JP2008541393A - カソードバスバーを有する上面発光型発光装置 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図6
Description
導電性
装置の電子発光層のLUMOへの効率的な電子注入のための低仕事関数の電子輸送層(もし、存在するなら)
しかしながら、非常に薄い厚さで透明な導電性材料は非常に少ない。1つのそのような材料はインジウム錫酸化物(ITO)であり、公知文献に開示された透明カソードの例としては、Appl.Phys.Lett68,2606,1996に開示されたMgAg/ITOおよびJ.Appl.Phys.87,3080,2000に開示されたCa/ITOが挙げられる。
基板上に形成されたアノード、
ウェルを規定する層であって、前記ウェルを規定する層の厚さは蒸発マスクのスペーサーとして機能するには不十分な層、
前記複数の画素を形成するために前記ウェルを規定する層の各ウェル中の前記アノード上に形成される有機半導体層、
前記ウェルを規定する層の上面上に形成された金属層、および
前記ウェルを規定する層の上面上の電子発光層と金属層の上に蒸着されるように蒸着された透明カソード層を含む。
(a)電子発光層に接触して透明になるほど十分に薄い低仕事関数金属。好ましい低仕事関数金属は3.5eV以下、好ましくは3.2eV以下、最も好ましくは3.0eV以下の仕事関数を有する。この範囲の仕事関数を有するアルカリ土類金属、特に、バリウムまたはカルシウムが特に好ましい。この低仕事関数材料は、電子発光層に対して何ら損傷を与えない熱的または電子ビーム蒸発のような相対的に低エネルギーのプロセスによって蒸着される。
(b)薄い金属層でキャップ化された誘電体材料の薄い層。好ましい誘電体材料は、金属酸化物またはフッ化物、好ましくはフッ化物である。好ましい金属カチオンはアルカリまたはアルカリ土類金属である。特に好ましくは、リチウム、ナトリウム、カルシウムおよびバリウムのフッ化物である。透明性を保持する限り、任意の薄い金属層、例えば、アルミニウムが前記誘電体層をキャップ化する機能を果たす。
ある。
(a)基板上にアノードを蒸着する工程、
(b)パターン化される絶縁層を蒸着する工程であって、前記パターン化される絶縁層の厚さは、工程(a)で蒸着されるアノード層上で、蒸発マスクのためのスペーサーとして機能するに十分な厚さである工程、
(c)工程(b)で形成されるパターン化される絶縁層の上面上に金属層を蒸着する工程、
(d)パターン化される絶縁層から形成されるウェルの望ましいパターンを有するウェルを規定する層、および前記ウェルをきて規定する層の上面にパターン化された金属層を形成するために、工程(c)で蒸着された金属層およびパター化される絶縁層をパターン化する工程、
(e)インクジェット印刷法によって工程(d)で形成された各ウェル中のアノード層の上に有機電子発光層を蒸着して複数の画素を形成する工程、および
(f)前記ウェルを規定するフォトレジストの上面上の電子発光層と金属層の上に透明カソード層を蒸着する工程。
2 ウェルを規定するレジスト層
3 金属層
4 パターン形成レジスト層
5 パターン化されたレジスト層
6 パターン化された金属層
7 ウェルを規定するレジスト層
8 電子発光材料
9 透明カソード
102 基板
104 アノード層
106 正孔輸送層
108 電子発光層
110 カソード層
111 金属缶
112 バンク
113 接着剤
118 電池
152 電子発光画素
154 接続線
158 アノード線
Claims (37)
- 複数の画素を有する上面発光ディスプレイ装置であって、前記装置は、
基板上に形成されたアノード、
ウェルを規定する層であって、前記ウェルを規定する層の厚さは蒸発マスクのスペーサーとして機能するには不十分な厚さである層、
前記複数の画素を形成するために前記ウェルを規定する層の各ウェル内のアノード上に形成された有機電子発光層、
電子発光層および前記ウェルを規定する層の上部表面上の金属層の両者の上に形成されるように蒸着された透明カソード層から構成され、
前記金属層および前記ウェルを規定する層は自己規定され、前記金属層は前記ウェルを規定する層のパターニングに使用されたマスクと同じマスクからパターニングされることを特徴とする上面発光ディスプレイ装置。 - 前記有機電子発光層はインクジェット印刷によって蒸着されたパターン化された層である請求項1に記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記ウェルを規定する層の上面上の金属はアルミニウムおよびクロムから選択される請求項1に記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記ウェルを規定する層の上面上の金属は熱蒸発によって蒸着される請求項1ないし3のいずれかに記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記ウェルを規定する層の上面上の金属層の厚さは0.1〜1μmである請求項1ないし4のいずれかに記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記ウェルを規定する層は適切なフォトマスクを使用してパターン化されたフォトレジストまたはパターン化されたエッチング可能な材料からウェルを規定する層を形成する湿式または乾式エッチングプロセスによって形成される請求項1ないし5のいずれかに記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記ウェルを規定する層はフォトレジストから形成される請求項6に記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記透明カソードは、少なくとも部分的に光が透過する通路を与える低仕事関数の導電性材料を含む請求項1ないし7のいずれかに記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記透明カソードは、少なくとも20%の光透過性を有する請求項8に記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記透明カソードは、少なくとも50%の光透過性を有する請求項8に記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記透明カソードは、少なくとも60%の光透過性を有する請求項8に記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記透明カソードは、電子発光層に接触して透明となるに十分な薄い低仕事関数の金属を含む請求項1ないし11のいずれかに記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記低仕事関数の金属は3.5eV以下の仕事関数を有する請求項12に記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記低仕事関数の金