JP2008529102A - 液晶ディスプレイに用いられる低表面エネルギー高分子材料 - Google Patents
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Abstract
一般的に、本出願で開示する対象材料は、高分子材料による1又は2層以上の膜を含む液晶ディスプレイに関する。より具体的には、この高分子材料は、成型により作られる低表面エネルギー高分子材料である。
【選択図】 なし
【選択図】 なし
Description
この発明は、一般的に、1又は2層以上の高分子材料を含む液晶ディスプレイ(表示装置)に関し、より詳細には、該高分子材料は、鋳型から作り出される低表面エネルギー高分子材料である。
本出願は、2005年2月3日出願の合衆国特許仮出願番号60/649,494及び、2005年2月3日出願の仮出願番号60/649,495に基づき、これらの優先権を主張するものであり、当該各々の出願内容は引用され本明細書に組み込まれる。
本出願で開示された対象は、海軍研究所第N000140210185及び契約番号CHE−9876674による全米科学財団のSTCプログラムからの合衆国政府支援により行われた。合衆国政府は本出願で開示された研究対象における特定の権利を有する。
なお、本明細書に参照した全ての資料は、参照文献に引用された全ての参照文献を含め、本明細書において全て公表したように、参考文献により引用した。
本出願は、2005年2月3日出願の合衆国特許仮出願番号60/649,494及び、2005年2月3日出願の仮出願番号60/649,495に基づき、これらの優先権を主張するものであり、当該各々の出願内容は引用され本明細書に組み込まれる。
本出願で開示された対象は、海軍研究所第N000140210185及び契約番号CHE−9876674による全米科学財団のSTCプログラムからの合衆国政府支援により行われた。合衆国政府は本出願で開示された研究対象における特定の権利を有する。
なお、本明細書に参照した全ての資料は、参照文献に引用された全ての参照文献を含め、本明細書において全て公表したように、参考文献により引用した。
略語
本明細書において下記の略語を用いる。
AC=交流電流; Ar=アルゴン; ℃=摂氏温度; cm=センチメートル; 8−CNVE=ペルフルオロ(8―シアノ−5−メチル−3,6−ジオキサ−1−オクテン); CSM=架橋点モノマー; CTFE=クロロトリフルオロエチレン; g=グラム; h=時間; 1−HPFP=1,2,3,3,3−ペンタフルオロプロペン; 2−HPFP=1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロペン; HFP=ヘキサフルオロプロピレン; HMDS=ヘキサメチルジシラザン; IL=インプリントリソグラフィー; IPDI=イソホロンジイソシアネート; MCP=ミクロコンタクトプリンティング; Me=メチル基; MEA=膜/電極接合体; MEMS=ミクロ電子機械システム; MeOH=メタノール; MIMIC=毛細管中のミクロ成型; ml=ミリリットル; mm=メリメートル; mmol=ミリモル; Mn=数平均分子量; m.p.=融点; mW=ミリワット; NCM=ナノ接触成形; NIL=ナノインプリントリソグラフィー; nm=ナノメートル; Pd=パラジウム; PAVE=ペルフルオロ(アルキルビニル)エーテル; PDMS=ポリ(ジメチルシロキサン); PEM=プロトン交換膜; PFPE=ペルフルオロポリエーテル; PMVE=ペルフルオロ(メチルビニル)エーテル; PPVE=ペルフルオロ(プロピルビニル)エーテル; PSEPVE=ペルフルオロ2−(2−フルオロスルホニルエトキシ)プロピルビニルエーテル; PTFE=ポリテトラフルオロエチレン; SAMIM=溶媒を助剤としたミクロ成形; SEM=走査顕微鏡; Si=シリコン; TFE=テトラフルオロエチレン; μm=マイクロメートル; UV=紫外線; W=ワット; ZDOL=ポリ(テトラフルオロエチレンオキシド−コ−ジフルオロメチレンオキシド)α、ωジオール
本明細書において下記の略語を用いる。
AC=交流電流; Ar=アルゴン; ℃=摂氏温度; cm=センチメートル; 8−CNVE=ペルフルオロ(8―シアノ−5−メチル−3,6−ジオキサ−1−オクテン); CSM=架橋点モノマー; CTFE=クロロトリフルオロエチレン; g=グラム; h=時間; 1−HPFP=1,2,3,3,3−ペンタフルオロプロペン; 2−HPFP=1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロペン; HFP=ヘキサフルオロプロピレン; HMDS=ヘキサメチルジシラザン; IL=インプリントリソグラフィー; IPDI=イソホロンジイソシアネート; MCP=ミクロコンタクトプリンティング; Me=メチル基; MEA=膜/電極接合体; MEMS=ミクロ電子機械システム; MeOH=メタノール; MIMIC=毛細管中のミクロ成型; ml=ミリリットル; mm=メリメートル; mmol=ミリモル; Mn=数平均分子量; m.p.=融点; mW=ミリワット; NCM=ナノ接触成形; NIL=ナノインプリントリソグラフィー; nm=ナノメートル; Pd=パラジウム; PAVE=ペルフルオロ(アルキルビニル)エーテル; PDMS=ポリ(ジメチルシロキサン); PEM=プロトン交換膜; PFPE=ペルフルオロポリエーテル; PMVE=ペルフルオロ(メチルビニル)エーテル; PPVE=ペルフルオロ(プロピルビニル)エーテル; PSEPVE=ペルフルオロ2−(2−フルオロスルホニルエトキシ)プロピルビニルエーテル; PTFE=ポリテトラフルオロエチレン; SAMIM=溶媒を助剤としたミクロ成形; SEM=走査顕微鏡; Si=シリコン; TFE=テトラフルオロエチレン; μm=マイクロメートル; UV=紫外線; W=ワット; ZDOL=ポリ(テトラフルオロエチレンオキシド−コ−ジフルオロメチレンオキシド)α、ωジオール
液晶ディスプレイ("LCD")において、液晶は、典型的には、2枚の両表面を導電層(又は導電膜)及び、配向層(又は配向膜)で塗布したガラス板に挟まれている。ディスプレイの他の付加的な構成物としては、偏光板、アナライザー及びカラーフィルターの様な様々な光学層及びバックライトが挙げられる。高品質のLCD作動には、液晶の顕微鏡スケールでの安定で均一な配向を得ることが欠かせない。液晶配向は電子光学スイッチングモード及び表示の速度を決定し、また配向がよいと、液晶ディレクター(対称軸)方向の不一致によって引き起こされ、表示されたイメージの悪化をひきおこす、液晶ランダムマルチドメインの形成を阻止できる。配向層は液晶上で適切な配向性を起こさせる。この配列効果は、通常配向層を合成又は天然の布により機械的に擦ること(ラビング)により行われるが、これは原始的な技術であり、埃を発生し、ディスプレイ上の電子部品に不可逆的な静電的損傷をしばしば与える。従って、非接触的な配向技術が要求されている。
LCDの基本単位は、明又は暗状態で作動しうる、液晶(LC)画素(ピクセル)である。
典型的な画素は、1個の光源、互いに90°ずらした2個の偏光板、互いに90°ずらした配向層で塗布された矢張り2個の導電及び透明基板及びLC層(又はLC膜)から構成される。明状態では、配向層はLC分子の配向性を決める。平面偏光は、光が第1の偏光板を通過すると作られる。この光平面はLCディレクターの角度の関数として回転し、従って、第二の偏光板(アナライザーと呼ばれる)を通過できて、画素の他の側面から放光する。暗状態では、電場が画素を横切って付加され、LC分子は基板に垂直に配向する。平面偏光は、分子の光軸に平行なLC層を通過し、回転せず、アナライザーを通過できず、放光されない。明及び暗状態は、電場を利用してLCディレクターを再配列することについて、それぞれ、オフ及びオン状態とも呼ばれる。
多くの有機及び無機材料が、侵漬塗法、スパッタリング及び回転塗布のような成膜方法によって、配向層に用いられてきた。既に述べたように、これらの配向層の幾つかは、単一方向の配向をもたらすために、機械的なラビングのような更なる加工を必要とする。他の方法は自発的に配向をもたらす。
典型的な画素は、1個の光源、互いに90°ずらした2個の偏光板、互いに90°ずらした配向層で塗布された矢張り2個の導電及び透明基板及びLC層(又はLC膜)から構成される。明状態では、配向層はLC分子の配向性を決める。平面偏光は、光が第1の偏光板を通過すると作られる。この光平面はLCディレクターの角度の関数として回転し、従って、第二の偏光板(アナライザーと呼ばれる)を通過できて、画素の他の側面から放光する。暗状態では、電場が画素を横切って付加され、LC分子は基板に垂直に配向する。平面偏光は、分子の光軸に平行なLC層を通過し、回転せず、アナライザーを通過できず、放光されない。明及び暗状態は、電場を利用してLCディレクターを再配列することについて、それぞれ、オフ及びオン状態とも呼ばれる。
多くの有機及び無機材料が、侵漬塗法、スパッタリング及び回転塗布のような成膜方法によって、配向層に用いられてきた。既に述べたように、これらの配向層の幾つかは、単一方向の配向をもたらすために、機械的なラビングのような更なる加工を必要とする。他の方法は自発的に配向をもたらす。
液晶材料を透過偏光顕微鏡により分析すると、観察された光学的繊維構造は材料の分子的組織性ばかりではなく、基板に対する材料の配向に依存している。液晶の配向には2種類の様式がある。平面配向は、LCディレクターが基板に対して平行に配向した場合に生じ、サンプルの45°回転ごとに明及び暗状態が交互に表れることにより確認できる。ホメオトロピック配向は、ディレクターの配向が基板に対し垂直の場合である。ホメオトロピック配向の場合、分子は平均的には分子の長軸方向に配列するが、より重要なことは、分子の光学軸は基板に対し垂直に配向する。従って、偏光がサンプルを通って伝搬する場合、光は光学軸を通って進み、1個のみの屈折率の媒体を通り、従って、偏光状態に変化はない。偏光板に対して90°回転した偏光板(アナライザー)では光は観測できない。
従って、ホメオトロピック配向を確認するには、光経路にベルトランド(Bertrand)レンズを挿入する必要があり、これにより回折像又はコノスコープ像の観測が可能となる、対物レンズ後焦点面を見ることができる。
ポリイミド配向層は、現在の液晶ディスプレイの標準である。この材料は幾つかの利点を持ち、層(膜)の調整が簡単であること(即ち、ポリイミドは室温で液体であり、回転塗布により薄膜フィルムとして容易に被覆物となる)、化学物質及び熱に対し耐性があること、ガラス及びオキシド基板に対する接着性がよいことなどが挙げられる、また化学構造の修飾が可能であり、従って配向性を変えることができる。
従って、ホメオトロピック配向を確認するには、光経路にベルトランド(Bertrand)レンズを挿入する必要があり、これにより回折像又はコノスコープ像の観測が可能となる、対物レンズ後焦点面を見ることができる。
ポリイミド配向層は、現在の液晶ディスプレイの標準である。この材料は幾つかの利点を持ち、層(膜)の調整が簡単であること(即ち、ポリイミドは室温で液体であり、回転塗布により薄膜フィルムとして容易に被覆物となる)、化学物質及び熱に対し耐性があること、ガラス及びオキシド基板に対する接着性がよいことなどが挙げられる、また化学構造の修飾が可能であり、従って配向性を変えることができる。
通常、LCとの界面は足場効果を持ち、LCディレクターの平面(接線方向)又はホメオトロピック(垂直方向)配向をもたらすので、固体基板の修飾は、配向性を決める1つの要因である。この様な修飾は、導電層(通常酸化スズインジウム又はITO塗布ガラス)を有する基板上で行われるが、この導電層は、ディレクターの電場依存的再配列を行い、これは次には透過光強度の変化をもたらす。現在のところ、好ましい修飾技術はむしろ単純である:導電性基板をポリイミド膜で塗布し、熱硬化後、機械的なラビングが行われる。単一方向性ラビングによる配向機構は、ポリイミド基板のラビングによる物理的な溝及び、おそらくは、露出されたポリイミド官能基とLCとの分子相互作用に起因するであろう。しかしながら、LC配向の詳細は良く理解されてない。
ポリイミドフィルムは合成又は天然の布により機械的にラビングされるので、マイクロ領域及びナノ領域の溝が表面に刻み込まれる。ディレクターを溝に対して並行又は垂直に配向させるに要する弾性エネルギー損失が、好ましい配向方向を決定する。LCがラビング方向に対して平行な平面配列をもつことは、溝に対して平行にディレクターを配向させるに要するエネルギー損失がずっと低いことで説明できる。好ましい配向方向を決める付加的な因子としては、露出したポリイミド官能基とLCとの相互作用があり得る。
高分子の分子鎖の配列は、局部的な加熱及び自発性な剪断力により、ラビング過程において変化する(ラビング方向に対し伸長又は揃えられる)可能性がある。従って、これらの方向付けられたポリイミド鎖の露出した官能基は、自由にLCと相互作用し、ラビング方向に平行な平面配向を促進する。
高分子の分子鎖の配列は、局部的な加熱及び自発性な剪断力により、ラビング過程において変化する(ラビング方向に対し伸長又は揃えられる)可能性がある。従って、これらの方向付けられたポリイミド鎖の露出した官能基は、自由にLCと相互作用し、ラビング方向に平行な平面配向を促進する。
一実施態様において、本出願において開示された対象材料は、1層膜の低表面エネルギー高分子材料を含む液晶ディスプレイを網羅するものである。例示的実施態様において、低表面エネルギー高分子材料は、少なくとも1層膜を含む。他の例示的実施態様において、低表面エネルギー高分子材料は2又は3層以上の膜を含む。他の例示的実施態様において、これらの層は配向層である。
幾つかの実施態様に依れば、低表面エネルギー高分子材料は、約30mN/m以下の表面エネルギーを有し、他の実施態様において、表面エネルギーは、約7mN/mと約20mN/mの間である。幾つかの実施態様に依れば、低表面エネルギー高分子材料は、ペルフルオロポリエーテル(PFPE),フルオレインベースのフルオロエラストマー、ポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS),ポリ(テトラメチレンオキシド)、ポリ(エチレンオキシド)、ポリ(オクセタン)、ポリイソプレン、ポリブタジエン又はこれらの混合物である。
幾つかの実施態様に依れば、低表面エネルギー高分子材料は、約30mN/m以下の表面エネルギーを有し、他の実施態様において、表面エネルギーは、約7mN/mと約20mN/mの間である。幾つかの実施態様に依れば、低表面エネルギー高分子材料は、ペルフルオロポリエーテル(PFPE),フルオレインベースのフルオロエラストマー、ポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS),ポリ(テトラメチレンオキシド)、ポリ(エチレンオキシド)、ポリ(オクセタン)、ポリイソプレン、ポリブタジエン又はこれらの混合物である。
幾つかの実施態様において、液晶ディスプレイは、更に第2配向層を含み、第2配向層は第1配向層と連結する可能性がある。幾つかの実施態様において、液晶ディスプレイは第1配向層と第2配向層の間に分散した液晶の可能性がある。
幾つかの実施態様に依れば、第1配向層は第2配向層から100μm以下離れた間隔に置かれている。他の実施態様において、第1配向層は、第2配向層から約20μmと約80μmの離れた間隔に置かれている。更に他の実施態様において、第1配向層は第2配向層から約40μm離れた間隔に置かれている。
幾つかの実施態様に依れば、第1配向層と第2配向層は、互いにある角度ずらして置かれており、他の実施態様において、第1配向層と第2配向層は、互いに約90°ずれている。
幾つかの実施態様に依れば、第1配向層は第2配向層から100μm以下離れた間隔に置かれている。他の実施態様において、第1配向層は、第2配向層から約20μmと約80μmの離れた間隔に置かれている。更に他の実施態様において、第1配向層は第2配向層から約40μm離れた間隔に置かれている。
幾つかの実施態様に依れば、第1配向層と第2配向層は、互いにある角度ずらして置かれており、他の実施態様において、第1配向層と第2配向層は、互いに約90°ずれている。
他の実施態様において、低表面エネルギー高分子材料は、パターンのある表面をもつ。ある場合は、パターンのある表面には、溝があり、溝幅は約0.1μmと約2μmでも可能であり、他の場合は、約0.3μmと約0.7μmで可能であり、また他の場合、溝の長さは、約2m以下で可能である。幾つかの実施態様において、溝の長さは約2cm以下である。幾つかの実施態様において、溝幅は、ピクセル幅(サブピクセルパターン)以下である。
幾つかの実施態様において、パターンのある表面には規則的グリッドパターンがある。幾つかの実施態様において、低表面エネルギー高分子材料は、多数の貫通孔で特徴づけられ、貫通孔の平均直径は、約10μm以下であり、又は約20nmと約10μmの間であり、又は約0.1μmと約7μmの間である。
幾つかの実施態様において、パターンのある表面には規則的グリッドパターンがある。幾つかの実施態様において、低表面エネルギー高分子材料は、多数の貫通孔で特徴づけられ、貫通孔の平均直径は、約10μm以下であり、又は約20nmと約10μmの間であり、又は約0.1μmと約7μmの間である。
幾つかの実施態様において、液晶ディスプレイには、第2配向層があり、第1と第2配向層の表面にパターンがある。幾つかの実施態様において、第1配向層のパターンは第2配向層のパターンとは異なる。幾つかの実施態様において、配向層は、ラングミュア−ブロジェット(Langmuir-Blodgett)フィルムとして作られ、フッ素化した高分子からなる多層の薄フィルムを含む。
幾つかの実施態様によると、液晶ディスプレイには、1mmあたり約1000個と約4000個の間の数の溝のあるパターン表面がある。他の実施態様において、パターン表面には、1mmあたり約1200個と約3600個の間の溝の数がある。更に他の実施態様において、パターンある表面には1mmあたり1200個の溝がある。更に、他の実施態様において、パターン表面には、1mmあたり約3600個以下の数の溝がある。
幾つかの実施態様において、低表面エネルギー高分子材料は光硬化剤を含む。他の実施態様において、低表面エネルギー高分子材料は更に、熱硬化剤を含む。
更に他の実施態様において、低表面エネルギー高分子材料は、更に光硬化可能かつ熱硬化可能な試薬を含む。
