JP2010041003A - ディスプレイ用光学フィルター及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】電磁波遮蔽機能を備え、かつ簡単に接地（アース）することができ、廉価なディスプレイ用光学フィルターを提供する。
【解決手段】近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Ａと、透明基材Ｂとが、粘着剤層を介して積層一体化されたディスプレイ用光学フィルターであって、前記粘着剤層における透明基材Ｂとの粘着面にメッシュ状パターンの電磁波シールド材が配設され、かつ前記電磁波シールド材が、前記透明基材Ｂとの粘着面に配設された接地用の導電部材に連結されてなるディスプレイ用光学フィルターである。
【選択図】図１
【解決手段】近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Ａと、透明基材Ｂとが、粘着剤層を介して積層一体化されたディスプレイ用光学フィルターであって、前記粘着剤層における透明基材Ｂとの粘着面にメッシュ状パターンの電磁波シールド材が配設され、かつ前記電磁波シールド材が、前記透明基材Ｂとの粘着面に配設された接地用の導電部材に連結されてなるディスプレイ用光学フィルターである。
【選択図】図１
Description
本発明は、ディスプレイ用光学フィルター及びその製造方法に関する。更に詳しくは、本発明は、プラズマディスプレイパネル等の表示装置の表示面に配設され、漏洩する電磁波を遮蔽し、簡便に接地（アース）することができる、廉価なディスプレイ用光学フィルター、及び、このような特性を備えたディスプレイ用光学フィルターを廉価に製造することができるディスプレイ用光学フィルターの製造方法に関する。
プラズマディスプレイ装置（ＰＤＰ）は、表示電極、バス電極、誘電体層および保護層を有する前面ガラス基板と、データ電極、誘電体層およびストライプバリヤリブに蛍光体層を有する背面ガラス基板とを、電極が直交するように貼り合せることによりセルを形成し、このセルの中にネオンガスやキセノンガス等の放電ガスを封入して構成されている。
ＰＤＰの発光は、データ電極と表示電極との間に電圧が印加されることにより放電ガスの放電が起こり、プラズマ状態となった放電ガスイオンが基底状態に戻る際に紫外線を発生し、この紫外線が蛍光体層を励起して赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、及び青（Ｂ）色光を発光させる。これら可視光の発光の過程で、これら可視光に加え、近赤外線及び電磁波も発生する。
この近赤外線は、近赤外線の波長領域を使用している各種のリモコンスイッチの誤動作を起こし、一方、電磁波は人体や、他の機器（例えば情報処理装置など）に悪影響を与えるおそれがある。
そのため、ＰＤＰにおいては、プラズマディスプレイ表示面の前面に、近赤外線吸収機能及び電磁波遮蔽機能を備えた光学フィルターが設置されている。
また、ディスプレイ用光学フィルターには、外光が映り込むのを防止して視認性を高めるために、反射防止機能や防眩性機能なども付与されている。
そのため、ＰＤＰにおいては、プラズマディスプレイ表示面の前面に、近赤外線吸収機能及び電磁波遮蔽機能を備えた光学フィルターが設置されている。
また、ディスプレイ用光学フィルターには、外光が映り込むのを防止して視認性を高めるために、反射防止機能や防眩性機能なども付与されている。
ところで、近年、プラズマテレビの普及に伴い価格の低下が激しく、電磁波遮蔽機能を備えたディスプレイ用光学フィルターの価格も低下しており、そのため、電磁波遮蔽機能を備えた廉価なディスプレイ用光学フィルター、及び、該ディスプレイ用光学フィルターを廉価に製造することができる製造方法が強く求められている。
このような電磁波シールド材が配設された光学フィルターを廉価に製造し得る製造方法として、例えば特許文献１には、「導電性金属のメッシュパターンとその上に積層された金属メッキ層とからなる電磁波シールド材が、光学フィルターを構成する透明基材の片面に、貼着されてなるディスプレイ用光学フィルター」が開示され、また、このディスプレイ用光学フィルターの製造方法として、「支持基材の上に写真製法により現像銀メッシュパターンを生成するメッシュパターン生成工程と、前記現像銀メッシュパターンの上に導電性の金属メッキ層により、金属メッシュからなる電磁波シールド材を形成するメッキ工程と、前記電磁波シールド材を、光学フィルターを構成する透明基材の片面に、転写により前記金属メッキ層側で貼着する転写工程と、を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法」が開示されている。
しかしながら、特許文献１記載の電磁波シールド材が配設されたディスプレイ用光学フィルターにあっては、前記電磁波シールド材が前記粘着剤層中に完全に埋設されたものであるため、接地（アース）することが困難であるという不都合点があった。
また、特許文献１記載の電磁波シールド材が配設されたディスプレイ用光学フィルターの製造方法にあっては、転写を利用した廉価な製造方法ではあるが、転写材は１回の使用であって再利用をすることは不可能であり、そのため、製造コストの低減は不充分であり、未だ改善すべき点を有するものであった。
また、特許文献１記載の電磁波シールド材が配設されたディスプレイ用光学フィルターの製造方法にあっては、転写を利用した廉価な製造方法ではあるが、転写材は１回の使用であって再利用をすることは不可能であり、そのため、製造コストの低減は不充分であり、未だ改善すべき点を有するものであった。
本発明は、このような状況下になされたものであり、簡便に接地（アース）することができ、廉価なディスプレイ用光学フィルターを提供することを課題とする。
また、本発明は、転写材の再利用が可能であって、省資源に基づく廉価な、電磁波遮蔽機能を備えたディスプレイ用光学フィルターの製造方法を提供することを課題とする。
また、本発明は、転写材の再利用が可能であって、省資源に基づく廉価な、電磁波遮蔽機能を備えたディスプレイ用光学フィルターの製造方法を提供することを課題とする。
すなわち、本発明は、
［１］近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Ａと、透明基材Ｂとが、粘着剤層を介して積層一体化されたディスプレイ用光学フィルターであって、前記粘着剤層における透明基材Ｂとの貼着面にメッシュ状パターンの電磁波シールド材が配設され、かつ前記電磁波シールド材が、前記透明基材Ｂとの貼着面に配設された接地用の導電部材に連結されてなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルター、
［２］上記［１］に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法であって、
（ａ）支持フィルムの一方の面に、金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターンが形成され、このメッシュ状パターン上に金属をメッキしてメッシュ状パターンの金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムと、片面の最外層に粘着剤層を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Ａとを、前記金属層と前記粘着剤層とが接するように積層一体化して、積層体を形成する工程と、
（ｂ）前記（ａ）工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルムを剥離して、前記金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Ａと、前記金属層が剥離された転写用メッシュフィルムとを得る工程と、
（ｃ）前記（ｂ）工程で得られ、前記金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Ａと、透明基材Ｂとを、前記透明基材Ｂの表面に配設された導電部材と前記粘着剤層から露出する前記金属層が接するように、前記金属層が転写された前記粘着剤層を介して、積層一体化する工程、
を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法（以下、製造方法１と称する。）、
［１］近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Ａと、透明基材Ｂとが、粘着剤層を介して積層一体化されたディスプレイ用光学フィルターであって、前記粘着剤層における透明基材Ｂとの貼着面にメッシュ状パターンの電磁波シールド材が配設され、かつ前記電磁波シールド材が、前記透明基材Ｂとの貼着面に配設された接地用の導電部材に連結されてなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルター、
［２］上記［１］に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法であって、
（ａ）支持フィルムの一方の面に、金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターンが形成され、このメッシュ状パターン上に金属をメッキしてメッシュ状パターンの金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムと、片面の最外層に粘着剤層を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Ａとを、前記金属層と前記粘着剤層とが接するように積層一体化して、積層体を形成する工程と、
（ｂ）前記（ａ）工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルムを剥離して、前記金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Ａと、前記金属層が剥離された転写用メッシュフィルムとを得る工程と、
（ｃ）前記（ｂ）工程で得られ、前記金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Ａと、透明基材Ｂとを、前記透明基材Ｂの表面に配設された導電部材と前記粘着剤層から露出する前記金属層が接するように、前記金属層が転写された前記粘着剤層を介して、積層一体化する工程、
を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法（以下、製造方法１と称する。）、
［３］前記（ａ）工程において、前記転写用メッシュフィルムにおける、メッシュ状パターンの金属層が形成されていない領域に離型剤をコーティングする、上記［２］に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法、
［４］前記（ｂ）工程で得られた、前記金属層が剥離された転写用メッシュフィルムにおけるメッシュ状パターン上に、金属をメッキしてメッシュ状パターンの金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムを得、この転写用メッシュフィルムを用いる、上記［２］又は［３］に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法、
［５］上記［１］に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法であって、
（ｘ）支持フィルムの一方の面にメッシュ状パターンの第１金属層と、この第１金属層上に、前記第１金属層を形成する金属の酸化物からなるメッシュ状パターンの金属酸化物層が形成され、このメッシュ状パターンの金属酸化物層上に、メッシュ状パターンの第２金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムと、片面の最外層に粘着剤層を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Ａとを、前記第２金属層と前記粘着剤層とが接するように積層一体化して、積層体を形成する工程と、
（ｙ）前記（ｘ）工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルムを剥離して、前記第２金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Ａと、前記第２金属層が剥離された転写用メッシュフィルムとを得る工程と、
（ｚ）前記（ｙ）工程で得られ、前記第２金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Ａと、透明基材Ｂとを、前記透明基材Ｂの表面に配設された導電部材と前記粘着剤層から露出する前記第２金属層が接するように、前記第２金属層が転写された前記粘着剤層を介して、積層一体化する工程、
を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法（以下、製造方法２と称する。）、
［６］前記（ｘ）工程において、前記転写用メッシュフィルムにおける、メッシュ状パターンの前記第１金属層と、前記金属酸化物層と、前記第２金属層が形成されていない領域に離型剤をコーティングする、上記［５］に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法、
［７］前記（ｙ）工程で得られた、前記第２金属層が剥離された転写用メッシュフィルムにおけるメッシュ状パターンの前記金属酸化物層上に前記第２金属層を再度形成して転写用メッシュフィルムを得、この転写用メッシュフィルムを用いる、上記［５］又は［６］に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法、及び
