JP2009051009A - プラズマディスプレイパネル用前面フィルター、及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネル用前面フィルター1は、紫外線遮蔽性能を有する透明樹脂フィルム6の前面側に直接もしくは1層以上の層を介して帯電防止性能を有するハードコート層5を設けると共に、後面側に近赤外線遮蔽層を設けた透明積層フィルム3と、電磁波遮蔽層9を備えた透明基材10とを粘着剤層8を介して貼り合わせてなる。
【選択図】図1
Description
近年、デジタル機器からの漏洩電磁波が人体や他の機器に与える影響について取り沙汰されるようになっており、米国のFCC(連邦通信委員会:Federal Communications Commission)規格や日本のVCCI(情報処理装置等電波障害自主規制協議会:Voluntary Control Council for Information Technology Equipment)による基準値内に抑えることが必要となる。
また、PDPは近赤外線を発することが知られており、コードレスヘッドフォン、リモコン等の電子機器の誤作動を引き起こすことがある。そのため、近赤外線を実用上問題ないレベルまで抑える必要がある。
更に、PDPは、その視認性を高めるために蛍光灯などの外部光源から照射された光源の反射が少ないことが求められる。また、発光色の色調補正をすることも重要であり、更には、使用上の観点からディスプレイ表面に埃が付着しないように帯電防止機能が必要とされている。
しかしながら、この場合、少なくとも3枚の機能性フィルムを別々に作製して、それらを貼り合いしなければならず、生産性が悪かった。
加えて、従来電磁波遮蔽層に用いられる電磁波遮蔽層としては、フォトリソグラフィ等のリソグラフィにより得られるエッチングメッシュや、スパッタ等で基材上に薄膜形成して作製した透明導電膜、触媒を含有したペーストをフィルム上にメッシュパターン印刷した後、メッキして作製したメッキメッシュが挙げられるが、これらの作製方法では、製造工程が多く、製造歩留まりが悪く、コストが高かった。また、メッキメッシュはメッキ工程を必要とすることから、環境汚染の問題が懸念される。
第1の発明のPDP用前面フィルターは、1枚のフィルム(透明積層フィルム)が紫外線遮蔽性能、帯電防止性能、近赤外線遮蔽性能を有しているので、層構成が簡単で製造工程が少なく生産性に優れる。更に、前記透明積層フィルムと、電磁波遮蔽性能を備えた透明基材とを粘着剤層を介して貼り合わせてPDP用前面フィルターを構成するため、透明樹脂フィルムを一枚しか使用しなくて良く、前記従来の複数枚のフィルムを用いた構成に比べて全光線透過率が向上し、更には、歩留まりを低下させる貼り合わせ工程を1回しか必要とせず、生産性に優れ、低コストに実現できる。
尚、本明細書における透明又は透明性とは、光透過率や透明度を限定するものではなく、PDPの視認に支障を極力与えることがない意味で用いている。
本発明における透明樹脂フィルムとしては、透明性及び紫外線遮蔽性能を有している限り特に限定するものではないが、反射を抑えるため、屈折率(n)が1.55〜1.70の範囲内のものが好ましい。係る透明樹脂フィルムの材質としては、例えばポリエチレンテレフタレート(PET、n=1.65)等のポリエステル、ポリカーボネート(PC、n=1.59)、ポリアリレート(PAR、n=1.60)及びポリエーテルスルフォン(PES、n=1.65)等が好ましい。これらのうち、ポリエステルフィルム特にポリエチレンテレフタレートフィルムが成形の容易性、入手の容易性及びコストの点で好ましい。
また、透明樹脂フィルムの厚さは、好ましくは25〜400μm、さらに好ましくは50〜200μmである。