幾つかの実施態様によると、液晶ディスプレイには、1mmあたり約1000個と約4000個の間の数の溝のあるパターン表面がある。他の実施態様において、パターン表面には、1mmあたり約1200個と約3600個の間の溝の数がある。更に他の実施態様において、パターンある表面には1mmあたり1200個の溝がある。更に、他の実施態様において、パターン表面には、1mmあたり約3600個以下の数の溝がある。
幾つかの実施態様において、低表面エネルギー高分子材料は光硬化剤を含む。他の実施態様において、低表面エネルギー高分子材料は更に、熱硬化剤を含む。
更に他の実施態様において、低表面エネルギー高分子材料は、更に光硬化可能かつ熱硬化可能な試薬を含む。
幾つかの実施態様によると、液晶ディスプレイは、ミクロ相分離構造、コポリマー及びブロックコポリマーを含む。
代わりうる実施態様において、液晶ディスプレイは、低表面エネルギー高分子材料の処理された膜を含む。幾つかの実施態様において、低表面エネルギー高分子材料からできた膜の処理は、導電体、金属ナノ粒子、金属酸化物、導電性ポリマー、トルエン及び水から選択される。
本出願で開示された対象材料の幾つかの実施態様によると、ディスプレイスクリーンは、低表面エネルギー高分子配向層を含み、ディスプレイスクリーンは、柔軟性に富む。他の実施態様において、ディスプレイスクリーンは、低表面エネルギー高分子配向層を含み、ディスプレイスクリーンの液晶は、低表面エネルギー高分子配向層上で、自発的に配向を行う。
代わりうる実施態様において、液晶ディスプレイは、低表面エネルギー高分子材料の処理された膜を含む。幾つかの実施態様において、低表面エネルギー高分子材料からできた膜の処理は、導電体、金属ナノ粒子、金属酸化物、導電性ポリマー、トルエン及び水から選択される。
本出願で開示された対象材料の幾つかの実施態様によると、ディスプレイスクリーンは、低表面エネルギー高分子配向層を含み、ディスプレイスクリーンは、柔軟性に富む。他の実施態様において、ディスプレイスクリーンは、低表面エネルギー高分子配向層を含み、ディスプレイスクリーンの液晶は、低表面エネルギー高分子配向層上で、自発的に配向を行う。
他の実施態様によると、液晶ディスプレイは、第1配向層と第2配向層の間に分散された低分子量液晶を含む。幾つかの実施態様において、低分子量液晶の分子量は、約100と2000の間である。
幾つかの実施態様において、配向層の厚さは、約1000nm以下である。他の実施態様において、配向層の厚さは、約10オングストロームと、約1000オングストロームの間である。更に他の実施態様において、配向層の厚みは、約5オングストロームと約200オングストロームの間である。
他の実施態様において、液晶の配向は、付加電圧と共に変化する。
幾つかの実施態様において、配向層の厚さは、約1000nm以下である。他の実施態様において、配向層の厚さは、約10オングストロームと、約1000オングストロームの間である。更に他の実施態様において、配向層の厚みは、約5オングストロームと約200オングストロームの間である。
他の実施態様において、液晶の配向は、付加電圧と共に変化する。
幾つかの実施態様において、ディスプレイスクリーンの配向層作成法は、パターンのある鋳型を提供すること、液体状の硬化剤を含む低表面エネルギー高分子材料をパターンのある鋳型への注入すること、、硬化剤の活性化による液体低表面エネルギー高分子材料の硬化及びパターンのある鋳型から硬化した低表面エネルギー高分子材料を取り外すことを含むが、但しここで、パターンのある鋳型のレプリカが、硬化した低表面エネルギー高分子材料の表面にエンボスされる。
幾つかの実施態様において、硬化剤は、例えば、光硬化剤、熱硬化剤、光硬化及び熱硬化剤、これらのコンビネーション等であり得る。他の実施態様において、この方法により、更に、低分子量液晶を硬化した低表面エネルギー高分子材料のエンボスされたパターンとコミュニケートさせる。
幾つかの実施態様において、硬化剤は、例えば、光硬化剤、熱硬化剤、光硬化及び熱硬化剤、これらのコンビネーション等であり得る。他の実施態様において、この方法により、更に、低分子量液晶を硬化した低表面エネルギー高分子材料のエンボスされたパターンとコミュニケートさせる。
幾つかの実施態様において、ピクセルには低表面エネルギー高分子材料の膜があり、この膜表面には、表面上に形成された成形パターンがある。幾つかの実施態様において、硬化剤は、例えば、光硬化剤、熱硬化剤、光硬化及び熱硬化剤、これらのコンビネーション等の可能性がある。幾つかの実施態様において、低表面エネルギー高分子材料としては、ペルフルオロエーテル(PFPE)があり、低表面エネルギー高分子材料のエンボスされたパターンとコミュニケートする低分子料液晶があり得る。
幾つかの実施態様において、ピクセルは、配向層の表面にエンボスされた溝を含む。幾つかの実施態様によると、溝幅は、約0.1μmと約2μmの間であり得る。他の実施態様において、溝幅は、約0.3μmと約0.7μmの間であり得る。他の実施態様において、溝の長さは、約2m以下であり得る。他の実施態様において、溝の長さは、約2cm以下であり得る。更に他の実施態様において、成形パターンには、規則的パターンがあり、幾つかの実施態様において、成形パターンは複数の貫通孔を規定する。更に他の実施態様において、貫通孔の平均直径は、約20μm以下である。更に他の実施態様において、エンボスされたパターンには、1mmあたり約1000個と約4000個の間の数の溝がある。また、幾つかの実施態様において、エンボスされたパターンには、1mmあたり約1200個と約3600個の間の溝がある。
他の実施態様によると、膜の厚さは、約10オングストロームと約1000オングストロームの間である。他の実施態様において、膜の厚さは、約5オングストロームと約200オングストロームの間である。
他の実施態様によると、膜の厚さは、約10オングストロームと約1000オングストロームの間である。他の実施態様において、膜の厚さは、約5オングストロームと約200オングストロームの間である。
以下、本出願で開示された対象物質について、添付した図面及び、代表的実施態様が示されている、実施例を参照して、より具体的に述べる。しかしながら、本出願で開示した対象物質は、異なる形で実施可能であり、ここで示された実施態様に制限づけられると解釈すべきではない。むしろ、これらの実施態様は、開示が十分で、完全であるように提供されたものであり、同業に対しては十分実施態様の有効範囲を伝えているであろう。
特に、異なって定義しなければ、本明細書で用いた全ての技術的及び科学的用語は、本出願で述べる対象物質にかかわる、通常の当業者が一般的に理解されている意味と同じである。
全ての出版物、特許出願、特許及びここで述べた他の参照文献は、全て取り込まれている。
明細書及び請求の範囲を通して、与えられた化学式又は名前は、全ての光学的及び立体異性体及びこれらの異性体及び混合物が含まれるラセミ混合体を包含する。
特に、異なって定義しなければ、本明細書で用いた全ての技術的及び科学的用語は、本出願で述べる対象物質にかかわる、通常の当業者が一般的に理解されている意味と同じである。
全ての出版物、特許出願、特許及びここで述べた他の参照文献は、全て取り込まれている。
明細書及び請求の範囲を通して、与えられた化学式又は名前は、全ての光学的及び立体異性体及びこれらの異性体及び混合物が含まれるラセミ混合体を包含する。
1.定義
本明細書において、"パターン"という用語は、チャンネル、孔、穴、溝、織り目、ミクロチャンネル、ナノチャンネル等を意味し、幾つかの実施態様において、パターン化構造は所定の位置の横断及び/又は重複でありことが可能である。一つのパターンには、1又は2以上のミクロ又はナノスケールの液体貯蔵所、ミクロ又はナノスケールの反応器、ミクロ又はナノスケールの混合容器、ミクロ又はナノスケールの分離領域、表面の織り目、ミクロ及び/又はナノ凹部及び/又は***突出部を有する表面のパターンが挙げられる。これらの表面パターンは、規則的又は不規則的であり得る。
本明細書において、"交差"という用語は、ある点で接触すること、ある点で接触しそして通過する又は横切ること、又は、ある点で接触して重なることを意味する。具体的には、本明細書において、"交差"という用語は、パターンを有する2個の構造がある点で接触する、ある点で接触して通過する又は横切る、又はある点で接触して他と重なる等の実施態様を記載する。従って、幾つかの実施態様において、2個のパターンは交差可能であり、即ちある点で接触する、又はある点で接触して互いに横切る、そして互いに流動的なやりとりをする。幾つかの実施態様において、2個又は3個以上のパターンが交差可能であり、即ちある点で接触して互いに重なる、そして、流動的なやりとりは行わない、例えば、流動チャンネルとコントロールチャンネルが交差する場合である。
本明細書において、"パターン"という用語は、チャンネル、孔、穴、溝、織り目、ミクロチャンネル、ナノチャンネル等を意味し、幾つかの実施態様において、パターン化構造は所定の位置の横断及び/又は重複でありことが可能である。一つのパターンには、1又は2以上のミクロ又はナノスケールの液体貯蔵所、ミクロ又はナノスケールの反応器、ミクロ又はナノスケールの混合容器、ミクロ又はナノスケールの分離領域、表面の織り目、ミクロ及び/又はナノ凹部及び/又は***突出部を有する表面のパターンが挙げられる。これらの表面パターンは、規則的又は不規則的であり得る。
本明細書において、"交差"という用語は、ある点で接触すること、ある点で接触しそして通過する又は横切ること、又は、ある点で接触して重なることを意味する。具体的には、本明細書において、"交差"という用語は、パターンを有する2個の構造がある点で接触する、ある点で接触して通過する又は横切る、又はある点で接触して他と重なる等の実施態様を記載する。従って、幾つかの実施態様において、2個のパターンは交差可能であり、即ちある点で接触する、又はある点で接触して互いに横切る、そして互いに流動的なやりとりをする。幾つかの実施態様において、2個又は3個以上のパターンが交差可能であり、即ちある点で接触して互いに重なる、そして、流動的なやりとりは行わない、例えば、流動チャンネルとコントロールチャンネルが交差する場合である。
本明細書において、"コミュニケート"(例えば、第1の構成成分が第2の構成成分と"コミュニケート"する、又は"コミュニケートしている状態"である)及びその文法上の変形物は、2個又はそれ以上の構成成分又は要素の間の、構造的、機能的、機械的、電気的、光学的、又は流体的関係、又はそれ等全ての組合せを示すために使われる。従って、ある構成成分が第2の構成成分とコミュニケートすると言われる事実は、他の構成成分がその間に存在する;及び/又は第1及び第2の構成成分と作動的に結合している、又は連動していると言う可能性を除外することを意図しない。
本明細書において、"モノリシック"という用語は、ある構造体が、単一で一様な構造を有する、又は、単一で一様な構造として働くことを表わす。
本明細書において、"モノリシック"という用語は、ある構造体が、単一で一様な構造を有する、又は、単一で一様な構造として働くことを表わす。
本明細書において、"非生物学的有機材料"という用語は、有機材料を表し、即ち、生物学的材料ではなく、共有結合した炭素―炭素結合を有する化合物である。本明細書において、"生物学的材料"という用語は、核酸ポリマー(例えば、DNA,RNA)、アミノ酸ポリマー(例えば、酵素、蛋白質など)及び小有機化合物(例えば、ステロイド、ホルモン)を含み、ここで小有機化合物は生物活性を有し、特にヒト又はペットや家畜のような商業的に重要な動物に対する生物活性であり、また小有機化合物は元々治療又は診断の目的で用いられているものである。生物学的材料は薬学及び生物工学への応用として興味を持たれる一方、多くの応用は生物学的材料以外、即ち非生物学的有機材料、で整備された化学工程を伴う。
本明細書において、"部分的硬化"という用語は、約100%以下の重合可能基が反応する工程を表す。従って、"部分的に硬化した材料"という用語は、部分硬化工程を通った材料を表す。
本明細書において、"完全硬化"と言う用語は、約100%の重合可能基が反応する工程を表す。従って、"完全硬化材料"は完全硬化工程を通った材料を表す。
本明細書において、"光硬化"という用語は、反応が、UV光のような化学作用を有する照射により誘発される重合可能基の反応を表す。本出願において、UV硬化は、光硬化と同義語である。
本明細書において、"熱硬化"という用語は、反応が、材料の閾値を越えた加熱により誘発される重合可能基の反応を表す。
長年にわたる特許法協定に従い、原文の"不定冠詞−ある""定冠詞−その"は、請求の範囲を含め、本出願で用いられた場合、"1又は2以上"を表す。従って、例えば、"ある配向層"へ言及した場合、複数のその様な配向層が含まれる、等々である。
本明細書において、"完全硬化"と言う用語は、約100%の重合可能基が反応する工程を表す。従って、"完全硬化材料"は完全硬化工程を通った材料を表す。
本明細書において、"光硬化"という用語は、反応が、UV光のような化学作用を有する照射により誘発される重合可能基の反応を表す。本出願において、UV硬化は、光硬化と同義語である。
本明細書において、"熱硬化"という用語は、反応が、材料の閾値を越えた加熱により誘発される重合可能基の反応を表す。
長年にわたる特許法協定に従い、原文の"不定冠詞−ある""定冠詞−その"は、請求の範囲を含め、本出願で用いられた場合、"1又は2以上"を表す。従って、例えば、"ある配向層"へ言及した場合、複数のその様な配向層が含まれる、等々である。
II.材料
本出願で開示した対象材料は、全体としては、低粘度液体材料をマスター鋳型に注入し、マイクロ及びナノスケールレプリカ成形のような、高分解でソフト、又はエンボスされたリソグラフィーへの応用に用いる、低粘度液体材料を硬化させパターンのある鋳型を作成して得られる、溶媒耐性の、低表面エネルギー高分子材料を含み、また用いる。幾つかの実施態様において、パターンのある鋳型は、フッ素化エラストマーをベースとした材料のような、だがそれに限られない、溶媒耐性で、エラストマーをベースとした材料から構成される。
更に、本出願で開示した対象材料は、弾力性のある型を用い高い忠実度機能を作り出すために、有機材料のナノ接触成型を記載し、使用する。従って、対象材料は、例えばソフト又はエンボスされたリソグラフィー技術、を用いて、様々な形の、支柱無しで立つ、独立のマイクロ及びナノ構造を作り出す方法を含み、使用する。
本出願で開示した対象材料は、全体としては、低粘度液体材料をマスター鋳型に注入し、マイクロ及びナノスケールレプリカ成形のような、高分解でソフト、又はエンボスされたリソグラフィーへの応用に用いる、低粘度液体材料を硬化させパターンのある鋳型を作成して得られる、溶媒耐性の、低表面エネルギー高分子材料を含み、また用いる。幾つかの実施態様において、パターンのある鋳型は、フッ素化エラストマーをベースとした材料のような、だがそれに限られない、溶媒耐性で、エラストマーをベースとした材料から構成される。
更に、本出願で開示した対象材料は、弾力性のある型を用い高い忠実度機能を作り出すために、有機材料のナノ接触成型を記載し、使用する。従って、対象材料は、例えばソフト又はエンボスされたリソグラフィー技術、を用いて、様々な形の、支柱無しで立つ、独立のマイクロ及びナノ構造を作り出す方法を含み、使用する。
本出願で開示した対象材料で説明されるナノ構造は、幾つかの応用を持ち、LCDを含め表示のための材料;光電池;太陽電池装置;及び光電子素子を含むが、これらに制限されない幾つかの応用に用いることができる。
更に、本明細書で述べるような液晶ディスプレイスクリーンは、例えば、LCDTV,自動車モニター、PDA,プラズマTV,ファインダー、プロジェクター、ゲーム、産業上の応用、携帯電話、ノートブック型PC,mp3プレーヤー、デスクトップモニター、他の携帯用装置などに用いることができる。
特定の実施態様において、本出願で開示した対象材料は、溶媒耐性の、低表面エネルギー高分子材料を説明し、使用する。幾つかの実施態様によると、低表面エネルギー高分子材料としては、ペルフルオロポリエーテル(PFPE),ポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS),ポリ(テトラメチレンオキシド)、ポリ(エチレンオキシド)、ポリ(オキセタン)、ポリイソプレン、ポリブタジエン、フルオロオレフィンをベースとしたフルオロエラストマー等が挙げられるが、これらに制限されない。
更に、本明細書で述べるような液晶ディスプレイスクリーンは、例えば、LCDTV,自動車モニター、PDA,プラズマTV,ファインダー、プロジェクター、ゲーム、産業上の応用、携帯電話、ノートブック型PC,mp3プレーヤー、デスクトップモニター、他の携帯用装置などに用いることができる。
特定の実施態様において、本出願で開示した対象材料は、溶媒耐性の、低表面エネルギー高分子材料を説明し、使用する。幾つかの実施態様によると、低表面エネルギー高分子材料としては、ペルフルオロポリエーテル(PFPE),ポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS),ポリ(テトラメチレンオキシド)、ポリ(エチレンオキシド)、ポリ(オキセタン)、ポリイソプレン、ポリブタジエン、フルオロオレフィンをベースとしたフルオロエラストマー等が挙げられるが、これらに制限されない。
単純化のために、溶媒耐性で、低表面エネルギー高分子材料を、本明細書ではまとめて、基材又は基礎高分子と呼ぶ。本明細書で開示した材料及び方法が、本明細書で開示された全ての材料、高分子、ウレタン、シリコン等に対して適用され、用いられることを高く評価する。単純化の目的のために、多くの記載はPFPE材料に焦点を合わせるが、PFPE材料の開示に、開示を制限するものではない、また他の上記のような高分子は、本出願で開示された対象材料の方法、材料及びデバイスに同様に適用される。
代表的な溶媒耐性のエラストマー性材料としては、フッ素化したエラストマー性材料が挙げられるが、これに制限されない。本明細書では、"溶媒耐性"という用語は、よく使われる炭化水素ベースの有機溶媒、又は酸又は塩基性水溶液中で膨張もせず、溶けこまないエラストマー材料の様な材料を表す。幾つかの通常の炭化水素性有機溶媒、又は酸又は塩基性水溶液の例としては、水、イソプロピルアルコール、アセトン、N−メチルピロリジノン及びジメチルフォルムアミドなどが挙げられるが、これらに制限されない。代表的な、フッ素化したエラストマーベースの材料としては、ペルフルオロポリエーテル(PFPE)ベースの材料があるが、これに制限されない。