［８］前記（ｙ）工程で得られた、前記第２金属層が剥離された転写用メッシュフィルムにおけるメッシュ状パターンの前記第１金属層上に、この第１金属層を構成する金属の酸化物層、及び前記第２金属層を再度形成して転写用メッシュフィルムを得、この転写用メッシュフィルムを用いる、上記［５］又は［６］に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法、
を提供するものである。
［４］前記（ｂ）工程で得られた、前記金属層が剥離された転写用メッシュフィルムにおけるメッシュ状パターン上に、金属をメッキしてメッシュ状パターンの金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムを得、この転写用メッシュフィルムを用いる、上記［２］又は［３］に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法、
［５］上記［１］に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法であって、
（ｘ）支持フィルムの一方の面にメッシュ状パターンの第１金属層と、この第１金属層上に、前記第１金属層を形成する金属の酸化物からなるメッシュ状パターンの金属酸化物層が形成され、このメッシュ状パターンの金属酸化物層上に、メッシュ状パターンの第２金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムと、片面の最外層に粘着剤層を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Ａとを、前記第２金属層と前記粘着剤層とが接するように積層一体化して、積層体を形成する工程と、
（ｙ）前記（ｘ）工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルムを剥離して、前記第２金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Ａと、前記第２金属層が剥離された転写用メッシュフィルムとを得る工程と、
（ｚ）前記（ｙ）工程で得られ、前記第２金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Ａと、透明基材Ｂとを、前記透明基材Ｂの表面に配設された導電部材と前記粘着剤層から露出する前記第２金属層が接するように、前記第２金属層が転写された前記粘着剤層を介して、積層一体化する工程、
を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法（以下、製造方法２と称する。）、
［６］前記（ｘ）工程において、前記転写用メッシュフィルムにおける、メッシュ状パターンの前記第１金属層と、前記金属酸化物層と、前記第２金属層が形成されていない領域に離型剤をコーティングする、上記［５］に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法、
［７］前記（ｙ）工程で得られた、前記第２金属層が剥離された転写用メッシュフィルムにおけるメッシュ状パターンの前記金属酸化物層上に前記第２金属層を再度形成して転写用メッシュフィルムを得、この転写用メッシュフィルムを用いる、上記［５］又は［６］に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法、及び
［８］前記（ｙ）工程で得られた、前記第２金属層が剥離された転写用メッシュフィルムにおけるメッシュ状パターンの前記第１金属層上に、この第１金属層を構成する金属の酸化物層、及び前記第２金属層を再度形成して転写用メッシュフィルムを得、この転写用メッシュフィルムを用いる、上記［５］又は［６］に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法、
を提供するものである。
本発明によれば、漏洩する電磁波を遮蔽し、簡便に接地することができる、廉価なディスプレイ用光学フィルターを提供することができる。
また、本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法１によれば、金属層が剥離された転写用メッシュフィルムに金属メッキ処理を再度施すことにより転写フィルムを再利用することが可能となり、したがって、省資源に基づく廉価な、電磁波遮蔽機能を備えたディスプイ用光学フィルターの製造方法を提供することができる。
更に、本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法２によれば、第２金属層が剥離された転写用メッシュフィルムに、酸化処理、又は酸化処理及び金属メッキ処理を再度施すことにより、転写フィルムを再利用することが可能となり、したがって、省資源に基づく廉価な、電磁波遮蔽機能を備えたディスプレイ用光学フィルターの製造方法を提供することができる。
また、本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法１によれば、金属層が剥離された転写用メッシュフィルムに金属メッキ処理を再度施すことにより転写フィルムを再利用することが可能となり、したがって、省資源に基づく廉価な、電磁波遮蔽機能を備えたディスプイ用光学フィルターの製造方法を提供することができる。
更に、本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法２によれば、第２金属層が剥離された転写用メッシュフィルムに、酸化処理、又は酸化処理及び金属メッキ処理を再度施すことにより、転写フィルムを再利用することが可能となり、したがって、省資源に基づく廉価な、電磁波遮蔽機能を備えたディスプレイ用光学フィルターの製造方法を提供することができる。
まず、本発明のディスプレイ用光学フィルターについて、添付図面に従って説明する。
［ディスプレイ用光学フィルター］
図１は本発明のディスプレイ用光学フィルターの一例を示す模式的断面図である。図１に示す本形態例のディスプレイ用光学フィルター１０ａは、視覚側（図１においては上側）から順に、反射防止層１２、透明基材Ａ１１、近赤外線吸収剤が添加された近赤外線遮蔽層１３、粘着剤層２１、透明基材Ｂ５１が積層一体化されてなるものであって、前記粘着剤層２１における、前記透明基材Ｂ５１との貼着面５１ａにはメッシュ状パターンの電磁波シールド材３１が配設され、この電磁波シールド材３１が前記透明基材Ｂ５１との貼着面５１ａ及び透明基材Ｂの側面に配設された導電部材２２を介して接地（アース）可能とされてなるものである。なお、符号６１ａは、１２、１１及び１３が一体化した透明樹脂（両面に機能層を有する透明樹脂）である。
［ディスプレイ用光学フィルター］
図１は本発明のディスプレイ用光学フィルターの一例を示す模式的断面図である。図１に示す本形態例のディスプレイ用光学フィルター１０ａは、視覚側（図１においては上側）から順に、反射防止層１２、透明基材Ａ１１、近赤外線吸収剤が添加された近赤外線遮蔽層１３、粘着剤層２１、透明基材Ｂ５１が積層一体化されてなるものであって、前記粘着剤層２１における、前記透明基材Ｂ５１との貼着面５１ａにはメッシュ状パターンの電磁波シールド材３１が配設され、この電磁波シールド材３１が前記透明基材Ｂ５１との貼着面５１ａ及び透明基材Ｂの側面に配設された導電部材２２を介して接地（アース）可能とされてなるものである。なお、符号６１ａは、１２、１１及び１３が一体化した透明樹脂（両面に機能層を有する透明樹脂）である。
また、図２は本発明のディスプレイ用光学フィルターの他の一例を示す模式的断面図である。図２に示す本形態例のディスプレイ用光学フィルター１０ｂは、視覚側（図２においては上側）から順に、反射防止層１２、近赤外線吸収剤が添加された近赤外線遮蔽層１３、透明基材Ａ１１、粘着剤層２１、透明基材Ｂ５１が積層一体化されてなるものであって、前記粘着剤層２１における前記透明基材Ｂ５１との貼着面５１ａにはメッシュ状パターンの電磁波シールド材３１が配設され、前記電磁波シールド材３１が前記透明基材Ｂ５１との貼着面５１ａ及び透明基材Ｂの側面に配設された導電部材２２を介して接地（アース）可能とされてなるものである。なお、符号６１ｂは、１２、１３及び１１が一体化した透明樹脂（片面に機能層を有する透明樹脂）である。
（透明基材Ａ）
透明基材Ａ１１を構成する材料は、可視光領域で透明である（すなわち、十分な透過率を有する）材料である限り、その種類、組成などに限定はなく、例えば、ポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアクレリート樹脂、ノルボンネン系樹脂、及び非晶質ポリオレフイン系樹脂等から適宜選択することができ、また、その厚みにも特段の限定はなく、通常５０μｍ〜１０ｍｍ程度のものを用いることができる。ポリエステル系樹脂としては、なかでもポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴとも称する）樹脂は、耐久性、耐溶剤性、生産性等の点においてすぐれているため好ましく用いられている。
透明基材Ａ１１を構成する材料は、可視光領域で透明である（すなわち、十分な透過率を有する）材料である限り、その種類、組成などに限定はなく、例えば、ポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアクレリート樹脂、ノルボンネン系樹脂、及び非晶質ポリオレフイン系樹脂等から適宜選択することができ、また、その厚みにも特段の限定はなく、通常５０μｍ〜１０ｍｍ程度のものを用いることができる。ポリエステル系樹脂としては、なかでもポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴとも称する）樹脂は、耐久性、耐溶剤性、生産性等の点においてすぐれているため好ましく用いられている。
また、この透明基材Ａ１１は、色調や透過率を調整するために着色されたものであってもよく、近赤外線遮蔽層１３中の近赤外線吸収剤の劣化を防止するために紫外線吸収剤が添加されたものであってもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、パラアミノ安息香酸系、及びサリチル酸系等の紫外線吸収性化合物が挙げられる。紫外線遮蔽性能としては、波長３８０ｎｍ以下の紫外領域において、紫外線透過率が２％以下であることが好ましい。
透明基材Ａが前記のようにプラスチック製である場合には、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に、酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、プラズマ処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は基材の種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から、好ましく用いられる。また、プライマー層を設けてもよい。
前記の透明基材Ａ１１の一面上に形成される反射防止層１２の構成には限定はなく、単層構造を有していてもよく、あるいは複層構造を有していてもよい。
また、図１、図２において図示されていないが、反射防止層１２の上には、帯電防止機能、防眩機能等の各種機能層が積層されていてもよく、透明基材Ａ１１と反射防止層１２との間、又は透明基材Ａ１１と近赤外線遮蔽層１３との間に、ハードコート機能層が設けられていてもよい。
また、図１、図２において図示されていないが、反射防止層１２の上には、帯電防止機能、防眩機能等の各種機能層が積層されていてもよく、透明基材Ａ１１と反射防止層１２との間、又は透明基材Ａ１１と近赤外線遮蔽層１３との間に、ハードコート機能層が設けられていてもよい。
（近赤外線遮蔽層）
前記の透明基材Ａ１１に積層される近赤外線遮蔽層１３の近赤外線遮蔽性能は８００ｎｍ〜１１００ｎｍ領域の近赤外線に対して、遮蔽性を有することが好ましく、例えば、樹脂マトリックス中に近赤外線吸収色素が含有されたものであることが好ましい。
＜近赤外線吸収色素＞
近赤外線吸収色素としては、８００ｎｍ〜１１００ｎｍ領域の近赤外線を遮蔽するものであれば特に限定されないが、例えば、ジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、有機金属錯体系化合物、シアニン系化合物、アゾ系化合物、ポリメチン系化合物、キノン系化合物、ジフェニルメタン系化合物、トリフェニルメタン系化合物、メルカプトナフトール系化合物等を用いることができ、またこれらは、単一種で用いられてもよく、或は、２種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。
前記の透明基材Ａ１１に積層される近赤外線遮蔽層１３の近赤外線遮蔽性能は８００ｎｍ〜１１００ｎｍ領域の近赤外線に対して、遮蔽性を有することが好ましく、例えば、樹脂マトリックス中に近赤外線吸収色素が含有されたものであることが好ましい。
＜近赤外線吸収色素＞
近赤外線吸収色素としては、８００ｎｍ〜１１００ｎｍ領域の近赤外線を遮蔽するものであれば特に限定されないが、例えば、ジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、有機金属錯体系化合物、シアニン系化合物、アゾ系化合物、ポリメチン系化合物、キノン系化合物、ジフェニルメタン系化合物、トリフェニルメタン系化合物、メルカプトナフトール系化合物等を用いることができ、またこれらは、単一種で用いられてもよく、或は、２種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。
