JP2009534645A - 低波状中性子ガイド平面の製造方法 - Google Patents

低波状中性子ガイド平面の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2009534645A
JP2009534645A JP2009505973A JP2009505973A JP2009534645A JP 2009534645 A JP2009534645 A JP 2009534645A JP 2009505973 A JP2009505973 A JP 2009505973A JP 2009505973 A JP2009505973 A JP 2009505973A JP 2009534645 A JP2009534645 A JP 2009534645A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
neutron
thin plate
manufacturing
base surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009505973A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5023142B2 (ja
Inventor
カスザス,ギョルギー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mirrotron Kft
Original Assignee
Mirrotron Kft
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mirrotron Kft filed Critical Mirrotron Kft
Publication of JP2009534645A publication Critical patent/JP2009534645A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5023142B2 publication Critical patent/JP5023142B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/06Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
    • G21K1/062Devices having a multilayer structure
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/06Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
    • G21K1/067Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators using surface reflection, e.g. grazing incidence mirrors, gratings
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K2201/00Arrangements for handling radiation or particles
    • G21K2201/06Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
    • G21K2201/061Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements characterised by a multilayer structure
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K2201/00Arrangements for handling radiation or particles
    • G21K2201/06Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
    • G21K2201/067Construction details
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K2201/00Arrangements for handling radiation or particles
    • G21K2201/06Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
    • G21K2201/068Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements specially adapted for particle beams

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

【課題】本発明はより高い中性子収率とより少ない散乱損失を提供する、より良い表面平坦度を有する中性子ガイドスーパーミラーを作り出すことを課題とする。
【解決手段】中性子反射層が真空吸引によって基面に固定され、この真空固定の過程で、キャリアプレートが中性子反射面とは反対の多層被覆板のもう一方側に接着されることにより、表面平坦度を有する中性子ガイドスーパーミラーを作り出す。
【選択図】なし

