JP2010041003A - ディスプレイ用光学フィルター及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Aと、透明基材Bとが、粘着剤層を介して積層一体化されたディスプレイ用光学フィルターであって、前記粘着剤層における透明基材Bとの粘着面にメッシュ状パターンの電磁波シールド材が配設され、かつ前記電磁波シールド材が、前記透明基材Bとの粘着面に配設された接地用の導電部材に連結されてなるディスプレイ用光学フィルターである。
【選択図】図1
Description
そのため、PDPにおいては、プラズマディスプレイ表示面の前面に、近赤外線吸収機能及び電磁波遮蔽機能を備えた光学フィルターが設置されている。
また、ディスプレイ用光学フィルターには、外光が映り込むのを防止して視認性を高めるために、反射防止機能や防眩性機能なども付与されている。
また、特許文献1記載の電磁波シールド材が配設されたディスプレイ用光学フィルターの製造方法にあっては、転写を利用した廉価な製造方法ではあるが、転写材は1回の使用であって再利用をすることは不可能であり、そのため、製造コストの低減は不充分であり、未だ改善すべき点を有するものであった。
また、本発明は、転写材の再利用が可能であって、省資源に基づく廉価な、電磁波遮蔽機能を備えたディスプレイ用光学フィルターの製造方法を提供することを課題とする。
[1]近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Aと、透明基材Bとが、粘着剤層を介して積層一体化されたディスプレイ用光学フィルターであって、前記粘着剤層における透明基材Bとの貼着面にメッシュ状パターンの電磁波シールド材が配設され、かつ前記電磁波シールド材が、前記透明基材Bとの貼着面に配設された接地用の導電部材に連結されてなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルター、
[2]上記[1]に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法であって、
(a)支持フィルムの一方の面に、金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターンが形成され、このメッシュ状パターン上に金属をメッキしてメッシュ状パターンの金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムと、片面の最外層に粘着剤層を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Aとを、前記金属層と前記粘着剤層とが接するように積層一体化して、積層体を形成する工程と、
(b)前記(a)工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルムを剥離して、前記金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Aと、前記金属層が剥離された転写用メッシュフィルムとを得る工程と、
(c)前記(b)工程で得られ、前記金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Aと、透明基材Bとを、前記透明基材Bの表面に配設された導電部材と前記粘着剤層から露出する前記金属層が接するように、前記金属層が転写された前記粘着剤層を介して、積層一体化する工程、
を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法(以下、製造方法1と称する。)、
[4]前記(b)工程で得られた、前記金属層が剥離された転写用メッシュフィルムにおけるメッシュ状パターン上に、金属をメッキしてメッシュ状パターンの金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムを得、この転写用メッシュフィルムを用いる、上記[2]又は[3]に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法、
[5]上記[1]に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法であって、
(x)支持フィルムの一方の面にメッシュ状パターンの第1金属層と、この第1金属層上に、前記第1金属層を形成する金属の酸化物からなるメッシュ状パターンの金属酸化物層が形成され、このメッシュ状パターンの金属酸化物層上に、メッシュ状パターンの第2金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムと、片面の最外層に粘着剤層を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Aとを、前記第2金属層と前記粘着剤層とが接するように積層一体化して、積層体を形成する工程と、
(y)前記(x)工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルムを剥離して、前記第2金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Aと、前記第2金属層が剥離された転写用メッシュフィルムとを得る工程と、
(z)前記(y)工程で得られ、前記第2金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Aと、透明基材Bとを、前記透明基材Bの表面に配設された導電部材と前記粘着剤層から露出する前記第2金属層が接するように、前記第2金属層が転写された前記粘着剤層を介して、積層一体化する工程、