ジイモニウム系化合物は、波長８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線領域に、モル吸光係数が１０万程度の強い吸収性を有し、従って近赤外線遮蔽性に優れている。ジイモニウム系化合物は、波長４００ｎｍ〜５００ｎｍの可視光額域に若干の吸収を有し黄褐色の透過色を呈するが、可視光透過性が他の近赤外線吸収色素よりも優れているため、少なくとも1種のジイモニウム系化合物が含まれていることが好ましい。
＜樹脂マトリックス＞
近赤外線吸収層１３を形成する透明樹脂マトリックスとしては、可視光領域で透明である（すなわち、十分な透過率を有する）、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂等を用いることができるが、ガラス転移点が６０℃以上である透明樹脂を用いることが好ましい。
前記透明樹脂のガラス転移点が６０℃未満であると、６０℃以上の高温に長時間曝された場合、樹脂が軟化し、それと同時に近赤外線遮蔽層１３中の近赤外線吸収色素、特にジイモニウム系化合物からなる近赤外線吸収色素が熱変質を受け易く、このため、カラーバランスが損なわれたり、近赤外線の遮蔽性が低下することなど、長期の安定性が低下することがある。
一方、透明樹脂のガラス転移点が６０℃以上であると、近赤外線吸収色素、特にジイモニウム系化合物からなる近赤外線吸収色素の熱変質を抑制することができる。また、上記の樹脂を用いると、近赤外線遮蔽層を、電磁波遮蔽層に、接着剤層を介して積層接合する際の、近赤外線遮蔽層中の色素の劣化、近赤外線遮蔽層の歪み、剥がれ等を防止することができる。
近赤外線吸収層１３を形成する透明樹脂マトリックスとしては、可視光領域で透明である（すなわち、十分な透過率を有する）、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂等を用いることができるが、ガラス転移点が６０℃以上である透明樹脂を用いることが好ましい。
前記透明樹脂のガラス転移点が６０℃未満であると、６０℃以上の高温に長時間曝された場合、樹脂が軟化し、それと同時に近赤外線遮蔽層１３中の近赤外線吸収色素、特にジイモニウム系化合物からなる近赤外線吸収色素が熱変質を受け易く、このため、カラーバランスが損なわれたり、近赤外線の遮蔽性が低下することなど、長期の安定性が低下することがある。
一方、透明樹脂のガラス転移点が６０℃以上であると、近赤外線吸収色素、特にジイモニウム系化合物からなる近赤外線吸収色素の熱変質を抑制することができる。また、上記の樹脂を用いると、近赤外線遮蔽層を、電磁波遮蔽層に、接着剤層を介して積層接合する際の、近赤外線遮蔽層中の色素の劣化、近赤外線遮蔽層の歪み、剥がれ等を防止することができる。
（粘着剤層）
前記の粘着剤層２１を構成する粘着剤としては、可視光領域で透明であれば（すなわち、十分な透過率を有すれば）特に限定されない。透明であれば、硬化型樹脂でも良いし、熱可塑性樹脂でも良い。硬化型樹脂としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂などが挙げられるが、これらの硬化型樹脂のうちでは、樹脂硬化のための設備が簡易で作業性に優れることから、紫外線硬化型樹脂が好ましい。また、透過率調整のために粘着剤層２１中に黒色顔料を直接混入させる場合には、熱可塑性樹脂が好適に用いられる。
粘着剤は、透明性の観点からは、アクリル系共重合体、シリコーン系共重合体等が好適に用いられる。
また、粘着剤層２１中には、前記の近赤外線吸収色素が含有されていてもよい。この場合は、前記の近赤外線遮蔽層１３は積層されている必要はない。
前記の粘着剤層２１を構成する粘着剤としては、可視光領域で透明であれば（すなわち、十分な透過率を有すれば）特に限定されない。透明であれば、硬化型樹脂でも良いし、熱可塑性樹脂でも良い。硬化型樹脂としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂などが挙げられるが、これらの硬化型樹脂のうちでは、樹脂硬化のための設備が簡易で作業性に優れることから、紫外線硬化型樹脂が好ましい。また、透過率調整のために粘着剤層２１中に黒色顔料を直接混入させる場合には、熱可塑性樹脂が好適に用いられる。
粘着剤は、透明性の観点からは、アクリル系共重合体、シリコーン系共重合体等が好適に用いられる。
また、粘着剤層２１中には、前記の近赤外線吸収色素が含有されていてもよい。この場合は、前記の近赤外線遮蔽層１３は積層されている必要はない。
（透明基材Ｂ）
前記の透明基材Ｂ５１を構成する材料としては、可視光領域で充分な透明性を有する材料であれば制限はなく、ガラス板や、透明フィルムを用いることができる。
透明フィルムとしては、ポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアクレリート樹脂、ノルボンネン系樹脂、及び非晶質ポリオレフイン系樹脂等から適宜選択することができ、また、その厚みにも特段の限定はなく、通常０．１ｍｍ〜１０ｍｍ程度のものを用いることができる。ポリエステル系樹脂としては、なかでもポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴとも称する）樹脂は、耐久性、耐溶剤性、生産性等の点において優れているため好ましく用いられている。
透明基材Ｂがプラスチック製の場合には、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、前記透明基材Ａの場合と同様に、表面処理を施すことができる。
前記の透明基材Ｂ５１を構成する材料としては、可視光領域で充分な透明性を有する材料であれば制限はなく、ガラス板や、透明フィルムを用いることができる。
透明フィルムとしては、ポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアクレリート樹脂、ノルボンネン系樹脂、及び非晶質ポリオレフイン系樹脂等から適宜選択することができ、また、その厚みにも特段の限定はなく、通常０．１ｍｍ〜１０ｍｍ程度のものを用いることができる。ポリエステル系樹脂としては、なかでもポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴとも称する）樹脂は、耐久性、耐溶剤性、生産性等の点において優れているため好ましく用いられている。
透明基材Ｂがプラスチック製の場合には、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、前記透明基材Ａの場合と同様に、表面処理を施すことができる。
（電磁波シールド材）
前記のメッシュ状パターンの電磁波シールド材３１は、適当なピッチ間隔を有する金属製の極細線の縦線と、適当なピッチ間隔を有する金属製の極細線の横線が交差して形成されているものである。縦線と横線の交差は、直交であっても斜交であってもよい。極細線メッシュ状パターンを構成する縦線及び横線の線幅は、それぞれ５μｍ〜５０μｍ程度、好ましくは１０μｍ〜３０μｍである。また、極細線メッシュ状パターンを構成する縦線及び横線のピッチ間隔は、それぞれ１００μｍ〜５００μｍ程度、好ましくは２００μｍ〜３００μｍである。前記の線幅及びピッチ間隔が前記範囲を逸脱すると、モアレ干渉縞が発生し画質を悪化させ、またディスプレイとして好適な透過率と電磁波遮蔽性能を両立することが困難となるので好ましくない。
前記のメッシュ状パターンの電磁波シールド材３１は、適当なピッチ間隔を有する金属製の極細線の縦線と、適当なピッチ間隔を有する金属製の極細線の横線が交差して形成されているものである。縦線と横線の交差は、直交であっても斜交であってもよい。極細線メッシュ状パターンを構成する縦線及び横線の線幅は、それぞれ５μｍ〜５０μｍ程度、好ましくは１０μｍ〜３０μｍである。また、極細線メッシュ状パターンを構成する縦線及び横線のピッチ間隔は、それぞれ１００μｍ〜５００μｍ程度、好ましくは２００μｍ〜３００μｍである。前記の線幅及びピッチ間隔が前記範囲を逸脱すると、モアレ干渉縞が発生し画質を悪化させ、またディスプレイとして好適な透過率と電磁波遮蔽性能を両立することが困難となるので好ましくない。
前記粘着剤層２１中における、前記透明基材Ｂ５１との貼着面５１ａ及び透明基材Ｂ５１の側面に配設された導電部材２２を形成する材料は、導電性に優れた材料であれば特に制限されるものではなく、例えば、厚みが３０μｍ〜１００μｍ程度の帯状（テープ状）アルミニウム板等を例示することができる。
このように構成されたディスプレイ用光学フィルター１０ａ又は１０ｂは、メッシュ状パターンの電磁波シールド材３１が、前記粘着剤層２１における、前記透明基材Ｂ５１との貼着面５１ａ及び透明基材Ｂ５１の側面に配設された接地（アース）用の導電部材２２に連結されているので、この導電部材２２を介して簡単に接地（アース）することができる。
また、このディスプレイ用光学フィルター１０ａ又は１０ｂは、例えば、以下に詳述するように、製造方法１又は２により製造されるものであるので、従来のディスプレイ用光学フィルターよりも大幅に廉価なものとなっている。
また、このディスプレイ用光学フィルター１０ａ又は１０ｂは、例えば、以下に詳述するように、製造方法１又は２により製造されるものであるので、従来のディスプレイ用光学フィルターよりも大幅に廉価なものとなっている。
次に、本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法について説明する。本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法には、以下に示す製造方法１及び製造方法２の２つの態様がある。
図３は、本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法１における転写フィルムの断面模式図であり、図４は、本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法において、金属層を転写する方法の一例を示す説明図であって、図３及び図４に基づいて、本発明の製造方法について説明する。なお図４は、両面に機能層を有する透明基材６１ａを用いた例である。
図３は、本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法１における転写フィルムの断面模式図であり、図４は、本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法において、金属層を転写する方法の一例を示す説明図であって、図３及び図４に基づいて、本発明の製造方法について説明する。なお図４は、両面に機能層を有する透明基材６１ａを用いた例である。
［ディスプレイ用光学フィルターの製造方法１］
ディスプレイ用光学フィルターの製造方法１は、
（ａ）支持フィルムの７３一方の面に、金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターン７４が形成され、このメッシュ状パターン７４上に金属をメッキしてメッシュ状パターンの金属層７１が形成されてなる転写用メッシュフィルム８１を得る（ａ−１）工程と、
この（ａ−１）工程で得られた転写用フィルム８１と、片面の最外層に粘着剤層２１を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Ａ１１（図４では、両面に機能層を有する透明樹脂６１ａ）とを、前記金属層７１と前記粘着剤層２１とが接するように積層一体化して、積層体を形成する（ａ−２）工程と、
（ｂ）前記（ａ−２）工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルム８１を剥離して、前記金属層７１が前記粘着剤層２１に転写された透明基材６１ａと、前記金属層７１が剥離された転写用メッシュフィルム８１ａとを得る工程と、
（ｃ）前記（ｂ）工程で得られ、前記金属層７１が前記粘着剤層２１に転写された透明基材６１ａと、透明基材Ｂ５１とを、前記透明基材Ｂ５１の表面に配設された導電部材２２と前記粘着剤層２１から露出する前記金属層７１が接するように、前記金属層７１が転写された前記粘着剤層２１を介して、積層一体化する工程、
を有している。
ディスプレイ用光学フィルターの製造方法１は、
（ａ）支持フィルムの７３一方の面に、金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターン７４が形成され、このメッシュ状パターン７４上に金属をメッキしてメッシュ状パターンの金属層７１が形成されてなる転写用メッシュフィルム８１を得る（ａ−１）工程と、
この（ａ−１）工程で得られた転写用フィルム８１と、片面の最外層に粘着剤層２１を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Ａ１１（図４では、両面に機能層を有する透明樹脂６１ａ）とを、前記金属層７１と前記粘着剤層２１とが接するように積層一体化して、積層体を形成する（ａ−２）工程と、
（ｂ）前記（ａ−２）工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルム８１を剥離して、前記金属層７１が前記粘着剤層２１に転写された透明基材６１ａと、前記金属層７１が剥離された転写用メッシュフィルム８１ａとを得る工程と、
（ｃ）前記（ｂ）工程で得られ、前記金属層７１が前記粘着剤層２１に転写された透明基材６１ａと、透明基材Ｂ５１とを、前記透明基材Ｂ５１の表面に配設された導電部材２２と前記粘着剤層２１から露出する前記金属層７１が接するように、前記金属層７１が転写された前記粘着剤層２１を介して、積層一体化する工程、