Description

本発明の主題は、多層中性子ガイドの側壁を構成する平面の製造方法である。この製造方法の過程において、公知の製造方法により製造される、好適には多層構造の、中性子反射めっきによって中性子を反射するのに適切なしかるべき材料が、特徴として10-5ラジアンよりも大きい、極端な平坦度の基面に固定される。それから、前記中性子反射薄板よりも著しく薄いキャリアプレートが中性子反射薄板の反対側、すなわち中性子反射層とは反対側に接着される。
現代の中性子物理の慣習において、散乱や吸収中性子の損失が少ないことを特徴とする効率的な中性子ガイドは、多層スーパーミラー面を備えている。散乱損失の明確な原因は、ガイド面の表面の平坦度が十分ではないことである。こうした特徴は、たとえば、K.Soyama、M.Suzuki、T.Hazawa、A.Moriai、N.Minakawa及びY.Ishii(319-1195 日本国茨城県那珂郡東海村、日本原子力研究所、中性子科学研究センター)の著者による、Physica B- Condensed Matter vol. 311. (2002) pp. 130.-137.に示されているイオン研磨法によって一様に改善されている。同様の製造方法の適用が、日本の京都大学原子炉の研究レポートに示されていた。この製造方法により、不十分な平坦度を示す、先に製造された中性子反射面の平坦度改善ようとしている。この中性子損失率の報告データは、イオン研磨処理されていない中性子ミラーをもって得られたデータよりも好意的ではあるが、結果として生じた表面の散乱特性は、イオン研磨法に多大なコストが掛かるにもかかわらず、最善からは程遠いものである。
本発明の目的は、より高い中性子収率とより少ない散乱損失を提供する、より良い表面平坦度を有する中性子ガイドスーパーミラーを作り出すことである。本発明のさらなる目的は、現在の中性子ガイド製品の製造コストに比べて中性子ガイドの製造コストを削減することである。
本発明の考えは、中性子反射層が真空吸引によって基面に固定され、この真空固定の過程で、キャリアプレートが中性子反射面とは反対の多層被覆板のもう一方側に接着される場合に、多層被覆面の内側にある基面と同様の平坦度の中性子反射面を開発するという発想に基づいているため、真空吸引により提供される非常に優れた表面平坦度は、接着剤の結合及び真空固定の除去が終わっても恒久的に維持される。
したがって、中性子ガイド平面の製造方法は、中性子反射面を有する第一プレートが同第一プレートよりもより厚いキャリアプレートに接着される過程において提供され、以下の工程が行われる:
−第一プレートを、同第一プレートの中性子反射面が基面に位置するように、少なくともほぼ10 -5 ラジアン程度の大きさの平坦度を有する基面上に置き、
−第一プレートを真空吸引により前記基面に付着させ、
−第一プレートが真空吸引により前記基面に付着する間に、キャリアプレートを前記中性子反射面とは反対の面の第一プレートに接着させる。
すなわち、本発明は次の(1)〜(7)に記載の製造方法等に関する。
(1)中性子反射面を有する第一プレートが前記第一プレートよりもより厚いキャリアプレートに接着される過程における中性子ガイド平面の製造方法であって、以下の工程:
前記第一プレートを、前記第一プレートの前記中性子反射面が基面に位置するように少なくともほぼ10-5ラジアン程度の大きさの平坦度を有する基面上に置き、
前記第一プレートを真空吸引により前記基面に付着させ、
−前記第一プレートが真空吸引により前記基面に付着する間に、前記キャリアプレートを前記中性子反射面とは反対の面において前記第一プレートに接着させること
を特徴とする方法。
(2)第一プレートが0.5〜6 mmの厚さを有し、前記キャリアプレートが10〜25 mmの厚さを有する請求項1に記載の製造方法。
(3)前記第一プレートを基面上に位置付け後、薄板の大きさにより決定される基縁に沿って形成されるリクライニング接触点によって、真空吸引を適用し、ひとたび第一プレートが真空吸引を介して基面に付着されると、このリクライニング接触点を除去する上記(1)または(2)に記載の製造方法。
(4)前記第一プレート上に置かれたキャリアプレートを接着剤の結合が行われる間にリクライニング面を介して基面に対して固定し、接着剤の結合が行われた後に、リクライニング接触点を元に戻すことによって接着されたプレートを基面から除去する上記(3)に記載の製造方法。