を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法(以下、製造方法2と称する。)、
[6]前記(x)工程において、前記転写用メッシュフィルムにおける、メッシュ状パターンの前記第1金属層と、前記金属酸化物層と、前記第2金属層が形成されていない領域に離型剤をコーティングする、上記[5]に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法、
[7]前記(y)工程で得られた、前記第2金属層が剥離された転写用メッシュフィルムにおけるメッシュ状パターンの前記金属酸化物層上に前記第2金属層を再度形成して転写用メッシュフィルムを得、この転写用メッシュフィルムを用いる、上記[5]又は[6]に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法、及び
[8]前記(y)工程で得られた、前記第2金属層が剥離された転写用メッシュフィルムにおけるメッシュ状パターンの前記第1金属層上に、この第1金属層を構成する金属の酸化物層、及び前記第2金属層を再度形成して転写用メッシュフィルムを得、この転写用メッシュフィルムを用いる、上記[5]又は[6]に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法、
を提供するものである。
また、本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法1によれば、金属層が剥離された転写用メッシュフィルムに金属メッキ処理を再度施すことにより転写フィルムを再利用することが可能となり、したがって、省資源に基づく廉価な、電磁波遮蔽機能を備えたディスプイ用光学フィルターの製造方法を提供することができる。
更に、本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法2によれば、第2金属層が剥離された転写用メッシュフィルムに、酸化処理、又は酸化処理及び金属メッキ処理を再度施すことにより、転写フィルムを再利用することが可能となり、したがって、省資源に基づく廉価な、電磁波遮蔽機能を備えたディスプレイ用光学フィルターの製造方法を提供することができる。
[ディスプレイ用光学フィルター]
図1は本発明のディスプレイ用光学フィルターの一例を示す模式的断面図である。図1に示す本形態例のディスプレイ用光学フィルター10aは、視覚側(図1においては上側)から順に、反射防止層12、透明基材A11、近赤外線吸収剤が添加された近赤外線遮蔽層13、粘着剤層21、透明基材B51が積層一体化されてなるものであって、前記粘着剤層21における、前記透明基材B51との貼着面51aにはメッシュ状パターンの電磁波シールド材31が配設され、この電磁波シールド材31が前記透明基材B51との貼着面51a及び透明基材Bの側面に配設された導電部材22を介して接地(アース)可能とされてなるものである。なお、符号61aは、12、11及び13が一体化した透明樹脂(両面に機能層を有する透明樹脂)である。
透明基材A11を構成する材料は、可視光領域で透明である(すなわち、十分な透過率を有する)材料である限り、その種類、組成などに限定はなく、例えば、ポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアクレリート樹脂、ノルボンネン系樹脂、及び非晶質ポリオレフイン系樹脂等から適宜選択することができ、また、その厚みにも特段の限定はなく、通常50μm〜10mm程度のものを用いることができる。ポリエステル系樹脂としては、なかでもポリエチレンテレフタレート(以下PETとも称する)樹脂は、耐久性、耐溶剤性、生産性等の点においてすぐれているため好ましく用いられている。
また、図1、図2において図示されていないが、反射防止層12の上には、帯電防止機能、防眩機能等の各種機能層が積層されていてもよく、透明基材A11と反射防止層12との間、又は透明基材A11と近赤外線遮蔽層13との間に、ハードコート機能層が設けられていてもよい。
前記の透明基材A11に積層される近赤外線遮蔽層13の近赤外線遮蔽性能は800nm〜1100nm領域の近赤外線に対して、遮蔽性を有することが好ましく、例えば、樹脂マトリックス中に近赤外線吸収色素が含有されたものであることが好ましい。
<近赤外線吸収色素>
近赤外線吸収色素としては、800nm〜1100nm領域の近赤外線を遮蔽するものであれば特に限定されないが、例えば、ジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、有機金属錯体系化合物、シアニン系化合物、アゾ系化合物、ポリメチン系化合物、キノン系化合物、ジフェニルメタン系化合物、トリフェニルメタン系化合物、メルカプトナフトール系化合物等を用いることができ、またこれらは、単一種で用いられてもよく、或は、2種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。
近赤外線吸収層13を形成する透明樹脂マトリックスとしては、可視光領域で透明である(すなわち、十分な透過率を有する)、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂等を用いることができるが、ガラス転移点が60℃以上である透明樹脂を用いることが好ましい。
前記透明樹脂のガラス転移点が60℃未満であると、60℃以上の高温に長時間曝された場合、樹脂が軟化し、それと同時に近赤外線遮蔽層13中の近赤外線吸収色素、特にジイモニウム系化合物からなる近赤外線吸収色素が熱変質を受け易く、このため、カラーバランスが損なわれたり、近赤外線の遮蔽性が低下することなど、長期の安定性が低下することがある。