この紫外線遮蔽性能を有する透明樹脂フィルムとしては、透明樹脂フィルム中に透明性を損なわない範囲で紫外線吸収剤が混入されていればよい。この紫外線吸収剤としては、公知の紫外線吸収剤が用いられ、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、環状イミノエステル系化合物等が好ましく、これらのうちベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、環状イミノエステル系化合物が特に好ましい。これらの紫外線吸収剤の含有量としては、波長380nm以下の紫外線の光線透過率が5%以下になるように添加するのがよく、3%以下になるように添加するのがより好ましく、1%以下になるように添加するのが特に好ましい。波長380nm以下の光線透過率が5%を越える場合、粘着剤層中の色素に対して十分な紫外線遮蔽効果が望めないため好ましくない。加えて、透明樹脂フィルムには、各種の添加剤が含有されていても良い。そのような添加剤として例えば前記以外の紫外線吸収剤、帯電防止剤、安定剤、可塑剤、滑剤、難燃剤等が挙げられる。尚、この紫外線遮蔽性能を有する透明樹脂フィルムとしては、既に紫外線吸収剤を練り込んだPETフィルムが市場に供されているので、それを用いてもよい(後述する実施例にて使用している)。
本発明におけるハードコート層は、帯電防止性能を有するものであって、好ましくは紫外線硬化型樹脂、帯電防止剤、光重合開始剤を含有する材料(=ハードコート層形成用組成物)から形成される。
前記紫外線硬化性多官能アクリレートとしては、特に限定するものではないが、例えばジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ビス(3−アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)ヘキサン等の多官能アルコールのアクリル誘導体や、ポリエチレングリコールジアクリレート及びポリウレタンアクリレート等が好ましい。
また、ハードコート層には前記の化合物(紫外線硬化型樹脂、帯電防止剤)以外に本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含んでいても差し支えない。その他の成分としては、前記の各成分の作用を阻害しない限り特に限定するものではないが、例えば無機又は有機顔料、重合体、重合開始剤、光重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、レベリング剤などの添加剤が挙げられる。また、ウェットコーティング法によって成膜後乾燥させる限りは、任意の量の溶媒を添加することができる。
さらに、このハードコート層は、好ましくはウェットコーティング法により成膜した後、必要に応じて紫外線、電子線等の活性エネルギー線の照射や加熱により硬化反応を行って形成することができる。このような活性エネルギー線による硬化反応は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下にて行うことが好ましい。
このハードコート層の厚さは、通常1〜20μmの範囲であることが好ましい。この厚さが1μm未満の場合には、十分な硬度を持たせることが難しくなるため好ましくない。一方、厚さが20μmを越える場合には、耐屈曲性の低下等の問題が生じるため好ましくない。
次に、近赤外線遮蔽層について説明する。
本発明における近赤外線遮蔽層に含まれる近赤外線吸収剤は、有機系近赤外線吸収剤と無機系近赤外線吸収剤に分けられる。
前記無機系近赤外線吸収剤としては、例えば酸化タングステン系、酸化チタン系、酸化ジルコニウム系、酸化タンタル系、酸化亜鉛系、酸化インジウム系、錫ドープ酸化インジウム系、酸化錫系、アンチモンドープ酸化錫系、酸化セシウム系、酸化亜鉛系などが挙げられる。中でも、近赤外線の透過率が低く、可視光線の透過率が高いことから、酸化タングステン系が好ましく、特にセシウム含有酸化タングステンが好適である。
前記有機系近赤外線吸収剤としては、例えばポリメチン系、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジチオール金属錯塩系、ナフトキノン系、アントロキノン系、トリフェニルメタン系、アミニウム系、ジインモニウム系等の色素が挙げられる。中でも、スルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム塩が好ましく用いられる。ジイモニウム塩としては、ビス{ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド酸}−N,N,N‘,N’−テトラキス(p−ジベンジルアミノフェニル)−p−フェニレンジイモニウム、ビス(1,3−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸)−N,N,N‘,N’−テトラキス(p−ジベンジルアミノフェニル)−p−フェニレンジイモニウム等が挙げられる。これらのジイモニウム塩は、単独又は2種類以上を併用しても良い。
