれを用いて得られる光触媒活性複合材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010209337A JP2010209337A (ja) | 2010-09-24 |
JP5427093B2 true JP5427093B2 (ja) | 2014-02-26 |
Family
ID=38437324
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008501706A Pending JPWO2007097284A1 (ja) | 2006-02-20 | 2007-02-19 | 均一分散性光触媒コーティング液及びその製造方法並びにこれを用いて得られる光触媒活性複合材 |
JP2010087247A Active JP5427093B2 (ja) | 2006-02-20 | 2010-04-05 | 均一分散性光触媒コーティング液及びその製造方法並びにこれを用いて得られる光触媒活性複合材 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008501706A Pending JPWO2007097284A1 (ja) | 2006-02-20 | 2007-02-19 | 均一分散性光触媒コーティング液及びその製造方法並びにこれを用いて得られる光触媒活性複合材 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090317624A1 (ja) |
EP (1) | EP1997860A4 (ja) |
JP (2) | JPWO2007097284A1 (ja) |
CN (1) | CN101384680B (ja) |
WO (1) | WO2007097284A1 (ja) |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101878324B (zh) * | 2007-10-19 | 2013-04-03 | 比奥因特费斯公司 | 新颖组合物和相关方法、涂料和物件 |
CA2705517A1 (en) * | 2007-11-16 | 2009-05-22 | Photocat A/S | Photocatalytic boards or panels and a method of manufacturing thereof |
CN102361686B (zh) | 2009-03-23 | 2014-10-15 | 瓦林格光催化股份有限公司 | 使用具有微米级珠的珠磨机制备具有保持结晶度的二氧化钛纳米颗粒胶态悬浮体 |
US20120225770A1 (en) * | 2009-11-16 | 2012-09-06 | Tam Network Co., Ltd. | Photocatalyst coating |
JP5538153B2 (ja) * | 2010-09-14 | 2014-07-02 | ビイ アンド ビイ株式会社 | 大気浄化機能を有する広告・告知メディアの施工方法及びそれを用いて施工された大気浄化機能を有する広告・告知メディア |
WO2012053566A1 (ja) * | 2010-10-20 | 2012-04-26 | 信越化学工業株式会社 | 光触媒塗工液及びそれから得られる光触媒薄膜 |
JP5874267B2 (ja) * | 2010-10-26 | 2016-03-02 | 信越化学工業株式会社 | 常温硬化性高活性光触媒塗工液及びそれから得られる光触媒薄膜 |
JP5874266B2 (ja) * | 2010-10-20 | 2016-03-02 | 信越化学工業株式会社 | 光触媒塗工液及びそれから得られる光触媒薄膜 |
EP2729640A4 (en) | 2011-07-05 | 2015-07-08 | Välinge Photocatalytic Ab | COATED WOOD PRODUCTS AND METHOD FOR PRODUCING COATED WOOD PRODUCTS |
JP6437702B2 (ja) * | 2012-01-13 | 2018-12-12 | 日立化成株式会社 | 熱放射性塗料、塗膜及び塗膜付き被塗布物の製造方法 |
KR20140140583A (ko) | 2012-03-20 | 2014-12-09 | 뵈린게 포토캐털리틱 아베 | 이산화티탄 및 광회색화 방지 첨가제를 포함하는 광촉매 조성물 |
US9144237B2 (en) * | 2012-08-10 | 2015-09-29 | Tsukasa Sakurada | Sterilizing and deodorizing agents, their method of manufacture and uses |
US9375750B2 (en) | 2012-12-21 | 2016-06-28 | Valinge Photocatalytic Ab | Method for coating a building panel and a building panel |
WO2014118372A1 (en) | 2013-02-02 | 2014-08-07 | Joma International A/S | An aqueous dispersion comprising tio2 particles |
MX2015014068A (es) * | 2013-04-12 | 2015-12-11 | Välinge Photocatalytic Ab | Un metodo para aplicar una composicion que degrada nox a un elemento de concreto. |
WO2015047169A1 (en) | 2013-09-25 | 2015-04-02 | Välinge Photocatalytic Ab | A method of applying a photo catalytic dispersion and a method of manufacturing a panel |
US10258046B2 (en) | 2014-11-04 | 2019-04-16 | Allied Bioscience, Inc. | Antimicrobial coatings comprising quaternary silanes |
US10980236B2 (en) | 2014-11-04 | 2021-04-20 | Allied Bioscience, Inc. | Broad spectrum antimicrobial coatings comprising combinations of organosilanes |
US10993441B2 (en) | 2014-11-04 | 2021-05-04 | Allied Bioscience, Inc. | Antimicrobial coatings comprising organosilane homopolymers |
KR102009127B1 (ko) * | 2014-11-04 | 2019-08-08 | 얼라이드 바이오사이언스, 인크. | 자가 오염제거 표면을 형성하기 위한 조성물 및 방법 |
JP6409135B2 (ja) | 2015-02-11 | 2018-10-17 | アライド バイオサイエンス, インコーポレイテッド | 抗微生物コーティングおよびそれを形成させるための方法 |
EP3262012B8 (en) | 2015-02-27 | 2020-08-19 | Photocat A/S | A photocatalytic concrete product and a method to produce a photocatalytic concrete product |