代表的な溶媒耐性のエラストマー性材料としては、フッ素化したエラストマー性材料が挙げられるが、これに制限されない。本明細書では、"溶媒耐性"という用語は、よく使われる炭化水素ベースの有機溶媒、又は酸又は塩基性水溶液中で膨張もせず、溶けこまないエラストマー材料の様な材料を表す。幾つかの通常の炭化水素性有機溶媒、又は酸又は塩基性水溶液の例としては、水、イソプロピルアルコール、アセトン、N−メチルピロリジノン及びジメチルフォルムアミドなどが挙げられるが、これらに制限されない。代表的な、フッ素化したエラストマーベースの材料としては、ペルフルオロポリエーテル(PFPE)ベースの材料があるが、これに制限されない。
特定の実施態様において、例えば官能性の液体PFPE材料のような基材は液晶ディスプレイデバイスに用いる上で望ましい特性を示す。例えば、官能性のPFPE材料のような基材は、概して低表面エネルギーを有し、無毒性で、UV及び可視光透過性で、通気性高く;固く、耐久力があり、優れた剥離性の、膨張耐性があり、溶媒耐性があり、生体許容性があり、これらのコンビネーションなどの性質を有する、フッ素化度の高い弾性的又はガラス状の材料に、硬化して変わる。これらの材料の特性は、本明細書において後ほど記載するように、添加物、充填物、反応性のコモノマー及び官能性の試薬を賢明に選ぶことにより、広範囲に調整することができる。修飾するに望ましいこの様な特性としては、弾性率、引裂強さ、表面エネルギー、透過性、官能性、硬化モード、溶解度、靱性、硬度、弾性、膨張特性及びこれらのコンビネーションなどが挙げられるが、これらに制限されない。仕上げ材料の機械的及び/又は化学的特性を調整する方法の例としては、材料の弾性率を増加させるために架橋間の分子量を下げること、材料の弾性率を増加するために、高ガラス転移温度(Tg)の高分子を作るモノマーを添加すること、材料の表面エネルギー又は湿潤度を増加させるために材料に荷電性モノマー又は荷電性分子を加えること、これらのコンビネーション等が挙げられるが、これらに制限されない。更なる例としては、本出願で開示した対象材料に光硬化性及び/又は熱硬化性成分を加えることが挙げられる、これにより、基材は多くの硬化法で処理できる。
幾つかの実施態様によると、本出願で開示した対象材料の基材の表面エネルギーは、約30mN/m以下に作られる。他の実施態様によると、表面エネルギーは、約7mN/m及び約20mN/mの間である。より好ましい実施態様において、表面エネルギーは、約10mN/m及び約15mN/mの間である。PFPEのような本出願で開示した基材の非膨張的性質及び剥離容易的特性は配向層デバイスの作成を可能にする。
このような基材をデバイスに注入する例としては、パターンのある基板に液体PFPE前駆体材料を注入し、その後液体PFPE前駆体材料を硬化させ、官能性PFPE材料のパターンのある膜を作成することが挙げられ、この官能性のあるPFPE前駆体材料は、液晶ディスプレイのための配向層のようなデバイス、医学的デバイス、ミクロ流体デバイス、汚損防止膜、又は塗布などの作成に使われる。
このような基材をデバイスに注入する例としては、パターンのある基板に液体PFPE前駆体材料を注入し、その後液体PFPE前駆体材料を硬化させ、官能性PFPE材料のパターンのある膜を作成することが挙げられ、この官能性のあるPFPE前駆体材料は、液晶ディスプレイのための配向層のようなデバイス、医学的デバイス、ミクロ流体デバイス、汚損防止膜、又は塗布などの作成に使われる。
II.A.約100センチストークス以下の粘度を有する、液体PFPE前駆体材料から作成されたペルフルオロポリエーテル材料
当業者は知っていることであるが、過フッ素化ポリエーテル類(PFPE)は25年以上に渡り様々な用途に用いられてきた。
市販のPFPE材料は過フッ素化したモノマーの重合で作られる。この分野の第一の材料は、ヘキサフルオロプロペンオキシド(HFPO)のフッ化セシウムを触媒とする重合であり、KRYTOX(R)Dupont, Wilmington, Delaware,UnitedStates of Americaと呼ばれる一連の分枝型ポリマーを作る。同様なポリマーが、ヘキサフルオロプロペン(FOMBLIN(R) Y)(Solvay Solexis,Brussels, Belgium)のUV触媒による光酸化により作られる。更に、鎖状ポリマー(FOMBLIN(R) Z)(Solvay)は、同様の工程で、しかしながらテトラフルオロエチレンを用いて、作られる。最後に、第4のポリマー(DEMNUM(R))(ダイキン産業株式会社)は、テトラフルオロオクセタンの重合と、その後の直接フッ素化により作られる。これらの流動体の構造を表1に示す。表2には、PFPE級の潤滑油の幾つかの商品の特性データがある。同様に、官能性のPFPEの物理学的特性は表3に掲載されている。これらの市販のPFPE流体に加えて、直接のフッ素化技術により、新しいシリーズの構造が作られる。これら新PFPE材料の代表的構造が、表4に示されている。上記のPFPR流動体の中、KRYTOX(R)及びFOMBLIN(R)Zのみが広範囲に応用されて用いられている。全参考文献が本明細書に取り込まれている、Jones.W.R.,jr、宇宙応用で用いられるペルフルオロポリエーテルの特性、NASA Technical Memorandum 106275(July1993)、参照。従ってこの様なPFPE材料の使用は、本出願で開示した対象材料に提供されている。
当業者は知っていることであるが、過フッ素化ポリエーテル類(PFPE)は25年以上に渡り様々な用途に用いられてきた。
市販のPFPE材料は過フッ素化したモノマーの重合で作られる。この分野の第一の材料は、ヘキサフルオロプロペンオキシド(HFPO)のフッ化セシウムを触媒とする重合であり、KRYTOX(R)Dupont, Wilmington, Delaware,UnitedStates of Americaと呼ばれる一連の分枝型ポリマーを作る。同様なポリマーが、ヘキサフルオロプロペン(FOMBLIN(R) Y)(Solvay Solexis,Brussels, Belgium)のUV触媒による光酸化により作られる。更に、鎖状ポリマー(FOMBLIN(R) Z)(Solvay)は、同様の工程で、しかしながらテトラフルオロエチレンを用いて、作られる。最後に、第4のポリマー(DEMNUM(R))(ダイキン産業株式会社)は、テトラフルオロオクセタンの重合と、その後の直接フッ素化により作られる。これらの流動体の構造を表1に示す。表2には、PFPE級の潤滑油の幾つかの商品の特性データがある。同様に、官能性のPFPEの物理学的特性は表3に掲載されている。これらの市販のPFPE流体に加えて、直接のフッ素化技術により、新しいシリーズの構造が作られる。これら新PFPE材料の代表的構造が、表4に示されている。上記のPFPR流動体の中、KRYTOX(R)及びFOMBLIN(R)Zのみが広範囲に応用されて用いられている。全参考文献が本明細書に取り込まれている、Jones.W.R.,jr、宇宙応用で用いられるペルフルオロポリエーテルの特性、NASA Technical Memorandum 106275(July1993)、参照。従ってこの様なPFPE材料の使用は、本出願で開示した対象材料に提供されている。
本出願で開示した対象物質の幾つかの実施態様において、ペルフルオロポリエーテル前駆体には、ポリ(テトラフルオロエチレンオキシド−コ−ジフルオロメチレン オキシド)α、ωジオールがあり、これは幾つかの実施例において、光硬化し、ペルフルオロポリエーテルジメタクリレート及びペルフルオロポリエーテルジスチレニック化合物の一つができる。官能性のペルフルオロポリエーテルの合成及び光硬化の代表的反応図式を反応図式1に記載する。
II.B.約100センチストーク以上の粘度を有する、液体PFPE前駆体から作られるペルフルオロポリエーテル材料
本明細書で以下に提供される方法としては、(a)(1)PFPE材料膜及び(2)他の材料の膜及び/又は基板の間の粘着を促進し及び/又は増加させるため及び(b)表面に化学的官能性を付加するために、約100センチストーク(cSt)以上の粘度及び、約100cSt以下の粘度の特性を有するPFPE材料が、幾つかの実施態様において、挙げられるが、しかし約100cSt以下の粘度の液体PFPE前駆体材料は、フリーラジカル的に光硬化できるPFPEでないことが条件である。本明細書で提供されたように、液体PFPE前駆体材料の粘度は、官能基化以前のこの材料の粘度を参照にするものであり、例えば、メタクリレート基又はスチレン基による官能基化した材料の粘度ではない。
従って、幾つかの実施態様において、PFPE材料は、約100センチストークス(cSt)以上の粘度をもつ液体PFPE前駆体材料から作られる。幾つかの実施態様において、液体PFPE前駆体は、重合可能基により末端がキャップ付けられている。幾つかの実施態様において、重合可能基は、アクリレート基、メタクリレート基、エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、無水物、マレイミド基、イソシアネート基、オレフィン基及びスチレン基からなる部類から選択する。
本明細書で以下に提供される方法としては、(a)(1)PFPE材料膜及び(2)他の材料の膜及び/又は基板の間の粘着を促進し及び/又は増加させるため及び(b)表面に化学的官能性を付加するために、約100センチストーク(cSt)以上の粘度及び、約100cSt以下の粘度の特性を有するPFPE材料が、幾つかの実施態様において、挙げられるが、しかし約100cSt以下の粘度の液体PFPE前駆体材料は、フリーラジカル的に光硬化できるPFPEでないことが条件である。本明細書で提供されたように、液体PFPE前駆体材料の粘度は、官能基化以前のこの材料の粘度を参照にするものであり、例えば、メタクリレート基又はスチレン基による官能基化した材料の粘度ではない。
従って、幾つかの実施態様において、PFPE材料は、約100センチストークス(cSt)以上の粘度をもつ液体PFPE前駆体材料から作られる。幾つかの実施態様において、液体PFPE前駆体は、重合可能基により末端がキャップ付けられている。幾つかの実施態様において、重合可能基は、アクリレート基、メタクリレート基、エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、無水物、マレイミド基、イソシアネート基、オレフィン基及びスチレン基からなる部類から選択する。
幾つかの実施態様において、ペルフルオロポリエーテル材料として、以下の化学式で表される部類から選択される骨組み構造が挙げられる。
ここで、Xは存在しても、しなくともよい、また存在する場合は、末端キャップ基を含み、nは1〜100の整数である。
幾つかの実施態様において、液体PFPE前駆体として、2又は3以上の鎖が重合可能基の付加前に互いに連結する、鎖延長型材料も挙げられる。
従って、幾つかの実施態様において、1個の"リンカー基"が2個の鎖を1分子に連結する。幾つかの実施態様において、反応図式4に示すように、リンカー基は3又は4個以上の鎖を連結する。
反応図式4.リンカー基が3個のPFPE鎖を連結する。
従って、幾つかの実施態様において、1個の"リンカー基"が2個の鎖を1分子に連結する。幾つかの実施態様において、反応図式4に示すように、リンカー基は3又は4個以上の鎖を連結する。
反応図式4.リンカー基が3個のPFPE鎖を連結する。
幾つかの実施態様において、Xはイソシアネート基、酸塩化物、エポキシ基及び/又はハロゲン原子である。幾つかの実施態様において、Rはアクリレート基、メタクリレート基、スチレン基、エポキシ基、カルボキシル基、無水物、マレイミド基、イソシアネート基、オレフィン基及び/又はアミン基である。幾つかの実施態様において、サークルは全ての多官能性の分子を表す。 幾つかの実施態様において、多官能性分子としては、環状分子がある。PFPEは、本明細書に記載された全てのPFPE材料を表す。
幾つかの実施態様において、液体PFPE前駆体として、反応図式5に記載された多分枝高分子があり、ここでPFPEは、本明細書に記載された全てのPFPE材料を表す。
反応図式5.多分枝PFPE液体前駆体材料
反応図式5.多分枝PFPE液体前駆体材料
幾つかの実施態様において、例えば、PFPE液体前駆体の様な、低表面エネルギー基板は、光酸生成系を使い光硬化可能な、エポキシ基の部分でキャップ付けされる。本出願で開示された対象物において使用する上で適した光酸生成系としては、以下の化合物が挙げられるが、これらに制限されない:ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムp−トルエンスルホン酸塩、ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムトリフラート、(4−ブロモフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラート、(tert−ブトキシカルボニルメトキシナフチル)ジフェニルスルホニウムトリフラート、(tert−ブトキシカルボニルメトキシフェニル)ジフェニルスルホニウムトルフラート、(4−tert−ブチルフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラート、(4−クロロフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラート、ジフェニルヨードニウム−9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルホン酸塩、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロリン酸塩、ジフェニルヨードニウム硝酸塩、ジフェニルヨードニウムペルフルオロ−1−ブタンスルホン酸塩、ジフェニルヨードニウムp−トルエンスルホン酸塩、ジフェニルヨードニウムトリフラート、(4−フルオロフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラート、N−ヒドロキシナフタルイミドトリフラート、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミドペルフルオロ−1−ブタンスルホン酸塩、N−ヒドロキシフタルイミドトリフラート、[4−{(2−ヒドロキシテトラデシル)オキシ}フェニル]フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモン酸塩、(4−ヨードフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラート、(4−メトキシフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラート、2−(4−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、(4−メチルフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラート、(4−メチルチオフェニル)メチルフェニルスルホニウムトリフラート、2−ナフチルジフェニルスルホニウムトリフラート、(4−フェノキシフェニル)ジフェニルサルホニウムトリフラート、(4−フェニルチオフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラート、チオビス(トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロリン酸塩)、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモン酸塩、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロリン酸塩、トリフェニススルホニウムペルフルオロ−1−ブタンスルホン酸塩、トリフェニルスルホニウムトリフラート、トリス(4−tert−ブチルフェニル)スルホニウムペルフルオロ−1−ブタンスルホン酸塩及びトリス(4−tert−ブチルフェニル)スルホニウムトリフラート。
幾つかの実施態様において、例えば液体PFPE前駆体のような、低表面エネルギー基材は硬化後、UV及び/又は可視光に対して透過性の高いエラストマーに変わる。幾つかの実施態様において、液体PFPE前駆体のような、この基材は、硬化して、酸素、二酸化炭素、窒素ガスなどに非常に透過性のあるエラストマーに変わり、生物学的液体/細胞、組織、器官及びこれらの内部及びこれらの表面に、上記の性質を有する組織体の生存の維持を可能にする特性を生み出す。
幾つかの実施態様において、低表面エネルギー基材から形成されたデバイスとしては、添加物が挙げられ、又はデバイスは、様々な添加物を持った膜として作られ、この膜は、デバイスの全体としての機能を促進できる、様々な物理的及び化学的特性を有する膜となる。幾つかの実施態様において、添加物及び/又は様々な膜は、酸素、二酸化炭素、窒素、線量、試薬、等の分子に対するデバイスの境界特性を増加する。
幾つかの実施態様において、低表面エネルギー基材から形成されたデバイスとしては、添加物が挙げられ、又はデバイスは、様々な添加物を持った膜として作られ、この膜は、デバイスの全体としての機能を促進できる、様々な物理的及び化学的特性を有する膜となる。幾つかの実施態様において、添加物及び/又は様々な膜は、酸素、二酸化炭素、窒素、線量、試薬、等の分子に対するデバイスの境界特性を増加する。
II.C.他の適切な基材。
幾つかの実施態様において、本出願の対象物質に関する使用に適切な材料として、フルオロアルキル官能基を有するポリジメチルシリオキサン(PDMS)を有するシリコン材料が挙げられ、次の構造を有する。
幾つかの実施態様において、本出願の対象物質に関する使用に適切な材料として、フルオロアルキル官能基を有するポリジメチルシリオキサン(PDMS)を有するシリコン材料が挙げられ、次の構造を有する。
ここで:
Rはアクリレート、メタクリレート及びビニル基で構成される部類から選択される;
Rfはフルオロアルキル鎖;及び
nは1から100,000までの整数。
異なる実施態様によると、新しいシリコン性基材としては、光硬化可能及び熱硬化可能成分が挙げられる。この様な異なる実施態様において、本明細書で記載されたように、シリコン性材料が二重に硬化可能なように、シリコン性材料は、1又は2以上の光硬化可能及び熱硬化可能成分を含む。本出願で開示した対象材料と両立するシリコン性材料は、本明細書及び本出願に参考文献として取り込まれた参照題材に記載されている。
Rはアクリレート、メタクリレート及びビニル基で構成される部類から選択される;