一方、透明樹脂のガラス転移点が60℃以上であると、近赤外線吸収色素、特にジイモニウム系化合物からなる近赤外線吸収色素の熱変質を抑制することができる。また、上記の樹脂を用いると、近赤外線遮蔽層を、電磁波遮蔽層に、接着剤層を介して積層接合する際の、近赤外線遮蔽層中の色素の劣化、近赤外線遮蔽層の歪み、剥がれ等を防止することができる。
前記の粘着剤層21を構成する粘着剤としては、可視光領域で透明であれば(すなわち、十分な透過率を有すれば)特に限定されない。透明であれば、硬化型樹脂でも良いし、熱可塑性樹脂でも良い。硬化型樹脂としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂などが挙げられるが、これらの硬化型樹脂のうちでは、樹脂硬化のための設備が簡易で作業性に優れることから、紫外線硬化型樹脂が好ましい。また、透過率調整のために粘着剤層21中に黒色顔料を直接混入させる場合には、熱可塑性樹脂が好適に用いられる。
粘着剤は、透明性の観点からは、アクリル系共重合体、シリコーン系共重合体等が好適に用いられる。
また、粘着剤層21中には、前記の近赤外線吸収色素が含有されていてもよい。この場合は、前記の近赤外線遮蔽層13は積層されている必要はない。
前記の透明基材B51を構成する材料としては、可視光領域で充分な透明性を有する材料であれば制限はなく、ガラス板や、透明フィルムを用いることができる。
透明フィルムとしては、ポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアクレリート樹脂、ノルボンネン系樹脂、及び非晶質ポリオレフイン系樹脂等から適宜選択することができ、また、その厚みにも特段の限定はなく、通常0.1mm〜10mm程度のものを用いることができる。ポリエステル系樹脂としては、なかでもポリエチレンテレフタレート(以下PETとも称する)樹脂は、耐久性、耐溶剤性、生産性等の点において優れているため好ましく用いられている。
透明基材Bがプラスチック製の場合には、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、前記透明基材Aの場合と同様に、表面処理を施すことができる。
前記のメッシュ状パターンの電磁波シールド材31は、適当なピッチ間隔を有する金属製の極細線の縦線と、適当なピッチ間隔を有する金属製の極細線の横線が交差して形成されているものである。縦線と横線の交差は、直交であっても斜交であってもよい。極細線メッシュ状パターンを構成する縦線及び横線の線幅は、それぞれ5μm〜50μm程度、好ましくは10μm〜30μmである。また、極細線メッシュ状パターンを構成する縦線及び横線のピッチ間隔は、それぞれ100μm〜500μm程度、好ましくは200μm〜300μmである。前記の線幅及びピッチ間隔が前記範囲を逸脱すると、モアレ干渉縞が発生し画質を悪化させ、またディスプレイとして好適な透過率と電磁波遮蔽性能を両立することが困難となるので好ましくない。
また、このディスプレイ用光学フィルター10a又は10bは、例えば、以下に詳述するように、製造方法1又は2により製造されるものであるので、従来のディスプレイ用光学フィルターよりも大幅に廉価なものとなっている。
図3は、本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法1における転写フィルムの断面模式図であり、図4は、本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法において、金属層を転写する方法の一例を示す説明図であって、図3及び図4に基づいて、本発明の製造方法について説明する。なお図4は、両面に機能層を有する透明基材61aを用いた例である。
ディスプレイ用光学フィルターの製造方法1は、
(a)支持フィルムの73一方の面に、金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターン74が形成され、このメッシュ状パターン74上に金属をメッキしてメッシュ状パターンの金属層71が形成されてなる転写用メッシュフィルム81を得る(a−1)工程と、
この(a−1)工程で得られた転写用フィルム81と、片面の最外層に粘着剤層21を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材A11(図4では、両面に機能層を有する透明樹脂61a)とを、前記金属層71と前記粘着剤層21とが接するように積層一体化して、積層体を形成する(a−2)工程と、
(b)前記(a−2)工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルム81を剥離して、前記金属層71が前記粘着剤層21に転写された透明基材61aと、前記金属層71が剥離された転写用メッシュフィルム81aとを得る工程と、
(c)前記(b)工程で得られ、前記金属層71が前記粘着剤層21に転写された透明基材61aと、透明基材B51とを、前記透明基材B51の表面に配設された導電部材22と前記粘着剤層21から露出する前記金属層71が接するように、前記金属層71が転写された前記粘着剤層21を介して、積層一体化する工程、
を有している。
((a−1)工程)
この工程は、図3に示されるように、支持フィルム73の一方の面に、金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物を用いて、例えば印刷法により、メッシュ状パターン74を形成し、このメッシュ状パターン74上に金属をメッキして、メッシュ状パターンの金属層71が形成されてなる転写用メッシュフィルム81を得る工程である。