上記ジイモニウム塩は、単独で用いることができるが、本発明の効果を損なわない限り、その他の有機系近赤外線吸収剤と組み合わせて用いることができる。近赤外線遮蔽層を形成する際には、前記近赤外線吸収剤を、溶解又は分散させた有機バインダーを用いて行うことができる。有機バインダーとしては、例えば、ポリオレフィン、ポリスチレン系化合物、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸アルキル、エポキシ樹脂や前記紫外線硬化性多官能アクリレート等が挙げられる。
上記近赤外線遮蔽層には、有機バインダー以外に本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含んでいても良い。その他の成分は特に限定されるものではなく、例えば重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光重合開始剤等の添加剤当が挙げられる。
続いて、上記近赤外線遮蔽層の形成方法は、ウエットコーティングによるものであれば特に制限されず、ロールコート法、コイルバー法、ダイコート法、インクジェット法等、一般的なウェットコート法が採用される。
この近赤外線遮蔽層の厚さは、通常2〜20μmの範囲であることが好ましい。この厚さが2μm未満の場合には、近赤外線遮蔽性能を十分に発現させることが難しくなるため好ましくない。一方、厚さが20μmを越える場合には、耐屈曲性の低下等の問題が生じるため好ましくない。
本発明における粘着剤層を構成する粘着剤としては、透明性を有している限り特に限定するものではないが、例えばアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤が好ましく用いられ、必要に応じて適宜硬化剤(架橋剤)等を配合してもよい。この粘着剤層の厚さは、通常5〜50μmの範囲であることが好ましい。また、この粘着剤層には、表示装置の発光色を色調補正するために、色素を含有させることが好ましい。この色素としては、可視領域に所望の吸収波長を有する一般の染料または顔料で良く、その種類は特に限定するものではないが、例えばアントラキノン系、フタロシアニン系、アゾ系、ポルフィリン系等の有機色素が挙げられる。その種類・濃度は、色素の吸収波長・吸収係数、そして分散させる媒体または塗膜の種類・厚さ等から決まり、特に限定されるものではない。尚、この粘着剤層は、前記図示実施例では透明積層フィルムの近赤外線遮蔽層の裏面側に設けたが、透明基材の電磁波遮蔽層の表面側に設けるようにしてもよい。
本発明における電磁波遮蔽層は、構成・組成などに格別の制限はなく、電磁波遮蔽性能と画像の透過性を有するように形成されたものであればよく、例えば金属箔をエッチングすることで作製したエッチングメッシュ、金属物質を蒸着、スパッタ等で透明基材の表面に薄膜形成して作製した透明導電膜、パラジウムなどの触媒を含有するペーストを透明基材の表面に格子状にパターン印刷してそれに金属メッキを施したメッキメッシュ、更には、導電性ペーストを透明基材の表面に格子状にパターン印刷した後焼成して形成したコーティングメッシュ等を用いることができる。
中でも、導電性ペーストを透明基材の表面に格子状にパターン印刷した後、焼成して形成したコーティングメッシュが電磁波遮蔽層には好ましい。導電性ペースト中に含まれる金属微粒子としては、金、銀、銅などの導電性に優れる金属が挙げられる。更に、金属微粒子の粒径は、印刷の観点から5μm以下が好ましく、1μm以下がより好ましい。
更に、前記のエッチングメッシュ及びメッキメッシュ、コーティングメッシュの電磁波遮蔽層の厚さは、1〜10μmである事が好ましく、線幅は30μm以下が好ましい。
この電磁波遮蔽層の形成方法は、ウエットコーティングによるものであれば特に限定するものではなく、ダイレクトグラビア印刷、オフセットグラビア印刷、インクジェット印刷等、一般的なウェットコート法が採用される。
本発明における透明基材としては、透明性を有している限り特に限定するものではないが前記電磁波遮蔽層を形成できるものが好ましく、主としてガラス基材を指すが、耐熱性に優れた透明樹脂成形体等でもよく、より具体的には例えば非強化のソーダライム系フロートガラス基材等を用いることができる。
