JP2009278138A - 塗布、現像装置及びその方法 - Google Patents
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract
【課題】基板に対してレジスト膜を形成し、露光後の基板を現像する装置において、現像処理を行うための処理ユニットや搬送機構のトラブルの発生に対してスループットの低下を抑えること。
【解決手段】処理ブロックS2に、3層の塗布膜形成用の単位ブロックB3〜B5と、2層の現像処理用の単位ブロックB1,B2とを互いに積層して設ける。前記現像処理用の単位ブロックB1、B2の各々には、現像用の液処理ユニット、加熱ユニット、冷却ユニット及びキャリアブロック側からインターフェイスブロック側に向かって水平に直線状に伸びる搬送領域に沿って移動するメインアームA1が設けられる。
【選択図】図3
Description
a)前記処理ブロックは、互いに積層された複数の塗布膜形成用の単位ブロックと、前記塗布膜形成用の単位ブロックに対して積層された現像処理用の単位ブロックと、を備え、
b)前記各単位ブロックは、薬液を基板に塗布するための液処理ユニットと、基板を加熱する加熱ユニットと、基板を冷却する冷却ユニットと、これらユニット間で基板を搬送する単位ブロック用の搬送手段と、を備え、
c)前記互いに積層された複数の塗布膜形成用の単位ブロックに設けられる液処理ユニットは、基板にレジスト液を塗布するための塗布ユニットと、レジスト液を塗布する前に基板に反射防止膜用の薬液を塗布するための第1の反射防止膜ユニットと、レジスト液を塗布した後に基板に反射防止膜用の薬液を塗布するための第2の反射防止膜ユニットとを含み、塗布膜形成用の単位ブロックでは、単位ブロック単位で、基板に対してレジスト膜を含む塗布膜の形成が行なわれることを特徴とする。
a)前記処理ブロックは、互いに積層された複数の塗布膜形成用の単位ブロックと、前記塗布膜形成用の単位ブロックに対して積層された現像処理用の単位ブロックと、を備え、
b)前記各単位ブロックは、薬液を基板に塗布するための液処理ユニットと、基板を加熱する加熱ユニットと、基板を冷却する冷却ユニットと、これらユニット間で基板を搬送する単位ブロック用の搬送手段と、を備え、
c)前記互いに積層された複数の塗布膜形成用の単位ブロックに設けられる液処理ユニットは、基板にレジスト液を塗布するための塗布ユニットと、レジスト液を塗布する前に基板に反射防止膜用の薬液を塗布するための第1の反射防止膜ユニットと、レジスト液を塗布した後に基板に反射防止膜用の薬液を塗布するための第2の反射防止膜ユニットとを含み、塗布膜形成用の単位ブロックでは、単位ブロック単位で、基板に対してレジスト膜を含む塗布膜の形成が行なわれることを特徴とする塗布、現像装置で行なわれる塗布、現像方法において、
前記塗布膜形成用の単位ブロックの一つに異常が発生したときに、当該異常が発生した塗布膜形成用の単位ブロックに対しては基板の搬送を行なわず、他の塗布膜形成用の単位ブロックに対しては基板の搬送を行なうことを特徴とする。
また第4の単位ブロックB4では、メインアームA4により、疎水化処理ユニット(ADH)→冷却ユニット(COL42)→塗布ユニット32→加熱ユニット(CHP42)の順序で搬送されて、ウエハWBの上にレジスト膜が形成される。次いでウエハWBは、冷却ユニット(COL43)→第2の反射防止膜ユニット33→加熱ユニット(CHP43)→周縁露光装置(WEE)→棚ユニットU2の第2の受け渡しステージTRS9の順序で搬送されて、レジスト膜の上に第2の反射防止膜が形成される。
以上において本発明では、現像処理用の単位ブロックB1,B2のみにウエハWを搬送して処理を行うようにしてもよい。また現像処理用の単位ブロックを1層としてもよいし、塗布膜形成用の単位ブロックを3層以外の複数層としてもよい。さらにまた本発明では、トランスファーアームCにてアクセスできるキャリアブロック用受け渡しステージは、トランスファーアームCと積層された単位ブロックの1つ以上の単位ブロックとの間でウエハWの受け渡しが行われるものであればよい。さらにまた棚ユニットU2,U5についてもインターフェイスアームEとの間でウエハWの受け渡しを行うための専用の第2の受け渡しステージTRSを設け、この第2の受け渡しステージTRSと第2の受け渡しアームD2とを介して各単位ブロックB1〜B5とインターフェイスブロックS2との間でウエハWの受け渡しを行なうようにしてもよい。
20 キャリア
S1 キャリアブロック
S2 処理ブロック
S3 インターフェイスブロック
S4 露光装置
S5 補助ブロック
A1〜A5 メインアーム
B1〜B5 単位ブロック
C トランファーアーム
D1 第1の受け渡しアーム
D2 第2の受け渡しアーム
E インターフェイスアーム
F 第3の受け渡しアーム
31 第1の反射防止膜形成ユニット
32 塗布ユニット
33 第2の反射防止膜形成ユニット
81 検査ユニット
82 洗浄ユニット
100 制御部
Claims (3)
- キャリアブロックにキャリアにより搬入された基板を処理ブロックに受け渡し、この処理ブロックにてレジスト膜を含む塗布膜を形成した後、当該処理ブロックに対してキャリアブロックとは反対側に接続されたインターフェイスブロックを介して露光装置に搬送し、前記インターフェイスブロックを介して戻ってきた露光後の基板を前記処理ブロックにて現像処理して前記キャリアブロックに受け渡す塗布、現像装置において、
a)前記処理ブロックは、互いに積層され、各々独立して露光後の基板の現像処理を行う第1の現像処理用の単位ブロック及び第2の現像処理用の単位ブロックを備え、
b)前記各単位ブロックは、前記キャリアブロック側からインターフェイスブロック側に向かって水平に直線状に伸びる基板の搬送領域と、現像液を基板に供給するための液処理ユニットと、基板を加熱する加熱ユニットと、基板を冷却する冷却ユニットと、これらユニット間で基板を搬送するために前記搬送領域に沿って移動するように単位ブロックごとに独立して設けられた単位ブロック用の搬送手段と、を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。 - 現像処理用の単位ブロックの一つに異常が発生したときに、当該異常が発生した現像処理用の単位ブロックに対しては基板の搬送を行なわず、他の現像処理用の単位ブロックに対しては基板の搬送を行なうように制御する制御部を備えたことを特徴とする請求項1記載の塗布、現像装置。
- 請求項1記載の塗布、現像装置において行われる塗布、現像方法において、
前記現像処理用の単位ブロックの一つに異常が発生したときに、当該異常が発生した現像処理用の単位ブロックに対しては基板の搬送を行なわず、他の現像処理用の単位ブロックに対しては基板の搬送を行なうことを特徴とする塗布、現像方法。
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