金属微粉末の平均粒径は特に限定されないが、導電性樹脂組成物中に均一に配合されることを考慮して、通常0.5μm〜2μmの範囲で設定するのが好ましい。平均粒径が上記範囲を超えると金属微粉末同士の接触点が少なくなり、接触抵抗が大きくなるおそれがある。また、逆に、平均粒径が上記範囲を下回ると金属微粉末を導電性導電性樹脂組成物中に均一に分散させるのが困難になる虞がある。
支持フィルム73上に印刷形成された導電性樹脂組成物のメッシュ状パターンは、通常60℃〜200℃で2分間〜30分間、好ましくは80℃〜150℃で3分間〜15分間加熱することにより硬化される。
メッキによって形成される金属層としては、例えば銅(Cu)、ニッケル(Ni)、金(Au)等の金属からなる被膜が挙げられる。メッキ法は、電解メッキであっても、無電解メッキであってもよい。
また、無電解メッキに使用するメッキ液の組成についても特に限定されるものではなく、常法に従って調製することができる。例えば、硫酸銅、EDTA、ホルムアルデヒド、水酸化ナトリウムからなる無電解銅メッキ液が使用できる。
転写される前記メッシュ状パターンの金属層71の膜厚が0.2μmよりも薄いと電磁波シールド材の導電性が不足し、充分な電磁波遮蔽性能が得られないので好ましくない。一方、転写される前記メッシュ状パターンの金属層71の膜厚が8μmよりも厚いと粘着剤層21中への埋め込み性が低下して転写面に凹凸が形成されやすく、透明基材Bと積層一体化する際に空気を噛み込みやすくなり、ディスプレイ用光学フィルターの可視光透過率が低下するので好ましくない。
前記金属層71上には、コントラストを向上させるために、ニッケル(Ni)等の黒色メッキが施されていてもよい。黒色メッキする方法は公知の方法を適用することができる。
メッシュ状パターンの金属層71が形成されていない領域に離型剤がコーティングされていると、離型剤がコーティングされている領域では、下記の(a−2)工程で、転写用メッシュフィルム81と、片面の最外層に粘着剤層を有する前記透明基材A11を、前記金属層と前記粘着剤層とが接するように圧着しても貼着されないため、前記転写用メッシュフィルム81を剥離させることが容易となり、また、前記転写用メッシュフィルム81を引き剥がす際には、前記メッシュ状パターン74と前記メッシュ状パターンの金属層71との界面から剥離が生じることとなる。
離型剤としては、例えばシリコーン系離型剤、フッ素系離型剤等を好適に用いることができる。
離型剤のコーティング方法としては、グラビア等の一般的なコーティング方法を採用することができる。
この工程は、前記(a−1)工程で得られた転写用メッシュフィルム81と、片面の最外層に粘着剤層21を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも1つの機能を有する前記透明基材61a又は61bとを、前記メッシュ状パターンの金属層71と前記粘着剤層21とが接するように圧着し、積層一体化して積層体を形成する工程である。
粘着剤層21の厚みは、特に限定されないが5μm〜50μmが好ましい。粘着剤層21の厚みが5μmを下回ると、転写用メッシュフィルム81と、片面に粘着剤層21を有する透明基材61とを、積層一体化する際に、粘着剤層21中への埋め込み性が低下して転写面に凹凸が形成されやすく(メッシュ状パターンの凹凸を吸収できず)、メッシュ状パターンの金属層71を粘着剤層21中に埋め込むことができない。一方、粘着剤層21の厚みが50μmを超えると転写用メッシュフィルム81を粘着剤層21から剥離する際、粘着剤層の歪みが発生するので好ましくない。
圧着し、積層一体化するには、通常のラミネート法を採用することができる。ラミネートする際の圧着力(加圧力)は、前記のメッシュ状パターンの金属層71が前記粘着剤層21中に埋設されるように、充分な圧着力(加圧力)とし、その際、熱を負荷して粘着剤層21に可塑性を付与して、前記のメッシュ状パターンの金属層71が前記粘着剤層21中に容易に埋設されるようにしてもよい。具体的な圧着力(加圧力)は、粘着剤層21を構成する粘着剤の種類によって異なるが、通常、0.3MPa〜1.0MPa程度である。
この工程は、図4に示されるように、前記(a−2)工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルム81を剥離して、前記メッシュ状パターンの金属層71が前記粘着剤層21中に転写され、前記メッシュ状パターンの金属層71の側面が露出した透明基材61a(図4は、透明基材61aの場合について示しているが、61bも同様である。)と、前記メッシュ状パターンの金属層71が剥離された転写用メッシュフィルム81aとを得る工程である。
支持フィルム73上に形成された金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターン74と、このメッシュ状パターン74上にメッキされたメッシュ状パターンの金属層71との密着力は充分ではなく、したがって、(a−2)工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルム81を剥離する際には、金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターン74と、このメッシュ状パターン74上にメッキされたメッシュ状パターンの金属層71との界面から容易に剥離される。その理由は、必ずしも明確ではないが、金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターン74の表面に露出した金属微粉末とメッキ法により形成されたメッシュ状パターンの金属層71とは充分な密着力を有するものの、前記メッシュ状パターン74の金属微粉末が露出していない部分とメッキ法により形成されたメッシュ状パターンの金属層71とは密着力を有していないためと考えられる。