本発明における減反射層は、単層構成又は多層構成とすることができる。単層構成の場合には、ハードコート層の前面側に該ハードコート層よりも低い屈折率の層(低屈折率層)を1層形成する。また多層構成の場合には、ハードコート層の前面側に屈折率の異なる層を多層形態で積層する。多層構成とすることにより、反射率をより効果的に下げることができる。反射防止の効果の観点からは3層以上の構成が好ましく、生産性及び生産コストの観点からは単層構成又は2層構成が好ましい。
減反射層の形成方法は特に限定するものではなく、例えばドライコーティング法、ウェットコーティング法等の方法が採用される。これらの方法のうち、生産性及び生産コストの面より、特にウェットコーティング法が好ましい。ウェットコーティング法は公知の方法でよく、例えばロールコート法、スピンコート法、コイルバー法、ディップコート法等が代表的な方法である。これらの中では、ロールコート法等、連続的に減反射層を形成できる方法が生産性及び生産コストの点より好ましい。この減反射層の機能を発現させるために、形成される層がその直下の層よりも低屈折率であることを要件とし、その低屈折率層の屈折率としては1.20〜1.55の範囲にあることが好ましい。屈折率が1.55を越える場合にはウェットコーティング法では十分な反射防止効果を得ることが難しく、一方1.20未満の場合は十分に硬い層を形成することが困難となる傾向にある。
このような低屈折率層を構成する材料としては、例えば中空酸化珪素、コロイダル酸化珪素、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム等の無機微粒子や、有機重合体微粒子や、含フッ素有機化合物の単体又は混合物を用いることができる。また、フッ素を含まない有機化合物(以下、非フッ素系有機化合物と略記する)の単体若しくは混合物又は重合体をバインダー樹脂として用いることができる。
また、減反射層には、上記化合物以外に本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含んでいても差し支えない。その他の成分は特に限定するものではなく、例えば無機又は有機顔料、重合体、重合開始剤、光重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、レベリング剤などの添加剤が挙げられる。また、ウェットコーティング法によって成膜後乾燥させる限りは、任意の量の溶媒を添加することができる。
さらに、この減反射層は、好ましくはウェットコーティング法により成膜した後、必要に応じて紫外線、電子線等の活性エネルギー線の照射や加熱により硬化反応を行って形成することができる。このような活性エネルギー線による硬化反応は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下にて行うことが好ましい。
本発明のPDP用前面フィルターの製造方法を、図面を参照しつつ説明する。
図1に例示したPDP用前面フィルター1の製造方法を説明する。
まず、前記構成の紫外線遮蔽性能を有する透明樹脂フィルム6の表面側(前面側)にハードコート層形成用組成物(塗布液)を塗布した後、紫外線を照射して硬化させることにより前記構成のハードコート層5が得られる。図面ではさらにそのその表面側(前面側)に前記構成の減反射層11を形成している。
また、前記透明樹脂フィルム6の裏面側(後面側)に近赤外線遮蔽層塗布液を塗布した後に乾燥することで前記構成の近赤外線遮蔽層7が得られる。
尚、前記表面側(前面側)のハードコート層5の形成(及び減反射層11の形成)と、上記裏面側(後面側)の近赤外線遮蔽層7の形成は、何れを先に行ってハードコートフィルム2を作製してもよい。
さらに、前記の近赤外線遮蔽層7の裏面側(後面側)に粘着剤としての塗布液を塗布し、乾燥、エージングすることで前記構成の粘着剤層8を形成して透明積層フィルム3とする。
更に、前記構成の透明基材(ガラス基材)10の表面側(前面側)に導電性ペーストを格子状にパターン印刷し、焼成することで前記構成の電磁波遮蔽層9を形成し、電磁波遮蔽層付きガラス4とする。
最後に、前記透明積層フィルム3と、電磁波遮蔽層9を形成した前記透明基材(ガラス基材)10とをラミネートすることにより、本発明のPDP用前面フィルター1を得ることができる。
