JP2009260342A - 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 光源(1)からの光で被照射面(M;W)を照明する照明光学系は、オプティカルインテグレータ(8)を有し、該オプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系(3,4,7,8)と、照明瞳の前側に隣接するパワーを持つ光学素子と照明瞳の後側に隣接するパワーを持つ光学素子との間の照明瞳空間に配置されると共に、照明瞳の一部の領域のみを通過する光または照明瞳の一部の領域のみを通過した光が入射する位置に配置され、光の入射角度に応じて変化する透過率特性を有する透過フィルター(9)とを備えている。
【選択図】 図1
Description
オプティカルインテグレータを有し、該オプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系と、
前記照明瞳の前側に隣接するパワーを持つ光学素子と前記照明瞳の後側に隣接するパワーを持つ光学素子との間の照明瞳空間に配置されると共に、前記照明瞳の一部の領域のみを通過する光または前記照明瞳の一部の領域のみを通過した光が入射する位置に配置され、光の入射角度に応じて変化する透過率特性を有する透過フィルターとを備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
3 回折光学素子
4 アフォーカルレンズ
6 第1補正フィルター
7 ズームレンズ
8 マイクロフライアイレンズ(オプティカルインテグレータ)
9 第2補正フィルター(透過フィルター)
10 コンデンサー光学系
11 マスクブラインド
12 結像光学系
M マスク
PL 投影光学系
AS 開口絞り
W ウェハ
Claims (10)
- 光源からの光で被照射面を照明する照明光学系において、
オプティカルインテグレータを有し、該オプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系と、
前記照明瞳の前側に隣接するパワーを持つ光学素子と前記照明瞳の後側に隣接するパワーを持つ光学素子との間の照明瞳空間に配置されると共に、前記照明瞳の一部の領域のみを通過する光または前記照明瞳の一部の領域のみを通過した光が入射する位置に配置され、光の入射角度に応じて変化する透過率特性を有する透過フィルターとを備えていることを特徴とする照明光学系。 - 前記透過フィルターは、光の入射角度が大きくなるにつれて透過率が減少する透過率特性を有することを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。
- 前記オプティカルインテグレータは、所定方向に沿って細長い矩形状の単位波面分割面を有し、
前記透過フィルターは、前記照明瞳において前記照明光学系の光軸を挟んで前記所定方向と直交する方向に間隔を隔てた一対の領域に対応して配置された一対の透過フィルター領域を有することを特徴とする請求項1または2に記載の照明光学系。 - 前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記被照射面上での照度分布または前記被照射面上に形成される照明領域の形状を変更する光量分布調整部をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記光量分布調整部は、前記透過フィルターによる前記被照射面上の光量分布への影響を補正することを特徴とする請求項5に記載の照明光学系。
- 所定のパターンを照明するための請求項1乃至6のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
- 前記所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系を備え、該投影光学系に対して前記所定のパターンおよび前記感光性基板を走査方向に沿って相対移動させて、前記所定のパターンを前記感光性基板へ投影露光することを特徴とする請求項7に記載の露光装置。
- 前記オプティカルインテグレータにおける前記所定方向は、前記走査方向と直交する方向に対応していることを特徴とする請求項8に記載の露光装置。
- 請求項7乃至9のいずれか1項に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009267400A (ja) * | 2008-04-29 | 2009-11-12 | Nikon Corp | 補正フィルター、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2009267390A (ja) * | 2008-04-29 | 2009-11-12 | Nikon Corp | オプティカルインテグレータ、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010073794A1 (ja) | 2008-12-24 | 2010-07-01 | 株式会社 ニコン | 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
US9575412B2 (en) * | 2014-03-31 | 2017-02-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method and system for reducing pole imbalance by adjusting exposure intensity |
CN112445074B (zh) * | 2019-08-29 | 2022-08-02 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种照明装置、曝光***及光刻设备 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05283317A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JPH07211617A (ja) * | 1994-01-25 | 1995-08-11 | Hitachi Ltd | パターン形成方法,マスク、及び投影露光装置 |
JP2001085315A (ja) * | 1999-09-16 | 2001-03-30 | Nikon Corp | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 |
JP2006019702A (ja) * | 2004-06-04 | 2006-01-19 | Canon Inc | 照明光学系及び露光装置 |
JP2009267400A (ja) * | 2008-04-29 | 2009-11-12 | Nikon Corp | 補正フィルター、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0536586A (ja) * | 1991-08-02 | 1993-02-12 | Canon Inc | 像投影方法及び該方法を用いた半導体デバイスの製造方法 |