(5)前記中性子反射を担持する前記第一プレートの大部分がフロート/ボロフロートガラスであり、前記キャリアプレートの前記材料がフロート/ボロフロートガラスである上記(1)〜(4)のいずれかに記載の製造方法。
(6)前記中性子反射を担持する前記第一プレートの大部分がシリコンであり、前記キャリアプレートの材料がボークロンガラスである上記(1)〜(4)のいずれかに記載の製造方法。
(7)前記中性子反射を担持する前記第一プレートの大部分がフロート/ボロフロートガラスであり、前記キャリアプレートの材料がスチールである上記(1)〜(4)のいずれかに記載の製造方法。
本発明の製造方法により製造される中性子ガイドは、好適には、冷中性子源などの中性子源から適用部位への中性子ビーム輸送を利用する中性子物理の機器に適用され、少ないビーム損失により効率が良く、且つ放射線損傷や構造材料の活性化がないことによる向上した安全性を有する中性子輸送を提供する。
本発明の好適な実施の形態において、第一プレートは、基面上に位置付けた後、薄板の大きさにより決定される基縁に沿って形成されるリクライニング接触点によって、真空吸引を適用し、ひとたび第一プレートが真空吸引を介して基面に付着されると、このリクライニング接触点を除去する。
好適には、第一プレート上に置かれたキャリアプレートは、接着剤の結合が行われる間にリクライニング面を介して基面に対して固定され、接着剤の結合が行われた後に、接着されたプレートはリクライニング接触点を元に戻すことによって基面から除去される。
本製造方法の好適な実施形態において、その基面に対面する表面に反射(好適には多層被覆された)を有し、真空吸引によって基面に固定される第一プレートは、0.5〜6 mmの厚さを担持し、第一プレートの裏面に固定されるキャリアプレートは、10〜25 mmの厚さを有する。
本製造方法の別の好適な実施形態において、中性子反射を有する第一プレートの大部分は、フロート/ボロフロートガラスであり、キャリアプレートの材料は、フロート/ボロフロートガラスである。
本製造方法のさらに別の好適な実施形態において、中性子反射を担持する第一プレートの大部分は、シリコンであり、キャリアプレートの材料は、ボークロン(borkron)ガラスである。
さらにまた、本製造方法の別の好適な実施形態は、中性子反射を担持する第一プレートの大部分がフロート/ボロフロートガラスであり、キャリアプレートの材料がスチールである場合に提供される。
上述の目的によると、前記工程において、好適には多層被覆の形状である、中性子反射に適した層を担持する薄板が同薄板の厚さより非常に大きな厚さを有するキャリアプレートの表面に接着されているといった本発明の製造方法は、極度な平坦度を示す基面、好適には真空テーブルに、一般的にほぼ10 -5 ラジアン程度の大きさの平坦度を適用することによって達成され、薄い中性子反射板は、この基面上に置かれる。そのため、薄板の中性子反射面は、真空テーブルの表面に位置した状態であり、同薄板は、薄板の大きさにより決定される基縁に沿って形成されるリクライニング接触点を適用することによって基面上に位置付けられる。それから、同薄板は真空吸引によって基面に固定され、リクライニング接点は取り除かれ、中性子に対して低い吸収能を示し、入射中性子の存在下でその結合力を維持する固定薄板の上面に、接着剤が取り付けられる。そして、厚いキャリアプレートは、前記厚いプレートを前後に移動させて接着剤の均一分散をもたらすことによって薄板の上面に貼り付けられ、リクライニング点により厚いキャリアプレートが基面に固定され、接着剤の結合処理は、公知の適切に選択された結合促進の製造方法によって加速され、最後に、リクライニング点を元に戻すことによって基面から接着板が除去される。
本発明の製造方法の主な利点は、厚いキャリアプレートにより支持される中性子ガイドスーパーミラーの獲得された表面の平坦度が1.3×10-4ラジアンに比べてより良いことである。したがって、中性子ガイドに送られる中性子ビームの散乱損失は、支持されない中性子ガイドまたは他の製造方法により製造される中性子ガイドの散乱損失よりも極めて少ない。