Rfはフルオロアルキル鎖;及び
nは1から100,000までの整数。
異なる実施態様によると、新しいシリコン性基材としては、光硬化可能及び熱硬化可能成分が挙げられる。この様な異なる実施態様において、本明細書で記載されたように、シリコン性材料が二重に硬化可能なように、シリコン性材料は、1又は2以上の光硬化可能及び熱硬化可能成分を含む。本出願で開示した対象材料と両立するシリコン性材料は、本明細書及び本出願に参考文献として取り込まれた参照題材に記載されている。
幾つかの実施態様において、本出願により開示された対象材料に関する使用に適切な材料としては、以下の部類から選択されたフッ素化したスチレンモノマーを含むスチレン材料が挙げられる:
ここで、Rfとしては、フッ素化アルキル鎖が挙げられる。
ここで:RはH原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基及び置換アリール基からなる部類から選ばれ;また
Rfとしては、−CH2−又は−CH2−CH2−スペーサーをペルフルオロアルキル鎖及びエステル連結の間に有するフッ素化アルキル鎖が挙げられる。幾つかの実施態様において、ペルフルオロアルキル基は水素置換体を有する。
幾つかの実施態様において、本出願に記載された対象材料の使用に適した基材としては、フッ素化したモノマーを有するトリアジンフルオロポリマーがある。
幾つかの実施態様において、メタセシス重合反応により重合、又は架橋される、フッ素化モノマー又はフッ素化オリゴマーとしては、官能性オレフィンが挙げられる。 幾つかの実施態様において、官能性オレフィンとしては、官能性環状オレフィンが挙げられる。
Rfとしては、−CH2−又は−CH2−CH2−スペーサーをペルフルオロアルキル鎖及びエステル連結の間に有するフッ素化アルキル鎖が挙げられる。幾つかの実施態様において、ペルフルオロアルキル基は水素置換体を有する。
幾つかの実施態様において、本出願に記載された対象材料の使用に適した基材としては、フッ素化したモノマーを有するトリアジンフルオロポリマーがある。
幾つかの実施態様において、メタセシス重合反応により重合、又は架橋される、フッ素化モノマー又はフッ素化オリゴマーとしては、官能性オレフィンが挙げられる。 幾つかの実施態様において、官能性オレフィンとしては、官能性環状オレフィンが挙げられる。
以下に理解されるように、本出願で開示された対象物質の実施態様によると、上記のようなPFPEウレタン4官能性メタクリレート材料は、本出願で開示された対象物質の材料及び方法として用いることができるか、又は本出願で開示された対象物質の方法は、本明細書で記載する他の材料及び方法とコンビネーションして使用することができる。
この図式によると、パートA,B,C及びDは本明細書で記載した基材に付加できる。パートAはUV硬化可能前駆体であり、またパートB及びCはウレタン系の熱硬化可能成分である。第4の成分、パートD,は末端がキャップ付けられた前駆体(例えば、末端キャップがスチレンである液体前駆体である)。
幾つかの実施態様において、パートDは、基材に含まれている潜在的なメタクリレート、アクリレート又はスチレン基と反応し、これにより基材に化学的相溶性又は表面安定化処理を加え、基材の官能性を増加させる。この系はウレタン系に関係して記載された、しかしながら、本明細書で記載した基材全てに適用できることが評価できよう。
幾つかの実施態様において、パートDは、基材に含まれている潜在的なメタクリレート、アクリレート又はスチレン基と反応し、これにより基材に化学的相溶性又は表面安定化処理を加え、基材の官能性を増加させる。この系はウレタン系に関係して記載された、しかしながら、本明細書で記載した基材全てに適用できることが評価できよう。
II.D.フッ素化オレフィンベースの材料
更に、幾つかの実施態様において、本明細書で用いる基材は、例えば、本明細書に参照として取り込まれている、Tangによる米国特許第6,512,063号に記載されている、少なくとも58重量パーセントのフッ素を有するフルオロエラストマーの様な、高度にフッ素化したフルオロエラストマーから選ばれる。このようなフルオロエラストマーは部分的にフッ素化する、又は過フッ素化可能であり、またフルオロエラストマーの重量当たり、25から70重量パーセントの第1モノマーの共重合単位(例えば、フッ化ビニリデン(VF2)又はテトラフルオロエチレン(TFE))を含有可能である。フルオロエラストマーの残りのユニットとしては、第1モノマーとは異なり、またフッ素含有性オレフィン、フッ素含有性ビニルエーテル、炭化水素オレフィン及びこれらのコンビネーションから成る部類より選択される、1又は2以上の更なる共重合モノマーが挙げられる。
更に、幾つかの実施態様において、本明細書で用いる基材は、例えば、本明細書に参照として取り込まれている、Tangによる米国特許第6,512,063号に記載されている、少なくとも58重量パーセントのフッ素を有するフルオロエラストマーの様な、高度にフッ素化したフルオロエラストマーから選ばれる。このようなフルオロエラストマーは部分的にフッ素化する、又は過フッ素化可能であり、またフルオロエラストマーの重量当たり、25から70重量パーセントの第1モノマーの共重合単位(例えば、フッ化ビニリデン(VF2)又はテトラフルオロエチレン(TFE))を含有可能である。フルオロエラストマーの残りのユニットとしては、第1モノマーとは異なり、またフッ素含有性オレフィン、フッ素含有性ビニルエーテル、炭化水素オレフィン及びこれらのコンビネーションから成る部類より選択される、1又は2以上の更なる共重合モノマーが挙げられる。
これらのフルオロエラストマーとしては、VITON(R)(DuPont Dow Elastomers,Wilmington,Delaware,合衆国)及び、Unger他による米国特許第6,408,878号にあるミクロ流体的応用のために記載された、Kel−Fタイプポリマーが挙げられる。これらの市販の入手可能ポリマーのムーネイ粘度は、しかしながら、約40から65(121℃においてML1+10)であり、粘着性の、生ゴムのような粘度を有する。硬化すると、これらは、固く不透明な固体になる。現在有用であるが、VITON(R)及びKel−Fはミクロスケール成型には、有用性に限界がある。同様な構成成分であるが低粘度であり、より大きな透明度を有する、硬化可能材料が、本明細書で述べる応用のために、本技術分野で必要とされる。より低粘度の粘度(例えば、2から32(121℃でML1+10)又はより好ましくは、20℃で80から2000cSt組成では、より効率の良く硬化できる注入可能液体が作られる。
具体的に述べると、フッ素含有オレフィンには、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン(HFP),テトラフルオロエチレン(TFE),1,2,3,3,3−ペンタフルオロプロペン(1−HPFP),クロロトリフルオロエチレン(CTFE)及びフッ化ビニルが挙げられるが、これらに制限されない。
具体的に述べると、フッ素含有オレフィンには、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン(HFP),テトラフルオロエチレン(TFE),1,2,3,3,3−ペンタフルオロプロペン(1−HPFP),クロロトリフルオロエチレン(CTFE)及びフッ化ビニルが挙げられるが、これらに制限されない。
フッ素含有ビニルエーテルとしては、ペルフルオロ(アルキルビニル)エーテル類(PAVEs)が挙げられるが、これらに制限されない。具体的には、モノマーとして使用されるペルフルオロ(アルキルビニル)エーテルとしては、以下の化学式のペルフルオロ(アルキルビニル)エーテル類があげられる:
CF2=CFO(RfO)n(RfO)mRf
ここで、各Rfは独立に直鎖型又は分枝型C1−C6ペルフルオロアルキレン基であり、m及びnはそれぞれ独立に0から10までの整数である。
CF2=CFO(RfO)n(RfO)mRf
ここで、各Rfは独立に直鎖型又は分枝型C1−C6ペルフルオロアルキレン基であり、m及びnはそれぞれ独立に0から10までの整数である。
幾つかの実施態様において、ペルフルオロ(アルキルビニル)エーテルとしては、次の化学式のモノマーが挙げられる:
CF2=CFO(CF2CFXO)nRf
ここで、XはF原子又はCF3基であり、nは0〜5の整数、またRfは直鎖型又は分枝型C1−C6ペルフルオロアルキレン基である。幾つかの実施態様において、nは0又は1であり、またRfとしては、1から3個の炭素原子が挙げられる。このようなペルフルオロ(アルキルビニル)エーテルの代表例としては、ペルフルオロ(メチルビニル)エーテル(PMVE)及びペルフルオロ(プロピルビニル)エーテル(PPVE)が挙げられる。
CF2=CFO(CF2CFXO)nRf
ここで、XはF原子又はCF3基であり、nは0〜5の整数、またRfは直鎖型又は分枝型C1−C6ペルフルオロアルキレン基である。幾つかの実施態様において、nは0又は1であり、またRfとしては、1から3個の炭素原子が挙げられる。このようなペルフルオロ(アルキルビニル)エーテルの代表例としては、ペルフルオロ(メチルビニル)エーテル(PMVE)及びペルフルオロ(プロピルビニル)エーテル(PPVE)が挙げられる。
幾つかの実施態様において、ペルフルオロ(アルキルビニル)エーテルとしては、次の化学式のモノマーが挙げられる:
CF2CFO[(CF2)mCF2CFZO]nRf
ここで、Rfは1−6個の炭素原子を有するペルフルオロアルキル基であり、mは0又は1の整数、nは0〜5の整数、またZはF原子又はCF3基である。幾つかの実施態様において、RfはC3F7であり、mは0、またnは1である。
CF2CFO[(CF2)mCF2CFZO]nRf
ここで、Rfは1−6個の炭素原子を有するペルフルオロアルキル基であり、mは0又は1の整数、nは0〜5の整数、またZはF原子又はCF3基である。幾つかの実施態様において、RfはC3F7であり、mは0、またnは1である。
幾つかの実施態様において、ペルフルオロ(アルキルビニル)エーテルモノマーとしては、次の化学式の化合物が挙げられる:
CF2=CFO[(CF2CF{CF3}O)n(CF2CF2CF2O)m(CF2)p]CxF2x+1
ここで、m及びnはそれぞれ独立に0〜10の整数であり、pは0〜3の整数であり、またxは1〜5の整数である。幾つかの実施態様において、nは0又は1であり、mは0又は1であり、またxは1である。
CF2=CFO[(CF2CF{CF3}O)n(CF2CF2CF2O)m(CF2)p]CxF2x+1
ここで、m及びnはそれぞれ独立に0〜10の整数であり、pは0〜3の整数であり、またxは1〜5の整数である。幾つかの実施態様において、nは0又は1であり、mは0又は1であり、またxは1である。
他の有用なペルフルオロ(アルキルビニルエーテル類)として挙げられるものは:
CF2=CFOCF2CF(CF3)O(CF2O)mCnF2n+1
ここで、nは1〜5の整数であり、mは1から3の間の整数である。幾つかの実施態様において、nは1である。
CF2=CFOCF2CF(CF3)O(CF2O)mCnF2n+1
ここで、nは1〜5の整数であり、mは1から3の間の整数である。幾つかの実施態様において、nは1である。
ペルフルオロ(アルキルビニル)エーテル(PAVE)の共重合ユニットが今述べるフルオロエラストマーに存在する幾つかの実施態様において、PAVE含有量は、フルオロエラストマーの全量に対して、一般的に25から75重量パーセントの範囲である。もし、このPAVEがペルフルオロ(メチルビニル)エーテル(PMVE)ならば、フルオロエラストマーは、30から55wt%の共重合PMVEユニットを含む。
本明細書に記載するフルオロエラストマーに有用な炭化水素オレフィンとしては、エチレン(E)及びプロピレン(P)が挙げられるが、これらに制限されない。炭化水素オレフィンの共重合単位が本明細書に記載のフルオロエラストマーに存在する実施態様において、炭化水素オレフィンは一般的に4から30重量パーセントである。
更に、本明細書に記載のフルオロエラストマーは、幾つかの実施態様において、1又は2以上の硬化位置を有するモノマーを含む。適切な硬化位置を有するモノマーの例としては:i)臭素含有オレフィン類;ii)ヨウ素含有オレフィン類;iii)臭素含有ビニルエーテル類;iv)ヨウ素含有ビニルエーテル類;v)ニトリル基を有するフッ素含有オレフィン類;vi)ニトリル基含有フッ素含有ビニルエーテル類;vii)1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロペン(2−HPFP);viii)ペルフルオロ(2−フェノキシプロピルビニル)エーテル;及びix)非共役的ジエン類が挙げられる。
本明細書に記載するフルオロエラストマーに有用な炭化水素オレフィンとしては、エチレン(E)及びプロピレン(P)が挙げられるが、これらに制限されない。炭化水素オレフィンの共重合単位が本明細書に記載のフルオロエラストマーに存在する実施態様において、炭化水素オレフィンは一般的に4から30重量パーセントである。
更に、本明細書に記載のフルオロエラストマーは、幾つかの実施態様において、1又は2以上の硬化位置を有するモノマーを含む。適切な硬化位置を有するモノマーの例としては:i)臭素含有オレフィン類;ii)ヨウ素含有オレフィン類;iii)臭素含有ビニルエーテル類;iv)ヨウ素含有ビニルエーテル類;v)ニトリル基を有するフッ素含有オレフィン類;vi)ニトリル基含有フッ素含有ビニルエーテル類;vii)1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロペン(2−HPFP);viii)ペルフルオロ(2−フェノキシプロピルビニル)エーテル;及びix)非共役的ジエン類が挙げられる。
臭素化した硬化位置をもつモノマーは他のハロゲン原子、好ましくはフッ素原子、を含有できる。臭素化したオレフィン硬化位置を有するモノマーの例は、CF2=CFOCF2CF2CF2OCF2CF2Br;ブロモトリフルオロエチレン;4−ブロモー3,3,4,4−テトラフルオロブテンー1(BTFB),及び、臭化ビニル、1−ブロモ−2,2−ジフルオロエチレン;ペルフルオロアリールボウロマイド;4−ブロモ−1,1,2−トリフルオロブテン−1;4−ブロモ−1,1,3,3,4,4,−ヘキサフルオロブテン;4−ブロモ−3−クロロ−1,1,3,4,4−ペンタフルオロブテン;6−ブロモ−5,5,6,6−テトラフルオロヘキサン;4−ブロモペルフルオロブテン−1及び3,3−ジフルオロアリルブロマイド等の様な他の化合物である。臭素化ビニルエーテル硬化位置を有するモノマーとしては、2−ブロモ−ペルフルオロエチルペルフルオロビニルエーテル及びCF2BrCF2O−CF=CF2のようなクラスCF2Br−Rf−O−CF=CF2(ここでRfはペルフルオロアルキレン基である)のフッ素化した化合物及びCH3OCF=CFBr又はCF3CH2OCF=CFBrの様な、クラスROCF=CFBr又はROCBr=CF2(ここで、Rは低級アルキル基又はフッ素化アルキル基である)のフルオロビニルエーテル類が挙げられる。
適切なヨード化硬化位置モノマー類としては、次の化学式のヨード化オレフィンが挙げられる:CHR=CH−Z−CH2CHR−I、ここでRは、−H又は−CH3であり;Zは、直鎖型又は分枝型、任意に1又は2以上のエーテル酸素原子を含むC1からC18(ペル)フルオロアルキレンラジカル、又は米国特許第5,674,959号で開示された(ペル)フルオロポリオキシアルキレンラジカルである。有用なヨード化硬化位置モノマー類の他の例は、次の化学式の不飽和エーテル類である:I(CH2CF2CF2)nOCF=CF2及びICH2CF2O[CF(CF3)CF2O]nCF=CF2,等であり、ここで、nは、米国特許第5,717,036号に開示されたように、1から3までの整数である。更に、ヨードエチレン、4−ヨード−3,3,4,4−テトラフルオロブテン−1(ITFB);3−クロロ−4−ヨード−3,4,4−トルフルオロブテン;2−ヨード−1,1,2,2−テトラフルオロ−1−(ビニルオキシ)エタン;2−ヨード−1−(ペルフルオロビニルオキシ)−1,1,2,2−テトラフルオロエチレン;1.1.2.3.3.3−ヘキサフルオロー2−ヨード−1−(ペルフルオロビニルオキシ)プロパン;2−ヨードエチルビニルエーテル;3,3,4,5,5,5−ヘキサフルオロ−4−ヨードペンテン;及び米国特許第4,694,045号に開示されたヨードトリフルオロエチレンを含む。ヨウ化アリール及び2−ヨード−ペルフルオロエチルペルフルオロビニルエーテルもまた、有用な硬化位置モノマー類である。
有用なニトリル含有の硬化位置モノマー類としては、以下に示す化学式の化合物が挙げられる:
CF2=CF−O(CF2)n−CN
ここで、nは2〜12の整数である。幾つかの実施態様において、nは2〜6の整数である。
CF2=CF−O[CF2−CF(CF)−O]n−CF2−CF(CF3)−CN
ここで、nは0〜4の整数である。幾つかの実施態様において、nは0〜2の整数である。
CF2=CF−[OCF2CF(CF3)]x−O−(CF2)n−CN
ここで、xは1又は2であり、またnは1〜4の整数である;及び
CF2=CF−O−(CF2)n−O−CF(CF3)−CN
ここで、nは2〜4の整数である。幾つかの実施態様において、硬化位置モノマー類はニトリル基及びトリフルオロビニルエーテル基を有する過フッ素化したポリエーテル類である。
CF2=CF−O(CF2)n−CN
ここで、nは2〜12の整数である。幾つかの実施態様において、nは2〜6の整数である。
CF2=CF−O[CF2−CF(CF)−O]n−CF2−CF(CF3)−CN
ここで、nは0〜4の整数である。幾つかの実施態様において、nは0〜2の整数である。
CF2=CF−[OCF2CF(CF3)]x−O−(CF2)n−CN
ここで、xは1又は2であり、またnは1〜4の整数である;及び
CF2=CF−O−(CF2)n−O−CF(CF3)−CN
ここで、nは2〜4の整数である。幾つかの実施態様において、硬化位置モノマー類はニトリル基及びトリフルオロビニルエーテル基を有する過フッ素化したポリエーテル類である。
幾つかの実施態様において、硬化位置モノマーは次の化学式の化合物である:
CF2=CFOCF2CF(CF3)OCF2CF2CN
即ち、ペルフルオロ(8−シアノ−5−メチル−3,6−ジオキサ−1−オクテン)又は8−CNVE。
