JP2009134287A5 - - Google Patents

Claims (13)

1. 基板と、
   前記基板の一面側に設けられ、複数の凸部と複数の凹部とを有し、断面が矩形である回折構造部と、
   前記複数の凸部の上面、前記複数の凹部の上面、前記基板の他面、の少なくとも何れかが、前記複数の凸部の各々よりも小さい複数の微小凸部を含むグリッド部を含み、前記グリッド部が誘電体材料からなる、
   回折光学素子。
2. 基板と、
   前記基板の一面側に設けられ、周期的な曲面形状を有する複数の凸部と複数の凹部とを有する回折構造部と、
   前記複数の凸部の上面、前記複数の凹部の上面、前記基板の他面、の少なくとも何れかが、前記複数の凸部の各々よりも小さい複数の微小凸部を含むグリッド部を有する回折光学素子。
3. 前記グリッド部の前記複数の微小凸部の各々が一方向に延在する、
   請求項１又は２に記載の回折光学素子。
4. 前記回折構造部の前記複数の凸部の各々の延在方向と前記グリッド部の前記複数の微小凸部の各々の延在方向とが略平行である、
   請求項３に記載の回折光学素子。
5. 前記回折構造部の前記複数の凸部の各々の延在方向と前記グリッド部の前記複数の微小凸部の各々の延在方向とが交差する、
   請求項３に記載の回折光学素子。
6. 前記グリッド部の前記複数の微小凸部の各々が平面的に分布して配列される、
   請求項１又は２に記載の回折光学素子。
7. 前記グリッド部の深さが前記回折構造部の深さよりも浅い、
   請求項１又は２に記載の回折光学素子。
8. 前記回折構造部は、入射光を複数のビームに分岐する、
   請求項１乃至７のいずれか１項に記載の回折光学素子。
9. 請求項８に記載の回折光学素子にレーザー光を入射させて当該レーザー光を複数のビームに分岐し、当該複数のビームを対象体へ照射する、
   レーザー加工方法。
10. 基板と、前記基板の一面側に設けられ、複数の凸部と複数の凹部とを含む回折構造部と、前記複数の凸部の上面、前記複数の凹部の上面、前記基板の他面、の少なくとも何れかに誘電体材料を用いて形成され、前記複数の凸部の各々よりも小さい複数の微小凸部を含むグリッド部と、を有する回折光学素子の製造方法であって、
    前記基板上に前記複数の凸部を覆う感光膜を形成する工程と、
    屈折率が１より大きく前記感光膜の屈折率と同等かそれより低い値である液体が前記感光膜を覆うように配置する工程と、
    前記液体を挟んで、透明な平行平板を前記基板と対向配置する工程と、
    前記平行平板及び前記液体を介して前記感光膜を露光する工程と、
    前記液体及び前記平行平板を除去した後に前記感光膜を現像する工程と、
    前記感光膜のパターンをマスクとして前記基板をエッチングする工程と、
    を有する回折光学素子の製造方法。
11. 一面側に反射防止膜が形成された前記平行平板を用いる、請求項１０に記載の回折光学素子の製造方法。
12. 基板と、前記基板の一面側に設けられ、複数の凸部と複数の凹部とを含む回折構造部と、前記複数の凸部の上面、前記複数の凹部の上面、前記基板の他面、の少なくとも何れかに誘電体材料を用いて形成され、前記複数の凸部の各々よりも小さい複数の微小凸部を含むグリッド部と、を有する回折光学素子の製造方法であって、
    前記基板上に前記複数の凸部を覆う感光膜を形成する工程と、
    屈折率が１より大きく前記感光膜の屈折率と同等かそれより低い値である水溶性膜が前記感光膜を覆うように配置する工程と、
    前記水溶性膜を介して前記感光膜を露光する工程と、
    前記感光膜を現像する工程と、
    前記感光膜のパターンをマスクとして前記基板をエッチングする工程と、
    を有する回折光学素子の製造方法。
13. 前記水溶性膜を除去した後に前記感光膜を現像する工程を行う、請求項１２に記載の回折光学素子の製造方法。