JP4310816B2 (ja) * | 1997-03-14 | 2009-08-12 | 株式会社ニコン | 照明装置、投影露光装置、デバイスの製造方法、及び投影露光装置の調整方法 |
TW546699B (en) * | 2000-02-25 | 2003-08-11 | Nikon Corp | Exposure apparatus and exposure method capable of controlling illumination distribution |
JP3826047B2 (ja) * | 2002-02-13 | 2006-09-27 | キヤノン株式会社 | 露光装置、露光方法、及びそれを用いたデバイス製造方法 |
JP4324957B2 (ja) * | 2002-05-27 | 2009-09-02 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置および露光方法 |
TW200412617A (en) * | 2002-12-03 | 2004-07-16 | Nikon Corp | Optical illumination device, method for adjusting optical illumination device, exposure device and exposure method |
WO2005048326A1 (ja) * | 2003-11-13 | 2005-05-26 | Nikon Corporation | 可変スリット装置、照明装置、露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法 |
TWI366219B (en) * | 2004-02-06 | 2012-06-11 | Nikon Corp | Polarization changing device, optical illumination apparatus, light-exposure apparatus and light-exposure method |
US20050237623A1 (en) * | 2004-02-26 | 2005-10-27 | Damian Fiolka | Optical unit for an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus |
US7283209B2 (en) * | 2004-07-09 | 2007-10-16 | Carl Zeiss Smt Ag | Illumination system for microlithography |
JP4599936B2 (ja) * | 2004-08-17 | 2010-12-15 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、照明光学装置の調整方法、露光装置、および露光方法 |
TWI453795B (zh) * | 2005-01-21 | 2014-09-21 | 尼康股份有限公司 | 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法 |
DE102006013459A1 (de) * | 2006-03-23 | 2007-09-27 | Infineon Technologies Ag | Anordnung zur Übertragung von Strukturelementen einer Photomaske auf ein Substrat und Verfahren zur Übertragung von Strukturelementen einer Photomaske auf ein Substrat |
US7843549B2 (en) * | 2007-05-23 | 2010-11-30 | Asml Holding N.V. | Light attenuating filter for correcting field dependent ellipticity and uniformity |
-
2009
- 2009-02-13 US US12/371,166 patent/US20090257043A1/en not_active Abandoned
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- 2009-04-08 JP JP2009093951A patent/JP5541604B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05283317A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JPH07211617A (ja) * | 1994-01-25 | 1995-08-11 | Hitachi Ltd | パターン形成方法,マスク、及び投影露光装置 |
JP2001085315A (ja) * | 1999-09-16 | 2001-03-30 | Nikon Corp | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 |
JP2006019702A (ja) * | 2004-06-04 | 2006-01-19 | Canon Inc | 照明光学系及び露光装置 |
JP2009267400A (ja) * | 2008-04-29 | 2009-11-12 | Nikon Corp | 補正フィルター、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009267400A (ja) * | 2008-04-29 | 2009-11-12 | Nikon Corp | 補正フィルター、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2009267390A (ja) * | 2008-04-29 | 2009-11-12 | Nikon Corp | オプティカルインテグレータ、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5541604B2 (ja) | 2014-07-09 |
EP2265995A1 (en) | 2010-12-29 |
US20090257043A1 (en) | 2009-10-15 |
KR20100133429A (ko) | 2010-12-21 |
TW200951489A (en) | 2009-12-16 |
WO2009128332A1 (en) | 2009-10-22 |
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