多層被覆中性子プレート(スーパーミラー)の厚さは、適切な反射角に必要とされる多層構造の特性のためむしろ制限される。これらの薄板の剛性が低いことから、低い吸収作用及び散乱損失を提供するために必要な適切な平坦度はほとんど得られない。本発明の製造方法は、中性子反射層を有し、好適には多層構造として形成される薄い中性子ガイドプレートの表面に接着することによって厚いキャリアプレートを取り付ける工程を含む。
本発明のこの製造方法は、実施例として実験によって示され、厚いキャリアプレートが中性子反射面とは反対の面に取り付けられる一方、リクライニング接触点を備えた、大きな平坦度を有する適切に選択された基面、好適には真空テーブルの上に、薄い中性子ガイドプレートが真空吸引により付着される。したがって、薄い中性子ガイドプレートの反射面は基面の平坦度を引き上げ、接着により硬いキャリアプレートに取り付けられたこの時以降、恒久的にこの特性を維持する。
本発明の製造方法を、その実施例としての実験により説明する。
製造方法の目的は、スーパーミラー面を担持するボロフロートガラスの薄い中性子ガイドプレートをボロフロートガラスの厚いキャリアプレートに取り付けることである。公知の製造方法により、選択されたプレートのサイズをチェックし、平行な短辺を合わせてセットする。選択されたプレートの表裏面を、公知の洗浄方法、好適にはエタノールでの洗浄により脱脂する。適切なリクライニング接触点を、公知の製造方法により予め乾燥するまで清浄し、ほこりを取り除いた真空テーブルの表面に、ラッポーター(rapporters)及び磁気ソールによって形成する。接着される部分の外側に位置する接触点を、自己粘着性ホイルにより被覆する。スーパーミラー被覆面を担持する清浄された薄いガラスプレートを真空テーブルの上に置くため、そのスーパーミラー面がテーブル面に位置し、その周囲は、真空テーブル上に形成されるリクライニング接触点に傾斜する。このガラスは反対側から傾斜する。真空ポンプは、適切に機能しているかチェックされた後にスイッチを入れるため、薄いスーパーミラー担持プレートを真空テーブルに付着させる。真空固定の後に、リクライニング接触を除去する。中性子ガイドプレートを接着するのにその好適な特性により予め選択されたロックタイトUV349接着剤を、ガラス面上に、格子点の間隔が20 mmの格子の中に3 mmの小滴で均一にのせる。それから厚いキャリアガラスを接着面上に置く。この厚いキャリアガラスを、1〜2mmの量子により前後に移動させるため、接着剤は、均一に分散して、気泡の形成や接着剤の凝集が避けられる。厚いキャリアガラスを、磁気ソールによって傾斜させる。厚いキャリアガラスプレートが薄いガラスプレートに対して摺動し、または回転しないように、注意深くチェックする。厚いガラスプレートの位置をポジション計測器(position meter)によってチェックする。取り付けられたプレートは、接着剤の結合を促進するよう、30分間集中的にUVランプ(タイプF40BLB)照射する。結合時間が経過すると、リクライニングエレメントを取り外し、次いで、通気栓を開口することにより真空が変化するため、真空ポンプのオイル蒸気は、通気栓を介して排出され、スーパーミラーの表面を汚さない。接着された合わせの大きさを、摺動することにより潜在的に生じる不一致を特に注意して処理することで調整する。接着されたキャリア支持中性子ガイド(合わせガラス)の表面平坦度を、ウルブリヒト(Ulbricht)チャンバにおける単色光照射によりチェックする。ウォーミングアップのためにランプのスイッチを入れてから15分間待機後、合わせガラスを、スーパーミラー面を上向きにして、チャンバの底部の標準ガラス上に置く。この表面の無埃状態をチェックし、必要ならば塵粒を除去するために手動エアポンプを適用する。それぞれ、合わせのタイプ及び接着されたプレートの大きさに応じて、70 mmまたは300 mm径である標準ガラスを、ガラス表面に置く。線条分散の均質性を管理するスケールを用いて、多数の干渉線条(ニュートンリング)を測定する。この測定値を記録し、数値が満足できるものであれば、既製の認定製品を滑らかな濾紙で包み、次の利用のため水平に保管する。
本発明の製造方法により製造される中性子ガイドは、好適には、冷中性子源などの中性子源から適用部位への中性子ビーム輸送を利用する中性子物理の機器に適用され、少ないビーム損失により効率が良く、且つ放射線損傷や構造材料の活性化がないことによる向上した安全性を有する中性子輸送を提供する。