非共役的硬化位置モノマー類の例としては、1,4−ペンタジエン;1,5−ヘキサジエン;1,7−オクタジエン;3,3,4,4−テトラフルオロ−1,5−ヘキサジエン;及びカナダ特許第2,067,891号及びヨーロッパ特許第0784064A1号に開示された化合物が挙げられるが、これらにより制限されない。適切なトリエンとしては、8−メチル−4−エチリデン−1,7−オクタジエンがある。
CF2=CFOCF2CF(CF3)OCF2CF2CN
即ち、ペルフルオロ(8−シアノ−5−メチル−3,6−ジオキサ−1−オクテン)又は8−CNVE。
非共役的硬化位置モノマー類の例としては、1,4−ペンタジエン;1,5−ヘキサジエン;1,7−オクタジエン;3,3,4,4−テトラフルオロ−1,5−ヘキサジエン;及びカナダ特許第2,067,891号及びヨーロッパ特許第0784064A1号に開示された化合物が挙げられるが、これらにより制限されない。適切なトリエンとしては、8−メチル−4−エチリデン−1,7−オクタジエンがある。
フルオロエラストマーがパーオキシドにより硬化される実施態様において、硬化位置モノマーは好ましくは、4−ブロモ−3,3,4,4−テトラフルオロブテンー1(BTFB);4−ヨード−3,3,4,4−テトラフルオロブテン−1(ITFB);ヨウ化アリル;ブロモトリフルオロエチレン及び8−CNVEから成る部類より選択される。フルオロエラストマーがポリオールで硬化される実施態様において、2−HPFP又はペルフルオロ(2−フェノキシプロピルビニル)エーテルが、好ましい硬化位置モノマーである。フルオロエラストマーがテトラアミンで硬化される実施態様において、ビス(アミノフェノール)又はビス(チオアミノフェノール)、8−CNVEが好ましい硬化位置モノマーである。
硬化位置モノマーのユニットの濃度は、本明細書で開示したフルオロエラストマーに存在する場合、一般に、(フルオロエラストマーの全重量当たり)0.05−10重量%、好ましくは、0.05−5wt%、また最も好ましくは、0.05から3重量%の間である。
硬化位置モノマーのユニットの濃度は、本明細書で開示したフルオロエラストマーに存在する場合、一般に、(フルオロエラストマーの全重量当たり)0.05−10重量%、好ましくは、0.05−5wt%、また最も好ましくは、0.05から3重量%の間である。
本出願において開示された対象材料に使用されるフルオロエラストマーとしては、少なくとも58重量%フッ素を有し、また以下i)からx vi)の共重合ユニットを有する材料が挙げられるが、これらによって制限されるものではない:i)フッ化ビニリデン及びヘキサフルオロプロピレン;ii)フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン及びテトラフルオロエチレン;iii)フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン及び4−ブロモ−3,3,4,4−テトラフルオロブテン−1;iv)フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン及び4−ヨード−3,3,4,4−テトラフルオロブテン−1;v)フッ化ビニリデン、ペルフルオロ(メチルビニル)エーテル、テトラフルオロエチレン及び4−ブロモ−3,3,4,4−テトラフルオロブテン−1;vi)フッ化ビニリデン、ペルフルオロ(メチルビニル)エーテル、テトラフルオロエチレン及び4−ヨード−3,3,4,4−テトラフルオロブテン−1;vii)フッ化ビニリデン、ペルフルオロ(メチルビニル)エーテル、テトラフルオロエチレン及び1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロペン;viii)テトラフルオロエチレン、ペルフルオロ(メチルビニル)エーテル及びエチレン;ix)テトラフルオロエチレン、ペルフルオロ(メチルビニル)エーテル、エチレン及び4−ブロモ−3,3,4,4−テトラフルオロブテン−1;x)テトラフルオロエチレン、ペルフルオロ(メチルビニル)エーテル、エチレン及び4−ヨード−3,3,4,4−テトラフルオロブテン−1;xi)テトラフルオロエチレン、プロピレン及びフッ化ビニリデン;xii)テトラフルオロエチレン及びペルフルオロ(メチルビニル)エーテル;xiii)テトラフルオロエチレン、ペルフルオロ(メチルビニル)エーテル及びペルフルオロ(8−シアノ−5−メチル−3,6−ジオキサ−1−オクテン);xiv)テトラフルオロエチレン、ペルフルオロ(メチルビニル)エーテル及び4−ブロモ−3,3,4,4−テトラフルオロブテン−1;xv)テトラフルオロエチレン、ペルフルオロ(メチルビニル)エーテル及び4−ヨード−3,3,4,4−テトラフルオロブテン−1;及びxvi)テトラフルオロエチレン、ペルフルオロ(メチルビニル)エーテル及びペルフルオロ(2−フェノキシプロピルビニル)エーテル。
更に、ヨウ素を含む末端基、臭素を含む末端基、又はこれらのコンビネーションは、フルオロエラストマー調整時に、鎖移動試薬又は分子量調節試薬を使用した結果として、任意に片側の、又は両側のフルオロエラストマーポリマー鎖末端に存在する。鎖移動試薬量は、用いた場合、フルオロエラストマー中のヨウ素又は臭素レベルが0.0005−5重量%の範囲、好ましくは0.05−3重量%の範囲になるように計算される。
鎖移動試薬の例としては、ポリマー分子の片側又は両側に結合ヨウ素が取り込ませるようなヨウ素含有化合物が挙げられる。ヨウ化メチレン;1,4−ジヨードペルフルオロ−n−ブタン;及び1,6−ジヨード−3,3,4,4−テトラフルオロヘキサンはこの様な試薬の代表例である。他のヨウ素化した鎖移動試薬としては、1,3−ジヨードペルフルオロプロパン;1,6−ジヨードペルフルオロヘキサン;1,3−ジヨード−2−クロロペルフルオロプロパン、1,2−ジ(ヨードジフルオロメチル)ペルフルオロシクロブタン;モノヨードペルフルオロエタン;モノヨードペルフルオロブタン;2−ヨード−1−ヒドロペルフルオロエタン等が挙げられる。また、ヨーロッパ特許第0868447A1号に開示されたシアノ−ヨード鎖移動試薬も挙げられる。ジヨード化鎖移動試薬は、特に好ましい。
臭素化鎖移動試薬の例としては、1−ブロモ−2−ヨードペルフルオロエタン;1−ブロモ−3−ヨードペルフルオロプロパン;1−ヨード−2−ブロモー1,1ジフルオロエタン及び米国特許第5,151,492号に開示された他の化合物が挙げられる。
他の鎖移動試薬は、米国特許第3,707,529号に開示された化合物も挙げられる。
この様な試薬の例として、イソプロパノール、ジエチルマロネート、酢酸エチル、四塩化炭素、アセトン及びドデシルメルカプタンが挙げられる。
鎖移動試薬の例としては、ポリマー分子の片側又は両側に結合ヨウ素が取り込ませるようなヨウ素含有化合物が挙げられる。ヨウ化メチレン;1,4−ジヨードペルフルオロ−n−ブタン;及び1,6−ジヨード−3,3,4,4−テトラフルオロヘキサンはこの様な試薬の代表例である。他のヨウ素化した鎖移動試薬としては、1,3−ジヨードペルフルオロプロパン;1,6−ジヨードペルフルオロヘキサン;1,3−ジヨード−2−クロロペルフルオロプロパン、1,2−ジ(ヨードジフルオロメチル)ペルフルオロシクロブタン;モノヨードペルフルオロエタン;モノヨードペルフルオロブタン;2−ヨード−1−ヒドロペルフルオロエタン等が挙げられる。また、ヨーロッパ特許第0868447A1号に開示されたシアノ−ヨード鎖移動試薬も挙げられる。ジヨード化鎖移動試薬は、特に好ましい。
臭素化鎖移動試薬の例としては、1−ブロモ−2−ヨードペルフルオロエタン;1−ブロモ−3−ヨードペルフルオロプロパン;1−ヨード−2−ブロモー1,1ジフルオロエタン及び米国特許第5,151,492号に開示された他の化合物が挙げられる。
他の鎖移動試薬は、米国特許第3,707,529号に開示された化合物も挙げられる。
この様な試薬の例として、イソプロパノール、ジエチルマロネート、酢酸エチル、四塩化炭素、アセトン及びドデシルメルカプタンが挙げられる。
II.E.光硬化及び熱硬化の2重硬化可能材料。
他の実施態様によると、本明細書に開示された対象材料に従う材料は、1又は2以上の光硬化可能構成成分及び熱硬化可能構成成分を含む。ある実施態様において、材料を多重に硬化することができるように、光硬化可能構成成分は、熱硬化可能構成成分とは独立である。多重硬化を受け得る材料は、例えば、膜状のデバイスの作成、又はデバイスの他のデバイス又はデバイスの部品への付着、の目的に有用である。例えば、光硬化可能な及び熱硬化可能な構成成分を有する液体材料は、第1の硬化により、例えば、光硬化工程又は、熱硬化工程を介して、第1デバイスを形成できる。次に、光硬化した又は熱硬化した第1デバイスは、同じ材料又はこれらに類似した全ての材料の第2デバイスに接着できるが、この第2デバイスは、熱硬化又は光硬化可能であり、また第1デバイスの材料に結合可能である。第1硬化により未活性化などの成分についても、第1デバイス及び第2デバイスを互いに隣接するように位置づける事により、第1及び第2デバイスを熱硬化又は光硬化させる。その後、光硬化過程で未活性な、第1デバイスの熱硬化可能構成成分、又は第1熱硬化で未活性な第1デバイスの光硬化構成成分は、活性化を受け、第2のデバイスと結合する。これにより、第1及び第2デバイスは互いに接着する。硬化工程の順番は独立であり、また熱硬化は光硬化に引き続いて行われ、又は光硬化は熱硬化に引き継いで行われると言うことは、当業者の一人により理解されるであろう。
他の実施態様によると、本明細書に開示された対象材料に従う材料は、1又は2以上の光硬化可能構成成分及び熱硬化可能構成成分を含む。ある実施態様において、材料を多重に硬化することができるように、光硬化可能構成成分は、熱硬化可能構成成分とは独立である。多重硬化を受け得る材料は、例えば、膜状のデバイスの作成、又はデバイスの他のデバイス又はデバイスの部品への付着、の目的に有用である。例えば、光硬化可能な及び熱硬化可能な構成成分を有する液体材料は、第1の硬化により、例えば、光硬化工程又は、熱硬化工程を介して、第1デバイスを形成できる。次に、光硬化した又は熱硬化した第1デバイスは、同じ材料又はこれらに類似した全ての材料の第2デバイスに接着できるが、この第2デバイスは、熱硬化又は光硬化可能であり、また第1デバイスの材料に結合可能である。第1硬化により未活性化などの成分についても、第1デバイス及び第2デバイスを互いに隣接するように位置づける事により、第1及び第2デバイスを熱硬化又は光硬化させる。その後、光硬化過程で未活性な、第1デバイスの熱硬化可能構成成分、又は第1熱硬化で未活性な第1デバイスの光硬化構成成分は、活性化を受け、第2のデバイスと結合する。これにより、第1及び第2デバイスは互いに接着する。硬化工程の順番は独立であり、また熱硬化は光硬化に引き続いて行われ、又は光硬化は熱硬化に引き継いで行われると言うことは、当業者の一人により理解されるであろう。
他の実施態様において、複数の熱硬化可能構成成分を材料に含めることができて、材料を何度も、別々に、熱硬化をさせることができる。例えば、複数の熱硬化可能構成成分は、異なる活性化温度を有することが可能であり、これにより材料は第1温度範囲において、第1熱硬化を受け、第2の温度範囲で第2熱硬化を受ける。
従って、材料は複数の他の材料と接着でき、従って多層の薄膜デバイスが形成される。
UV硬化可能成分として適切な末端キャップ試薬に適した化学基の例としては:メタクリレート基類、アクリレート基類、スチレン基類、エポキシド基類、シクロブタン基類及び、他の2+2シクロ付加物類、これらのコンビネーションなどが挙げられる。末端キャップ熱硬化可能な成分に適した化学基対の例としては:エポキシ基/アミン基、エポキシ基/水酸基、カルボン酸基/アミン基、カルボン酸基/水酸基、エステル基/アミン基、エステル基/水酸基、アミン基/無水物、酸ハロゲン化物基/水酸基、酸ハロゲン化物基/アミン基、アミン基/ハロゲン化物基、水酸基/ハロゲン化物基、水酸基/クロロシラン基、アジド基/アセチレン基及びグルブ型触媒を用いる他の所謂"クリック化学"反応及びメタセシス反応、これらのコンビネーションなどが挙げられる。
従って、材料は複数の他の材料と接着でき、従って多層の薄膜デバイスが形成される。
UV硬化可能成分として適切な末端キャップ試薬に適した化学基の例としては:メタクリレート基類、アクリレート基類、スチレン基類、エポキシド基類、シクロブタン基類及び、他の2+2シクロ付加物類、これらのコンビネーションなどが挙げられる。末端キャップ熱硬化可能な成分に適した化学基対の例としては:エポキシ基/アミン基、エポキシ基/水酸基、カルボン酸基/アミン基、カルボン酸基/水酸基、エステル基/アミン基、エステル基/水酸基、アミン基/無水物、酸ハロゲン化物基/水酸基、酸ハロゲン化物基/アミン基、アミン基/ハロゲン化物基、水酸基/ハロゲン化物基、水酸基/クロロシラン基、アジド基/アセチレン基及びグルブ型触媒を用いる他の所謂"クリック化学"反応及びメタセシス反応、これらのコンビネーションなどが挙げられる。
本出願で開示した、多層膜のデバイスを互いに、又は分離した表面に接着させる方法は、PDMS及び他の液状の高分子を含め、様々な他の材料と同様PFPE性材料に適用できる。本出願で開示した接着方法の使用に適した液状の高分子材料の例としては、PDMS,ポリ(テトラメチレンオキシド)、ポリ(エチレンオキシド)、ポリ(オキセタン)、ポリイソプレン、ポリブタジエン及び登録商標VITON(R)及びKALREZ(R)で入手できる、フルオロオレフィン性フルオロエラストマー類が挙げられるが、これらに制限されない。
従って、本出願で開示した方法は、異なる高分子材料の膜を互いに接着させ、液晶ディスプレイのための配向層、ミクロ流体デバイス、医用デバイス、外科的デバイス、手段、医用デバイスの部品、移植用材料、薄板などの、デバイスを作るために用いられる。例えば、多層PFPE及びPDMS膜は、所与の液晶ディスプレイデバイス、ミクロ流体、医用デバイスなどの中で、互いに接着させられる。
従って、本出願で開示した方法は、異なる高分子材料の膜を互いに接着させ、液晶ディスプレイのための配向層、ミクロ流体デバイス、医用デバイス、外科的デバイス、手段、医用デバイスの部品、移植用材料、薄板などの、デバイスを作るために用いられる。例えば、多層PFPE及びPDMS膜は、所与の液晶ディスプレイデバイス、ミクロ流体、医用デバイスなどの中で、互いに接着させられる。
III.熱フリーラジカル硬化工程によるデバイス作成法
幾つかの実施態様において、本出願で開示した対象物質は、液晶ディスプレイデバイスのための配向層作成方法を提供し、これにより例えば液体ペルフルオロポリエーテル(PFPE)前駆体材料のような、官能性の基材を、パターンのある基板、即ち、マスター、と接触させ、フリーラジカル開始剤を用いて熱的に硬化する。本明細書においてより具体的に述べるように、幾つかの実施態様において、液体PFPE前駆体材料を完全に硬化させ、完全に硬化したPFPEネットワークを形成させ、次にこれをパターンのある基板から取り外し、第2の基板と接触させ、可逆的、ヘルメティックシールを作る。
幾つかの実施態様において、液体PFPE前駆体材料を、部分的に硬化させ、部分的に硬化したPFPEネットワークを作る。幾つかの実施態様において、部分的に硬化したネットワークを、第2のPFPE材料の部分的に硬化した膜と接触させ、完全な硬化反応が行われ、これにより、PFPE膜の間に永久的結合ができる。
更に、部分的に硬化したPFPEネットワークを、ポリ(ジメチルシロキサン)、又は他の高分子のような、他の高分子材料を含む膜又は基板と接触させることが可能で、その後熱硬化を行い、PFPEネットワークが他の高分子材料と接着する。更に、部分的に硬化したPFPEネットワークを、ガラス、石英、又は珪素のような、固体基板と接触させることが可能で、シラン結合試薬を用いて、基板と結合させられる。
幾つかの実施態様において、本出願で開示した対象物質は、液晶ディスプレイデバイスのための配向層作成方法を提供し、これにより例えば液体ペルフルオロポリエーテル(PFPE)前駆体材料のような、官能性の基材を、パターンのある基板、即ち、マスター、と接触させ、フリーラジカル開始剤を用いて熱的に硬化する。本明細書においてより具体的に述べるように、幾つかの実施態様において、液体PFPE前駆体材料を完全に硬化させ、完全に硬化したPFPEネットワークを形成させ、次にこれをパターンのある基板から取り外し、第2の基板と接触させ、可逆的、ヘルメティックシールを作る。
幾つかの実施態様において、液体PFPE前駆体材料を、部分的に硬化させ、部分的に硬化したPFPEネットワークを作る。幾つかの実施態様において、部分的に硬化したネットワークを、第2のPFPE材料の部分的に硬化した膜と接触させ、完全な硬化反応が行われ、これにより、PFPE膜の間に永久的結合ができる。
更に、部分的に硬化したPFPEネットワークを、ポリ(ジメチルシロキサン)、又は他の高分子のような、他の高分子材料を含む膜又は基板と接触させることが可能で、その後熱硬化を行い、PFPEネットワークが他の高分子材料と接着する。更に、部分的に硬化したPFPEネットワークを、ガラス、石英、又は珪素のような、固体基板と接触させることが可能で、シラン結合試薬を用いて、基板と結合させられる。
III.A. エラストマー材料のパターンのある膜の形成方法
幾つかの実施態様において、本出願で開示した対象物質は、エラストマー基材のパターンのある膜の作成方法を提供する。本出願で開示した方法は、本明細書で記載されたフルオロオレフィンベース材料ばかりでなく、本明細書で記載されたペルフルオロポリエーテル材料に関する使用に適している。より高い粘度のPFPE材料を用いる利点は、特に、高分子量の架橋を可能にすることである。
高分子量の架橋は、材料の弾性的特性を改善し、特に、発泡の亀裂を防ぐことができる。図1A−1Cを参照すると、本出願で開示された対象材料のある実施態様が示されている。***突出部104のある、パターンのある表面102を有する基板100が表現されている。従って、基板100のパターンのある表面102には、少なくとも1個の、パターンを形成する、***突出部104がある。幾つかの実施態様において、基板100のパターンのある表面102には、複数の、複雑なパターンを形作る、***突出部104がある。
図1Bに最も良く示されているように、液晶前駆体材料106は、基板100のパターンのある表面102上に配置されている。図1Bに示すように、液体前駆体材料102は、処理工程Trで処理される。液体前駆体材料106を処理すると、エラストマー材料(図1Cに示すように)のパターンのある膜108が、形成される。