この工程は、前記(b)工程で得られ、前記メッシュ状パターンの金属層71が前記粘着剤層21に転写された透明基材61a又は61bと、透明基材B51とを、前記透明基材B51の表面に配設された導電部材22と前記粘着剤層21から露出する前記メッシュ状パターンの金属層71が接するように、前記金属層71が転写された前記粘着剤層21を介して、圧着し、積層一体化し、前記メッシュ状パターンの金属層71を前記電磁波シールド材31とし、ディスプイ用光学フィルターを得る工程である。
圧着し、積層一体化する際には、例えば、40〜70℃の温度下、0.3MPa〜1.2MPaの圧力下で10分〜120分間の条件下でオートクレーブ処理してもよい。オートクレーブ処理すると、積層界面に残存した気泡を消失させることができるので好ましい。
なお、前記の透明基材51は、ディスプレイの表示面を構成する前面ガラス板であってもよい。
ディスプレイ用光学フィルターの製造方法2は、
(x)支持フィルムの一方の面上にメッシュ状パターンの第1金属層と、この第1金属層上に、前記第1金属層を形成する金属の酸化物からなるメッシュ状パターンの金属酸化物層が形成され、このメッシュ状パターンの金属酸化物層上に、メッシュ状パターンの第2金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムと、片面の最外層に粘着剤層を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Aとを、前記第2金属層と前記粘着剤層とが接するように積層一体化して積層体を形成する工程と、
(y)前記(x)工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルムを剥離して、前記第2金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Aと、前記第2金属層が剥離された転写用メッシュフィルムとを得る工程と、
(z)前記(y)工程で得られ、前記第2金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Aと、透明基Bとを、前記透明基材Bの表面に配設された導電部材と前記粘着剤層から露出する前記金属層が接するように、前記第2金属層が転写された前記粘着剤層を介して、積層一体化する工程、
を有している。
((x−1)工程)
図5は、本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法2における転写フィルムの断面模式図である。
この工程は、図5に示されるように、柔軟な支持フィルム73の一方の面上に、メッシュ状パターンの第1金属層74と、この第1金属層74上に、前記第1金属層74を形成する金属の酸化物からなるメッシュ状パターンの金属酸化物層74aが形成され、このメッシュ状パターンの金属酸化物層74a上に、メッシュ状パターンの第2金属層71が形成されてなる転写用メッシュフィルム91を得る工程である。
(2)支持フィルム73の一方の面上に金属箔を積層し、フォトエッチング法によりメッシュ状パターンの第1金属層74を形成し、次いで、前記第1金属層74の表面を酸化処理してメッシュ状パターンの金属酸化物層74aを形成し、次いで、このメッシュ状パターンの金属酸化物層74a上に電解メッキを施して、メッシュ状パターンの第2金属層71を積層形成する。前記の酸化物層74aを形成する酸化処理法は、支持フィルム73が劣化しない限り特に制限されず、例えば、温度50℃〜60℃程度の次亜塩素酸塩または亜塩素酸塩を含むアルカリ水溶液に1分〜10分程度浸漬して表面処理する方法を例示することができる。
転写される前記第2金属層71の膜厚が0.2μmよりも薄いと電磁波シールド材の導電性が不足し、充分な電磁波遮蔽性能が得られない。一方、転写される前記第2金属層71の膜厚が8μmよりも厚いと粘着剤層21中への埋め込み性が低下して転写面に凹凸が形成されやすく、透明基材B51と積層一体化する際に空気を噛み込みやすくなり、光学フィルターの可視光透過率が低下する。
前記第2金属層71上には、コントラストを向上させるために、ニッケル(Ni)等の黒色メッキが施されていてもよい。黒色メッキする方法は公知の方法を適用することができる。
メッシュ状パターンの前記第1金属層74と、前記金属酸化物層74aと、第2金属層71が形成されていない領域に離型剤がコーティングされていると、離型剤がコーティングされている領域では、下記の(x−2)工程で、転写用メッシュフィルムと、片面に粘着剤層を有する透明基材61a又は61bとを、前記第2金属層71と前記粘着剤層21とが接するように圧着しても貼着されないため、前記転写用メッシュフィルム91を剥離させることが容易となり、また、前記転写用メッシュフィルム91を引き剥がす際には、前記第1金属層74と前記第2金属層71との界面、即ち、前記の金属酸化物層74a中から剥離が生じることとなる。
離型剤としては、例えばシリコーン系離型剤、フッ素系離型剤等を好適に用いることができる。
離型剤のコーティング方法としては、グラビアコーティング方法等の一般的なコーティング方法を採用することができる。
この工程は、前記(x−1)工程で得られた転写用メッシュフィルム91と、片面の最外層に粘着剤層21を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも1つの機能を有する透明基材61a又は61bとを、前記第2金属層と前記粘着剤層とが接するように積層一体化して、積層体を形成する工程である。