Claims (5)

  1. 中性子反射に適した層を有する、好適には多層被覆の形成における薄板が前記薄板よりも特により厚いキャリアプレートの表面上に接着される過程における低波状中性子ガイド平面の製造方法であって、
    前記中性子反射プレートを、前記薄板の前記中性子反射面が基面に位置するように,好適には真空テーブルの上にほぼ10-5ラジアン程度の大きさの極端な平坦度を示す基面上に置き、前記薄板を前記真空テーブルの面に置き、薄板のサイズによって決定された基端に沿って形成されるリクライニング接触点にあてはめ、薄板が真空吸引により基面上に固定されることによって、その基面上に位置づけ付着させ、そして、リクライニングポイントが除去され、接着剤が中性子の低い吸収キャパシティを示す固定された薄板の上面に取り付けられ、入射中性子の発現におけるその結合力を維持しており、それから、前記厚いキャリアプレートが前記厚いプレートの動きによって薄板の上表面に固着され、接着剤の均一な分散を提供し、厚いキャリアプレートが基面上に固定されるリクライニング接着点とその接着剤の結合プロセスが、結合促進における公知および承認できる選択された方法によって促進されることにより、最終的に接着されたプレートがリクライニング接着点を壊すことにより、基面から除去されることを特徴とする方法。
  2. その基面に対面する表面に反射面(好適には多層被覆された)を有し、真空吸引によって基面に固定される前記薄板が0.5〜6 mmの厚さを有し、薄い中性子反射プレートの裏面に固定される前記厚いキャリアプレートが10〜25 mmの厚さを有することを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
  3. 前記中性子反射面を担持する前記薄板の大部分がフロート/ボロフロートガラスであり、前記キャリアプレートの前記材料がフロート/ボロフロートガラスであることを特徴とする請求項1または2に記載の製造方法。
  4. 前記中性子反射面を担持する前記薄板の大部分がシリコンであり、前記キャリアプレートの材料がボークロンガラスであることを特徴とする請求項1または2に記載の製造方法。
  5. 前記中性子反射面を担持する前記薄板の大部分がフロート/ボロフロートガラスであり、前記キャリアプレートの材料がスチールであることを特徴とする請求項1または2に記載の製造方法。
JP2009505973A 2006-04-20 2007-04-19 低波状中性子ガイド平面の製造方法 Active JP5023142B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
HU0600313A HU227011B1 (en) 2006-04-20 2006-04-20 Method of manufacturing multi layers neutron guides
HUP0600313 2006-04-20
PCT/HU2007/000033 WO2007122433A1 (en) 2006-04-20 2007-04-19 Procedure for manufacturing a neutron-guiding flat surface of low waviness using a vacuum table

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009534645A true JP2009534645A (ja) 2009-09-24
JP5023142B2 JP5023142B2 (ja) 2012-09-12

Family

ID=89986717

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009505973A Active JP5023142B2 (ja) 2006-04-20 2007-04-19 低波状中性子ガイド平面の製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20100065202A1 (ja)
EP (1) EP2013884A1 (ja)
JP (1) JP5023142B2 (ja)
HU (1) HU227011B1 (ja)
WO (1) WO2007122433A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110927187B (zh) * 2019-10-24 2023-10-17 东莞材料基因高等理工研究院 一种中子传输多通道聚焦导管装置及中子衍射谱仪

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6323057A (ja) * 1986-06-09 1988-01-30 テラダイン・インコ−ポレ−テッド 柔軟性のあるリンク装置
JPS63142300A (ja) * 1986-12-05 1988-06-14 日本電気株式会社 集光ミラ−の加工方法
JPH08201591A (ja) * 1995-01-26 1996-08-09 Nikon Corp 反射用光学素子
JPH08201589A (ja) * 1995-01-26 1996-08-09 Nikon Corp X線分光素子
JPH08211198A (ja) * 1995-02-06 1996-08-20 Nikon Corp 中性子反射鏡
JPH08304835A (ja) * 1995-04-28 1996-11-22 Hitachi Electron Eng Co Ltd 貼り合わせ装置
JPH11151648A (ja) * 1997-11-19 1999-06-08 Canon Inc 光学素子保持方法および保持治具
JP2000199480A (ja) * 1998-12-25 2000-07-18 Kissei Pharmaceut Co Ltd 真空装置の安全機構
JP2001033593A (ja) * 1999-07-22 2001-02-09 Mitsubishi Pencil Co Ltd 中性子カーボンミラーおよびその製造方法
JP2002535663A (ja) * 1999-01-21 2002-10-22 エックス−レイ オプティカル システムズ,インク. 湾曲した光学装置及びその作製方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4790584A (en) * 1986-06-09 1988-12-13 Teradyne, Inc. Compliant link
US5082621A (en) * 1990-07-31 1992-01-21 Ovonic Synthetic Materials Company, Inc. Neutron reflecting supermirror structure
US5949840A (en) * 1998-11-25 1999-09-07 The Regents Of The University Of California Neutron guide
KR100493384B1 (ko) * 2002-11-07 2005-06-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자 제조 공정용 기판 합착 장치의 기판을로딩하기 위한 구조