幾つかの実施態様において、本出願で開示した対象物質は、エラストマー基材のパターンのある膜の作成方法を提供する。本出願で開示した方法は、本明細書で記載されたフルオロオレフィンベース材料ばかりでなく、本明細書で記載されたペルフルオロポリエーテル材料に関する使用に適している。より高い粘度のPFPE材料を用いる利点は、特に、高分子量の架橋を可能にすることである。
高分子量の架橋は、材料の弾性的特性を改善し、特に、発泡の亀裂を防ぐことができる。図1A−1Cを参照すると、本出願で開示された対象材料のある実施態様が示されている。***突出部104のある、パターンのある表面102を有する基板100が表現されている。従って、基板100のパターンのある表面102には、少なくとも1個の、パターンを形成する、***突出部104がある。幾つかの実施態様において、基板100のパターンのある表面102には、複数の、複雑なパターンを形作る、***突出部104がある。
図1Bに最も良く示されているように、液晶前駆体材料106は、基板100のパターンのある表面102上に配置されている。図1Bに示すように、液体前駆体材料102は、処理工程Trで処理される。液体前駆体材料106を処理すると、エラストマー材料(図1Cに示すように)のパターンのある膜108が、形成される。
図1Cに示すように、エラストマー材料のパターンのある膜108には、パターンのある表面108の底面に形成される凹部110がある。凹部110の寸法は、基板100のパターンのある表面102の***突出部104に対応する。幾つかの実施態様において、凹部110には、少なくとも1個の溝112があり、本出願で開示された対象物質の幾つかの実施態様において、ミクロスケールの溝を有する。パターンのある膜108を基板100のパターンのある表面102から取り外し、パターンのある溝の付いたデバイス114を作る。幾つかの実施態様において、パターンのある溝の付いたデバイス114の取り外しは、デバイスの下側をゆっくり濡らし、パターンのある基板から外す、"リフトオフ"溶媒を用いて行う。この様な溶媒の例としては、デバイス又はパターンのある溝の付いたデバイスの官能性成分と不都合な相互作用をしない全ての溶媒が挙げられるが、これらに制限されない。この様な溶媒の例として:水、イソプロピルアルコール、アセトン、N−メチルピロリジノン及びジメチルホルムアミドなどが挙げられるが、これらに制限されない。幾つかの実施態様において、パターンのある溝の付いたデバイス114は、液晶ディスプレイデバイスの配向層に使うことができる。
幾つかの実施態様において、パターンのある基板としては、エッチングしたシリコンウエファーが挙げられる。幾つかの実施態様において、パターンのある基板としては、光耐性のパターンのある基板が挙げられる。
幾つかの実施態様において、パターンのある基板としては、エッチングしたシリコンウエファーが挙げられる。幾つかの実施態様において、パターンのある基板としては、光耐性のパターンのある基板が挙げられる。
幾つかの実施態様において、パターンのある基板に、塗布処理を行い、この処理は、パターンのある基板からデバイスを外す上で役立ち、又はパターンのある基板を構成するフォトレジスト層上の潜伏した反応基との反応を阻害する。塗布の例としては、シラン、又は金/パラジウム塗布の様な、プラズマから蒸着した金属の薄フィルムが挙げられるが、これらに制限されない。本出願で開示した対象材料の目的のために、パターンのある基板は当業者が知る如何なる加工方法で作られても良く、光リソグラフィー、電子線リソグラフィー及びイオンミリングが挙げられるが、これらに制限されない。
幾つかの実施態様において、ペルフルオロポリエーテルのパターンのある膜の厚さは、約0.1μmと約100μmの間である。幾つかの実施態様において、ペルフルオロポリエーテルのパターンのある膜の厚さは、約0.1mmと約10mmの間である。幾つかの実施態様において、ペルフルオロポリエーテルのパターンのある膜の厚さは、約1μmと約50μmの間である。幾つかの実施態様において、ペルフルオロポリエーテルのパターンのある膜の厚みは、約20μmである。幾つかの実施態様において、ペルフルオロポリエーテルのパターンのある膜の厚みは、約5mmである。
幾つかの実施態様において、ペルフルオロポリエーテルのパターンのある膜には、複数のミクロスケールの溝がある。幾つかの実施態様において、溝の幅は、約0.01μmから約1000μmの範囲;約0.05μmから約1000μmの範囲;及び/又は約1μmと約1000μmの範囲である。幾つかの実施態様において、溝の幅は、約1μmから約500μmの範囲;約1μmから約250μmの範囲;及び/又は約10μmから約200μmの範囲である。典型的な溝の幅としては、0.1μm、1μm、2μm、5μm、10μm、20μm、30μm、40μm、50μm、60μm、70μm、80μm、90μm、100μm、110μm、120μm、130μm、140μm、150μm、160μm、170μm、180μm、190μm、200μm、210μm、220μm、230μm、240μm及び250μmが挙げられるが、これらに制限されない。
幾つかの実施態様において、ペルフルオロポリエーテルのパターンのある膜の厚さは、約0.1μmと約100μmの間である。幾つかの実施態様において、ペルフルオロポリエーテルのパターンのある膜の厚さは、約0.1mmと約10mmの間である。幾つかの実施態様において、ペルフルオロポリエーテルのパターンのある膜の厚さは、約1μmと約50μmの間である。幾つかの実施態様において、ペルフルオロポリエーテルのパターンのある膜の厚みは、約20μmである。幾つかの実施態様において、ペルフルオロポリエーテルのパターンのある膜の厚みは、約5mmである。
幾つかの実施態様において、ペルフルオロポリエーテルのパターンのある膜には、複数のミクロスケールの溝がある。幾つかの実施態様において、溝の幅は、約0.01μmから約1000μmの範囲;約0.05μmから約1000μmの範囲;及び/又は約1μmと約1000μmの範囲である。幾つかの実施態様において、溝の幅は、約1μmから約500μmの範囲;約1μmから約250μmの範囲;及び/又は約10μmから約200μmの範囲である。典型的な溝の幅としては、0.1μm、1μm、2μm、5μm、10μm、20μm、30μm、40μm、50μm、60μm、70μm、80μm、90μm、100μm、110μm、120μm、130μm、140μm、150μm、160μm、170μm、180μm、190μm、200μm、210μm、220μm、230μm、240μm及び250μmが挙げられるが、これらに制限されない。
幾つかの実施態様において、溝の深さは、約1μmから約1000μmの範囲;及び/又は約1μmから100μmの範囲である。
幾つかの実施態様において、溝の深さは、約0.01μmから約1000μmの範囲;約0.05μmから約500μmの範囲;約0.2μmから約250μmの範囲;約1μmから約100μmの範囲;約2μmから約20μmの範囲;及び/又は約5μmから約10μmの範囲である。典型的な溝の深さとしては:0.01μm、0.02μm、0.05μm、0.1μm、0.2μm、0.5μm、1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、7.5μm、10μm、12.5μm、15μm、17.5μm、20μm、22.5μm、25μm、30μm、40μm、50μm、75μm、100μm、150μm、200μm及び250μmが挙げられるが、これらに制限されない。
幾つかの実施態様において、溝の深さは、約0.01μmから約1000μmの範囲;約0.05μmから約500μmの範囲;約0.2μmから約250μmの範囲;約1μmから約100μmの範囲;約2μmから約20μmの範囲;及び/又は約5μmから約10μmの範囲である。典型的な溝の深さとしては:0.01μm、0.02μm、0.05μm、0.1μm、0.2μm、0.5μm、1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、7.5μm、10μm、12.5μm、15μm、17.5μm、20μm、22.5μm、25μm、30μm、40μm、50μm、75μm、100μm、150μm、200μm及び250μmが挙げられるが、これらに制限されない。
幾つかの実施態様によると、溝(チャンネル又はグローブ)の長さは、約2mである。幾つかの実施態様において、溝の長さは、約1m迄である。幾つかの実施態様において、溝の長さは、約0.5m迄である。幾つかの実施態様において、溝の長さは約1cm迄である。幾つかの実施態様において、溝の長さは約5mm迄である。幾つかの実施態様において、溝の長さは約1mm迄である。幾つかの実施態様において、溝の長さは約5nmと1000nmの間である。
幾つかの実施態様において、溝の深さに対する幅比(幅:深さ)の範囲は、約0.1:1から約100:1である。幾つかの実施態様において、溝の深さに対する幅比の範囲は、約1:1から約50:1である。幾つかの実施態様において、溝の深さに対する幅比は約2:1から約20:1の範囲である。幾つかの実施態様において、溝の深さに対する幅比の範囲は、約3:1から約15:1である。幾つかの実施態様において、溝の深さに対する幅比の範囲は、約10:1である。
当業者の一人は、本出願で開示した対象材料の溝の大きさは、上述の典型的範囲に制限されず、また幅及び深さが変わると、溝に適用される基板及び溝に適用された基板を溝内部に流入させる力及び溝に対応する弁の作動に要する力等に影響を与える、ということ熟知する。更に、本明細書に記載するように、より大きな幅及び深さを有する溝が、液晶ディスプレイのための配向層、液だめ、反応容器、混合チャンネル、分離領域など、に関する使用に検討されている。
幾つかの実施態様において、溝の深さに対する幅比(幅:深さ)の範囲は、約0.1:1から約100:1である。幾つかの実施態様において、溝の深さに対する幅比の範囲は、約1:1から約50:1である。幾つかの実施態様において、溝の深さに対する幅比は約2:1から約20:1の範囲である。幾つかの実施態様において、溝の深さに対する幅比の範囲は、約3:1から約15:1である。幾つかの実施態様において、溝の深さに対する幅比の範囲は、約10:1である。
当業者の一人は、本出願で開示した対象材料の溝の大きさは、上述の典型的範囲に制限されず、また幅及び深さが変わると、溝に適用される基板及び溝に適用された基板を溝内部に流入させる力及び溝に対応する弁の作動に要する力等に影響を与える、ということ熟知する。更に、本明細書に記載するように、より大きな幅及び深さを有する溝が、液晶ディスプレイのための配向層、液だめ、反応容器、混合チャンネル、分離領域など、に関する使用に検討されている。
III.B.多層のパターンのある材料を作成する方法
幾つかの実施態様において、本出願で開示された対象材料は、多層のパターンのある材料、例えば多層のパターンのあるPFPE材料の作成方法を提供する。幾つかの実施態様において、多層のパターンのあるペルフルオロポリエーテル材料が、モノリシックPFPEデバイス作成のために用いられる。幾つかの実施態様において、このデバイスは、液晶ディスプレイの配向層であり、他の実施態様においては、このデバイスはミクロ流体デバイスである。
図2A−2Dを参照しながら、本出願で開示された対象材料の実施態様作成法の概略的表示を示す。パターンのある膜200及び202が示され、幾つかの実施態様において、この夫々は、約100cSt以上の粘度を有する、液体PFPE前駆体材料から形成されたペルフルオロポリエーテル材料を含む。この例において、パターンのある膜200及び202の各々は、複数の溝204を有する。本出願で開示された対象材料の実施態様において、複数の溝204はミクロスケールの溝を含む。パターンのある膜200において、溝は斜線、即ち、図2A−2Cにおける影、で示されている。パターンのある膜202は、所定の配向をもつパターンのある膜200に重ね合わされている。この例において、所定の配向は、パターンのある膜200及び202における溝204は互いに大体垂直であるようになっている。幾つかの実施態様において、図2A−2Dに描かれているように、パターンのある膜200は、パターンのない膜206に重ね合わされている。パターンのない膜206としては、ペルフルオロポリエーテルが挙げられる。
幾つかの実施態様において、本出願で開示された対象材料は、多層のパターンのある材料、例えば多層のパターンのあるPFPE材料の作成方法を提供する。幾つかの実施態様において、多層のパターンのあるペルフルオロポリエーテル材料が、モノリシックPFPEデバイス作成のために用いられる。幾つかの実施態様において、このデバイスは、液晶ディスプレイの配向層であり、他の実施態様においては、このデバイスはミクロ流体デバイスである。
図2A−2Dを参照しながら、本出願で開示された対象材料の実施態様作成法の概略的表示を示す。パターンのある膜200及び202が示され、幾つかの実施態様において、この夫々は、約100cSt以上の粘度を有する、液体PFPE前駆体材料から形成されたペルフルオロポリエーテル材料を含む。この例において、パターンのある膜200及び202の各々は、複数の溝204を有する。本出願で開示された対象材料の実施態様において、複数の溝204はミクロスケールの溝を含む。パターンのある膜200において、溝は斜線、即ち、図2A−2Cにおける影、で示されている。パターンのある膜202は、所定の配向をもつパターンのある膜200に重ね合わされている。この例において、所定の配向は、パターンのある膜200及び202における溝204は互いに大体垂直であるようになっている。幾つかの実施態様において、図2A−2Dに描かれているように、パターンのある膜200は、パターンのない膜206に重ね合わされている。パターンのない膜206としては、ペルフルオロポリエーテルが挙げられる。
図2A−2Dの参照を続けると、パターンのある膜200及び202及び幾つかの実施態様においてパターンの無い膜206を、処理工程Trで処理する。以下により具体的に記載するように、膜200及び202,及び幾つかの実施態様において、パターンの無い膜206を、Trで処理することで、パターンのある膜200及び202のお互いの接着を促進し、図2C及び2Dに示すように、幾つかの実施態様において、パターンのある膜200とパターンの無い膜206の接着を促進する。でき上がったデバイス208は、図2Dに示す断面図でよく分かるように、所定の交差点212と交差する、ミクロスケール又は溝204の、総合したネットワーク210を含む。
図2Dに示すように、膜214は、パターンのある膜200の溝204の最上部の表面から成り、膜214によって、パターンのある膜202の溝204は、パターンのある膜200から離れている。
図2A−2Cの参照を続けると、幾つかの実施態様において、パターンのある膜202は、複数の孔(アパーチャー)を持ち、この孔は、入口孔216及び出口孔218と表される。幾つかの実施態様において、例えば、入口孔216及び出口孔218のような穴は、溝204との流体通路である。幾つかの実施態様において、アパーチャーには、例えば、PFPE材料の薄膜からなる側面作動の弁構造があり、この弁構造は流れを隣接する溝に制限するように作動する。しかしながら、側面作動の弁構造は、本明細書に記載する他の材料からも作成できると言うことは理解されるだろう。
図2Dに示すように、膜214は、パターンのある膜200の溝204の最上部の表面から成り、膜214によって、パターンのある膜202の溝204は、パターンのある膜200から離れている。
図2A−2Cの参照を続けると、幾つかの実施態様において、パターンのある膜202は、複数の孔(アパーチャー)を持ち、この孔は、入口孔216及び出口孔218と表される。幾つかの実施態様において、例えば、入口孔216及び出口孔218のような穴は、溝204との流体通路である。幾つかの実施態様において、アパーチャーには、例えば、PFPE材料の薄膜からなる側面作動の弁構造があり、この弁構造は流れを隣接する溝に制限するように作動する。しかしながら、側面作動の弁構造は、本明細書に記載する他の材料からも作成できると言うことは理解されるだろう。
幾つかの実施態様において、光硬化したPFPE材料の第1のパターンのある膜を、PFPE構造にある程度の機械的安定度を与える厚さに成形する。従って、幾つかの実施態様において、光硬化したPFPE材料の第1のパターンのある膜の厚さは、約50μmから数cmの間である。幾つかの実施態様において、光硬化したPFPE材料の第1のパターンのある膜の厚さは、50μmと約10mmの間である。幾つかの実施態様において、光硬化したPFPE材料の第1のパターンのある膜の厚さは、5mmである。幾つかの実施態様において、PFPE材料の第1のパターンのある膜の厚さは、約4mmである。更に、幾つかの実施態様において、PFPE材料の第1のパターンのある膜の厚さは、約0.1μmから約10cmの範囲、約1μmから約5cmの範囲;約10μmから約2cmの範囲;及び約100μmから約10mmの範囲である。
幾つかの実施態様において、光硬化したPFPE材料の第2のパターンのある膜の厚さは、約1μmから約100μmの間である。幾つかの実施態様において、光硬化したPFPE材料の第2のパターンのある膜の厚さは、約1μmから約50μmの間である。幾つかの実施態様において、光硬化したPFPE材料の第2のパターンのある膜の厚さは、約20μmである。
幾つかの実施態様において、光硬化したPFPE材料の第2のパターンのある膜の厚さは、約1μmから約100μmの間である。幾つかの実施態様において、光硬化したPFPE材料の第2のパターンのある膜の厚さは、約1μmから約50μmの間である。幾つかの実施態様において、光硬化したPFPE材料の第2のパターンのある膜の厚さは、約20μmである。
図2A−2Cは、PFPE材料の2層のパターンのある膜が組み合わされたデバイスの作成を開示するが、本出願で開示した対象材料の幾つかの実施態様において、PFPE材料の1層のパターンのある膜及び1層のパターンのない膜をもつデバイスを作成することは可能である。
従って、第1のパターンのある膜は、ミクロスケールの溝又はミクロスケールの溝の総合ネットワークを有することができ、またその後、第1のパターンのある膜は、パターンのない膜の最上部に重層され、本明細書で開示したように、紫外線を使った光硬化工程を用いてパターンのない膜に接着でき、その中に閉じこめられた溝を有するモノリシック構造を作る。
従って、幾つかの実施態様において、光硬化したペルフルオロポリエーテル材料の第1及び第2のパターンのある膜、あるいは光硬化したペルフルオロポリエーテル材料の第1のパターンのある膜及び光硬化したペルフルオロポリエーテル材料のパターンのない膜は、互いに接着して、モノリシックなPFPE性デバイスを作成する。
