JP2009534645A - 低波状中性子ガイド平面の製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 26
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 16
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 239000005352 borofloat Substances 0.000 claims description 11
- 238000002139 neutron reflectometry Methods 0.000 claims description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 claims 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000005493 condensed matter Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
- G21K1/062—Devices having a multilayer structure
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- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
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- G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
- G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
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- G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
- G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
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Abstract
【解決手段】中性子反射層が真空吸引によって基面に固定され、この真空固定の過程で、キャリアプレートが中性子反射面とは反対の多層被覆板のもう一方側に接着されることにより、表面平坦度を有する中性子ガイドスーパーミラーを作り出す。
【選択図】なし
Description
−第一プレートを、同第一プレートの中性子反射面が基面に位置するように、少なくともほぼ10 -5 ラジアン程度の大きさの平坦度を有する基面上に置き、
−第一プレートを真空吸引により前記基面に付着させ、
−第一プレートが真空吸引により前記基面に付着する間に、キャリアプレートを前記中性子反射面とは反対の面の第一プレートに接着させる。
(1)中性子反射面を有する第一プレートが前記第一プレートよりもより厚いキャリアプレートに接着される過程における中性子ガイド平面の製造方法であって、以下の工程:
−前記第一プレートを、前記第一プレートの前記中性子反射面が基面に位置するように少なくともほぼ10-5ラジアン程度の大きさの平坦度を有する基面上に置き、
−前記第一プレートを真空吸引により前記基面に付着させ、
−前記第一プレートが真空吸引により前記基面に付着する間に、前記キャリアプレートを前記中性子反射面とは反対の面において前記第一プレートに接着させること
を特徴とする方法。
(2)前記第一プレートが0.5〜6 mmの厚さを有し、前記キャリアプレートが10〜25 mmの厚さを有する請求項1に記載の製造方法。
(3)前記第一プレートを基面上に位置付け後、薄板の大きさにより決定される基縁に沿って形成されるリクライニング接触点によって、真空吸引を適用し、ひとたび第一プレートが真空吸引を介して基面に付着されると、このリクライニング接触点を除去する上記(1)または(2)に記載の製造方法。
(4)前記第一プレート上に置かれたキャリアプレートを接着剤の結合が行われる間にリクライニング面を介して基面に対して固定し、接着剤の結合が行われた後に、リクライニング接触点を元に戻すことによって接着されたプレートを基面から除去する上記(3)に記載の製造方法。
(5)前記中性子反射層を担持する前記第一プレートの大部分がフロート/ボロフロートガラスであり、前記キャリアプレートの前記材料がフロート/ボロフロートガラスである上記(1)〜(4)のいずれかに記載の製造方法。
(6)前記中性子反射層を担持する前記第一プレートの大部分がシリコンであり、前記キャリアプレートの材料がボークロンガラスである上記(1)〜(4)のいずれかに記載の製造方法。
(7)前記中性子反射層を担持する前記第一プレートの大部分がフロート/ボロフロートガラスであり、前記キャリアプレートの材料がスチールである上記(1)〜(4)のいずれかに記載の製造方法。
本発明の製造方法を、その実施例としての実験により説明する。
Claims (5)
- 中性子反射に適した層を有する、好適には多層被覆の形成における薄板が前記薄板よりも特により厚いキャリアプレートの表面上に接着される過程における低波状中性子ガイド平面の製造方法であって、
前記中性子反射プレートを、前記薄板の前記中性子反射面が基面に位置するように,好適には真空テーブルの上にほぼ10-5ラジアン程度の大きさの極端な平坦度を示す基面上に置き、前記薄板を前記真空テーブルの面に置き、薄板のサイズによって決定された基端に沿って形成されるリクライニング接触点にあてはめ、薄板が真空吸引により基面上に固定されることによって、その基面上に位置づけ付着させ、そして、リクライニングポイントが除去され、接着剤が中性子の低い吸収キャパシティを示す固定された薄板の上面に取り付けられ、入射中性子の発現におけるその結合力を維持しており、それから、前記厚いキャリアプレートが前記厚いプレートの動きによって薄板の上表面に固着され、接着剤の均一な分散を提供し、厚いキャリアプレートが基面上に固定されるリクライニング接着点とその接着剤の結合プロセスが、結合促進における公知および承認できる選択された方法によって促進されることにより、最終的に接着されたプレートがリクライニング接着点を壊すことにより、基面から除去されることを特徴とする方法。 - その基面に対面する表面に反射面(好適には多層被覆された)を有し、真空吸引によって基面に固定される前記薄板が0.5〜6 mmの厚さを有し、薄い中性子反射プレートの裏面に固定される前記厚いキャリアプレートが10〜25 mmの厚さを有することを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 前記中性子反射面を担持する前記薄板の大部分がフロート/ボロフロートガラスであり、前記キャリアプレートの前記材料がフロート/ボロフロートガラスであることを特徴とする請求項1または2に記載の製造方法。
- 前記中性子反射面を担持する前記薄板の大部分がシリコンであり、前記キャリアプレートの材料がボークロンガラスであることを特徴とする請求項1または2に記載の製造方法。
- 前記中性子反射面を担持する前記薄板の大部分がフロート/ボロフロートガラスであり、前記キャリアプレートの材料がスチールであることを特徴とする請求項1または2に記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
HU0600313A HU227011B1 (en) | 2006-04-20 | 2006-04-20 | Method of manufacturing multi layers neutron guides |
HUP0600313 | 2006-04-20 | ||
PCT/HU2007/000033 WO2007122433A1 (en) | 2006-04-20 | 2007-04-19 | Procedure for manufacturing a neutron-guiding flat surface of low waviness using a vacuum table |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009534645A true JP2009534645A (ja) | 2009-09-24 |
JP5023142B2 JP5023142B2 (ja) | 2012-09-12 |
Family
ID=89986717
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009505973A Active JP5023142B2 (ja) | 2006-04-20 | 2007-04-19 | 低波状中性子ガイド平面の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100065202A1 (ja) |
EP (1) | EP2013884A1 (ja) |
JP (1) | JP5023142B2 (ja) |
HU (1) | HU227011B1 (ja) |
WO (1) | WO2007122433A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110927187B (zh) * | 2019-10-24 | 2023-10-17 | 东莞材料基因高等理工研究院 | 一种中子传输多通道聚焦导管装置及中子衍射谱仪 |
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---|---|---|---|---|
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-
2006
- 2006-04-20 HU HU0600313A patent/HU227011B1/hu not_active IP Right Cessation
-
2007
- 2007-04-19 EP EP07733850A patent/EP2013884A1/en not_active Withdrawn
- 2007-04-19 JP JP2009505973A patent/JP5023142B2/ja active Active
- 2007-04-19 WO PCT/HU2007/000033 patent/WO2007122433A1/en active Application Filing
- 2007-04-19 US US12/226,497 patent/US20100065202A1/en not_active Abandoned
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100065202A1 (en) | 2010-03-18 |
HU227011B1 (en) | 2010-04-28 |
HU0600313D0 (en) | 2006-06-28 |
HUP0600313A2 (en) | 2007-10-29 |
JP5023142B2 (ja) | 2012-09-12 |
WO2007122433A1 (en) | 2007-11-01 |
EP2013884A1 (en) | 2009-01-14 |
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Date | Code | Title | Description |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100128 |
|
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150622 Year of fee payment: 3 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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