を有している。
以下、製造方法１について各工程ごとに説明する。
（（ａ−１）工程）
この工程は、図３に示されるように、支持フィルム７３の一方の面に、金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物を用いて、例えば印刷法により、メッシュ状パターン７４を形成し、このメッシュ状パターン７４上に金属をメッキして、メッシュ状パターンの金属層７１が形成されてなる転写用メッシュフィルム８１を得る工程である。
（（ａ−１）工程）
この工程は、図３に示されるように、支持フィルム７３の一方の面に、金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物を用いて、例えば印刷法により、メッシュ状パターン７４を形成し、このメッシュ状パターン７４上に金属をメッキして、メッシュ状パターンの金属層７１が形成されてなる転写用メッシュフィルム８１を得る工程である。
前記の支持フィルム７３としては、メッシュ状パターンの金属層７１を形成する工程に耐え、かつ機械的強度に優れた柔軟なフィルムであれば特に制限されるものではなく、例えば、厚みが２５μｍ〜２００μｍ程度のＰＥＴフィルム、ＰＥフィルム、ＰＰフィルム等を好適に用いることができる。
前記の金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物としては、例えば、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）等の金属微粉末と、セルロース樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂等の樹脂とを含有する導電性樹脂組成物等を例示することができる。
金属微粉末の平均粒径は特に限定されないが、導電性樹脂組成物中に均一に配合されることを考慮して、通常０．５μｍ〜２μｍの範囲で設定するのが好ましい。平均粒径が上記範囲を超えると金属微粉末同士の接触点が少なくなり、接触抵抗が大きくなるおそれがある。また、逆に、平均粒径が上記範囲を下回ると金属微粉末を導電性導電性樹脂組成物中に均一に分散させるのが困難になる虞がある。
金属微粉末の平均粒径は特に限定されないが、導電性樹脂組成物中に均一に配合されることを考慮して、通常０．５μｍ〜２μｍの範囲で設定するのが好ましい。平均粒径が上記範囲を超えると金属微粉末同士の接触点が少なくなり、接触抵抗が大きくなるおそれがある。また、逆に、平均粒径が上記範囲を下回ると金属微粉末を導電性導電性樹脂組成物中に均一に分散させるのが困難になる虞がある。
金属微粉末の配合量は、導電性樹脂組成物の導電性（即ち、メッキ容易性）、メッシュ状パターン７４と支持フィルム７３との密着性、メッシュ状パターンの金属層７１の転写性を考慮して設定されるものであって、特に限定されるものではないが、通常、導電性樹脂組成物における樹脂成分１００質量部に対して４０質量部〜２０００質量部、好ましくは１００質量部〜１５００質量部の範囲で設定される。金属微粉末の配合量が４０質量部を下回ると、導電性樹脂組成物の導電性が著しく低下して、この導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターン７４上へのメッキが困難となる虞があるので好ましくない。逆に、金属微粉末の配合量が２０００質量部を超えると、導電性樹脂組成物の全量に対する樹脂の含有量が少なくなり過ぎて、金属微粉末を結合させる力が小さくなり、その結果、導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターン７４の強度不足を招き、また、メッシュ状パターン７４と支持フィルム７３との密着性が低下し、下記に詳述する（ｂ）工程で剥離して、メッシュ状パターンの金属層７１を前記粘着剤層２１に転写することが困難となる虞があるので好ましくない。
前記の樹脂としては、例えばポリエステル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エチルセルロース樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂等の熱可塑性樹脂、ポリエステル−メラミン樹脂、メラミン樹脂、エポキシ−メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、ポリイミド樹脂、（メタ）アクリル樹脂等の熱硬化性樹脂のいずれも使用できる。
導電性樹脂組成物は、印刷法での印刷に適した粘度とするため、上記樹脂および金属微粉末の混合物にさらに溶媒を加えて調製される。使用する溶媒は、例えば沸点が１５０℃以上の溶媒を用いるのが好適である。溶媒の沸点が上記範囲を下回ると、印刷時において溶媒が乾燥しやすくなり、ピンホールが発生する虞があるので好ましくない。
使用可能な溶媒の具体例としては、ヘキサノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノール、ステアリルアルコール、セリルアルコール、シクロヘキサノール、テルピネオール等のアルコール；エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルカルビトール）、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のアルキルエーテルがあげられ、印刷適正や作業性等を考慮して適宜選択すればよい。
前記のメッシュ状パターン７４は、適当なピッチ間隔の極細線の縦線と適当なピッチ間隔の極細線の横線が交差して形成されているものである。縦線と横線の交差は、直交であっても斜交であってもよい。極細線メッシュ状パターンを構成する縦線及び横線の線幅は、それぞれ５μｍ〜５０μｍ、好ましくは１０μｍ〜３０μｍである。また、極細線メッシュ状パターンを構成する縦線及び横線のピッチ間隔は、それぞれ１００μｍ〜５００μｍ、好ましくは２００μｍ〜３００μｍである。前記の線幅及びピッチ間隔が前記範囲を逸脱すると、モアレ干渉縞が発生し画質を悪化させ、またディスプレイとして好適な透過率と電磁波遮蔽性能を両立することが困難となるので好ましくない。
前記の印刷法としては、例えばスクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法等を用いることができる。
支持フィルム７３上に印刷形成された導電性樹脂組成物のメッシュ状パターンは、通常６０℃〜２００℃で２分間〜３０分間、好ましくは８０℃〜１５０℃で３分間〜１５分間加熱することにより硬化される。
支持フィルム７３上に印刷形成された導電性樹脂組成物のメッシュ状パターンは、通常６０℃〜２００℃で２分間〜３０分間、好ましくは８０℃〜１５０℃で３分間〜１５分間加熱することにより硬化される。
支持フィルム７３上に導電性樹脂組成物を印刷し、硬化させることによって形成されたメッシュ状パターン７４の表面には、さらにメッキによって金属層７１が形成される。
メッキによって形成される金属層としては、例えば銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、金（Ａｕ）等の金属からなる被膜が挙げられる。メッキ法は、電解メッキであっても、無電解メッキであってもよい。
メッキによって形成される金属層としては、例えば銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、金（Ａｕ）等の金属からなる被膜が挙げられる。メッキ法は、電解メッキであっても、無電解メッキであってもよい。
電解メッキに使用するメッキ液の組成については特に限定されるものではなく、常法に従って調製することができる。例えば、銅メッキを形成する場合には、メッキ液として硫酸銅水溶液を用いればよい。
また、無電解メッキに使用するメッキ液の組成についても特に限定されるものではなく、常法に従って調製することができる。例えば、硫酸銅、ＥＤＴＡ、ホルムアルデヒド、水酸化ナトリウムからなる無電解銅メッキ液が使用できる。
また、無電解メッキに使用するメッキ液の組成についても特に限定されるものではなく、常法に従って調製することができる。例えば、硫酸銅、ＥＤＴＡ、ホルムアルデヒド、水酸化ナトリウムからなる無電解銅メッキ液が使用できる。
前記メッシュ状パターンの金属層７１の膜厚は０．２μｍ〜８μｍが好ましく、１μｍ〜５μｍがより好ましい。
転写される前記メッシュ状パターンの金属層７１の膜厚が０．２μｍよりも薄いと電磁波シールド材の導電性が不足し、充分な電磁波遮蔽性能が得られないので好ましくない。一方、転写される前記メッシュ状パターンの金属層７１の膜厚が８μｍよりも厚いと粘着剤層２１中への埋め込み性が低下して転写面に凹凸が形成されやすく、透明基材Ｂと積層一体化する際に空気を噛み込みやすくなり、ディスプレイ用光学フィルターの可視光透過率が低下するので好ましくない。
前記金属層７１上には、コントラストを向上させるために、ニッケル（Ｎｉ）等の黒色メッキが施されていてもよい。黒色メッキする方法は公知の方法を適用することができる。
転写される前記メッシュ状パターンの金属層７１の膜厚が０．２μｍよりも薄いと電磁波シールド材の導電性が不足し、充分な電磁波遮蔽性能が得られないので好ましくない。一方、転写される前記メッシュ状パターンの金属層７１の膜厚が８μｍよりも厚いと粘着剤層２１中への埋め込み性が低下して転写面に凹凸が形成されやすく、透明基材Ｂと積層一体化する際に空気を噛み込みやすくなり、ディスプレイ用光学フィルターの可視光透過率が低下するので好ましくない。
前記金属層７１上には、コントラストを向上させるために、ニッケル（Ｎｉ）等の黒色メッキが施されていてもよい。黒色メッキする方法は公知の方法を適用することができる。
前記転写用メッシュフィルム８１の、メッシュ状パターンの金属層７１が形成されていない領域には離型剤がコーティングされ、離型剤のコーティング層７２が形成されていることが好ましい。
メッシュ状パターンの金属層７１が形成されていない領域に離型剤がコーティングされていると、離型剤がコーティングされている領域では、下記の（ａ−２）工程で、転写用メッシュフィルム８１と、片面の最外層に粘着剤層を有する前記透明基材Ａ１１を、前記金属層と前記粘着剤層とが接するように圧着しても貼着されないため、前記転写用メッシュフィルム８１を剥離させることが容易となり、また、前記転写用メッシュフィルム８１を引き剥がす際には、前記メッシュ状パターン７４と前記メッシュ状パターンの金属層７１との界面から剥離が生じることとなる。
離型剤としては、例えばシリコーン系離型剤、フッ素系離型剤等を好適に用いることができる。
離型剤のコーティング方法としては、グラビア等の一般的なコーティング方法を採用することができる。
メッシュ状パターンの金属層７１が形成されていない領域に離型剤がコーティングされていると、離型剤がコーティングされている領域では、下記の（ａ−２）工程で、転写用メッシュフィルム８１と、片面の最外層に粘着剤層を有する前記透明基材Ａ１１を、前記金属層と前記粘着剤層とが接するように圧着しても貼着されないため、前記転写用メッシュフィルム８１を剥離させることが容易となり、また、前記転写用メッシュフィルム８１を引き剥がす際には、前記メッシュ状パターン７４と前記メッシュ状パターンの金属層７１との界面から剥離が生じることとなる。
離型剤としては、例えばシリコーン系離型剤、フッ素系離型剤等を好適に用いることができる。
離型剤のコーティング方法としては、グラビア等の一般的なコーティング方法を採用することができる。
（（ａ−２）工程）
この工程は、前記（ａ−１）工程で得られた転写用メッシュフィルム８１と、片面の最外層に粘着剤層２１を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも１つの機能を有する前記透明基材６１ａ又は６１ｂとを、前記メッシュ状パターンの金属層７１と前記粘着剤層２１とが接するように圧着し、積層一体化して積層体を形成する工程である。
この工程は、前記（ａ−１）工程で得られた転写用メッシュフィルム８１と、片面の最外層に粘着剤層２１を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも１つの機能を有する前記透明基材６１ａ又は６１ｂとを、前記メッシュ状パターンの金属層７１と前記粘着剤層２１とが接するように圧着し、積層一体化して積層体を形成する工程である。
前記の透明基材６１ａ、６１ｂは、特に制限されるものではなく、例えば、視覚側から順に、反射防止層１２、透明基材Ａ１１、近赤外線吸収剤が添加された近赤外線遮蔽層１３が積層一体化されたもの、または、視覚側から順に、反射防止層１２、近赤外線吸収剤が添加された近赤外線遮蔽層１３、透明基材Ａ１１が積層一体化されたものを例示することができる。
粘着剤層２１を、透明基材Ａ１１上に形成する方法としては、特に制限されるものではないが、例えば、アクリル系共重合体等の粘着性樹脂と有機溶剤を含む塗料組成物を透明基材６１ａ又は６１ｂ上の近赤外線遮蔽層１３の上、又は前記透明基材Ａ１１上に塗布して塗布膜とし、この塗布膜を乾燥させて粘着剤層２１とする方法を好適に例示することができる。塗布方法としては、リップコート法、グラビアコート法、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、インクジェット法、スクリーン印刷法等の通常の塗布法を用いる。