従って、第1のパターンのある膜は、ミクロスケールの溝又はミクロスケールの溝の総合ネットワークを有することができ、またその後、第1のパターンのある膜は、パターンのない膜の最上部に重層され、本明細書で開示したように、紫外線を使った光硬化工程を用いてパターンのない膜に接着でき、その中に閉じこめられた溝を有するモノリシック構造を作る。
従って、幾つかの実施態様において、光硬化したペルフルオロポリエーテル材料の第1及び第2のパターンのある膜、あるいは光硬化したペルフルオロポリエーテル材料の第1のパターンのある膜及び光硬化したペルフルオロポリエーテル材料のパターンのない膜は、互いに接着して、モノリシックなPFPE性デバイスを作成する。
III.C.熱フリーラジカル硬化工程を用いた、パターンのある膜形成の方法
幾つかの実施態様において、熱によるフリーラジカル開始剤を、重合可能な官能基を有する、液体ペルフルオロポリエーテル(PFPE)前駆体と混合して混合物ができるが、熱によるフリーラジカル開始剤としては、パーオキシド及び/又はアゾ化合物が挙げられるが、これらに制限されない、また重合可能な官能基としては、アクリレート基、メタクリレート基及びスチレン基ユニットがあるが、これらに制限されない。図1A−1Cに示すように、この混合物をパターンのある基板、即ち"マスター"と接触させ、PFPE前駆体を熱硬化させネットワークを作る。
幾つかの実施態様において、PFPE前駆体を完全に硬化して、完全に硬化したPFPE前駆体高分子を作る。幾つかの実施態様において、フリーラジカル硬化反応が、部分的に進行して、部分的に硬化したネットワークが作られる
幾つかの実施態様において、熱によるフリーラジカル開始剤を、重合可能な官能基を有する、液体ペルフルオロポリエーテル(PFPE)前駆体と混合して混合物ができるが、熱によるフリーラジカル開始剤としては、パーオキシド及び/又はアゾ化合物が挙げられるが、これらに制限されない、また重合可能な官能基としては、アクリレート基、メタクリレート基及びスチレン基ユニットがあるが、これらに制限されない。図1A−1Cに示すように、この混合物をパターンのある基板、即ち"マスター"と接触させ、PFPE前駆体を熱硬化させネットワークを作る。
幾つかの実施態様において、PFPE前駆体を完全に硬化して、完全に硬化したPFPE前駆体高分子を作る。幾つかの実施態様において、フリーラジカル硬化反応が、部分的に進行して、部分的に硬化したネットワークが作られる
III.D.熱フリーラジカル硬化工程によって膜を基板に接着させる方法
幾つかの実施態様において、完全に硬化したPFPE前駆体をパターンのある基板、即ちマスター、から取り外し、即ち剥離し、その後第2の基板と接触させ、可逆的、ヘルメティックシールを作る。
幾つかの実施態様において、部分的に硬化したネットワークを、第2のPFPE材料の部分的に硬化した膜と接触させ、硬化反応を完全に行い、この様にして、PFPE膜の間に恒久的結合が形成される。
幾つかの実施態様において、部分的なフリーラジカルによる硬化法は、部分的に硬化したPFPE材料の少なくとも1層の膜を基板に結合させるために用いられる。幾つかの実施態様において、部分的なフリーラジカルによる硬化法は、部分的に硬化したPFPE材料の複数の膜を基板に結合させるために用いられる。幾つかの実施態様において、基板はガラス材料、石英材料、珪素材料、溶融珪素材料及びプラスチック材料からなる部類から選ばれる。幾つかの実施態様において、基板はシラン共役試薬で処理される。
幾つかの実施態様において、完全に硬化したPFPE前駆体をパターンのある基板、即ちマスター、から取り外し、即ち剥離し、その後第2の基板と接触させ、可逆的、ヘルメティックシールを作る。
幾つかの実施態様において、部分的に硬化したネットワークを、第2のPFPE材料の部分的に硬化した膜と接触させ、硬化反応を完全に行い、この様にして、PFPE膜の間に恒久的結合が形成される。
幾つかの実施態様において、部分的なフリーラジカルによる硬化法は、部分的に硬化したPFPE材料の少なくとも1層の膜を基板に結合させるために用いられる。幾つかの実施態様において、部分的なフリーラジカルによる硬化法は、部分的に硬化したPFPE材料の複数の膜を基板に結合させるために用いられる。幾つかの実施態様において、基板はガラス材料、石英材料、珪素材料、溶融珪素材料及びプラスチック材料からなる部類から選ばれる。幾つかの実施態様において、基板はシラン共役試薬で処理される。
PFPE材料の膜を基板に接着させるために本出願において開示した方法の一実施態様を、図3A−3Cに示す。図3Aを参照すると、基板300が提供されているが、ここで、幾つかの実施態様では、基板300を、ガラス材料、石英材料、珪素材料、溶融珪素材料及びプラスチック材料からなる部類から選ぶ。基板300を、処理工程Tr1により処理する。幾つかの実施態様において、処理工程Tr1としては、基板を、例えばKOH/イソプロパノールのような、塩基/アルコール混合物で処理し、基板300に水酸基官能基を与えることが挙げられる。
図3Bを参照すると、官能性基盤300は、例えば、R−SiCl3又はR−Si(OR1)3の様な、シラン共役試薬と反応する、ここでR及びR1はシラン化した基板300を作成するために、本明細書で記載した官能基である。幾つかの実施態様において、シラン共役試薬は、モノハロシラン、ジハロシラン、トリハロシラン、モノアルコキシシラン、ジアルコキシシラン及びトリアルコキシシランからなる部類から選択され、ここでモノハロシラン、ジハロシラン、トリハロシラン、モノアルコキシシラン、ジアルコキシシラン及びトリアルコキシシランは、アミン基、メタクリレート基、アクリレート基、スチレン基、エポキシ基、イソシアネート基、ハロゲン原子、アルコール、ベンゾフェノン誘導体、マレイミド基、カルボン酸基、エステル基、酸塩化物及びオレフィン基からなる部類から選択される分子で官能性を有する。
図3Bを参照すると、官能性基盤300は、例えば、R−SiCl3又はR−Si(OR1)3の様な、シラン共役試薬と反応する、ここでR及びR1はシラン化した基板300を作成するために、本明細書で記載した官能基である。幾つかの実施態様において、シラン共役試薬は、モノハロシラン、ジハロシラン、トリハロシラン、モノアルコキシシラン、ジアルコキシシラン及びトリアルコキシシランからなる部類から選択され、ここでモノハロシラン、ジハロシラン、トリハロシラン、モノアルコキシシラン、ジアルコキシシラン及びトリアルコキシシランは、アミン基、メタクリレート基、アクリレート基、スチレン基、エポキシ基、イソシアネート基、ハロゲン原子、アルコール、ベンゾフェノン誘導体、マレイミド基、カルボン酸基、エステル基、酸塩化物及びオレフィン基からなる部類から選択される分子で官能性を有する。
図3Cを参照すると、シラン化した基板300を、部分的に硬化したPFPE材料302のパターンのある膜と接触させ、処理工程Tr2で処理し、PFPE材料のパターンのある膜302と基板300の間に恒久的結合を形成させる。
幾つかの実施態様において、フリーラジカルによる部分的な硬化により、PFPE膜を、ポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS)材料、ポリウレタン材料、シリコン含有ポリウレタン材料及びPFPE−PDMSブロック共重合体材料の様な、第2の高分子材料と接着できる。幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、官能性材料が挙げられる。幾つかの実施態様において、第2の高分子材料を、重合可能官能基でキャップ付けする。幾つかの実施態様において、重合可能基を、アクリレート基、スチレン基及びメタクリレート基からなる部類より選択する。更に、幾つかの実施態様において、第2の高分子材料を、プラズマ及びシラン共役試薬で処理して、第2の高分子材料に望みの官能性を導入する。
本出願で開示したPFPE材料のパターンのある膜を、高分子材料の他のパターンを有する膜へ接着させる方法の実施態様を図4A−4Cに説明する。図4Aを参照すると、第1の高分子材料のパターンのある膜400を記載している。幾つかの実施態様において、第1の高分子材料には、PFPE材料がある。幾つかの実施態様において、第1の高分子材料としては、ポリ(ジメチルシロキサン)材料、ポリウレタン材料、シリコン含有ポリウレタン材料及びPFPE−PDMSブロック共重合材料からなる部類から選択した高分子材料が挙げられる。第1の高分子材料400のパターンのある膜を処理工程Tr1で処理する。幾つかの実施態様において、処理工程Tr1は、第1の高分子材料のパターンのある膜400へのO3及びR官能基存在下でのUV光照射であり、R官能基を高分子材料のパターンのある膜400へ付加させる。
幾つかの実施態様において、フリーラジカルによる部分的な硬化により、PFPE膜を、ポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS)材料、ポリウレタン材料、シリコン含有ポリウレタン材料及びPFPE−PDMSブロック共重合体材料の様な、第2の高分子材料と接着できる。幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、官能性材料が挙げられる。幾つかの実施態様において、第2の高分子材料を、重合可能官能基でキャップ付けする。幾つかの実施態様において、重合可能基を、アクリレート基、スチレン基及びメタクリレート基からなる部類より選択する。更に、幾つかの実施態様において、第2の高分子材料を、プラズマ及びシラン共役試薬で処理して、第2の高分子材料に望みの官能性を導入する。
本出願で開示したPFPE材料のパターンのある膜を、高分子材料の他のパターンを有する膜へ接着させる方法の実施態様を図4A−4Cに説明する。図4Aを参照すると、第1の高分子材料のパターンのある膜400を記載している。幾つかの実施態様において、第1の高分子材料には、PFPE材料がある。幾つかの実施態様において、第1の高分子材料としては、ポリ(ジメチルシロキサン)材料、ポリウレタン材料、シリコン含有ポリウレタン材料及びPFPE−PDMSブロック共重合材料からなる部類から選択した高分子材料が挙げられる。第1の高分子材料400のパターンのある膜を処理工程Tr1で処理する。幾つかの実施態様において、処理工程Tr1は、第1の高分子材料のパターンのある膜400へのO3及びR官能基存在下でのUV光照射であり、R官能基を高分子材料のパターンのある膜400へ付加させる。
図4Bを参照すると、第1高分子材料の官能性がありパターンのある膜400を、PFPE材料の官能性がありパターンのある膜402の最上の表面に接触させ、その後Tr2処理を行い、2層のハイブリッド集合体404を作る。
この様に、第1高分子材料の官能性のある、パターンのある膜400はPFPE材料の官能性を持ち、パターンのある膜402と結合する。
図4Cを参照すると、二層のハイブリッド集合体404を、幾つかの実施態様において、基板406と接触させ、多層のハイブリッド構造410を作成する。幾つかの実施態様において、基板406を液体PFPE前駆体材料408の膜で塗布する。多層のハイブリッド構造410を、処理工程Tr3で処理して、2層集合体404を基板406に結合させる。
この様に、第1高分子材料の官能性のある、パターンのある膜400はPFPE材料の官能性を持ち、パターンのある膜402と結合する。
図4Cを参照すると、二層のハイブリッド集合体404を、幾つかの実施態様において、基板406と接触させ、多層のハイブリッド構造410を作成する。幾つかの実施態様において、基板406を液体PFPE前駆体材料408の膜で塗布する。多層のハイブリッド構造410を、処理工程Tr3で処理して、2層集合体404を基板406に結合させる。
IV.2成分硬化過程によるデバイス作成法
本出願で開示した対象材料は、デバイスの作成方法を提供するが、この方法により、官能性ペルフルオロポリエーテル(PFPE)前駆体のような高分子を、パターンのある表面と接触させた後、エポキシ基/アミン基、エポキシ基/水酸基、カルボン酸基/アミン基、カルボン酸基/水酸基、エステル基/アミン基、エステル基/水酸基、アミン基/無水物、酸ハロゲン化物/水酸基、酸ハロゲン化物/アミン基、アミン基/ハロゲン化物、水酸基/ハロゲン化物、水酸基/クロロシラン基、アジド基/アセチレン基及び他の所謂"クリック化学"反応のような、2成分の反応及びグルッブ型の触媒を用いて、メタセシス反応により硬化させ、完全に硬化した、又は部分的に硬化したPFPEネットワークを作る。
本明細書で用いる"クリック化学"という用語は、当業者が、多くの炭素−ヘテロ原子結合生成反応のいずれかを用いた化合物の合成を記述するために用いる用語である。典型的な"クリック化学"反応は、酸素及び水に対し相対的に反応性が無く、高度な立体特異性と収量を持ち、また約20kcal/mol又はそれ以上の熱力学的推進力を有する。有用な"クリック化学"反応としては、1,3双極性付加及びディールスーアルダー反応を含め不飽和化合物の環付加反応;とくにエポキシド及びアジリジンのような小さく、歪みのある環の開環を含む求核的置換反応;炭素―炭素多重結合への付加反応;及びウレア及びアミドの形成のような、非アルドールカルボニル化学を含む反応が挙げられる。
本出願で開示した対象材料は、デバイスの作成方法を提供するが、この方法により、官能性ペルフルオロポリエーテル(PFPE)前駆体のような高分子を、パターンのある表面と接触させた後、エポキシ基/アミン基、エポキシ基/水酸基、カルボン酸基/アミン基、カルボン酸基/水酸基、エステル基/アミン基、エステル基/水酸基、アミン基/無水物、酸ハロゲン化物/水酸基、酸ハロゲン化物/アミン基、アミン基/ハロゲン化物、水酸基/ハロゲン化物、水酸基/クロロシラン基、アジド基/アセチレン基及び他の所謂"クリック化学"反応のような、2成分の反応及びグルッブ型の触媒を用いて、メタセシス反応により硬化させ、完全に硬化した、又は部分的に硬化したPFPEネットワークを作る。
本明細書で用いる"クリック化学"という用語は、当業者が、多くの炭素−ヘテロ原子結合生成反応のいずれかを用いた化合物の合成を記述するために用いる用語である。典型的な"クリック化学"反応は、酸素及び水に対し相対的に反応性が無く、高度な立体特異性と収量を持ち、また約20kcal/mol又はそれ以上の熱力学的推進力を有する。有用な"クリック化学"反応としては、1,3双極性付加及びディールスーアルダー反応を含め不飽和化合物の環付加反応;とくにエポキシド及びアジリジンのような小さく、歪みのある環の開環を含む求核的置換反応;炭素―炭素多重結合への付加反応;及びウレア及びアミドの形成のような、非アルドールカルボニル化学を含む反応が挙げられる。
更に、"メタセシス反応"という用語は、2種類の化合物が反応して、最終産物において、酸化数に変化がない2種の新化合物を生成することを言う。例えば、オレフィンメタセシスとは、オレフィンと遷移金属アルキリデン複合体が2+2環化付加し、新オレフィンと新アルキリデンを生成することを含む。環開列メタセシス重合化(ROMP)において、オレフィンは歪んだ環状オレフィンであり、遷移金属触媒への2+2環化付加は、歪んだ環の開列を伴う。成長し続ける高分子は、例えば、アルデヒドに2+2環化付加するような、キャップ付けが行われるまで遷移金属複合体の部分であり続ける。メタセシス反応に対するグルッブス触媒は、1996年に最初に報告された(Schwab,P.,他、J.Am.Chem.Soc.,118,100-110(1996)を参照).グルッブス触媒は、ホスフィン配位子に配位したルテニウムを含む、遷移金属アルキリデンであり、また様々なアルケン配位子の官能基に対する許容性が高いという点が特徴的である。
従って、ある実施態様において、光硬化可能構成成分としては、光化学2+2環化付加を行う官能基が挙げられる。この様な官能基としては、アルケン基類、アルデヒド基類、ケトン基類及びアルキン基累が挙げられる。光化学2+2環化付加は、例えば、シクロブタン類及びオクセタン類を合成するために使われる。
このように、幾つかの実施態様において、部分的に硬化したPFPEネットワークを、他の基板と接触させ、硬化が完全に行い、PFPEネットワークを基板に接着させる。この方法は、PFPE材料の多層膜を基板に接着させるために使われる。
従って、ある実施態様において、光硬化可能構成成分としては、光化学2+2環化付加を行う官能基が挙げられる。この様な官能基としては、アルケン基類、アルデヒド基類、ケトン基類及びアルキン基累が挙げられる。光化学2+2環化付加は、例えば、シクロブタン類及びオクセタン類を合成するために使われる。
このように、幾つかの実施態様において、部分的に硬化したPFPEネットワークを、他の基板と接触させ、硬化が完全に行い、PFPEネットワークを基板に接着させる。この方法は、PFPE材料の多層膜を基板に接着させるために使われる。
更に、幾つかの実施態様において、基板としては、PDMSの様な、第2の高分子材料、又は他の高分子が挙げられる。幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、KratonsTM(Shell Chemical Company)、の様なPDMS以外のエラストマー、ブナゴム、天然ゴム、フルオロエラストマー、クロロプレン、ブチルゴム、ニトリルゴム、ポリウレタン又は熱可塑性エラストマーが挙げられる。幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、ポリスチレン、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(エチレンテレフタレート)のようなポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、塩化ポリビニル、ポリオレフィン、ポリ(ケトン)、ポリ(エーテルエーテルケトン)及びポリ(エーテルスルホン)を含むが、これらに制限されない、硬い熱可塑性材料が挙げられる。
幾つかの実施態様において、PFPE膜は、ガラス材料、石英材料、シリコン材料及び溶融珪素材料のような固体基板に、シラン共役試薬を用いて、接着する。
幾つかの実施態様において、PFPE膜は、ガラス材料、石英材料、シリコン材料及び溶融珪素材料のような固体基板に、シラン共役試薬を用いて、接着する。
IV.A.2成分硬化過程によるパターンのある膜の作成法