属はアルカリ土類金属である請求項12または13に記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記透明カソードは、薄い金属層でキャップされた誘電材料の薄層を含む請求項1ないし11のいずれかに記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記誘電材料は、金属酸化物または金属フッ化物である請求項15に記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記誘電材料は、アルカリまたはアルカリ土類金属カチオンである請求項15に記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記ウェルを規定する層を形成するために使用される材料はスピンコートにより基板に蒸着される請求項1ないし17のいずれかに記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記ウェルを規定する層は前記電子発光層の厚さの1.5〜5倍の厚さを有する請求項1ないし18のいずれかに記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記ウェルを規定する層は前記電子発光層の厚さの1.5〜4倍の厚さを有する請求項1ないし18のいずれかに記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記ウェルを規定する層は前記電子発光層の厚さの2〜3倍の厚さを有する請求項1ないし18のいずれかに記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記有機電子発光層は、1または2以上の有機発光材料を含む請求項1ないし21のいずれかに記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記有機電子発光層は、1または2以上の有機発光材料を含み、前記有機発光材料は、1つの層における前記材料の独立した、区別されたまたは混合された層として蒸着される請求項22に記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記有機発光材料は、ポリ(アリーレンビニレン)誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリスピロフルオレン誘導体、ポリナフチレン誘導体、ポリインデノフルオレン誘導体およびポリフェナントレニル誘導体から選択される共役ポリマーである請求項22または23に記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記電子発光材料は、前記ウェルを規定する層および前記パターン化された金属層で定義されるウェル中にインクジェット印刷によって蒸着される請求項1ないし24のいずれかに記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記基板は、ガラス、石英、Si、GaAs、ZnSe、ZnS、GaPおよびInPの結晶基板並びに透明プラスチックから選択される請求項1ないし24に記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記アノードは、錫がドープされたインジウム酸化物(ITO)、亜鉛がドープされたインジウム酸化物(IZO)、インジウム酸化物、錫酸化物または亜鉛酸化物を含む請求項1ないし26のいずれかに記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記ウェルを規定する層の壁は、前記基板に垂直な面と前記壁の間の角度が0°より大きくなるようなポジ型の断面を有する請求項1ないし27のいずれかに記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 前記ウェルを規定する層の周囲と前記ウェルを規定するフォトレジストの上部面上に形成された金属層の周囲の間にずれ(隙間)がある請求項1ないし28のいずれかに記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 湿気および酸素の侵入を防ぐために前記透明カソード上に透明キャップが供給される請求項1ないし29のいずれかに記載の上面発光ディスプレイ装置。
- 複数の画素を有する上面発光ディスプレイ装置の製造方法であって、前記方法は、
(a)基板上にアノードを蒸着する工程、
(b)パターン化可能な絶縁層を蒸着する工程であって、前記パターン化可能な絶縁層の厚さは、前記工程(a)で蒸着された前記アノード層上における蒸発マスクのためのスペーサーとして機能するには不十分な厚さである工程、
(c)前記工程(b)で形成されたパターン化可能な絶縁層の上面上に金属層を蒸着する工程、
(d)パターン化可能な絶縁層から形成されるウェルの望ましいパターンを有するウェルを規定する層並びに前記ウェルを規定する層の上面上のパターン化された金属層を形成するために、前記工程(c)で蒸着された金属層および前記パターン化可能な絶縁層をパターニングする工程、
(e)前記電子発光層および前記ウェルを規定するフォトレジスト層の上面上に金属層の両者の上に透明カソード層を蒸着する工程を含む方法。 - 前記パターン化された絶縁層を形成するために使用する材料は、前記ウェルを規定する層を形成するために適切なフォトマスクを使用して処理されるフォトレジストである請求項31に記載の方法。
- 前記パターン化された絶縁層を形成するために使用する材料は、湿式エッチングまたは乾式エッチング処理により前記ウェルを規定する層を形成するためにパターニングされるエッチング可能な材料である請求項31に記載の方法。
- 前記パターン化可能な絶縁層の上面上の金属層は、前記パターン化可能な絶縁層上に前記金属の熱蒸着または電子ビーム蒸着によって形成される請求項31ないし33のいずれかに記載の方法。
- 前記アノードはスパッタリングの手段によって蒸着される請求項31ないし34のいずれかに記載の方法。
- パターニングが、前記金属層上にポジ型フォトレジストを最初に蒸着する工程、マスクによってUV露光し、洗浄することによって形成された第2のフォトレジスト層をパターン化する工程、パターン化された第2フォトレジスト層によって形成されたマスクによって露出された金属層を酸またはアルカリで処理することにより露出部をエッチングする工程および次いで、パターン化された第2のフォトレジスト層および前記金属層の残りの部分によって保護されていないウェルを規定する第1のフォトレジスト層の部分をUV露光してウェルを規定するレジスト層を形成する工程によって達成される請求項31に記載の方法。
- 電子発光材料の溶液が、前記装置のからインクジェット装置によって形成される装置の各ウェル中に蒸着される請求項31ないし36のいずれかに記載の方法。
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