前記の透明基材61a又は61bとしては、前述の製造方法1における透明基材61a又は61bと同一のものを用いることができる。
また、前記の粘着剤層21を構成する粘着剤については、製造方法1における粘着剤と同一のものを用いることができ、粘着剤層を形成する方法及び粘着剤層の厚みも製造方法1と同一であってよい。
更に、前記(x−1)工程で得られた転写用メッシュフィルム91と、片面の最外層に粘着剤層21を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも1つの機能を有する透明基材61a又は61bを圧着し、積層一体化する方法も、製造方法1と同一であってよい。
この工程は、図示しないが、前記図4に示される方法と同様にして実施することができる。すなわち、前記(x−2)工程で得られた前記積層体から、前記転写用メッシュフィルム91を剥離する工程である。前記転写用メッシュフィルム91を剥離する際は、前記の金属酸化物層74aが介在するため前記第1金属層74と前記第2金属層71とは密着性を有しておらず、前記第1金属層74と前記第2金属層71との層間、即ち、前記の金属酸化物層74a中から、前記第2金属層71が剥離された転写用メッシュフィルム91aを剥離することができ、前記第2金属層71のみが前記粘着剤層21中に転写された透明基材61a又は61bを得ることができる。なお、91及び91aは、それぞれ図4における81及び81aに相当する。
この工程は、前記(y)工程で得られ、前記メッシュ状パターンの第2金属層71が前記粘着剤層21に転写された透明基材61a又は61bと、透明基材B51とを、前記透明基材B51の表面に配設された導電部材22と前記粘着剤層21から露出する前記第2金属層71が接するように、前記メッシュ状パターンの第2金属層71が転写された前記粘着剤層21を介して、圧着し、積層一体化し、前記メッシュ状パターンの第2金属層71を前記電磁波シールド材31とし、ディスプレイ用光学フィルターを得る工程である。
また、前記第2金属層71のみが前記粘着剤層21に転写された透明基材61a又は61bと、透明基材B51とを、前記第2金属層71が転写された前記粘着剤層21を介して圧着し、積層一体化する方法も、製造方法1と同一であってよい。
実施例1
透明フィルムとして、紫外線吸収剤を含む厚さ100μmのPETフィルム[三菱樹脂社製、商品名「O−700E」]を用い、その片面に最下層から順に厚み3μmのハードコート層、屈折率1.60、厚み0.1μmの導電性中屈折率層、屈折率1.75、厚み0.1μmの高屈折率層及び屈折率2.00、厚み0.1μmの低屈折率層からなる反射防止層を、常法に従って形成した。次に、その反対面に、化学式:(CH3SO2)2N-で表されるカウンターアニオンを有するジイモニウム系化合物であるジイモニウム系色素[日本カーリット社製、商品名「CIR−1085」]とフタロシアニン系色素[(株)日本触媒製、登録商標「イーエクスカラーIR−10A」]からなる近赤外線吸収色素、アクリル系透明樹脂及び溶媒としてトルエンを含む固形分含有量25質量%の塗布液を塗布乾燥して、厚み11μmの近赤外線遮蔽層を形成した。
<粘着剤層形成用塗布液の組成>
アクリルポリマー:20質量%
酢酸エチル :70質量%
トルエン :10質量%
<導電性樹脂組成物の組成>
銀微粉末(平均粒径;1.0μm) :67質量%
樹脂(エチルセルロース) :4.5質量%
溶媒(α-テルピネオール) :28.5質量%
圧着・積層一体化(ラミネート)は、圧力0.5MPa、速度10m/分の条件下で行った。
この前記金属層(銅(Cu)電解メッキ層及びニッケル(Ni)黒色メッキ層)が前記粘着剤層に転写された透明基材Iと、透明基材II(ガラス板)とを、前記透明基材IIの表面に配設された厚みが60μmのアルミニウム(Al)製テープ(導電部材)と前記粘着剤層から露出する前記金属層が接するように、前記金属層(銅(Cu)電解メッキ層及びニッケル(Ni)黒色メッキ層)が転写された前記粘着剤層を介して圧着し、積層一体化(ラミネート)して、図1に示されるディスプイレイ用光学フィルターを得た。
圧着・積層一体化(ラミネート)は、圧力0.7MPa、速度5m/分の条件下で行った。
(1)全光線透過率及びヘイズ値:ヘイズメータ(日本電色社製)を用いて測定した。
(2)視感反射率: 分光光度計(日本分光社製「V−570」)を用いて測定した。
(3)鉛筆硬度:反射防止層面を上にし、9.8N荷重下で傷がつかない最小鉛筆硬度 を測定した。
(4)スチールウール強度:反射防止層面を上にし、#0000スチールウールに2. 45N/cm2の荷重を負荷しながら10回往復させたあとに発生した傷の本数を 測定した。
(6)分光透過率:分光光度計(日本分光(株)製「V−570」)を用い、各試料の 波長850nm、950nm、1000nmにおける透過率を測定した。
(7)信頼性:
(i)80℃に設定した恒温器に、各試料を入れ1000時間後の分光透過率を測定 した。
(ii)60℃−相対湿度90%に設定した恒温恒湿試験器に、各試料を入れ1000 時間後の分光透過率を測定した。
(8)電磁波遮蔽性:KEC法(社団法人関西電子工業振興センター法 に準拠して測 定した。
実施例1で得られた、金属層が剥離された転写用メッシュフィルムのメッシュ状パターン上に、実施例1に準じて再度、電解銅(Cu)メッキ、次いでニッケル(Ni)の黒色メッキを施して、メッシュ状パターン上に金属層が形成された転写用メッシュフィルムを得た。この転写用メッシュフィルムを用いた他は、実施例1に準じてディスプレイ用光学フィルターを得た。
