JP2009292658A - 多孔質ガラス母材の脱水焼結装置及びその排気制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 加熱炉3内の多孔質ガラス母材1に脱水やフッ素添加のためのプロセスガスを供給して加熱する多孔質ガラス母材1の脱水焼結装置100であって、加熱炉3内の排ガスを炉外に導く排気経路5が、空気中の水分等と反応して浮遊物質を生成するプロセスガスを流しているときの浮遊物質を含む排ガスを流す第1経路61と、浮遊物質を生成しないプロセスガスを流しているときの排ガス、又は設備待機中の排ガスを流す第2経路63と、の2系統で構成され、第1、第2経路61,63がプロセスガスに応じて開閉される構成を備える。
【選択図】 図1
Description
本発明は上記状況に鑑みてなされたもので、排気管詰まりを防止し、脱水プロセスガスの室内漏洩が生じない多孔質ガラス母材の脱水焼結装置及びその排気制御方法を提供し、もって、排気不良、品質不良、周辺設備の腐食を防止するとともに、排気管交換による稼働率低下の防止や、補修費の低減を図ることを目的とする。
(1) 加熱炉内の多孔質ガラス母材に脱水又はフッ素添加のためのプロセスガスを供給して加熱する多孔質ガラス母材の脱水焼結装置であって、
前記加熱炉内の排ガスを炉外に導く排気経路が、
空気中の水分と反応して浮遊物質を生成する前記プロセスガスを流しているときの該浮遊物質を含む排ガスを流す第1経路と、
前記浮遊物質を生成しない前記プロセスガスを流しているときの排ガス、又は設備待機中の排ガスを流す第2経路と、の2系統で構成され、
前記第2経路にのみ前記加熱炉内圧を調整する吸気路が接続され、
前記第1、第2経路が前記プロセスガスの種類に応じて開閉されることを特徴とする多孔質ガラス母材の脱水焼結装置。
さらに、吸気路の開閉にて第2経路へ導入する余剰空気量を制御し、排気経路下流に設けた吸引ファンの回転制御では行うことのできない、加熱炉内圧の微調整が可能となる。第1経路には吸気路を設けず、SiO2 への反応を防止しながら、加熱炉内圧の微調整が可能となる。
前記開閉弁と該洗浄塔との間に電気集塵機が介挿されたことを特徴とする(1)又は(2)に記載の多孔質ガラス母材の脱水焼結装置。
前記第1、第2経路を切替えるに際し、双方の経路で排気する状態が生じてから該切替えを行うことを特徴とする脱水焼結装置の排気制御方法。
前記加熱炉内圧が圧力目標値であると検知され、且つ前記第1経路に設けられた開閉弁が開検知されたときに前記加熱炉内に前記浮遊物質を生成するプロセスガスの供給を開始することを特徴とする脱水焼結装置の排気制御方法。
前記第1経路に設けられた開閉弁が開状態で該第1経路の排気圧が零近傍となったときに前記第2経路の開閉弁を開くことを特徴とする脱水焼結装置の排気制御方法。
前記第1、第2経路のそれぞれに設けられた開閉弁の弁開度が2.5%以上に制御されることを特徴とする脱水焼結装置の排気制御方法。
なお、本明細書中、「プロセスガス」、「雰囲気ガス」、「圧力調整ガス」、「シールガス」の区別は次のとおり定義する。「プロセスガス」:プロセス(処理)に使用するガス。SiCl4 ,SiF4 ,Cl2 など。「雰囲気ガス」:プロセスガスを含む、各処理中に流すガス。He,N2 などを含む。「圧力調整ガス」:雰囲気ガスのうち、炉内圧調整用として用いるガス。本実施の形態ではHe。「シールガス」:雰囲気ガスのうち、シール用として用いるガス。本実施の形態ではN2 。
図1は本発明に係る脱水焼結装置の構成図である。
本実施の形態による脱水焼結装置100は、脱水やフッ素添加のためのプロセスガスを供給してガラス微粒子堆積体(多孔質ガラス母材)1を加熱処理する加熱炉3と、加熱炉3内の排ガスを炉外に導く排気経路5の形成された排気装置7とを備える。
炉心管9上から上蓋23を外した状態で、多孔質ガラス母材1を吊り下げた支持棒19を昇降装置21に取り付け、多孔質ガラス母材1を炉心管9の上端開口部より炉心管9内に導入する。そして、炉心管9のうちヒータ11により昇温される部分の内側に多孔質ガラス母材1の下端部が位置するように多孔質ガラス母材1を配置する。次いで、上蓋23を炉心管9の上端に装着する。
3 加熱炉
5 排気経路
61 第1経路
63 第2経路
65,67 開閉弁
69 制御手段
77 洗浄塔
83 吸気路
85 電気集塵機
100 脱水焼結装置
Claims (7)
- 加熱炉内の多孔質ガラス母材に脱水又はフッ素添加のためのプロセスガスを供給して加熱する多孔質ガラス母材の脱水焼結装置であって、
前記加熱炉内の排ガスを炉外に導く排気経路が、
空気中の水分と反応して浮遊物質を生成する前記プロセスガスを流しているときの該浮遊物質を含む排ガスを流す第1経路と、
前記浮遊物質を生成しない前記プロセスガスを流しているときの排ガス、又は設備待機中の排ガスを流す第2経路と、の2系統で構成され、
前記第2経路にのみ前記加熱炉内圧を調整する吸気路が接続され、
前記第1、第2経路が前記プロセスガスの種類に応じて開閉されることを特徴とする多孔質ガラス母材の脱水焼結装置。 - 前記第1、第2経路のそれぞれに開閉弁が設けられ、前記加熱炉内圧に応じて該開閉弁の弁開度が制御されることを特徴とする請求項1に記載の多孔質ガラス母材の脱水焼結装置。
- 前記第1経路の下流に洗浄塔が接続され、
前記開閉弁と該洗浄塔との間に電気集塵機が介挿されたことを特徴とする請求項1又は2に記載の多孔質ガラス母材の脱水焼結装置。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の脱水焼結装置の排気制御方法であって、
前記第1、第2経路を切替えるに際し、双方の経路で排気する状態が生じてから該切替えを行うことを特徴とする脱水焼結装置の排気制御方法。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の脱水焼結装置の排気制御方法であって、
前記加熱炉内圧が目標値であると検知され、且つ前記第1経路に設けられた開閉弁が開検知されたときに前記加熱炉内に前記浮遊物質を生成するプロセスガスの供給を開始することを特徴とする脱水焼結装置の排気制御方法。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の脱水焼結装置の排気制御方法であって、
前記第1経路に設けられた開閉弁が開状態で該第1経路の排気圧が零近傍となったときに前記第2経路の開閉弁を開くことを特徴とする脱水焼結装置の排気制御方法。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の脱水焼結装置の排気制御方法であって、
前記第1、第2経路のそれぞれに設けられた開閉弁の弁開度が2.5%以上に制御されることを特徴とする脱水焼結装置の排気制御方法。
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