粘着剤層２１の厚みは、特に限定されないが５μｍ〜５０μｍが好ましい。粘着剤層２１の厚みが５μｍを下回ると、転写用メッシュフィルム８１と、片面に粘着剤層２１を有する透明基材６１とを、積層一体化する際に、粘着剤層２１中への埋め込み性が低下して転写面に凹凸が形成されやすく（メッシュ状パターンの凹凸を吸収できず）、メッシュ状パターンの金属層７１を粘着剤層２１中に埋め込むことができない。一方、粘着剤層２１の厚みが５０μｍを超えると転写用メッシュフィルム８１を粘着剤層２１から剥離する際、粘着剤層の歪みが発生するので好ましくない。
粘着剤層２１の厚みは、特に限定されないが５μｍ〜５０μｍが好ましい。粘着剤層２１の厚みが５μｍを下回ると、転写用メッシュフィルム８１と、片面に粘着剤層２１を有する透明基材６１とを、積層一体化する際に、粘着剤層２１中への埋め込み性が低下して転写面に凹凸が形成されやすく（メッシュ状パターンの凹凸を吸収できず）、メッシュ状パターンの金属層７１を粘着剤層２１中に埋め込むことができない。一方、粘着剤層２１の厚みが５０μｍを超えると転写用メッシュフィルム８１を粘着剤層２１から剥離する際、粘着剤層の歪みが発生するので好ましくない。
このような、片面に粘着剤層２１を有する前記透明基材６１ａ又は６１ｂと、（ａ−１）工程で得られたメッシュ状パターンの金属層７１を有する転写用フィルム８１とを、前記粘着剤層２１と前記メッシュ状パターンの金属層７１とが接するように圧着し、積層一体化して積層体を形成する。
圧着し、積層一体化するには、通常のラミネート法を採用することができる。ラミネートする際の圧着力（加圧力）は、前記のメッシュ状パターンの金属層７１が前記粘着剤層２１中に埋設されるように、充分な圧着力（加圧力）とし、その際、熱を負荷して粘着剤層２１に可塑性を付与して、前記のメッシュ状パターンの金属層７１が前記粘着剤層２１中に容易に埋設されるようにしてもよい。具体的な圧着力（加圧力）は、粘着剤層２１を構成する粘着剤の種類によって異なるが、通常、０．３ＭＰａ〜１．０ＭＰａ程度である。
圧着し、積層一体化するには、通常のラミネート法を採用することができる。ラミネートする際の圧着力（加圧力）は、前記のメッシュ状パターンの金属層７１が前記粘着剤層２１中に埋設されるように、充分な圧着力（加圧力）とし、その際、熱を負荷して粘着剤層２１に可塑性を付与して、前記のメッシュ状パターンの金属層７１が前記粘着剤層２１中に容易に埋設されるようにしてもよい。具体的な圧着力（加圧力）は、粘着剤層２１を構成する粘着剤の種類によって異なるが、通常、０．３ＭＰａ〜１．０ＭＰａ程度である。
（（ｂ）工程）
この工程は、図４に示されるように、前記（ａ−２）工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルム８１を剥離して、前記メッシュ状パターンの金属層７１が前記粘着剤層２１中に転写され、前記メッシュ状パターンの金属層７１の側面が露出した透明基材６１ａ（図４は、透明基材６１ａの場合について示しているが、６１ｂも同様である。）と、前記メッシュ状パターンの金属層７１が剥離された転写用メッシュフィルム８１ａとを得る工程である。
支持フィルム７３上に形成された金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターン７４と、このメッシュ状パターン７４上にメッキされたメッシュ状パターンの金属層７１との密着力は充分ではなく、したがって、（ａ−２）工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルム８１を剥離する際には、金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターン７４と、このメッシュ状パターン７４上にメッキされたメッシュ状パターンの金属層７１との界面から容易に剥離される。その理由は、必ずしも明確ではないが、金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターン７４の表面に露出した金属微粉末とメッキ法により形成されたメッシュ状パターンの金属層７１とは充分な密着力を有するものの、前記メッシュ状パターン７４の金属微粉末が露出していない部分とメッキ法により形成されたメッシュ状パターンの金属層７１とは密着力を有していないためと考えられる。
この工程は、図４に示されるように、前記（ａ−２）工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルム８１を剥離して、前記メッシュ状パターンの金属層７１が前記粘着剤層２１中に転写され、前記メッシュ状パターンの金属層７１の側面が露出した透明基材６１ａ（図４は、透明基材６１ａの場合について示しているが、６１ｂも同様である。）と、前記メッシュ状パターンの金属層７１が剥離された転写用メッシュフィルム８１ａとを得る工程である。
支持フィルム７３上に形成された金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターン７４と、このメッシュ状パターン７４上にメッキされたメッシュ状パターンの金属層７１との密着力は充分ではなく、したがって、（ａ−２）工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルム８１を剥離する際には、金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターン７４と、このメッシュ状パターン７４上にメッキされたメッシュ状パターンの金属層７１との界面から容易に剥離される。その理由は、必ずしも明確ではないが、金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターン７４の表面に露出した金属微粉末とメッキ法により形成されたメッシュ状パターンの金属層７１とは充分な密着力を有するものの、前記メッシュ状パターン７４の金属微粉末が露出していない部分とメッキ法により形成されたメッシュ状パターンの金属層７１とは密着力を有していないためと考えられる。
（（ｃ）工程）
この工程は、前記（ｂ）工程で得られ、前記メッシュ状パターンの金属層７１が前記粘着剤層２１に転写された透明基材６１ａ又は６１ｂと、透明基材Ｂ５１とを、前記透明基材Ｂ５１の表面に配設された導電部材２２と前記粘着剤層２１から露出する前記メッシュ状パターンの金属層７１が接するように、前記金属層７１が転写された前記粘着剤層２１を介して、圧着し、積層一体化し、前記メッシュ状パターンの金属層７１を前記電磁波シールド材３１とし、ディスプイ用光学フィルターを得る工程である。
この工程は、前記（ｂ）工程で得られ、前記メッシュ状パターンの金属層７１が前記粘着剤層２１に転写された透明基材６１ａ又は６１ｂと、透明基材Ｂ５１とを、前記透明基材Ｂ５１の表面に配設された導電部材２２と前記粘着剤層２１から露出する前記メッシュ状パターンの金属層７１が接するように、前記金属層７１が転写された前記粘着剤層２１を介して、圧着し、積層一体化し、前記メッシュ状パターンの金属層７１を前記電磁波シールド材３１とし、ディスプイ用光学フィルターを得る工程である。
圧着し、積層一体化するには、通常のラミネート法を採用することができる。ラミネートするときの圧着力（加圧力）は、前記金属層７１が前記粘着剤層２１に転写された透明基材６１ａ又は６１ｂと前記透明基Ａ５１とが平行に積層され、かつ、積層界面に気泡が形成されないような充分な圧着力（加圧力）とし、具体的な圧着力（加圧力）は、粘着剤層２１を構成する粘着剤の種類によって異なるが、通常、０．３ＭＰａ〜１．０ＭＰａ程度である。積層界面に気泡が形成されると、可視光線透過率が低下する。
圧着し、積層一体化する際には、例えば、４０〜７０℃の温度下、０．３ＭＰａ〜１．２ＭＰａの圧力下で１０分〜１２０分間の条件下でオートクレーブ処理してもよい。オートクレーブ処理すると、積層界面に残存した気泡を消失させることができるので好ましい。
なお、前記の透明基材５１は、ディスプレイの表示面を構成する前面ガラス板であってもよい。
圧着し、積層一体化する際には、例えば、４０〜７０℃の温度下、０．３ＭＰａ〜１．２ＭＰａの圧力下で１０分〜１２０分間の条件下でオートクレーブ処理してもよい。オートクレーブ処理すると、積層界面に残存した気泡を消失させることができるので好ましい。
なお、前記の透明基材５１は、ディスプレイの表示面を構成する前面ガラス板であってもよい。
一方、メッシュ状パターンの金属層７１が剥離されて、前記メッシュ状パターンの金属層７１が剥離された転写用メッシュフィルム８１ａは、このメッシュ状パターン７４上に金属を再度メッキし、メッシュ状パターンの金属層７１が新たに形成された転写用メッシュフィルム８１を得ることができ、この新たに再生された転写用メッシュフィルム８１を繰り返し使用することにより、ディスプレイ用光学フィルターの製造コストを大幅に削減することができる。
「ディスプレイ用光学フィルターの製造方法２」
ディスプレイ用光学フィルターの製造方法２は、
（ｘ）支持フィルムの一方の面上にメッシュ状パターンの第１金属層と、この第１金属層上に、前記第１金属層を形成する金属の酸化物からなるメッシュ状パターンの金属酸化物層が形成され、このメッシュ状パターンの金属酸化物層上に、メッシュ状パターンの第２金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムと、片面の最外層に粘着剤層を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Ａとを、前記第２金属層と前記粘着剤層とが接するように積層一体化して積層体を形成する工程と、
（ｙ）前記（ｘ）工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルムを剥離して、前記第２金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Ａと、前記第２金属層が剥離された転写用メッシュフィルムとを得る工程と、
（ｚ）前記（ｙ）工程で得られ、前記第２金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Ａと、透明基Ｂとを、前記透明基材Ｂの表面に配設された導電部材と前記粘着剤層から露出する前記金属層が接するように、前記第２金属層が転写された前記粘着剤層を介して、積層一体化する工程、
を有している。
ディスプレイ用光学フィルターの製造方法２は、
（ｘ）支持フィルムの一方の面上にメッシュ状パターンの第１金属層と、この第１金属層上に、前記第１金属層を形成する金属の酸化物からなるメッシュ状パターンの金属酸化物層が形成され、このメッシュ状パターンの金属酸化物層上に、メッシュ状パターンの第２金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムと、片面の最外層に粘着剤層を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Ａとを、前記第２金属層と前記粘着剤層とが接するように積層一体化して積層体を形成する工程と、
（ｙ）前記（ｘ）工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルムを剥離して、前記第２金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Ａと、前記第２金属層が剥離された転写用メッシュフィルムとを得る工程と、
（ｚ）前記（ｙ）工程で得られ、前記第２金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Ａと、透明基Ｂとを、前記透明基材Ｂの表面に配設された導電部材と前記粘着剤層から露出する前記金属層が接するように、前記第２金属層が転写された前記粘着剤層を介して、積層一体化する工程、
を有している。
以下、製造方法２について各工程ごとに説明する。
（（ｘ−１）工程）
図５は、本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法２における転写フィルムの断面模式図である。
この工程は、図５に示されるように、柔軟な支持フィルム７３の一方の面上に、メッシュ状パターンの第１金属層７４と、この第１金属層７４上に、前記第１金属層７４を形成する金属の酸化物からなるメッシュ状パターンの金属酸化物層７４ａが形成され、このメッシュ状パターンの金属酸化物層７４ａ上に、メッシュ状パターンの第２金属層７１が形成されてなる転写用メッシュフィルム９１を得る工程である。
（（ｘ−１）工程）
図５は、本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法２における転写フィルムの断面模式図である。
この工程は、図５に示されるように、柔軟な支持フィルム７３の一方の面上に、メッシュ状パターンの第１金属層７４と、この第１金属層７４上に、前記第１金属層７４を形成する金属の酸化物からなるメッシュ状パターンの金属酸化物層７４ａが形成され、このメッシュ状パターンの金属酸化物層７４ａ上に、メッシュ状パターンの第２金属層７１が形成されてなる転写用メッシュフィルム９１を得る工程である。
前記の柔軟な支持フィルム７３としては、メッシュ状パターンの前記第１金属層７４、前記金属酸化物層７４ａ、及び前記第２金属層７１を形成する工程に耐え、かつ機械的強度に優れた柔軟なフィルムであれば特に制限されるものではなく、例えば、厚みが２５μｍ〜２００μｍ程度のＰＥＴフィルム、ＰＥフィルム、ＰＰフィルムを好適に用いることができる。
このような支持フィルム７３の一方の面上に、メッシュ状パターンの第１金属層７４と、このメッシュ状パターンの第１金属層７４上に、前記第１金属層を形成する金属の酸化物からなるメッシュ状パターンの金属酸化物層７４ａが形成され、このメッシュ状パターンの金属酸化物層７４ａ上に、メッシュ状パターンの第２金属層７１とを積層形成する方法としては、例えば、次の（１）又は（２）の方法を好適に例示することができる。