このような操作(転写用メッシュフィルムの再利用)を繰り返し行い、再利用が5回目の転写用メッシュフィルムを用いて、実施例1に準じて、実施例2のディスプレイ用光学フィルターを得た。
このディスプレイ用光学フィルターを実施例1に準じて評価したところ、実施例1のディスプレイ用光学フィルターと略同一の評価結果が得られた。
実施例1に準じて、実施例3のディスプレイ用光学フィルターを得た。ただし、転写用メッシュフィルムとしては、次のようにして作製したものを用いた。
支持フィルムとして厚さ100μmのPETフィルム(前出)を用い、その片面上に、10μm厚の銅(Cu)箔をアクリル系粘着剤を介してラミネートし、その上にレジストをラミネートした後、フォトエッチングによりL/S=12/288μmのメッシュ状パターンを形成し、次いで、次亜塩素酸ナトリウムを含む水酸化ナトリウム水溶液(温度50℃)中に3分間浸漬して、銅(Cu)のメッシュ状パターン表面に銅(Cu)の酸化物層を形成した。このメッシュ状パターンの銅(Cu)の酸化物層上に銅(Cu)の電解メッキを施し、更にニッケル(Ni)の黒色電解メッキを施して転写用メッシュフィルムを得た。
この転写用メッシュフィルムにおいては、銅(Cu)の酸化物層中で剥離が生じた。
次いで、このディスプレイ用光学フィルターを、実施例1に準じて評価した。評価結果を表2に示した。
実施例3で得られた、金属層(銅(Cu)の電解メッキ層及びニッケル(Ni)の黒色電解メッキ層)が剥離された転写用メッシュフィルムのメッシュ状パターン上に、実施例3に準じて再度、銅(Cu)の酸化物層と、この銅(Cu)の酸化物層上に銅(Cu)の電解メッキ層、更にニッケル(Ni)の黒色電解メッキ層を形成して、転写用メッシュフィルムを得た。この転写用メッシュフィルムを用いた他は、実施例3に準じてディスプレイ用光学フィルターを得た。
このような操作(転写用メッシュフィルムの再利用)を繰り返し行い、再利用が5回目の転写用メッシュフィルムを用いて、実施例1に準じて、実施例4のディスプレイ用光学フィルターを得た。
このディスプレイ用光学フィルターを実施例1に準じて評価したところ、実施例3のディスプレイ用光学フィルターと略同一の評価結果が得られた。
実施例1に準じて、実施例5のディスプレイ用光学フィルターを得た。ただし、転写用メッシュフィルムとしては、次のようにして作製したものを用いた。
パラジウム微粒子3.5gとγ−アルミナ171.5gをエタノール中で分散、凝集させ、固液分離した後乾燥させ、パラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子を得た。次いで、α−テルピネオール472g及びブチルカルビトールアセテート236gからなる溶媒に、エチルセルロース90gを溶解させ、さらに上記のパラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子とカーボンブラック9gを加え、三本ロールミルで混合、分散し、無電解メッキ用触媒インクを作製した。
次いで、この無電解メッキ用触媒インク層が形成された支持フィルムを、25℃の無電解銅メッキ液「OPC−750」(奥野製薬社製)中に40分間浸漬させ、メッシュ状パターンの無電解メッキ用触媒インク層上に銅(Cu)を析出させ、銅(Cu)の金属層を形成した。次いで、亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムにて銅(Cu)のメッシュ状パターン表面に銅(Cu)の酸化物層を形成した。更に、このメッシュ状パターンの銅(Cu)の酸化物層上に銅(Cu)の電解メッキを施し、更にニッケル(Ni)の黒色電解メッキを施して転写用メッシュフィルムを得た。
この転写用メッシュフィルムにおいては、銅(Cu)の酸化物層中で剥離が生じた。
このディスプレイ用光学フィルターを、実施例1に準じて評価した。評価結果を表3に示した。
実施例5で得られた、金属層(銅(Cu)の電解メッキ層及びニッケル(Ni)の黒色電解メッキ層)が剥離された転写用メッシュフィルムのメッシュ状パターン上に、実施例5に準じて再度、銅(Cu)の酸化物層と、この銅(Cu)の酸化物層上に銅(Cu)の電解メッキ層、更にニッケル(Ni)の黒色電解メッキ層を形成して、転写用メッシュフィルムを得た。
この転写用メッシュフィルムを用いた他は、実施例5に準じてディスプレイ用光学フィルターを得た。
このような操作(転写用メッシュフィルムの再利用)を繰り返し行い、再利用が5回目の転写用メッシュフィルムを用いて、実施例1に準じて、実施例6のディスプレイ用光学フィルターを得た。
このディスプレイ用光学フィルターを実施例1に準じて評価したところ、実施例5のディスプレイ用光学フィルターと略同一の評価結果が得られた。
11 透明基材A
12 反射防止層
13 近赤外線遮蔽層
21 粘着剤層
22 導電部材
31 電磁波シールド材
51 透明基材B
51a 貼着面
61a 両面に機能層が積層された透明基材
61b 片面に機能層が積層された透明基材
71 金属層
72 離型剤のコーティング層
73 支持フィルム
74 メッシュ状パターン
81、91 転写用メッシュフィルム
81a 金属層を有しない転写用メッシュフィルム
Claims (8)
- 近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Aと、透明基材Bとが、粘着剤層を介して積層一体化されたディスプレイ用光学フィルターであって、前記粘着剤層における透明基材Bとの貼着面にメッシュ状パターンの電磁波シールド材が配設され、かつ前記電磁波シールド材が、前記透明基材Bとの貼着面に配設された接地用の導電部材に連結されてなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルター。