(1)全光線透過率:
ヘイズメーター(日本電色社製、型式:NDH 2000)を用いて測定
(2)ヘイズ値:
ヘイズメーター(日本電色社製、型式:NDH 2000)を用いて測定
(3)最小反射率:
紫外可視分光光度計(日本分光製、型式:V−560)を用いて測定
(4)紫外線、近赤外線透過率:
サンプルを紫外可視分光光度計(日本分光製、型式:V−560)を用いて測定し、380nm以下、590nm、850nm、950nmの各波長における紫外線、近赤外線透過率(%)を読み取った。
(5)密着性:
ハードコート層を設けた面側をJIS D0202−1998に準拠して碁盤目剥離テープ試験を行った。セロハンテープ(ニチバン(株)製、CT24)を用い、フィルムに密着させた後、剥離した。判定は100マスの内、剥離しないマス目の数で表し、剥離しない場合を100/100、完全に剥離する場合を0/100として表した。
(6)鉛筆硬度:
JISK5400に準拠して鉛筆で引っかき試験を行った。
(7)表面抵抗率:
JISK6911−1995に準拠して、デジタル絶縁計([SM−8220]、東亜ディーケーケー(株)製)を用いて測定した。
(8)電磁波遮蔽性:
KEC法を用いて測定した。
紫外線遮蔽性能を有する透明樹脂フィルムとして厚み100μmのPETフィルム(帝人デュポンフィルム(株)製、商品名;HB3)を用い、その表面側(前面側)にジペンタエリスリトールヘキサアクリレート95質量部、帯電防止剤としてアンチモンドープ酸化錫(石原産業(株)製、商品名;SNS−10M)17質量部、光重合開始剤(チバスペシャルティケミカルズ(株)製、商品名;イルガキュア184)4質量部を含むハードコート層用塗料を、乾燥膜厚が5μm程度になるように塗工し、乾燥後、紫外線を照射することでハードコート層を形成した。
次に、裏面側(後面側)に有機系近赤外線吸収剤(日本カーリット(株)製、商品名;CIR−1085F)5.0質量部、バインダー樹脂としてアクリル系樹脂(三菱レイヨン(株)製、商品名:ダイヤナールBR−80)100質量部、メチルエチルケトン450質量部及びトルエン450質量部を含む近赤外線遮蔽層塗布液を、乾燥膜厚が10μm程度になるように塗工し、乾燥することで近赤外線遮蔽層を形成した。
続いて、前記近赤外線遮蔽層上に粘着剤(主剤)(綜研化学(株)製、商品名;SK−2094)100質量部、架橋剤(綜研化学(株)製、商品名;E−AX)2.7質量部を含む塗料を、乾燥膜厚が25μm程度になるように塗工し、乾燥後、エージングすることで粘着剤層を形成し、透明積層フィルムを得た。
更に続いて、電磁波遮蔽層を、ガラス基材上に形成した。導電性ペースト(大研化学工業(株)、商品名;NAG−10)を乾燥膜厚が10μmとなるようL/S(線幅/スペース幅)=30/270(μm)の格子状にパターン印刷し、その後、300℃で10分間乾燥し作製した。
最後に、前記のように得られた透明積層フィルムと前記のように得られた電磁波遮蔽層を形成したガラス基材とをラミネートすることにより前記図1構成(但し、減反射層は設けていない)のPDP用前面フィルターを形成した。
得られたPDP用前面フィルターの「全光線透過率」、「最小反射率」、「透過率」、「密着性」、「鉛筆硬度」、「表面抵抗率」、「電磁波遮蔽性」を評価した。その評価結果を表1に示す。
粘着剤層の粘着剤を色補正粘着剤とした以外は、前記実施例1と同様にしてPDP用前面フィルターを形成した。この色補正粘着剤としては、粘着剤(主剤)(綜研化学(株)製、商品名;SK−2094)100質量部、架橋剤(綜研化学(株)製、商品名;E−AX)2.7質量部、色素1(山田化学工業(株)製、商品名;TAP−2)0.02質量部、色素2(オリエント化学工業(株)、商品名;V.R.3304)0.02質量部、色素3(オリエント化学工業(株)、商品名;O.B.613)0.01質量部、色素4(オリエント化学工業(株)、商品名;V.G.2520)0.01質量部、溶剤としてメチルエチルケトン(MEK)23質量部を含む粘着剤層用塗料を用いた。その評価結果を表1に示す。