（１）支持フィルム７３の一方の面上に無電解メッキ用触媒インクをメッシュ状パターンに印刷し、このメッシュ状パターン上に無電解メッキを施して第１金属層７４を形成し、次いで、前記第１金属層７４の表面を酸化処理してメッシュ状パターンの金属酸化物層７４ａを形成し、次いで、このメッシュ状パターンの金属酸化物層７４ａ上に電解メッキを施して、メッシュ状パターンの第２金属層７１を積層形成する。前記の酸化物層７４ａを形成する酸化処理法は、支持フィルム７３が劣化しない限り特に制限されず、例えば、温度５０℃〜６０℃程度の次亜塩素酸塩または亜塩素酸塩を含むアルカリ水溶液に１分〜１０分程度浸漬して表面処理する方法を例示することができる。
（２）支持フィルム７３の一方の面上に金属箔を積層し、フォトエッチング法によりメッシュ状パターンの第１金属層７４を形成し、次いで、前記第１金属層７４の表面を酸化処理してメッシュ状パターンの金属酸化物層７４ａを形成し、次いで、このメッシュ状パターンの金属酸化物層７４ａ上に電解メッキを施して、メッシュ状パターンの第２金属層７１を積層形成する。前記の酸化物層７４ａを形成する酸化処理法は、支持フィルム７３が劣化しない限り特に制限されず、例えば、温度５０℃〜６０℃程度の次亜塩素酸塩または亜塩素酸塩を含むアルカリ水溶液に１分〜１０分程度浸漬して表面処理する方法を例示することができる。
（２）支持フィルム７３の一方の面上に金属箔を積層し、フォトエッチング法によりメッシュ状パターンの第１金属層７４を形成し、次いで、前記第１金属層７４の表面を酸化処理してメッシュ状パターンの金属酸化物層７４ａを形成し、次いで、このメッシュ状パターンの金属酸化物層７４ａ上に電解メッキを施して、メッシュ状パターンの第２金属層７１を積層形成する。前記の酸化物層７４ａを形成する酸化処理法は、支持フィルム７３が劣化しない限り特に制限されず、例えば、温度５０℃〜６０℃程度の次亜塩素酸塩または亜塩素酸塩を含むアルカリ水溶液に１分〜１０分程度浸漬して表面処理する方法を例示することができる。
前記（１）の方法における、支持フィルム７３の一方の面上に無電解メッキ用触媒インクをパターン印刷する方法としてはスクリーン印刷法、又はグラビア印刷法にてパターン印刷する方法を例示することができる。前記の無電解メッキ用触媒インクとしてはパラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）等の貴金属触媒微粒子を吸着させたアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）等の無機微粉末と樹脂、有機溶媒を分散混合させたものを例示することができる。前記樹脂としてはセルロース樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂等を、有機溶媒としてはテルピネオール、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート等を例示することができる。前記の無電解メッキ用触媒インクにおける前記樹脂の配合量は３０質量％〜９５質量％であることが好ましい。前記樹脂の配合量が３０質量％を下回ると、無電解メッキ触媒インクからなるメッシュ状パターンと支持フィルム７３との密着性が低下し、次の（ｙ）工程で剥離して、メッシュ状パターンの金属層７１を前記粘着剤層２１に転写することが困難となるおそれがあるので好ましくない。一方、前記樹脂の配合量が９５質量％を上回ると、貴金属触媒微粒子の量が低下して無電解メッキが困難となるおそれがあるので好ましくない。
前記（２）の方法における、支持フィルム７３の一方の面上に金属層を積層する方法は、特に制限されるものでなく、例えば、支持フィルム７３と金属箔とを粘着剤層を介してラミネートする方法や、スパッタ法、蒸着法にて金属層を積層する方法等を例示することができる。前記の金属箔としては、厚みが１μｍ〜２０μｍ程度の銀（Ａｇ）箔、銅（Ｃｕ）箔、ニッケル（Ｎｉ）箔等を例示することができる。前記の粘着剤層を構成する粘着剤としては、アクリル系、シリコーン系などの粘着剤を例示することができる。
支持フィルム７３の一方の面上にこのようにして形成された、メッシュ状パターンの第１金属層７４と、前記メッシュ状パターンの第１金属層７４上に形成されたメッシュ状パターンの金属酸化物層７４ａと、この金属酸化物層７４ａ上に形成されたメッシュ状パターンの第２金属層７１とを有する転写用メッシュフィルム９１にあっては、下記に詳述する（ｙ）工程で剥離する際に、前記第１金属層７４と前記第２金属層７１との層界面、即ち、金属酸化物層７４ａ中で応力が発生しやすく、微細なクラックが前記層界面、即ち、金属酸化物層７４ａ中に発生するため、前記第１金属層７４と前記第２金属層７１とは密着性が充分ではなく、前記第１金属層７４と前記第２金属層７１との層界面、即ち、金属酸化物層７４ａ中で容易に剥離させることができる。
前記第２金属層７１の膜厚は０．２μｍ〜８μｍが好ましく、１μｍ〜５μｍがより好ましい。
転写される前記第２金属層７１の膜厚が０．２μｍよりも薄いと電磁波シールド材の導電性が不足し、充分な電磁波遮蔽性能が得られない。一方、転写される前記第２金属層７１の膜厚が８μｍよりも厚いと粘着剤層２１中への埋め込み性が低下して転写面に凹凸が形成されやすく、透明基材Ｂ５１と積層一体化する際に空気を噛み込みやすくなり、光学フィルターの可視光透過率が低下する。
前記第２金属層７１上には、コントラストを向上させるために、ニッケル（Ｎｉ）等の黒色メッキが施されていてもよい。黒色メッキする方法は公知の方法を適用することができる。
転写される前記第２金属層７１の膜厚が０．２μｍよりも薄いと電磁波シールド材の導電性が不足し、充分な電磁波遮蔽性能が得られない。一方、転写される前記第２金属層７１の膜厚が８μｍよりも厚いと粘着剤層２１中への埋め込み性が低下して転写面に凹凸が形成されやすく、透明基材Ｂ５１と積層一体化する際に空気を噛み込みやすくなり、光学フィルターの可視光透過率が低下する。
前記第２金属層７１上には、コントラストを向上させるために、ニッケル（Ｎｉ）等の黒色メッキが施されていてもよい。黒色メッキする方法は公知の方法を適用することができる。
前記転写用メッシュフィルム９１の、メッシュ状パターンの第１金属層７４と、メッシュ状パターンの金属酸化物層７４ａと、メッシュ状パターンの前記第２金属層７１が形成されていない領域には離型剤がコーティングされ、離型剤のコーティング層７２が形成されていることが好ましい。
メッシュ状パターンの前記第１金属層７４と、前記金属酸化物層７４ａと、第２金属層７１が形成されていない領域に離型剤がコーティングされていると、離型剤がコーティングされている領域では、下記の（ｘ−２）工程で、転写用メッシュフィルムと、片面に粘着剤層を有する透明基材６１ａ又は６１ｂとを、前記第２金属層７１と前記粘着剤層２１とが接するように圧着しても貼着されないため、前記転写用メッシュフィルム９１を剥離させることが容易となり、また、前記転写用メッシュフィルム９１を引き剥がす際には、前記第１金属層７４と前記第２金属層７１との界面、即ち、前記の金属酸化物層７４ａ中から剥離が生じることとなる。
離型剤としては、例えばシリコーン系離型剤、フッ素系離型剤等を好適に用いることができる。
離型剤のコーティング方法としては、グラビアコーティング方法等の一般的なコーティング方法を採用することができる。
メッシュ状パターンの前記第１金属層７４と、前記金属酸化物層７４ａと、第２金属層７１が形成されていない領域に離型剤がコーティングされていると、離型剤がコーティングされている領域では、下記の（ｘ−２）工程で、転写用メッシュフィルムと、片面に粘着剤層を有する透明基材６１ａ又は６１ｂとを、前記第２金属層７１と前記粘着剤層２１とが接するように圧着しても貼着されないため、前記転写用メッシュフィルム９１を剥離させることが容易となり、また、前記転写用メッシュフィルム９１を引き剥がす際には、前記第１金属層７４と前記第２金属層７１との界面、即ち、前記の金属酸化物層７４ａ中から剥離が生じることとなる。
離型剤としては、例えばシリコーン系離型剤、フッ素系離型剤等を好適に用いることができる。
離型剤のコーティング方法としては、グラビアコーティング方法等の一般的なコーティング方法を採用することができる。
（（ｘ−２）工程）
この工程は、前記（ｘ−１）工程で得られた転写用メッシュフィルム９１と、片面の最外層に粘着剤層２１を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも１つの機能を有する透明基材６１ａ又は６１ｂとを、前記第２金属層と前記粘着剤層とが接するように積層一体化して、積層体を形成する工程である。
前記の透明基材６１ａ又は６１ｂとしては、前述の製造方法１における透明基材６１ａ又は６１ｂと同一のものを用いることができる。
また、前記の粘着剤層２１を構成する粘着剤については、製造方法１における粘着剤と同一のものを用いることができ、粘着剤層を形成する方法及び粘着剤層の厚みも製造方法１と同一であってよい。
更に、前記（ｘ−１）工程で得られた転写用メッシュフィルム９１と、片面の最外層に粘着剤層２１を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも１つの機能を有する透明基材６１ａ又は６１ｂを圧着し、積層一体化する方法も、製造方法１と同一であってよい。
この工程は、前記（ｘ−１）工程で得られた転写用メッシュフィルム９１と、片面の最外層に粘着剤層２１を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも１つの機能を有する透明基材６１ａ又は６１ｂとを、前記第２金属層と前記粘着剤層とが接するように積層一体化して、積層体を形成する工程である。
前記の透明基材６１ａ又は６１ｂとしては、前述の製造方法１における透明基材６１ａ又は６１ｂと同一のものを用いることができる。
また、前記の粘着剤層２１を構成する粘着剤については、製造方法１における粘着剤と同一のものを用いることができ、粘着剤層を形成する方法及び粘着剤層の厚みも製造方法１と同一であってよい。
更に、前記（ｘ−１）工程で得られた転写用メッシュフィルム９１と、片面の最外層に粘着剤層２１を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも１つの機能を有する透明基材６１ａ又は６１ｂを圧着し、積層一体化する方法も、製造方法１と同一であってよい。
（（ｙ）工程）
この工程は、図示しないが、前記図４に示される方法と同様にして実施することができる。すなわち、前記（ｘ−２）工程で得られた前記積層体から、前記転写用メッシュフィルム９１を剥離する工程である。前記転写用メッシュフィルム９１を剥離する際は、前記の金属酸化物層７４ａが介在するため前記第１金属層７４と前記第２金属層７１とは密着性を有しておらず、前記第１金属層７４と前記第２金属層７１との層間、即ち、前記の金属酸化物層７４ａ中から、前記第２金属層７１が剥離された転写用メッシュフィルム９１ａを剥離することができ、前記第２金属層７１のみが前記粘着剤層２１中に転写された透明基材６１ａ又は６１ｂを得ることができる。なお、９１及び９１ａは、それぞれ図４における８１及び８１ａに相当する。
この工程は、図示しないが、前記図４に示される方法と同様にして実施することができる。すなわち、前記（ｘ−２）工程で得られた前記積層体から、前記転写用メッシュフィルム９１を剥離する工程である。前記転写用メッシュフィルム９１を剥離する際は、前記の金属酸化物層７４ａが介在するため前記第１金属層７４と前記第２金属層７１とは密着性を有しておらず、前記第１金属層７４と前記第２金属層７１との層間、即ち、前記の金属酸化物層７４ａ中から、前記第２金属層７１が剥離された転写用メッシュフィルム９１ａを剥離することができ、前記第２金属層７１のみが前記粘着剤層２１中に転写された透明基材６１ａ又は６１ｂを得ることができる。なお、９１及び９１ａは、それぞれ図４における８１及び８１ａに相当する。
（（ｚ）工程）
この工程は、前記（ｙ）工程で得られ、前記メッシュ状パターンの第２金属層７１が前記粘着剤層２１に転写された透明基材６１ａ又は６１ｂと、透明基材Ｂ５１とを、前記透明基材Ｂ５１の表面に配設された導電部材２２と前記粘着剤層２１から露出する前記第２金属層７１が接するように、前記メッシュ状パターンの第２金属層７１が転写された前記粘着剤層２１を介して、圧着し、積層一体化し、前記メッシュ状パターンの第２金属層７１を前記電磁波シールド材３１とし、ディスプレイ用光学フィルターを得る工程である。
この工程は、前記（ｙ）工程で得られ、前記メッシュ状パターンの第２金属層７１が前記粘着剤層２１に転写された透明基材６１ａ又は６１ｂと、透明基材Ｂ５１とを、前記透明基材Ｂ５１の表面に配設された導電部材２２と前記粘着剤層２１から露出する前記第２金属層７１が接するように、前記メッシュ状パターンの第２金属層７１が転写された前記粘着剤層２１を介して、圧着し、積層一体化し、前記メッシュ状パターンの第２金属層７１を前記電磁波シールド材３１とし、ディスプレイ用光学フィルターを得る工程である。
前記の透明基材Ｂ５１としては、前述の製造方法１における透明基材Ｂと同一のものを用いることができる。
また、前記第２金属層７１のみが前記粘着剤層２１に転写された透明基材６１ａ又は６１ｂと、透明基材Ｂ５１とを、前記第２金属層７１が転写された前記粘着剤層２１を介して圧着し、積層一体化する方法も、製造方法１と同一であってよい。
また、前記第２金属層７１のみが前記粘着剤層２１に転写された透明基材６１ａ又は６１ｂと、透明基材Ｂ５１とを、前記第２金属層７１が転写された前記粘着剤層２１を介して圧着し、積層一体化する方法も、製造方法１と同一であってよい。