US10668259B2 (en) | 2015-10-21 | 2020-06-02 | Materials Science Associates, LLC | Metal oxide and polymer controlled delivery systems, sunscreens, treatments, and topical coating applicators |
JP6714530B2 (ja) * | 2017-03-08 | 2020-06-24 | 旭化成株式会社 | 光触媒組成物、光触媒塗膜及び光触媒塗装製品 |
US20210023252A1 (en) * | 2018-04-12 | 2021-01-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Interior material having deodorant, antimicrobial surface layer and production method thereof |
JP7101570B2 (ja) * | 2018-08-31 | 2022-07-15 | シャープ株式会社 | 光触媒塗料、光触媒塗料の製造方法、及び光触媒体の製造方法 |
JP7121356B2 (ja) * | 2020-11-27 | 2022-08-18 | 日本ペイント・インダストリアルコーティングス株式会社 | 抗菌・抗ウイルスコーティング組成物 |
ES2929948B2 (es) * | 2021-06-02 | 2023-04-18 | Univ Valencia | Material fotocatalizador y recubrimiento obtenido a partir del mismo |
CN114835936A (zh) * | 2022-05-05 | 2022-08-02 | 江苏盈泰新材料科技有限公司 | 一种光催化自清洁pvc薄膜及其制备方法 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4613454A (en) * | 1983-06-30 | 1986-09-23 | Nalco Chemical Company | Metal oxide/silica sols |
JP2776259B2 (ja) * | 1994-08-31 | 1998-07-16 | 松下電工株式会社 | 抗菌性無機塗料 |
ES2186733T3 (es) * | 1994-11-16 | 2003-05-16 | Toto Ltd | Material funcional fotocatalitico y metodo para producirlo. |
EP1304366B2 (en) * | 1995-03-20 | 2012-10-03 | Toto Ltd. | Use of a photocatalytically rendered superhydrophilic surface with antifogging properties |
US5935717A (en) * | 1996-06-28 | 1999-08-10 | Hitachi, Ltd. | Functional film having inorganic thin on surface of organic film article using the same and process for producing the same |
US6165256A (en) * | 1996-07-19 | 2000-12-26 | Toto Ltd. | Photocatalytically hydrophilifiable coating composition |
JP3340937B2 (ja) * | 1997-05-01 | 2002-11-05 | 株式会社日板研究所 | 浄化性コーティング用組成物 |
JPH11169726A (ja) * | 1997-08-28 | 1999-06-29 | Toto Ltd | 光触媒作用を有する機能材及び複合機能材とそれらの製造方法 |
JPH11347418A (ja) * | 1998-06-05 | 1999-12-21 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 光触媒コーティング液および光触媒コーティングフィルム |
WO2000006300A1 (en) * | 1998-07-30 | 2000-02-10 | Toto Ltd. | Method for producing high-performance material having photocatalytic function and device therefor |
JP2000264632A (ja) * | 1999-03-15 | 2000-09-26 | Kanagawa Prefecture | 紫外線遮蔽能を有する透明性金属酸化物超微粒子 |
EP1253172B1 (en) * | 1999-11-04 | 2012-03-14 | Daikin Industries, Ltd. | Use of molded elastomer comprising crosslinkable fluoroelastomer composition for semiconductor production apparatus |
DE60134155D1 (de) * | 2000-09-11 | 2008-07-03 | Showa Denko Kk | Kosmetische sonnenschutz-zubereitung |
JP4846088B2 (ja) * | 2000-11-07 | 2011-12-28 | 多木化学株式会社 | 酸化チタン含有光触媒塗布液およびその製造方法ならびに酸化チタン光触媒構造体 |
JP3474546B2 (ja) | 2001-02-22 | 2003-12-08 | 日新製鋼株式会社 | 光触媒性塗料組成物 |
JP2002249712A (ja) * | 2001-02-26 | 2002-09-06 | Nisshin Steel Co Ltd | 光触媒塗料組成物 |
US7347986B2 (en) * | 2001-09-14 | 2008-03-25 | Showa Denko K.K. | Silica-coated mixed crystal oxide particle, production process thereof and cosmetic material using the same |
JP2003138163A (ja) * | 2001-11-01 | 2003-05-14 | Titan Kogyo Kk | 光触媒コーティング用組成物及びその製造方法並びにそれを使用した光触媒体 |
JP2003327920A (ja) * | 2002-03-07 | 2003-11-19 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 導電性塗料及びそれを用いた導電性塗膜の形成方法並びに導電性塗膜、導電性塗膜を有する部材 |
JP4972268B2 (ja) * | 2002-03-07 | 2012-07-11 | 日立化成工業株式会社 | 酸化チタン膜形成用液体、酸化チタン膜の形成法、酸化チタン膜及び光触媒性部材 |
JP2004091697A (ja) * | 2002-09-02 | 2004-03-25 | Hitachi Chem Co Ltd | 酸化チタン膜形成用液体、酸化チタン膜の形成法、酸化チタン膜及び光触媒性部材 |
JP4203302B2 (ja) * | 2002-11-19 | 2008-12-24 | 有限会社 ユートピア企画 | 抗菌性コーティング液及びその製造方法並びにコーティング方法 |