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6323057A (ja) * 1986-06-09 1988-01-30 テラダイン・インコ−ポレ−テッド 柔軟性のあるリンク装置
JPS63142300A (ja) * 1986-12-05 1988-06-14 日本電気株式会社 集光ミラ−の加工方法
JPH08201591A (ja) * 1995-01-26 1996-08-09 Nikon Corp 反射用光学素子
JPH08201589A (ja) * 1995-01-26 1996-08-09 Nikon Corp X線分光素子
JPH08211198A (ja) * 1995-02-06 1996-08-20 Nikon Corp 中性子反射鏡
JPH08304835A (ja) * 1995-04-28 1996-11-22 Hitachi Electron Eng Co Ltd 貼り合わせ装置
JPH11151648A (ja) * 1997-11-19 1999-06-08 Canon Inc 光学素子保持方法および保持治具
JP2000199480A (ja) * 1998-12-25 2000-07-18 Kissei Pharmaceut Co Ltd 真空装置の安全機構
JP2002535663A (ja) * 1999-01-21 2002-10-22 エックス−レイ オプティカル システムズ,インク. 湾曲した光学装置及びその作製方法
JP2001033593A (ja) * 1999-07-22 2001-02-09 Mitsubishi Pencil Co Ltd 中性子カーボンミラーおよびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20100065202A1 (en) 2010-03-18
HU227011B1 (en) 2010-04-28
HU0600313D0 (en) 2006-06-28
HUP0600313A2 (en) 2007-10-29
JP5023142B2 (ja) 2012-09-12
WO2007122433A1 (en) 2007-11-01
EP2013884A1 (en) 2009-01-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI523142B (zh) 用以加熱用於晶圓支撐系統之轉換層的經光學地調諧金屬化的光
TWI282753B (en) Laminate body, method, and apparatus for manufacturing ultrathin substrate using the laminate body
JP6071041B2 (ja) シンチレータアレイの製造方法及び放射線検出器の製造方法
TW492096B (en) Polishing pad and polisher
WO2009028730A1 (ja) 液晶パネル及び液晶パネルの製造方法
JP5023142B2 (ja) 低波状中性子ガイド平面の製造方法
JP2008036798A (ja) 被加工物保持材およびその製造方法
JP6061621B2 (ja) 磁気ディスク基板の製造方法
TW201811708A (zh) 光學鍍膜的方法、裝置及產品
JP4277721B2 (ja) 光学ローパスフィルタの製造方法
TW202026149A (zh) 疊層膜、邊緣清洗裝置及經清洗之疊層膜的製造方法
TWI499814B (zh) 偏光板及其製造方法
JP5861451B2 (ja) 磁気記録媒体用ガラス基板の研磨方法、および、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法
WO2024012075A1 (zh) 一种抗刮拉丝膜及其装置、制备方法和应用
CN101685640A (zh) 磁盘用基板及磁盘
JPH09505905A (ja) 二酸化珪素結合層と方法
JP2014154589A (ja) 太陽光集光用反射鏡
JP6927536B2 (ja) ミラーおよびその製造方法
JP7022560B2 (ja) 接着シート処理方法および接着シート処理装置
CN112684526B (zh) 超光滑双波段反射镜及其制备方法
JP2014199348A (ja) フィルムミラー及びフィルムミラーの製造方法
JP2006351103A (ja) 光ディスクの製造装置
JPS5955418A (ja) 反射偏光板
JP5861452B2 (ja) 研磨キャリア、磁気記録媒体用ガラス基板の研磨方法、および、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP2011247825A (ja) 中性子ミラーの製造方法及び中性子ミラー

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100128

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120110

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20120406

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20120413

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120423

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120524

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120618

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5023142

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150622

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250