第２の金属層７１が剥離されて、前記第２金属層７１が剥離された転写用メッシュフィルム９１ａは、前記第１金属層７４上に、前記第２金属層７１を再度形成するか、または、第２金属層７１及び前記第１金属層７４を構成する金属酸化物層７４ａが剥離されて、前記第２金属層７１及び前記第１金属層７４を構成する金属酸化物層７４ａが剥離された転写用メッシュフィルム９１ａは、前記第１金属層７４上に、前記第１の金属層７４を構成する金属の酸化物層７４ａ、及び前記第２金属層７１を再度形成することにより、メッシュ状パターンの第１金属層７４、その酸化物層７４ａ、及び第２金属層７１が形成された転写用メッシュフィルムを得ることができ、この再生された転写用メッシュフィルムを繰り返し使用することにより、ディスプレイ用光学フィルターの製造コストを削減することができる。
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
実施例1
透明フィルムとして、紫外線吸収剤を含む厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム［三菱樹脂社製、商品名「Ｏ−７００Ｅ」］を用い、その片面に最下層から順に厚み３μｍのハードコート層、屈折率１．６０、厚み０．１μｍの導電性中屈折率層、屈折率１．７５、厚み０．１μｍの高屈折率層及び屈折率２．００、厚み０．１μｍの低屈折率層からなる反射防止層を、常法に従って形成した。次に、その反対面に、化学式：（ＣＨ3ＳＯ2）2Ｎ-で表されるカウンターアニオンを有するジイモニウム系化合物であるジイモニウム系色素［日本カーリット社製、商品名「ＣＩＲ−１０８５」］とフタロシアニン系色素［（株）日本触媒製、登録商標「イーエクスカラーＩＲ−１０Ａ」］からなる近赤外線吸収色素、アクリル系透明樹脂及び溶媒としてトルエンを含む固形分含有量２５質量％の塗布液を塗布乾燥して、厚み１１μｍの近赤外線遮蔽層を形成した。
実施例1
透明フィルムとして、紫外線吸収剤を含む厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム［三菱樹脂社製、商品名「Ｏ−７００Ｅ」］を用い、その片面に最下層から順に厚み３μｍのハードコート層、屈折率１．６０、厚み０．１μｍの導電性中屈折率層、屈折率１．７５、厚み０．１μｍの高屈折率層及び屈折率２．００、厚み０．１μｍの低屈折率層からなる反射防止層を、常法に従って形成した。次に、その反対面に、化学式：（ＣＨ3ＳＯ2）2Ｎ-で表されるカウンターアニオンを有するジイモニウム系化合物であるジイモニウム系色素［日本カーリット社製、商品名「ＣＩＲ−１０８５」］とフタロシアニン系色素［（株）日本触媒製、登録商標「イーエクスカラーＩＲ−１０Ａ」］からなる近赤外線吸収色素、アクリル系透明樹脂及び溶媒としてトルエンを含む固形分含有量２５質量％の塗布液を塗布乾燥して、厚み１１μｍの近赤外線遮蔽層を形成した。
次いで、前記近赤外線遮蔽層上に、下記の組成を有する粘着剤層形成用塗布液を塗布し、大気雰囲気中、温度１００℃で１分間乾燥して厚み２５μｍの粘着剤層を形成し、片面の最外層に粘着剤層を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能を有する透明基材Ｉを得た。
＜粘着剤層形成用塗布液の組成＞
アクリルポリマー：２０質量％
酢酸エチル ：７０質量％
トルエン ：１０質量％
＜粘着剤層形成用塗布液の組成＞
アクリルポリマー：２０質量％
酢酸エチル ：７０質量％
トルエン ：１０質量％
一方、支持フィルムとして、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム［東レ社製、商品名「Ｕ−３６」］を用い、その片面上に、下記の組成を有する導電性樹脂組成物を、Ｌ／Ｓ＝２０／２８０（μｍ）の格子状（メッシュ状）のパターンにグラビア印刷法を用いて印刷し、大気雰囲気中、温度９０℃で５分間、加熱処理してメッシュ状パターンを形成し、このメッシュ状パターン上に銅（Ｃｕ）の電解メッキを施し、次いでニッケル(Ｎｉ)の黒色電解メッキを施して、転写用メッシュフィルムを得た。
＜導電性樹脂組成物の組成＞
銀微粉末（平均粒径；１．０μｍ） ：６７質量％
樹脂（エチルセルロース） ：４．５質量％
溶媒（α-テルピネオール） ：２８．５質量％
＜導電性樹脂組成物の組成＞
銀微粉末（平均粒径；１．０μｍ） ：６７質量％
樹脂（エチルセルロース） ：４．５質量％
溶媒（α-テルピネオール） ：２８．５質量％
次いで、メッシュ状パターンの金属層が形成されてなる前記転写用メッシュフィルムと、片面の最外層に粘着剤層を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能を有する透明基材Ｉとを、前記金属層と前記粘着剤層とが接するように圧着し、積層一体化（ラミネート）して積層体を得た。
圧着・積層一体化（ラミネート）は、圧力０．５ＭＰａ、速度１０ｍ／分の条件下で行った。
圧着・積層一体化（ラミネート）は、圧力０．５ＭＰａ、速度１０ｍ／分の条件下で行った。
次いで、前記積層体から前記転写用メッシュフィルムを剥離して、前記金属層（銅（Ｃｕ）電解メッキ層及びニッケル（Ｎｉ）黒色メッキ層）が前記粘着剤層に転写された透明基材Ｉと、前記金属層（銅（Ｃｕ）電解メッキ層及びニッケル（Ｎｉ）黒色メッキ層）が剥離され、メッシュ状パターンの導電性樹脂組成物層のみを有する転写用メッシュフィルムとを得た。
この前記金属層（銅（Ｃｕ）電解メッキ層及びニッケル（Ｎｉ）黒色メッキ層）が前記粘着剤層に転写された透明基材Ｉと、透明基材ＩＩ（ガラス板）とを、前記透明基材ＩＩの表面に配設された厚みが６０μｍのアルミニウム（Ａｌ）製テープ（導電部材）と前記粘着剤層から露出する前記金属層が接するように、前記金属層（銅（Ｃｕ）電解メッキ層及びニッケル（Ｎｉ）黒色メッキ層）が転写された前記粘着剤層を介して圧着し、積層一体化（ラミネート）して、図１に示されるディスプイレイ用光学フィルターを得た。
圧着・積層一体化（ラミネート）は、圧力０．７ＭＰａ、速度５ｍ／分の条件下で行った。
この前記金属層（銅（Ｃｕ）電解メッキ層及びニッケル（Ｎｉ）黒色メッキ層）が前記粘着剤層に転写された透明基材Ｉと、透明基材ＩＩ（ガラス板）とを、前記透明基材ＩＩの表面に配設された厚みが６０μｍのアルミニウム（Ａｌ）製テープ（導電部材）と前記粘着剤層から露出する前記金属層が接するように、前記金属層（銅（Ｃｕ）電解メッキ層及びニッケル（Ｎｉ）黒色メッキ層）が転写された前記粘着剤層を介して圧着し、積層一体化（ラミネート）して、図１に示されるディスプイレイ用光学フィルターを得た。
圧着・積層一体化（ラミネート）は、圧力０．７ＭＰａ、速度５ｍ／分の条件下で行った。
得られたディスプレイ用光学フィルターの「全光線透過率」、「ヘイズ値」、「視感反射率」、「鉛筆硬度」、「スチールウール硬度」、「密着性」、「分光透過率（近赤外部）」、「信頼性試験（高温・高湿での１０００時間後の近赤外部の透過率変化）」、「電磁波遮蔽性」を下記方法により評価した。評価結果を表１に示す。
（評価方法）
（１）全光線透過率及びヘイズ値：ヘイズメータ（日本電色社製）を用いて測定した。
（２）視感反射率： 分光光度計（日本分光社製「Ｖ−５７０」）を用いて測定した。
（３）鉛筆硬度：反射防止層面を上にし、９．８Ｎ荷重下で傷がつかない最小鉛筆硬度 を測定した。
（４）スチールウール強度：反射防止層面を上にし、＃００００スチールウールに２． ４５Ｎ／ｃｍ2の荷重を負荷しながら１０回往復させたあとに発生した傷の本数を 測定した。
（１）全光線透過率及びヘイズ値：ヘイズメータ（日本電色社製）を用いて測定した。
（２）視感反射率： 分光光度計（日本分光社製「Ｖ−５７０」）を用いて測定した。
（３）鉛筆硬度：反射防止層面を上にし、９．８Ｎ荷重下で傷がつかない最小鉛筆硬度 を測定した。
（４）スチールウール強度：反射防止層面を上にし、＃００００スチールウールに２． ４５Ｎ／ｃｍ2の荷重を負荷しながら１０回往復させたあとに発生した傷の本数を 測定した。
（５）密着性：反射防止層面を上にし、膜表面の１ｃｍ角の各辺を１ｍｍ間隔で切り込 みをいれ、その表面を粘着テープで３回剥離試験をした後の残存する升目の数を測 定した。
（６）分光透過率：分光光度計（日本分光（株）製「Ｖ−５７０」）を用い、各試料の 波長８５０ｎｍ、９５０ｎｍ、１０００ｎｍにおける透過率を測定した。
（７）信頼性：
（ｉ）８０℃に設定した恒温器に、各試料を入れ１０００時間後の分光透過率を測定 した。
（ii）６０℃−相対湿度９０％に設定した恒温恒湿試験器に、各試料を入れ１０００ 時間後の分光透過率を測定した。
（８）電磁波遮蔽性：ＫＥＣ法（社団法人関西電子工業振興センター法 に準拠して測 定した。
（６）分光透過率：分光光度計（日本分光（株）製「Ｖ−５７０」）を用い、各試料の 波長８５０ｎｍ、９５０ｎｍ、１０００ｎｍにおける透過率を測定した。
（７）信頼性：
（ｉ）８０℃に設定した恒温器に、各試料を入れ１０００時間後の分光透過率を測定 した。
（ii）６０℃−相対湿度９０％に設定した恒温恒湿試験器に、各試料を入れ１０００ 時間後の分光透過率を測定した。
（８）電磁波遮蔽性：ＫＥＣ法（社団法人関西電子工業振興センター法 に準拠して測 定した。
実施例２
実施例１で得られた、金属層が剥離された転写用メッシュフィルムのメッシュ状パターン上に、実施例１に準じて再度、電解銅（Ｃｕ）メッキ、次いでニッケル(Ｎｉ)の黒色メッキを施して、メッシュ状パターン上に金属層が形成された転写用メッシュフィルムを得た。この転写用メッシュフィルムを用いた他は、実施例１に準じてディスプレイ用光学フィルターを得た。
このような操作（転写用メッシュフィルムの再利用）を繰り返し行い、再利用が５回目の転写用メッシュフィルムを用いて、実施例１に準じて、実施例２のディスプレイ用光学フィルターを得た。
このディスプレイ用光学フィルターを実施例１に準じて評価したところ、実施例１のディスプレイ用光学フィルターと略同一の評価結果が得られた。
実施例１で得られた、金属層が剥離された転写用メッシュフィルムのメッシュ状パターン上に、実施例１に準じて再度、電解銅（Ｃｕ）メッキ、次いでニッケル(Ｎｉ)の黒色メッキを施して、メッシュ状パターン上に金属層が形成された転写用メッシュフィルムを得た。この転写用メッシュフィルムを用いた他は、実施例１に準じてディスプレイ用光学フィルターを得た。
このような操作（転写用メッシュフィルムの再利用）を繰り返し行い、再利用が５回目の転写用メッシュフィルムを用いて、実施例１に準じて、実施例２のディスプレイ用光学フィルターを得た。
このディスプレイ用光学フィルターを実施例１に準じて評価したところ、実施例１のディスプレイ用光学フィルターと略同一の評価結果が得られた。
実施例３
実施例１に準じて、実施例３のディスプレイ用光学フィルターを得た。ただし、転写用メッシュフィルムとしては、次のようにして作製したものを用いた。
支持フィルムとして厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（前出）を用い、その片面上に、１０μｍ厚の銅（Ｃｕ）箔をアクリル系粘着剤を介してラミネートし、その上にレジストをラミネートした後、フォトエッチングによりＬ/Ｓ＝１２/２８８μｍのメッシュ状パターンを形成し、次いで、次亜塩素酸ナトリウムを含む水酸化ナトリウム水溶液（温度５０℃）中に３分間浸漬して、銅（Ｃｕ）のメッシュ状パターン表面に銅（Ｃｕ）の酸化物層を形成した。このメッシュ状パターンの銅（Ｃｕ）の酸化物層上に銅(Ｃｕ)の電解メッキを施し、更にニッケル(Ｎｉ)の黒色電解メッキを施して転写用メッシュフィルムを得た。
この転写用メッシュフィルムにおいては、銅（Ｃｕ）の酸化物層中で剥離が生じた。
次いで、このディスプレイ用光学フィルターを、実施例１に準じて評価した。評価結果を表２に示した。
実施例１に準じて、実施例３のディスプレイ用光学フィルターを得た。ただし、転写用メッシュフィルムとしては、次のようにして作製したものを用いた。
支持フィルムとして厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（前出）を用い、その片面上に、１０μｍ厚の銅（Ｃｕ）箔をアクリル系粘着剤を介してラミネートし、その上にレジストをラミネートした後、フォトエッチングによりＬ/Ｓ＝１２/２８８μｍのメッシュ状パターンを形成し、次いで、次亜塩素酸ナトリウムを含む水酸化ナトリウム水溶液（温度５０℃）中に３分間浸漬して、銅（Ｃｕ）のメッシュ状パターン表面に銅（Ｃｕ）の酸化物層を形成した。このメッシュ状パターンの銅（Ｃｕ）の酸化物層上に銅(Ｃｕ)の電解メッキを施し、更にニッケル(Ｎｉ)の黒色電解メッキを施して転写用メッシュフィルムを得た。
この転写用メッシュフィルムにおいては、銅（Ｃｕ）の酸化物層中で剥離が生じた。
次いで、このディスプレイ用光学フィルターを、実施例１に準じて評価した。評価結果を表２に示した。
実施例４
実施例３で得られた、金属層（銅(Ｃｕ)の電解メッキ層及びニッケル(Ｎｉ)の黒色電解メッキ層）が剥離された転写用メッシュフィルムのメッシュ状パターン上に、実施例３に準じて再度、銅（Ｃｕ）の酸化物層と、この銅（Ｃｕ）の酸化物層上に銅(Ｃｕ)の電解メッキ層、更にニッケル(Ｎｉ)の黒色電解メッキ層を形成して、転写用メッシュフィルムを得た。この転写用メッシュフィルムを用いた他は、実施例３に準じてディスプレイ用光学フィルターを得た。
このような操作（転写用メッシュフィルムの再利用）を繰り返し行い、再利用が５回目の転写用メッシュフィルムを用いて、実施例１に準じて、実施例４のディスプレイ用光学フィルターを得た。
このディスプレイ用光学フィルターを実施例１に準じて評価したところ、実施例３のディスプレイ用光学フィルターと略同一の評価結果が得られた。