ハードコート層の表面側に減反射層を形成した以外は、前記実施例2と同様にしてPDP用前面フィルターを形成した。この減反射層は次の通り形成した。パーフルオロ−(1,1,9,9−テトラハイドロ−2,5−ビスフルオロメチル−3,6−ジオキサノネノール)104質量部及びビス(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7−ドデカフルオロヘプタノイル)パーオキサイドの8質量%パーフルオロヘキサン溶液11質量部の重合反応により得られるヒドロキシル基含有含フッ素アリルエーテル重合体(数平均分子量72,000、質量平均分子量118,000)5質量部、メチルエチルケトン(MEK)43質量部、ピリジン1質量部、及びα−フルオロアクリル酸フルオライド1質量部より重合性二重結合を有する含フッ素反応性重合体溶液(固形分13質量%、α‐フルオロアクリロイル基の導入率40モル%)を調製した。また、中空シリカゾル(触媒化成工業(株)製、商品名;ELCOM NY−1001SIV、イソプロピルアルコールによる中空シリカゾルの25%分散液、平均粒径:60nm)2000質量部、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製、商品名;KBM5103)70質量部、及び蒸留水80質量部を混合して変性中空シリカ微粒子(ゾル)(平均粒子径:60nm)を調製した。そして、前記含フッ素反応性重合体溶液50質量部と、変性中空シリカ微粒子50質量部と、光重合開始剤(チバスペシャルティケミカルズ(株)製、商品名;イルガキュア907)2質量部と、イソプロピルアルコール2000質量部とを混合して、低屈折率層塗布液を得た。そして、前記ハードコート層の表面側に前記のように得られた低屈折率層塗布液を、乾燥後の光学膜厚が110〜125nmになるようにグラビアコート法で塗布し、乾燥後、窒素雰囲気下で400mJ/cm2の出力で紫外線を照射して硬化させることにより、減反射層を作製した。その評価結果を表1に示す。
また、色補正機能を有する粘着剤を使用した実施例2の結果より、590nmの透過率を適度にカットし、色再現性に優れたPDP用前面フィルターが作製可能であることが確認された。
最後に、実施例3では減反射層を形成していることから、更に、外光の反射や映り込みを抑えたPDP用前面フィルターの提供が可能となる。
2 ハードコートフィルム
3 透明積層フィルム
4 電磁波遮蔽層付ガラス
5 ハードコート層
6 透明樹脂フィルム
7 近赤外線遮蔽層
8 粘着剤層
9 電磁波遮蔽層
10 透明基材(ガラス基材)
11 減反射層
Claims (6)
- 紫外線遮蔽性能を有する透明樹脂フィルムの前面側に直接もしくは1層以上の層を介して帯電防止性能を有するハードコート層を設けると共に、後面側に近赤外線遮蔽層を設けた透明積層フィルムと、電磁波遮蔽層を備えた透明基材とを、粘着剤層を介して貼り合わせてなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用前面フィルター。
- 前記電磁波遮蔽層が、導電性材料を格子状にパターン印刷してなる層であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル用前面フィルター。
- 前記粘着剤層が、色補正機能を有する層であることを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマディスプレイパネル用前面フィルター。
- 前記ハードコート層の前面側に減反射層を設けたことを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用前面フィルター。
- 前記プラズマディスプレイパネル用前面フィルターを構成する各層が、全てウエットコーティングにより形成されてなることを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用前面フィルター。
- 紫外線遮蔽性能を有する透明樹脂フィルムの前面側に直接もしくは1層以上の層を介して帯電防止性能を有するハードコート層を設けると共に、後面側に近赤外線遮蔽層を設けた透明積層フィルムと、電磁波遮蔽層を備えた透明基材とを、粘着剤層を介して貼り合わせてなるプラズマディスプレイパネル用前面フィルターを構成する各層を、全てウエットコーティングにより形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用前面フィルターの製造方法。
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