JP2009194204A - 露光装置、露光システムおよびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1のパターンが形成されたパターン面を有するマスクを保持するマスク保持部と、第2パターンを有するパターン領域が形成されている基板を保持する基板保持部と、基板保持部に保持された基板のパターン領域あるいは第2パターンの歪みを計測するパターン歪み計測部と、パターン歪み計測部で計測したパターン領域あるいは第2パターンの歪みに応じて、歪みを補償する補正値を計算する補正値計算部と、補正値計算部が計算した補正値に基づき、マスクのパターン面の形状を制御する制御部とを備える。
【選択図】図7
Description
第1パターン186を第2パターン196に重ね合わせて露光する場合、既に基板190に形成された第2パターン196が、投影光学系140の収差の影響、あるいはマスク180と基板190との同期誤差に起因して歪んでいることがある。特に、この歪みは、パターンの線幅が細くなるにつれて無視できなくなる。
Claims (12)
- 第1パターンが形成されたパターン面を有するマスクを保持するマスク保持部と、
第2パターンが形成されたパターン領域を有する基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された前記基板の前記パターン領域あるいは前記第2パターンの歪みを計測するパターン歪み計測部と、
前記パターン歪み計測部で計測した前記パターン領域あるいは前記第2パターンの歪みに関する情報に基づき、前記マスクの前記パターン面の形状を制御する制御部と、
を備えた露光装置。 - 前記制御部は、前記パターン面を変形させる、
請求項1に記載の露光装置。 - 前記マスク保持部は、前記パターン面とは反対側の面を静電吸着することによって前記マスクを保持し、
前記制御部は、前記マスク保持部が前記マスクを静電吸着する吸着力を制御し、前記パターン面の異なる領域に対し互いに異なる力を加える、
請求項2に記載の露光装置。 - 前記マスクは、前記パターン面の異なる領域に対応して前記パターン面を変形させる駆動部を有し、
前記制御部は、前記マスクの前記駆動部に制御信号を送信して、前記異なる領域ごとの前記駆動部を個別に制御することにより、前記異なる領域ごとに前記パターン面の形状を制御する、
請求項2に記載の露光装置。 - 前記パターン歪み計測部で計測した前記パターン領域あるいは前記第2パターンの歪みに関する情報を記憶する記憶装置をさらに備え、
前記制御部は、前記記憶装置に記憶された前記歪みに関する情報に基づき、前記パターン面の形状を制御する、
請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記基板に形成されている複数のアライメントマークの位置を検出するアライメントマーク検出部と、
前記アライメントマーク検出部で計測した前記複数のアライメントマークの位置に基づいて、前記歪みに関する補正値を計算する補正値計算部と、をさらに備え、
前記記憶装置は、前記補正値計算部で計算された補正値を記憶する、
請求項5に記載の露光装置。 - 前記マスクは、反射型マスクであり、
前記反射型のマスクを照明する照明光学系と、
前記反射型マスクに形成されたパターンで反射した露光ビームを前記基板に導き、前記反射型マスク側が非テレセントリックである投影光学系とを備え、
前記制御部によって形状が制御された前記パターン面の前記第1パターンを前記投影光学系を介して前記基板に投影する請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の露光装置。 - 第1パターンが形成されたパターン面を有するマスクを保持するマスク保持部と、
第2パターンを有するパターン領域が形成されている基板を保持する基板保持部と、
前記マスクの前記パターン面の形状を制御する制御部とを備える露光装置と、
前記基板の前記パターン領域あるいは前記第2パターンの歪みを計測する歪み計測装置と、
前記歪み計測装置で計測した前記歪みに関する情報に基づき、前記マスク保持部が保持する前記マスクの前記パターン面の形状を制御する制御装置
を備える露光システム。 - 前記露光装置を複数備え、
前記歪み計測装置は、前記複数の露光装置において形成された前記パターン領域あるいは前記第2パターンの歪みをそれぞれ計測する
請求項8に記載の露光システム。 - 前記歪み計測装置で計測した前記歪みに関する情報から、前記露光装置ごとの歪み傾向を算出する歪み傾向算出装置と、
前記基板ごとの前記歪みに関する情報および前記露光装置ごとの前記歪み傾向を格納する格納装置と、
前記格納装置から、前記複数の露光装置のうち、前記基板に形成された前記パターン領域あるいは前記第2パターンの歪みに適合する露光装置を抽出する抽出装置と、
を備える請求項9に記載の露光システム。 - 前記露光装置のそれぞれの前記制御部は、前記露光装置のそれぞれに固有の歪みを補正するよう、それぞれの前記パターン面の形状を制御する、
請求項10に記載の露光システム。 - 第1パターンが形成されたパターン面を有するマスクを用意する段階と、
第2パターンを有するパターン領域が形成されている基板を用意する段階と、
前記基板の前記パターン領域あるいは前記第2パターンの歪みを計測する段階と、
前記パターン領域あるいは前記第2パターンの歪みに応じて、前記マスクの前記パターン面の形状を制御する段階と、
前記パターン面の形状を制御した状態で、前記基板の前記パターン領域に形成された前記第2パターン上に、前記第1パターンを露光する段階と、
を備えたデバイス製造方法。
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