実施例３で得られた、金属層（銅(Ｃｕ)の電解メッキ層及びニッケル(Ｎｉ)の黒色電解メッキ層）が剥離された転写用メッシュフィルムのメッシュ状パターン上に、実施例３に準じて再度、銅（Ｃｕ）の酸化物層と、この銅（Ｃｕ）の酸化物層上に銅(Ｃｕ)の電解メッキ層、更にニッケル(Ｎｉ)の黒色電解メッキ層を形成して、転写用メッシュフィルムを得た。この転写用メッシュフィルムを用いた他は、実施例３に準じてディスプレイ用光学フィルターを得た。
このような操作（転写用メッシュフィルムの再利用）を繰り返し行い、再利用が５回目の転写用メッシュフィルムを用いて、実施例１に準じて、実施例４のディスプレイ用光学フィルターを得た。
このディスプレイ用光学フィルターを実施例１に準じて評価したところ、実施例３のディスプレイ用光学フィルターと略同一の評価結果が得られた。
実施例５
実施例１に準じて、実施例５のディスプレイ用光学フィルターを得た。ただし、転写用メッシュフィルムとしては、次のようにして作製したものを用いた。
パラジウム微粒子３．５ｇとγ−アルミナ１７１．５ｇをエタノール中で分散、凝集させ、固液分離した後乾燥させ、パラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子を得た。次いで、α−テルピネオール４７２ｇ及びブチルカルビトールアセテート２３６ｇからなる溶媒に、エチルセルロース９０ｇを溶解させ、さらに上記のパラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子とカーボンブラック９ｇを加え、三本ロールミルで混合、分散し、無電解メッキ用触媒インクを作製した。
実施例１に準じて、実施例５のディスプレイ用光学フィルターを得た。ただし、転写用メッシュフィルムとしては、次のようにして作製したものを用いた。
パラジウム微粒子３．５ｇとγ−アルミナ１７１．５ｇをエタノール中で分散、凝集させ、固液分離した後乾燥させ、パラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子を得た。次いで、α−テルピネオール４７２ｇ及びブチルカルビトールアセテート２３６ｇからなる溶媒に、エチルセルロース９０ｇを溶解させ、さらに上記のパラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子とカーボンブラック９ｇを加え、三本ロールミルで混合、分散し、無電解メッキ用触媒インクを作製した。
支持フィルムとして厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（前出）を用い、その片面上に、この無電解メッキ用触媒インクを用いて、速度１０ｍ／分、押圧時間１．５秒の条件にて、Ｌ／Ｓ＝１８／２８２μｍのメッシュ状パターンをグラビア印刷し、８０℃にて５分間、乾燥し、厚みが１．５μｍのメッシュ状パターンの無電解メッキ用触媒インク層を形成した。
次いで、この無電解メッキ用触媒インク層が形成された支持フィルムを、２５℃の無電解銅メッキ液「ＯＰＣ−７５０」（奥野製薬社製）中に４０分間浸漬させ、メッシュ状パターンの無電解メッキ用触媒インク層上に銅（Ｃｕ）を析出させ、銅（Ｃｕ）の金属層を形成した。次いで、亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムにて銅（Ｃｕ）のメッシュ状パターン表面に銅（Ｃｕ）の酸化物層を形成した。更に、このメッシュ状パターンの銅（Ｃｕ）の酸化物層上に銅（Ｃｕ）の電解メッキを施し、更にニッケル（Ｎｉ）の黒色電解メッキを施して転写用メッシュフィルムを得た。
この転写用メッシュフィルムにおいては、銅（Ｃｕ）の酸化物層中で剥離が生じた。
このディスプレイ用光学フィルターを、実施例１に準じて評価した。評価結果を表３に示した。
次いで、この無電解メッキ用触媒インク層が形成された支持フィルムを、２５℃の無電解銅メッキ液「ＯＰＣ−７５０」（奥野製薬社製）中に４０分間浸漬させ、メッシュ状パターンの無電解メッキ用触媒インク層上に銅（Ｃｕ）を析出させ、銅（Ｃｕ）の金属層を形成した。次いで、亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムにて銅（Ｃｕ）のメッシュ状パターン表面に銅（Ｃｕ）の酸化物層を形成した。更に、このメッシュ状パターンの銅（Ｃｕ）の酸化物層上に銅（Ｃｕ）の電解メッキを施し、更にニッケル（Ｎｉ）の黒色電解メッキを施して転写用メッシュフィルムを得た。
この転写用メッシュフィルムにおいては、銅（Ｃｕ）の酸化物層中で剥離が生じた。
このディスプレイ用光学フィルターを、実施例１に準じて評価した。評価結果を表３に示した。
実施例６
実施例５で得られた、金属層（銅(Ｃｕ)の電解メッキ層及びニッケル(Ｎｉ)の黒色電解メッキ層）が剥離された転写用メッシュフィルムのメッシュ状パターン上に、実施例５に準じて再度、銅（Ｃｕ）の酸化物層と、この銅（Ｃｕ）の酸化物層上に銅(Ｃｕ)の電解メッキ層、更にニッケル(Ｎｉ)の黒色電解メッキ層を形成して、転写用メッシュフィルムを得た。
この転写用メッシュフィルムを用いた他は、実施例５に準じてディスプレイ用光学フィルターを得た。
このような操作（転写用メッシュフィルムの再利用）を繰り返し行い、再利用が５回目の転写用メッシュフィルムを用いて、実施例１に準じて、実施例６のディスプレイ用光学フィルターを得た。
このディスプレイ用光学フィルターを実施例１に準じて評価したところ、実施例５のディスプレイ用光学フィルターと略同一の評価結果が得られた。
実施例５で得られた、金属層（銅(Ｃｕ)の電解メッキ層及びニッケル(Ｎｉ)の黒色電解メッキ層）が剥離された転写用メッシュフィルムのメッシュ状パターン上に、実施例５に準じて再度、銅（Ｃｕ）の酸化物層と、この銅（Ｃｕ）の酸化物層上に銅(Ｃｕ)の電解メッキ層、更にニッケル(Ｎｉ)の黒色電解メッキ層を形成して、転写用メッシュフィルムを得た。
この転写用メッシュフィルムを用いた他は、実施例５に準じてディスプレイ用光学フィルターを得た。
このような操作（転写用メッシュフィルムの再利用）を繰り返し行い、再利用が５回目の転写用メッシュフィルムを用いて、実施例１に準じて、実施例６のディスプレイ用光学フィルターを得た。
このディスプレイ用光学フィルターを実施例１に準じて評価したところ、実施例５のディスプレイ用光学フィルターと略同一の評価結果が得られた。
本発明は、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）、液晶、ＥＬなどの各種ディスプレイに使用される、漏洩する電磁波を遮蔽し、簡単に接地（アース）可能なディスプレイ用光学フィルター、及び、このような特性を備えたディスプレイ用光学フィルターを省資源に基づいて廉価に製造することが可能な製造方法を提供することができ、産業上の利用価値は非常に大きなものである。
１０ａ、１０ｂ ディスプレイ用光学フィルター
１１ 透明基材Ａ
１２ 反射防止層
１３ 近赤外線遮蔽層
２１ 粘着剤層
２２ 導電部材
３１ 電磁波シールド材
５１ 透明基材Ｂ
５１ａ 貼着面
６１ａ 両面に機能層が積層された透明基材
６１ｂ 片面に機能層が積層された透明基材
７１ 金属層
７２ 離型剤のコーティング層
７３ 支持フィルム
７４ メッシュ状パターン
８１、９１ 転写用メッシュフィルム
８１ａ 金属層を有しない転写用メッシュフィルム
１１ 透明基材Ａ
１２ 反射防止層
１３ 近赤外線遮蔽層
２１ 粘着剤層
２２ 導電部材
３１ 電磁波シールド材
５１ 透明基材Ｂ
５１ａ 貼着面
６１ａ 両面に機能層が積層された透明基材
６１ｂ 片面に機能層が積層された透明基材
７１ 金属層
７２ 離型剤のコーティング層
７３ 支持フィルム
７４ メッシュ状パターン
８１、９１ 転写用メッシュフィルム
８１ａ 金属層を有しない転写用メッシュフィルム
Claims (8)
- 近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Ａと、透明基材Ｂとが、粘着剤層を介して積層一体化されたディスプレイ用光学フィルターであって、前記粘着剤層における透明基材Ｂとの貼着面にメッシュ状パターンの電磁波シールド材が配設され、かつ前記電磁波シールド材が、前記透明基材Ｂとの貼着面に配設された接地用の導電部材に連結されてなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルター。
- 請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法であって、
（ａ）支持フィルムの一方の面に、金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターンが形成され、このメッシュ状パターン上に金属をメッキしてメッシュ状パターンの金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムと、片面の最外層に粘着剤層を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Ａとを、前記金属層と前記粘着剤層とが接するように積層一体化して、積層体を形成する工程と、
（ｂ）前記（ａ）工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルムを剥離して、前記金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Ａと、前記金属層が剥離された転写用メッシュフィルムとを得る工程と、
（ｃ）前記（ｂ）工程で得られ、前記金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Ａと、透明基材Ｂとを、前記透明基材Ｂの表面に配設された導電部材と前記粘着剤層から露出する前記金属層が接するように、前記金属層が転写された前記粘着剤層を介して、積層一体化する工程、
を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法。 - 前記（ａ）工程において、前記転写用メッシュフィルムにおける、メッシュ状パターンの金属層が形成されていない領域に離型剤をコーティングする、請求項２に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
- 前記（ｂ）工程で得られた、前記金属層が剥離された転写用メッシュフィルムにおけるメッシュ状パターン上に、金属をメッキしてメッシュ状パターンの金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムを得、この転写用メッシュフィルムを用いる、請求項２又は３に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
- 請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法であって、
（ｘ）支持フィルムの一方の面にメッシュ状パターンの第１金属層と、この第１金属層上に、前記第１金属層を形成する金属の酸化物からなるメッシュ状パターンの金属酸化物層が形成され、このメッシュ状パターンの金属酸化物層上に、メッシュ状パターンの第２金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムと、片面の最外層に粘着剤層を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Ａとを、前記第２金属層と前記粘着剤層とが接するように積層一体化して、積層体を形成する工程と、
（ｙ）前記（ｘ）工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルムを剥離して、前記第２金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Ａと、前記第２金属層が剥離された転写用メッシュフィルムとを得る工程と、
（ｚ）前記（ｙ）工程で得られ、前記第２金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Ａと、透明基材Ｂとを、前記透明基材Ｂの表面に配設された導電部材と前記粘着剤層から露出する前記第２金属層が接するように、前記第２金属層が転写された前記粘着剤層を介して、積層一体化する工程、
を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法。 - 前記（ｘ）工程において、前記転写用メッシュフィルムにおける、メッシュ状パターンの前記第１金属層と、前記金属酸化物層と、前記第２金属層が形成されていない領域に離型剤をコーティングする、請求項５に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
- 前記（ｙ）工程で得られた、前記第２金属層が剥離された転写用メッシュフィルムにおけるメッシュ状パターンの前記金属酸化物層上に前記第２金属層を再度形成して転写用メッシュフィルムを得、この転写用メッシュフィルムを用いる、請求項５又は６に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
- 前記（ｙ）工程で得られた、前記第２金属層が剥離された転写用メッシュフィルムにおけるメッシュ状パターンの前記第１金属層上に、この第１金属層を構成する金属の酸化物層、及び前記第２金属層を再度形成して転写用メッシュフィルムを得、この転写用メッシュフィルムを用いる、請求項５又は６に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
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