JP4542990B2 (ja) * | 2003-03-05 | 2010-09-15 | 株式会社Nbcメッシュテック | 光触媒体 |
JP2005120212A (ja) * | 2003-10-16 | 2005-05-12 | Toto Ltd | 機能性コーティング材及び機能性複合材並びにその製造方法 |
JP2005139314A (ja) * | 2003-11-07 | 2005-06-02 | Kansai Paint Co Ltd | 塗布剤及びこれを用いた多孔質膜の形成方法 |
TW200530352A (en) * | 2004-02-09 | 2005-09-16 | Nippon Paint Co Ltd | Metallic base coating composition and process for producing a composite film |
EP1723999B1 (en) * | 2004-03-12 | 2017-06-07 | NGK Insulators, Ltd. | Carbon film laminate and method for production thereof, and voc removing device |
US7264672B1 (en) * | 2006-10-31 | 2007-09-04 | National Titanium Dioxide Co. Ltd. (Cristal) | Titanium dioxide pigment composite and method of making same |
-
2007
- 2007-02-19 EP EP07714497A patent/EP1997860A4/en not_active Withdrawn
- 2007-02-19 CN CN2007800059662A patent/CN101384680B/zh active Active
- 2007-02-19 WO PCT/JP2007/052971 patent/WO2007097284A1/ja active Search and Examination
- 2007-02-19 JP JP2008501706A patent/JPWO2007097284A1/ja active Pending
- 2007-02-19 US US12/280,019 patent/US20090317624A1/en not_active Abandoned
-
2010
- 2010-04-05 JP JP2010087247A patent/JP5427093B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1997860A1 (en) | 2008-12-03 |
CN101384680B (zh) | 2012-05-30 |
US20090317624A1 (en) | 2009-12-24 |
EP1997860A4 (en) | 2012-12-26 |
WO2007097284A1 (ja) | 2007-08-30 |
CN101384680A (zh) | 2009-03-11 |
JPWO2007097284A1 (ja) | 2009-07-16 |
JP2010209337A (ja) | 2010-09-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5427093B2 (ja) | 均一分散性光触媒コーティング液及びその製造方法並びにこれを用いて得られる光触媒活性複合材 | |
EP1949978B1 (en) | Process for producing base material for forming heat shielding film | |
JP2003202406A (ja) | 反射防止フィルム及びディスプレイ装置 | |
EP2351787A2 (en) | Silicone resin composition | |
WO2007108432A1 (ja) | 光学フィルムおよびその製造方法 | |
TWI726127B (zh) | 光觸媒層合體 | |
WO2012141150A1 (ja) | 機能性物品、輸送機器用物品、建築用物品およびコーティング用組成物 | |
JP4409169B2 (ja) | 着色顔料粒子を含む塗料、可視光遮蔽膜付基材 | |
WO2009002377A1 (en) | Method of making a stabilized colloidal silica, compositions comprising the same, and coated articles including the same | |
JP2016200752A (ja) | 反射防止物品の製造方法、反射防止物品、カバーガラス、及び画像表示装置 | |
JP2012246440A (ja) | 無機コーティング組成物 | |
JP5827107B2 (ja) | 被膜形成用組成物の調製方法、および太陽電池モジュールの製造方法 | |
JP2006008902A (ja) | 光触媒塗料組成物 | |
WO2009099106A1 (ja) | コーティング液、硬化膜及び樹脂積層体 | |
JP5337360B2 (ja) | コーティング組成物、硬化膜及び樹脂積層体 | |
JP2001163906A (ja) | 低屈折率組成物、低屈折率膜、光学多層膜および反射防止膜 | |
JP2009185196A (ja) | コーティング液、硬化膜及び樹脂積層体 | |
JP4820152B2 (ja) | 複合被膜構造及び塗装外装材 | |
JP4035148B2 (ja) | 有機重合体と金属酸化物との複合体、その製造方法及び用途 | |
EP3141533A1 (en) | Glass article | |
WO2018003772A1 (ja) | 多結晶ナノダイヤモンドを分散させた光散乱性被膜及び光散乱性被膜形成用塗布液 | |
JP3499525B2 (ja) | 光触媒塗料組成物 | |
KR20050117759A (ko) | 초친수성 코팅제 제조방법 | |
JP2001200202A (ja) | 無機質膜の形成方法 | |
CN1445262A (zh) | 光催化诱导的高度亲水性的聚钛硅氧烷化合物及其制法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120522 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120720 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120821 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121120 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121227 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20121228 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20130129 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20130222 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131129 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5427093 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |