JP2009084638A - Film forming apparatus and method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、成膜装置および成膜方法に関し、特に、対物レンズなど曲率半径の小さい小径レンズの表面に成膜する際に適用するに好適な成膜装置および成膜方法に関するものである。 The present invention relates to a film forming apparatus and a film forming method, and more particularly, to a film forming apparatus and a film forming method suitable for application when forming a film on the surface of a small-diameter lens having a small curvature radius such as an objective lens.
従来、レンズの表面に反射膜などを真空蒸着して成膜する際には、レンズの中心部と周辺部とで膜厚差が生じる事態を避けるべく、膜厚補正板で膜厚むらを制御する方法が一般に採用されている。そして、膜厚差が大きい場合には、レンズの外径と曲率から算出した係数別に蒸発源の配置を変えたり、同係数別の膜厚補正板を用いたりしていた(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、これらの方法では、レンズの外径および曲率に適用限界があり、特に曲率半径の小さい小径レンズについては、その中心部と周辺部との膜厚差を縮めることが困難である。その結果、レンズの中心部と周辺部とで反射率などの膜特性が異なったり、レンズの周辺部に膜剥がれが生じたりする恐れがあった。 However, these methods have application limits on the outer diameter and curvature of the lens, and it is difficult to reduce the film thickness difference between the central portion and the peripheral portion, particularly for small-diameter lenses having a small curvature radius. As a result, there is a possibility that film characteristics such as reflectance are different between the central part and the peripheral part of the lens, or film peeling occurs in the peripheral part of the lens.
本発明は、このような事情に鑑み、曲率半径の小さい小径レンズに対しても、均一な膜厚の膜を形成することが可能な成膜装置および成膜方法を提供することを目的とする。 In view of such circumstances, an object of the present invention is to provide a film forming apparatus and a film forming method capable of forming a film having a uniform film thickness even for a small-diameter lens having a small radius of curvature. .
本発明の第1の成膜装置は、ワーク(L)を回転自在に支持する1個以上のワーク支持手段(30)が真空槽(2)内に設けられ、前記ワーク支持手段に支持されたワークに成膜する成膜装置(1)であって、前記各ワーク支持手段は、前記ワークの中心軸の角度が個別に設定可能となっている成膜装置としたことを特徴とする。 In the first film forming apparatus of the present invention, one or more work support means (30) for rotatably supporting the work (L) is provided in the vacuum chamber (2) and supported by the work support means. A film forming apparatus (1) for forming a film on a work, wherein each work supporting means is a film forming apparatus in which an angle of a central axis of the work can be individually set.
本発明の第1の成膜方法は、ワーク(L)を自転させた状態で当該ワークに成膜する成膜工程を有する成膜方法であって、前記成膜工程に先立ち、ワークの中心軸の角度を当該ワークの曲率に応じて傾ける成膜方法としたことを特徴とする。 The first film forming method of the present invention is a film forming method including a film forming process for forming a film on the work while the work (L) is rotated, and prior to the film forming process, the center axis of the work The film forming method is characterized in that the angle is inclined according to the curvature of the workpiece.
なお、本発明をわかりやすく説明するため、実施例を表す図面の符号に対応づけて説明したが、本発明が実施例に限定されるものでないことは言うまでもない。 In addition, in order to explain the present invention in an easy-to-understand manner, the description has been made in association with the reference numerals of the drawings representing the embodiments, but it goes without saying that the present invention is not limited to the embodiments.
本発明によれば、ワーク支持手段ごとに回転軸の角度を設定できることから、曲率半径の小さい小径レンズに対しても、均一な膜厚の膜を形成することが可能な成膜装置および成膜方法を提供することができる。 According to the present invention, since the angle of the rotation axis can be set for each work supporting means, a film forming apparatus and a film forming apparatus capable of forming a film with a uniform film thickness even for a small-diameter lens having a small curvature radius A method can be provided.
以下、本発明の実施の形態について説明する。
[発明の実施の形態1]
Embodiments of the present invention will be described below.
図1乃至図6には、本発明の実施の形態1を示す。 1 to 6 show a first embodiment of the present invention.
まず、構成を説明する。 First, the configuration will be described.
真空蒸着装置1は、図1に示すように、円筒状の真空槽(チャンバ)2を有しており、真空槽2の側壁には排気口3が形成されている。また、真空槽2の底面内側の中央部には蒸発装置4が載置されており、この蒸発装置4は、坩堝(るつぼ)5、電子ビーム式の蒸発源6、シャッター7から構成されている。ここで、坩堝5は真空槽2の底面内側の中央部に載置されており、坩堝5の近傍には蒸発源6が設置されている。さらに、坩堝5の上方にはシャッター7が開閉自在に設けられている。なお、蒸発装置4の位置は、後述するレンズ支持部材30の軸心CT3の傾斜角度に対応して決定される。例えば、レンズ支持部材30の軸心CT3の傾斜角度が45°である場合、蒸発装置4は、このレンズ支持部材30に装着される半球レンズLの中心の下方45°の範囲内に配置される。
As shown in FIG. 1, the
また、真空槽2の天井面内側の中央部には、図1に示すように、円筒状の中心フレーム8が固着されており、中心フレーム8の内部空間には円柱状の膜厚制御センサ9が真空槽2の上方へ突出する形で埋め込まれている。また、中心フレーム8の周囲には、回転フレーム10が固着されている。この回転フレーム10は、図2および図3に示すように、八角筒状の筒体10aと、筒体10aの上端近傍に等角度間隔(45°間隔)で放射状に延設された8枚の上部片10bと、筒体10aの下端に等角度間隔(45°間隔)で放射状に延設された8枚の下部片10cとから一体に構成されている。
Further, as shown in FIG. 1, a
また、中心フレーム8の周囲には、図1および図2に示すように、駆動ベアリング12を介して駆動ギア13が軸心CT1を中心として回転自在に取り付けられている。なお、真空槽2の天井面外側には動力モーター15が設置されており、動力モーター15に通電することにより、駆動ギア13を回転させることができる。
Further, as shown in FIGS. 1 and 2, a
また、駆動ギア13には、図1および図2に示すように、8つの動力伝達機構20が、ベアリング24を介して回転フレーム10の上部片10bに、軸心CT2を中心として回転自在に支持された形で取り付けられている。各動力伝達機構20は、第1回転軸21、平歯車からなる第1中間ギア22、傘歯車(ベベルギア)からなる第2中間ギア23から構成されている。ここで、第1回転軸21は、図1に示すように、ベアリング24に嵌着されており、第1回転軸21の上端には第1中間ギア22が嵌着されて駆動ギア13に噛み合っている。一方、第1回転軸21の下端には、図1および図3に示すように、第2中間ギア23が着脱自在に嵌着されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, eight
また、動力伝達機構20の下側には、図1および図6に示すように、レンズ支持部材30が、自在軸受32を介して回転フレーム10の下部片10cに、軸心CT3を中心として回転自在に、かつ矢印A、B方向に揺動自在に支持された形で取り付けられている。レンズ支持部材30は、第2回転軸31、傘歯車(ベベルギア)からなる第3中間ギア33、レンズ保持具34から構成されている。また、自在軸受32は、図6に示すように、ベアリングボックス32a、ベアリング32bおよびスライド溝32cから構成されており、ベアリング32bはベアリングボックス32a内でスライド溝32cに沿って矢印M、N方向に揺動自在に支持されている。
As shown in FIGS. 1 and 6, the
ここで、第2回転軸31は、図1に示すように、ベアリング32bに嵌着されており、第2回転軸31の上端には、第3中間ギア33が着脱自在に嵌着されて第2中間ギア23に噛み合っている。一方、第2回転軸31の下端にはレンズ保持具34が取り付けられており、このレンズ保持具34は、図5に示すように、円錐筒状の上部ホルダ34a、リング状の下部ホルダ34b、複数個の止めねじ34c、ねじ山34dから構成されている。ここで、上部ホルダ34aに半球レンズLを装填し、この半球レンズLを下部ホルダ34bで押さえ込み、この下部ホルダ34bを止めねじ34cで上部ホルダ34aに止めつけることにより、レンズ保持具34に半球レンズLを保持することができる。また、ねじ山34dを第2回転軸31にねじ込むことにより、レンズ保持具34を第2回転軸31に固定することができる。
Here, as shown in FIG. 1, the second rotating
また、レンズ支持部材30の下方には、図1に示すように、ドーム台座40が真空槽2の側壁と中心フレーム8との間に水平に架け渡されて設置されている。ドーム台座40の上側にはリングドーム41が載置されており、リングドーム41には、レンズ保持具34に保持された半球レンズLを蒸発装置4側に露出させるための丸孔41aが形成されている。また、ドーム台座40の下方には膜厚補正板45が配置されている。
Also, below the
さらに、回転フレーム10の下部片10cとリングドーム41との間には、ヒーターパネル42が真空槽2の側壁と中心フレーム8との間に水平に架け渡されて設置されており、ヒーターパネル42上には断熱板43が貼設されている。
Further, between the
次に、作用について説明する。 Next, the operation will be described.
以上のような構成を有する真空蒸着装置1において、半球レンズLの表面に反射膜などの膜を真空蒸着して成膜する際には、次の手順による。
In the
まず、レンズ装着工程で、半球レンズLをレンズ保持具34に装着する。
First, in the lens mounting process, the hemispherical lens L is mounted on the
次に、レンズ傾斜工程に移行し、半球レンズLの曲率に応じてレンズ支持部材30の軸心CT3を傾ける。それには、図6に示すように、第2中間ギア23と第3中間ギア33との組み合わせを交換する。つまり、第2中間ギア23、第3中間ギア33のいずれか一方または双方を交換する。その結果、第2回転軸31、ひいてはレンズ支持部材30の軸心CT3が傾斜する。そして、これに伴って半球レンズLの中心軸も同じ角度だけ傾斜する。
Next, the process proceeds to the lens tilting step, and the axis CT3 of the
なお、第2中間ギア23と第3中間ギア33との組み合わせの交換により、蒸発装置4から半球レンズLまでの距離が大きく変わる場合は、第2中間ギア23を第1回転軸21の軸心方向(矢印C、D方向)に、第3中間ギア33を第2回転軸31の軸心方向(矢印E、F方向)に適宜移動させ、また、必要に応じて第2回転軸31を交換することにより、蒸発装置4から半球レンズLまでの距離があまり変わらないようにする。
In addition, when the distance from the evaporator 4 to the hemispherical lens L greatly changes due to the exchange of the combination of the second
こうして半球レンズLの曲率に応じてレンズ支持部材30の軸心CT3が傾いたところで、レンズ回転工程に移行し、レンズ支持部材30を所定の回転速度(例えば、15.6rpm)で自転させる。それには、動力モーター15に通電して駆動ギア13を回転させる。すると、それに伴って動力伝達機構20が軸心CT2を中心として回転するため、レンズ支持部材30、ひいては半球レンズLが軸心CT3を中心として自転する。
Thus, when the axial center CT3 of the
次に、雰囲気調整工程に移行し、真空槽2内を蒸着雰囲気にする。それには、排気口3から吸引することにより、真空槽2内を所定の真空度(例えば、1.33×10-2Pa)に達するまで排気する。また、ヒーターパネル42に通電して真空槽2内を加熱する。
Next, it transfers to an atmosphere adjustment process and makes the inside of the
こうして真空槽2内が蒸着雰囲気になったところで、成膜工程に移行し、蒸発源6から坩堝5内に膜材料を移し、電子ビームによって膜材料を加熱した後、シャッター7を開ける。すると、坩堝5から膜材料が蒸発し、真空槽2内を上方へ拡散した後、半球レンズLの表面に衝突して付着する。その結果、半球レンズLの表面に膜(単層膜)が形成される。
Thus, when the inside of the
このとき、半球レンズLは自転しているため、半球レンズLの表面に形成される膜は半球レンズLの周方向において均一となる。 At this time, since the hemispherical lens L rotates, the film formed on the surface of the hemispherical lens L is uniform in the circumferential direction of the hemispherical lens L.
また、レンズ支持部材30の軸心CT3は半球レンズLの曲率に応じて傾斜しているので、たとえ半球レンズLの曲率半径が小さくても、半球レンズLの中心部と周辺部とで膜厚差が生じる事態は発生せず、半球レンズLの表面に形成される膜は半球レンズLの半径方向においても均一となる。したがって、半球レンズLの中心部と周辺部とで反射率などの膜特性が異なったり、半球レンズLの周辺部に膜剥がれが生じたりする恐れはない。
Further, since the axial center CT3 of the
そして、半球レンズLの表面に形成される膜の膜厚は膜厚制御センサ9によって検出され、所定膜厚の膜が形成された時点で、この成膜工程を終わらせる。ここで、真空蒸着装置1による半球レンズLの成膜作業が終了する。
Then, the film thickness of the film formed on the surface of the hemispherical lens L is detected by the film
この実施の形態1によれば、真空槽2内にヒーターパネル42が設置されているため、真空槽2内を均熱化し、半球レンズLの成膜作業を効率よく進めることができる。
According to the first embodiment, since the
しかも、このヒーターパネル42の上側には断熱板43が設けられているため、ヒーターパネル42の熱が回転フレーム10の下部片10cより上側に伝わって各種の不具合(動力伝達機構20の伝達ロスの増大その他)を惹起する心配はない。
[発明の実施の形態2]
Moreover, since the
[
図7には、本発明の実施の形態2を示す。 FIG. 7 shows a second embodiment of the present invention.
まず、構成を説明する。 First, the configuration will be described.
真空蒸着装置1は、図7に示すように、円筒状の真空槽2を有しており、真空槽2の側壁には排気口3が形成されている。また、真空槽2の底面内側の中央部には蒸発装置4が載置されており、この蒸発装置4は、坩堝5、抵抗加熱式の蒸発源6、シャッター7から構成されている。ここで、坩堝5は真空槽2の底面内側の中央部に載置されており、坩堝5の近傍には蒸発源6が設置されている。さらに、坩堝5の上方にはシャッター7が開閉自在に設けられている。
As shown in FIG. 7, the
また、真空槽2の天井面内側の中央部には、図7に示すように、円筒状の中心フレーム8が軸心CT4を中心として回転自在に取り付けられており、動力モーター(図示せず)に通電することにより、中心フレーム8を回転させることができる。また、中心フレーム8の内部空間には円柱状の膜厚制御センサ9が真空槽2の上方へ突出する形で埋め込まれており、中心フレーム8の外周にはドーム台座40が水平に設置されている。ドーム台座40の上側にはリングドーム41が載置されており、リングドーム41には、後述するレンズ保持具34に保持された半球レンズLを蒸発装置4側に露出させるための丸孔41aが形成されている。また、リングドーム41の外周にはリング状のリング支持台48が付設されており、リング支持台48の下方にはリング状のボール受け台46が、真空槽2の側壁内側に固定された形で配設されている。そして、これらのリング支持台48、ボール受け台46間には、多数個のセラミックボール47が円周上に配置されて転動自在に介在している。さらに、リング支持台48の上側には公転ギアリング49が、軸心CT4を中心として回転自在に、かつ着脱自在に取り付けられている。
Further, as shown in FIG. 7, a
また、真空槽2の側壁外側には、図7に示すように、動力モーター15が取り付けられており、動力モーター15の回転軸には駆動ギア13が嵌着されている。駆動ギア13には動力伝達機構20が、軸心CT5を中心として回転自在に支持された形で取り付けられており、動力伝達機構20は、第1回転軸21、平歯車からなる第1中間ギア22、平歯車からなる第2中間ギア23から構成されている。ここで、第1回転軸21の上端には第1中間ギア22が嵌着されて駆動ギア13に噛み合っている。一方、第1回転軸21の下端には第2中間ギア23が嵌着されて公転ギアリング49に噛み合っている。
Further, as shown in FIG. 7, a
また、公転ギアリング49には、図7に示すように、レンズ支持部材30が、自在軸受32を介してリングドーム41に、軸心CT6を中心として回転自在に、かつ揺動自在に支持された形で取り付けられている。レンズ支持部材30は、第2回転軸31、傘歯車からなる第3中間ギア33、レンズ保持具34から構成されている。また、自在軸受32の構造は、上述した実施の形態1と同様である。
Further, as shown in FIG. 7, the
ここで、第2回転軸31の上端には、図7に示すように、第3中間ギア33が着脱自在に嵌着されて公転ギアリング49に噛み合っている。一方、第2回転軸31の下端にはレンズ保持具34が取り付けられている。このレンズ保持具34の構造は、上述した実施の形態1と同様である。
Here, as shown in FIG. 7, the third
さらに、リングドーム41の上方には、ヒーターパネル42が設置されている。
Further, a
次に、作用について説明する。 Next, the operation will be described.
以上のような構成を有する真空蒸着装置1において、曲率半径5〜30mm程度の小径の半球レンズLの表面に反射膜などの膜を真空蒸着して成膜する際には、次の手順による。
In the
まず、レンズ装着工程で、半球レンズLをレンズ保持具34に装着する。
First, in the lens mounting process, the hemispherical lens L is mounted on the
次に、レンズ傾斜工程に移行し、半球レンズLの曲率に応じてレンズ支持部材30の軸心CT6を傾ける。それには、公転ギアリング49と第3中間ギア33との組み合わせを交換する。その結果、第2回転軸31、ひいてはレンズ支持部材30の軸心CT6が傾斜する。そして、これに伴って半球レンズLの中心軸も同じ角度だけ傾斜する。
Next, the process proceeds to a lens tilting process, and the axis CT6 of the
ここで、半球レンズLの曲率と軸心CT6の傾斜角との関係は、上述した実施の形態1と同様である。 Here, the relationship between the curvature of the hemispherical lens L and the inclination angle of the axis CT6 is the same as in the first embodiment.
こうして半球レンズLの曲率に応じてレンズ支持部材30の軸心CT6が傾いたところで、レンズ公転工程に移行し、レンズ支持部材30を所定の回転速度(例えば、6rpm)で公転させる。それには、中心フレーム8を回転させる。すると、それに伴ってリングドーム41およびリング支持台48が軸心CT4を中心として回転するため、レンズ支持部材30、ひいては半球レンズLが軸心CT4を中心として公転する。
When the axial center CT6 of the
続いて、レンズ自転工程に移行し、レンズ支持部材30を所定の回転速度(例えば、15.6rpm)で自転させる。それには、動力モーター15に通電して駆動ギア13を回転させる。すると、それに伴って動力伝達機構20が軸心CT5を中心として回転するため、レンズ支持部材30、ひいては半球レンズLが軸心CT6を中心として自転する。
Subsequently, the process proceeds to a lens rotation process, and the
これにより、半球レンズLは、軸心CT4を中心として公転しつつ、軸心CT6を中心として自転した状態となる。 As a result, the hemispherical lens L revolves around the axis CT4 and rotates around the axis CT6.
次に、雰囲気調整工程に移行し、上述した実施の形態1と同様の手順により、真空槽2内を蒸着雰囲気にする。
Next, the process proceeds to an atmosphere adjustment step, and the inside of the
こうして真空槽2内が蒸着雰囲気になったところで、成膜工程に移行し、蒸発源6から坩堝5内に膜材料を移し、抵抗加熱によって膜材料を加熱した後、シャッター7を開ける。すると、坩堝5から膜材料が蒸発し、真空槽2内を上方へ拡散した後、半球レンズLの表面に衝突して付着する。その結果、半球レンズLの表面に膜(単層膜)が形成される。
Thus, when the inside of the
このとき、半球レンズLは自転しているため、半球レンズLの表面に形成される膜は半球レンズLの周方向において均一となる。 At this time, since the hemispherical lens L rotates, the film formed on the surface of the hemispherical lens L is uniform in the circumferential direction of the hemispherical lens L.
また、レンズ支持部材30の軸心CT6は半球レンズLの曲率に応じて傾斜しているので、たとえ半球レンズLの曲率半径が小さくても、半球レンズLの中心部と周辺部とで膜厚差が生じる事態は発生せず、半球レンズLの表面に成膜される膜は半球レンズLの半径方向においても均一となる。したがって、半球レンズLの中心部と周辺部とで反射率などの膜特性が異なったり、半球レンズLの周辺部に膜剥がれが生じたりする恐れはない。
Further, since the axial center CT6 of the
さらに、半球レンズLは公転しているため、真空槽2内において膜材料に拡散むらがあったとしても、半球レンズLの膜厚を均一化することができる。
Furthermore, since the hemispherical lens L revolves, even if there is uneven diffusion of the film material in the
そして、半球レンズLの表面に形成される膜の膜厚は膜厚制御センサ9によって検出され、所定膜厚の膜が形成された時点で、この成膜工程を終わらせる。ここで、真空蒸着装置1による半球レンズLの成膜作業が終了する。
Then, the film thickness of the film formed on the surface of the hemispherical lens L is detected by the film
この実施の形態2によれば、真空槽2内にヒーターパネル42が設置されているため、真空槽2内を均熱化し、半球レンズLの成膜作業を効率よく進めることができる。
According to the second embodiment, since the
また、第1中間ギア22は真空槽2の外部にあり、第2中間ギア23は真空槽2の内部にあるため、動力モーター15を真空槽2内に設ける必要がなくなる。したがって、動力モーター15に耐真空性が不要となり、汎用の動力モーター15を用いることができ、経済性に優れる。
Further, since the first
さらに、リング支持台48は、転動自在のセラミックボール47を介してボール受け台46上に支持されているので、レンズ公転工程において、レンズ支持部材30の公転動作は円滑に行われる。
[発明のその他の実施の形態]
Further, since the
[Other Embodiments of the Invention]
なお、上述した実施の形態1、2では、1個のレンズ支持部材30を有する真空蒸着装置1について説明したが、駆動ギア13の軸心CT1、中心フレーム8の軸心CT4を中心とする円周上に複数個(2個以上)のレンズ支持部材30を等角度間隔で配設してもよい。レンズ支持部材30が複数個である場合、複数個の半球レンズLに同時に成膜することができるため、レンズ支持部材30が1個である場合と比べて作業効率を大幅に向上させることが可能となる。
In the first and second embodiments described above, the
また、上述した実施の形態1、2では、レンズ支持部材30の軸心CT3、CT6を傾けることにより、レンズ保持具34に保持された半球レンズLを傾斜させる場合について説明した。しかし、レンズ保持具34に対する半球レンズLの保持角度を変更することにより、半球レンズLの中心軸を傾斜させることも可能である。要するに、複数個のレンズ支持部材30において、半球レンズLの中心軸の角度が個別に設定可能となっていればよい。
In the first and second embodiments, the case where the hemispherical lens L held by the
また、上述した実施の形態1、2では、成膜工程に先立って半球レンズLの中心軸を傾ける場合について説明した。しかし、第3中間ギア33として偏芯ギアを採用することにより、成膜工程において(成膜作業中に)、レンズ支持部材30の自転に連動させて半球レンズLの中心軸の傾斜角度を周期的に変更することもできる。
In the first and second embodiments, the case where the central axis of the hemispherical lens L is tilted prior to the film forming process has been described. However, by adopting an eccentric gear as the third
また、上述した実施の形態1、2では、半球レンズLに成膜する場合について説明したが、半球レンズL以外のレンズ(例えば、ボールレンズ、平凸レンズ、両凸レンズ、平凹レンズ、両凹レンズ、円錐レンズなど)に成膜する場合にも同様に適用可能である。さらに、レンズ以外のワーク(例えば、方物面鏡、楕円鏡、プリズム、ペンタプリズム、ピラミッドプリズムなど)に成膜する場合にも同様に適用可能である。 In the first and second embodiments described above, the film is formed on the hemispherical lens L. However, lenses other than the hemispherical lens L (for example, ball lenses, planoconvex lenses, biconvex lenses, planoconcave lenses, biconcave lenses, cones). The same applies to the case of forming a film on a lens or the like. Furthermore, the present invention can be similarly applied to a case where a film is formed on a work other than a lens (for example, a rectangular mirror, an elliptical mirror, a prism, a pentaprism, a pyramid prism, etc.).
さらに、上述した実施の形態1、2では、それぞれ電子ビーム式、抵抗加熱式の蒸発源6を備えた真空蒸着装置1について説明したが、蒸発源6の加熱溶解方式は、電子ビーム式や抵抗加熱式に限るわけではなく、高周波誘導式、レーザー式など種々の方式を採用することができる。
Further, in the first and second embodiments described above, the
また、上述した実施の形態1、2では、成膜装置として真空蒸着装置1を取り上げて説明したが、真空蒸着装置1以外の成膜装置(例えば、スパッタ装置など)にも同様に適用可能である。
In the first and second embodiments described above, the vacuum
また、上述した実施の形態1、2では、半球レンズLに単層膜を形成する場合について説明したが、単層膜のみならず多層膜を形成する場合にも同様に適用可能である。多層膜を形成する場合、膜厚むらが積み重なるため、ますます本発明の有用性が増大することになる。 In the first and second embodiments described above, the case where the single layer film is formed on the hemispherical lens L has been described. However, the present invention can be similarly applied to the case where a multilayer film is formed as well as the single layer film. In the case of forming a multilayer film, since the film thickness unevenness is accumulated, the usefulness of the present invention is further increased.
また、上述した実施の形態1、2では、第1回転軸21、第1中間ギア22、第2中間ギア23からなる動力伝達機構20を用いる場合について説明したが、この動力伝達機構20として、別の機構(例えば、遊星歯車機構など)を代用することもできる。
In the first and second embodiments described above, the case where the
さらにまた、上述した実施の形態2では、真空槽2内でレンズ支持部材30を公転させる場合について説明したが、レンズ支持部材30を公転させる代わりに蒸発装置4を自転させても構わない。つまり、蒸発装置4に対してレンズ支持部材30を相対的に公転させればよい。そして、蒸発装置4を自転させる場合は、レンズ支持部材30を公転させる場合と比べて駆動エネルギーが少なくて済むので、省エネ性に優れる利点がある。
Furthermore, in the second embodiment described above, the case where the
本発明は、特に他品種少量生産のレンズなどの光学素子に対する成膜に向いている。 The present invention is particularly suitable for forming a film on an optical element such as a lens produced in a small amount of other types.
1……真空蒸着装置(成膜装置)
2……真空槽
3……排気口
4……蒸発装置
5……坩堝
6……蒸発源
7……シャッター
8……中心フレーム
9……膜厚制御センサ
10……回転フレーム
10a……筒体
10b……上部片
10c……下部片
12……駆動ベアリング
13……駆動ギア
15……動力モーター
20……動力伝達機構
21……第1回転軸
22……第1中間ギア
23……第2中間ギア
24……ベアリング
30……レンズ支持部材(ワーク支持手段)
31……第2回転軸
32……自在軸受
32a……ベアリングボックス
32b……ベアリング
32c……スライド溝
33……第3中間ギア
34……レンズ保持具
34a……上部ホルダ
34b……下部ホルダ
34c……止めねじ
34d……ねじ山
40……ドーム台座
41……リングドーム
41a……丸孔
42……ヒーターパネル
43……断熱板
45……膜厚補正板
46……ボール受け台
47……セラミックボール
48……リング支持台
49……公転ギアリング
CT1、CT2、CT3、CT4、CT5、CT6……軸心
L……半球レンズ(ワーク)
1 ... Vacuum deposition equipment (film deposition equipment)
2 ...
31 ……
Claims (6)
前記各ワーク支持手段は、前記ワークの中心軸の角度が個別に設定可能となっていることを特徴とする成膜装置。 One or more work supporting means for rotatably supporting a work is provided in a vacuum chamber, and a film forming apparatus for forming a film on the work supported by the work supporting means,
Each of the workpiece support means is capable of individually setting the angle of the central axis of the workpiece.
前記成膜工程に先立ち、ワークの中心軸の角度を当該ワークの曲率に応じて傾けることを特徴とする成膜方法。 A film forming method including a film forming process for forming a film on the work while the work is rotated,
Prior to the film forming step, the film forming method is characterized in that the angle of the central axis of the work is inclined according to the curvature of the work.
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JP2007255734A JP2009084638A (en) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | Film forming apparatus and method |
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Cited By (2)
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WO2016052239A1 (en) * | 2014-09-29 | 2016-04-07 | 株式会社アルバック | Film deposition system |
JP6019310B1 (en) * | 2015-04-16 | 2016-11-02 | ナルックス株式会社 | Vapor deposition apparatus and manufacturing method including film forming process by vapor deposition apparatus |
-
2007
- 2007-09-28 JP JP2007255734A patent/JP2009084638A/en active Pending
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CN105525270A (en) * | 2014-09-29 | 2016-04-27 | 株式会社爱发科 | Film forming device |
JP6019310B1 (en) * | 2015-04-16 | 2016-11-02 | ナルックス株式会社 | Vapor deposition apparatus and manufacturing method including film forming process by vapor deposition apparatus |
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