- 請求項1に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法であって、
(a)支持フィルムの一方の面に、金属微粉末と樹脂とを含む導電性樹脂組成物からなるメッシュ状パターンが形成され、このメッシュ状パターン上に金属をメッキしてメッシュ状パターンの金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムと、片面の最外層に粘着剤層を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Aとを、前記金属層と前記粘着剤層とが接するように積層一体化して、積層体を形成する工程と、
(b)前記(a)工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルムを剥離して、前記金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Aと、前記金属層が剥離された転写用メッシュフィルムとを得る工程と、
(c)前記(b)工程で得られ、前記金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Aと、透明基材Bとを、前記透明基材Bの表面に配設された導電部材と前記粘着剤層から露出する前記金属層が接するように、前記金属層が転写された前記粘着剤層を介して、積層一体化する工程、
を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法。 - 前記(a)工程において、前記転写用メッシュフィルムにおける、メッシュ状パターンの金属層が形成されていない領域に離型剤をコーティングする、請求項2に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
- 前記(b)工程で得られた、前記金属層が剥離された転写用メッシュフィルムにおけるメッシュ状パターン上に、金属をメッキしてメッシュ状パターンの金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムを得、この転写用メッシュフィルムを用いる、請求項2又は3に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
- 請求項1に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法であって、
(x)支持フィルムの一方の面にメッシュ状パターンの第1金属層と、この第1金属層上に、前記第1金属層を形成する金属の酸化物からなるメッシュ状パターンの金属酸化物層が形成され、このメッシュ状パターンの金属酸化物層上に、メッシュ状パターンの第2金属層が形成されてなる転写用メッシュフィルムと、片面の最外層に粘着剤層を有し、近赤外線吸収機能及び反射防止機能のうちの少なくとも一つの機能を有する透明基材Aとを、前記第2金属層と前記粘着剤層とが接するように積層一体化して、積層体を形成する工程と、
(y)前記(x)工程で得られた前記積層体から前記転写用メッシュフィルムを剥離して、前記第2金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Aと、前記第2金属層が剥離された転写用メッシュフィルムとを得る工程と、
(z)前記(y)工程で得られ、前記第2金属層が前記粘着剤層に転写された透明基材Aと、透明基材Bとを、前記透明基材Bの表面に配設された導電部材と前記粘着剤層から露出する前記第2金属層が接するように、前記第2金属層が転写された前記粘着剤層を介して、積層一体化する工程、
を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法。 - 前記(x)工程において、前記転写用メッシュフィルムにおける、メッシュ状パターンの前記第1金属層と、前記金属酸化物層と、前記第2金属層が形成されていない領域に離型剤をコーティングする、請求項5に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
- 前記(y)工程で得られた、前記第2金属層が剥離された転写用メッシュフィルムにおけるメッシュ状パターンの前記金属酸化物層上に前記第2金属層を再度形成して転写用メッシュフィルムを得、この転写用メッシュフィルムを用いる、請求項5又は6に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
- 前記(y)工程で得られた、前記第2金属層が剥離された転写用メッシュフィルムにおけるメッシュ状パターンの前記第1金属層上に、この第1金属層を構成する金属の酸化物層、及び前記第2金属層を再度形成して転写用メッシュフィルムを得、この転写用メッシュフィルムを用いる、請求項5又は6に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2010041003A true JP2010041003A (ja) | 2010-02-18 |
JP5195146B2 JP5195146B2 (ja) | 2013-05-08 |
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Country Status (1)
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JP (1) | JP5195146B2 (ja) |
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