幾つかの実施態様において、PFPEネットワークは、2成分官能性液体前駆体システムの反応によって作られる。図1A−1Cに示したように、高分子材料のパターンのある膜の一般的作成方法を用いて、2成分システムを含有する液体前駆体材料を、パターンのある基板と接触させ、PFPE材料のパターンのある膜を作る。幾つかの実施態様において、2成分液体前駆体システムは、エポキシ基/アミン基、エポキシ基、/水酸基、カルボン酸基/アミン基、カルボン酸基/水酸基、エステル基/アミン基、エステル基/水酸基、アミン基/無水物、ハロゲン酸基/水酸基、ハロゲン酸基/アミン基、アミン基/ハロゲン原子、水酸基/ハロゲン原子、水酸基/クロロシラン、アジド基/アセチレン基及び他の所謂"クリック化学"反応及びグルッブス型触媒を用いたメタセシス反応からなる部類から選択される。官能性液体前駆体を適切な比で混合し、パターンのある表面又はマスターと接触させる。硬化反応は、熱、触媒等を用いて、ネットワークが作成されるまで行われる。
幾つかの実施態様において、完全に硬化したPFPE前駆体が作られる。幾つかの実施態様において、2成分反応が部分的にのみ進行し、それにより、部分的に硬化したPFPEネットワークが作られる。
幾つかの実施態様において、PFPEネットワークは、2成分官能性液体前駆体システムの反応によって作られる。図1A−1Cに示したように、高分子材料のパターンのある膜の一般的作成方法を用いて、2成分システムを含有する液体前駆体材料を、パターンのある基板と接触させ、PFPE材料のパターンのある膜を作る。幾つかの実施態様において、2成分液体前駆体システムは、エポキシ基/アミン基、エポキシ基、/水酸基、カルボン酸基/アミン基、カルボン酸基/水酸基、エステル基/アミン基、エステル基/水酸基、アミン基/無水物、ハロゲン酸基/水酸基、ハロゲン酸基/アミン基、アミン基/ハロゲン原子、水酸基/ハロゲン原子、水酸基/クロロシラン、アジド基/アセチレン基及び他の所謂"クリック化学"反応及びグルッブス型触媒を用いたメタセシス反応からなる部類から選択される。官能性液体前駆体を適切な比で混合し、パターンのある表面又はマスターと接触させる。硬化反応は、熱、触媒等を用いて、ネットワークが作成されるまで行われる。
幾つかの実施態様において、完全に硬化したPFPE前駆体が作られる。幾つかの実施態様において、2成分反応が部分的にのみ進行し、それにより、部分的に硬化したPFPEネットワークが作られる。
IV.B.2成分硬化工程によるPFPE膜の基板への接着方法
IV.B.1.2成分硬化工程による完全な硬化
幾つかの実施態様において、完全に硬化したPFPE2成分前駆体を、マスターから取り外し、例えば、剥離し、その後基板と接触させ可逆的、ヘルメティックシールを作成する。
幾つかの実施態様において、部分的に硬化したネットワークを、他の部分的に硬化したPFPE膜と接触させ、反応を完全に行い、それにより、膜間の恒久的結合が作られる。
IV.B.1.2成分硬化工程による完全な硬化
幾つかの実施態様において、完全に硬化したPFPE2成分前駆体を、マスターから取り外し、例えば、剥離し、その後基板と接触させ可逆的、ヘルメティックシールを作成する。
幾つかの実施態様において、部分的に硬化したネットワークを、他の部分的に硬化したPFPE膜と接触させ、反応を完全に行い、それにより、膜間の恒久的結合が作られる。
IV.B2.2成分系の部分硬化
図3A−3Cに示すように、幾つかの実施態様において、部分的2成分硬化法は、基板に対して、部分硬化したPFPE材料の少なくとも1層の膜を結合させるために用いられる。幾つかの実施態様において、部分2成分硬化法は、基板に対して、部分硬化したPFPE材料の複数の膜を結合させるために用いられる。幾つかの実施態様において、基板は、ガラス材料、石英材料、シリコン材料、溶融珪素材料及びプラスチック材料からなる部類から選択される。幾つかの実施態様において、基板をシラン共役試薬で処理する。
図4A−4Cに示すように、幾つかの実施態様において、部分2成分硬化は、PFPE膜を、ポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS)材料のような、第2の高分子材料に接着させるために用いられる。幾つかの実施態様において、PDMS材料には、官能性のあるPDMS材料が含まれる。幾つかの実施態様において、PDMSをプラズマ及びシラン共役試薬で処理し、PDMS材料に望みの官能性を導入する。幾つかの実施態様において、PDMS材料を重合可能基でキャップ付けする。幾つかの実施態様において、重合可能基には、エポキシド基がある。幾つかの実施態様において、重合可能基には、アミン基がある。
幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、KratonsTMの様なPDMS以外のエラストマー、ブナゴム、天然ゴム、フルオロエラストマー、クロロプレン、ブチルゴム、ニトリルゴム、ポリウレタン又は熱可塑性エラストマーが挙げられる。幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、ポリスチレン、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(エチレンテレフタレート)のようなポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、塩化ポリビニル、ポリオレフィン、ポリ(ケトン)、ポリ(エーテルエーテルケトン)及びポリ(エーテルスルホン)を含むが、これらに制限されない、硬い熱可塑性材料が挙げられる。
図3A−3Cに示すように、幾つかの実施態様において、部分的2成分硬化法は、基板に対して、部分硬化したPFPE材料の少なくとも1層の膜を結合させるために用いられる。幾つかの実施態様において、部分2成分硬化法は、基板に対して、部分硬化したPFPE材料の複数の膜を結合させるために用いられる。幾つかの実施態様において、基板は、ガラス材料、石英材料、シリコン材料、溶融珪素材料及びプラスチック材料からなる部類から選択される。幾つかの実施態様において、基板をシラン共役試薬で処理する。
図4A−4Cに示すように、幾つかの実施態様において、部分2成分硬化は、PFPE膜を、ポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS)材料のような、第2の高分子材料に接着させるために用いられる。幾つかの実施態様において、PDMS材料には、官能性のあるPDMS材料が含まれる。幾つかの実施態様において、PDMSをプラズマ及びシラン共役試薬で処理し、PDMS材料に望みの官能性を導入する。幾つかの実施態様において、PDMS材料を重合可能基でキャップ付けする。幾つかの実施態様において、重合可能基には、エポキシド基がある。幾つかの実施態様において、重合可能基には、アミン基がある。
幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、KratonsTMの様なPDMS以外のエラストマー、ブナゴム、天然ゴム、フルオロエラストマー、クロロプレン、ブチルゴム、ニトリルゴム、ポリウレタン又は熱可塑性エラストマーが挙げられる。幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、ポリスチレン、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(エチレンテレフタレート)のようなポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、塩化ポリビニル、ポリオレフィン、ポリ(ケトン)、ポリ(エーテルエーテルケトン)及びポリ(エーテルスルホン)を含むが、これらに制限されない、硬い熱可塑性材料が挙げられる。
IV.B3.2成分システムの過剰硬化
本出願で開示した対象材料は、デバイスを作成する方法を提供するが、この方法は、官能性のあるペルフルオロポリエーテル(PFPE)前駆体をパターンのある基板と接触させ、エポキシ基/アミン基、エポキシ基、/水酸基、カルボン酸基/アミン基、カルボン酸基/水酸基、エステル基/アミン基、エステル基/水酸基、アミン基/無水物、ハロゲン酸基/水酸基、ハロゲン酸基/アミン基、アミン基/ハロゲン原子、水酸基/ハロゲン原子、水酸基/クロロシラン、アジド基/アセチレン基及び他の所謂"クリック化学"反応及びグルッブス型触媒を用いて、メタセシス反応のような2成分反応により硬化させ、硬化したPFPE材料の膜を作成する。この特別な方法において、硬化したPFPE材料の膜を、第2の基板に接着することができるが、これは、1成分が過剰な膜を完全に硬化させ、硬化したPFPE材料の膜を第2の成分が過剰な第2の基板と接触させ、過剰な官能基を反応させて、膜を接着させる。
この様に、幾つかの実施態様において、エポキシ基/アミン基、エポキシ基、/水酸基、カルボン酸基/アミン基、カルボン酸基/水酸基、エステル基/アミン基、エステル基/水酸基、アミン基/無水物、ハロゲン酸基/水酸基、ハロゲン酸基/アミン基、アミン基/ハロゲン原子、水酸基/ハロゲン原子、水酸基/クロロシラン、アジド基/アセチレン基及び他の所謂"クリック化学"反応及びグルッブス型触媒を用いるメタセシス反応のような2成分系を、混合する。幾つかの実施態様において、2成分系の少なくとも1成分は、他の成分より過剰にある。過剰成分があることによって複数の官能基を有する残りの硬化したネットワークとの反応が、熱、触媒使用などにより、完全に行われる。
本出願で開示した対象材料は、デバイスを作成する方法を提供するが、この方法は、官能性のあるペルフルオロポリエーテル(PFPE)前駆体をパターンのある基板と接触させ、エポキシ基/アミン基、エポキシ基、/水酸基、カルボン酸基/アミン基、カルボン酸基/水酸基、エステル基/アミン基、エステル基/水酸基、アミン基/無水物、ハロゲン酸基/水酸基、ハロゲン酸基/アミン基、アミン基/ハロゲン原子、水酸基/ハロゲン原子、水酸基/クロロシラン、アジド基/アセチレン基及び他の所謂"クリック化学"反応及びグルッブス型触媒を用いて、メタセシス反応のような2成分反応により硬化させ、硬化したPFPE材料の膜を作成する。この特別な方法において、硬化したPFPE材料の膜を、第2の基板に接着することができるが、これは、1成分が過剰な膜を完全に硬化させ、硬化したPFPE材料の膜を第2の成分が過剰な第2の基板と接触させ、過剰な官能基を反応させて、膜を接着させる。
この様に、幾つかの実施態様において、エポキシ基/アミン基、エポキシ基、/水酸基、カルボン酸基/アミン基、カルボン酸基/水酸基、エステル基/アミン基、エステル基/水酸基、アミン基/無水物、ハロゲン酸基/水酸基、ハロゲン酸基/アミン基、アミン基/ハロゲン原子、水酸基/ハロゲン原子、水酸基/クロロシラン、アジド基/アセチレン基及び他の所謂"クリック化学"反応及びグルッブス型触媒を用いるメタセシス反応のような2成分系を、混合する。幾つかの実施態様において、2成分系の少なくとも1成分は、他の成分より過剰にある。過剰成分があることによって複数の官能基を有する残りの硬化したネットワークとの反応が、熱、触媒使用などにより、完全に行われる。
幾つかの実施態様において、補足的な過剰官能基を有する完全に硬化したPFPE材料の2層の膜を、互いに接触させ、化合官能基を反応させて、これにより膜間に恒久的結合ができ上がる。
図3A−3Cに示すように、幾つかの実施態様において、過剰な官能基を有する完全に硬化したPFPEネットワークを、基板と接触させる。幾つかの実施態様において、基板は、ガラス材料、石英材料、シリコン材料、溶融珪素材料及びプラスチック材料からなる部類から選択される。
幾つかの実施態様において、基板は、共役試薬の官能性が完全に硬化したネットワーク上の過剰な官能性に対し補足的であるように、シラン共役試薬で処理される。この様に、恒久的結合が基板にでき上がる。
図3A−3Cに示すように、幾つかの実施態様において、過剰な官能基を有する完全に硬化したPFPEネットワークを、基板と接触させる。幾つかの実施態様において、基板は、ガラス材料、石英材料、シリコン材料、溶融珪素材料及びプラスチック材料からなる部類から選択される。
幾つかの実施態様において、基板は、共役試薬の官能性が完全に硬化したネットワーク上の過剰な官能性に対し補足的であるように、シラン共役試薬で処理される。この様に、恒久的結合が基板にでき上がる。
図4A−4Cに示すように、幾つかの実施態様において、2成分過剰硬化は、PFPEネットワークをポリ(ジメチルシロキサン)PDMA材料のような第2の高分子材料に結合させるために用いられる。幾つかの実施態様において、PDMS材料としては、官能性PDMS材料がある。幾つかの実施態様において、PDMS材料を、プラズマ及びシラン共役試薬で処理し、望みの官能性を導入する。幾つかの実施態様において、PDMS材料を、重合可能基でキャップ付ける。幾つかの実施態様において、重合可能材料としてはエポキシド基がある。幾つかの実施態様において、重合可能材料としてはアミンがある。
幾つかの実施態様において、第2の高分子材料として、KratonsTMの様なPDMS以外のエラストマー、ブナゴム、天然ゴム、フルオロエラストマー、クロロプレン、ブチルゴム、ニトリルゴム、ポリウレタン又は熱可塑性エラストマーが挙げられる。幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、ポリスチレン、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(エチレンテレフタレート)のようなポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、塩化ポリビニル、ポリオレフィン、ポリ(ケトン)、ポリ(エーテルエーテルケトン)及びポリ(エーテルスルホン)を含むが、これらに制限されない、硬い熱可塑性材料が挙げられる。
幾つかの実施態様において、第2の高分子材料として、KratonsTMの様なPDMS以外のエラストマー、ブナゴム、天然ゴム、フルオロエラストマー、クロロプレン、ブチルゴム、ニトリルゴム、ポリウレタン又は熱可塑性エラストマーが挙げられる。幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、ポリスチレン、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(エチレンテレフタレート)のようなポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、塩化ポリビニル、ポリオレフィン、ポリ(ケトン)、ポリ(エーテルエーテルケトン)及びポリ(エーテルスルホン)を含むが、これらに制限されない、硬い熱可塑性材料が挙げられる。
IV.B4.熱硬化可能成分と光硬化可能材料との混合
他の実施態様によると、材料の多層の膜を互いに接着することによりデバイスが作成される。ある実施態様において、2成分熱硬化可能材料を、光硬化可能材料と混合し、これにより多段階硬化材料を作り出す。ある実施態様において、2成分系としては、エポキシ基/アミン基、エポキシ基、/水酸基、カルボン酸基/アミン基、カルボン酸基/水酸基、エステル基/アミン基、エステル基/水酸基、アミン基/無水物、ハロゲン酸基/水酸基、ハロゲン酸基/アミン基、アミン基/ハロゲン原子、水酸基/ハロゲン原子、水酸基/クロロシラン、アジド基/アセチレン基及び他の所謂"クリック化学"反応及びグルッブス型触媒を用いるメタセシス反応等の官能基が挙げられる。
ある実施態様において、光硬化可能成分としては、アクリレート基類、スチレン基類、エポキシド基類、シクロブタン基類及び他の2+2環化付加が挙げられる。
幾つかの実施態様において、2成分熱硬化可能材料を、様々な割合で光硬化可能材料と混合する。ある実施態様において、その後この材料を上述のようにパターンのある基板の上に置く。この系に光照射、例えばUV光、を行い、固体化させてネットワークができて、その間熱硬化可能成分を、ネットワーク内に機械的に巻き込ませるが、未反応の状態で残る。例えば切断し、トリミングし、入口/出口孔を作り、液体で満たし、第2の光硬化可能膜の所定の位置に配列することにより、この材料の複数の膜を調製できる。一度、光硬化可能膜を配列し、シールした後、デバイスを加熱し、膜内の熱硬化可能成分を活性化する。熱硬化可能成分を熱により活性化すると、複数の膜は境界での反応により、互いに接着する。
他の実施態様によると、材料の多層の膜を互いに接着することによりデバイスが作成される。ある実施態様において、2成分熱硬化可能材料を、光硬化可能材料と混合し、これにより多段階硬化材料を作り出す。ある実施態様において、2成分系としては、エポキシ基/アミン基、エポキシ基、/水酸基、カルボン酸基/アミン基、カルボン酸基/水酸基、エステル基/アミン基、エステル基/水酸基、アミン基/無水物、ハロゲン酸基/水酸基、ハロゲン酸基/アミン基、アミン基/ハロゲン原子、水酸基/ハロゲン原子、水酸基/クロロシラン、アジド基/アセチレン基及び他の所謂"クリック化学"反応及びグルッブス型触媒を用いるメタセシス反応等の官能基が挙げられる。
ある実施態様において、光硬化可能成分としては、アクリレート基類、スチレン基類、エポキシド基類、シクロブタン基類及び他の2+2環化付加が挙げられる。
幾つかの実施態様において、2成分熱硬化可能材料を、様々な割合で光硬化可能材料と混合する。ある実施態様において、その後この材料を上述のようにパターンのある基板の上に置く。この系に光照射、例えばUV光、を行い、固体化させてネットワークができて、その間熱硬化可能成分を、ネットワーク内に機械的に巻き込ませるが、未反応の状態で残る。例えば切断し、トリミングし、入口/出口孔を作り、液体で満たし、第2の光硬化可能膜の所定の位置に配列することにより、この材料の複数の膜を調製できる。一度、光硬化可能膜を配列し、シールした後、デバイスを加熱し、膜内の熱硬化可能成分を活性化する。熱硬化可能成分を熱により活性化すると、複数の膜は境界での反応により、互いに接着する。
幾つかの実施態様において、熱反応は完全に行われる。他の実施態様において、熱反応は部分的にのみ行われ、多層の膜はこの工程を繰り返すことでこの様に接着する。他の実施態様において、多層のデバイスを作り、最終的に平面な、パターンのない膜に熱硬化により接着させる。
幾つかの実施態様において、熱硬化反応が先に行われる。その後、例えば、切断し、トリミングし、入口/出口孔を作り、液体で満たし、配列等行い、膜を作る。次に、光硬化可能成分に、光照射、例えばUV光、を行い、複数の膜を、膜間の境界で反応する官能基と接着させる。
幾つかの実施態様において、混合した2成分熱硬化可能であり且つ光硬化可能材料を使って、PFPEネットワークを、ポリ(ジメチルシロキサン)PDMS材料のような、第2の高分子材料に結合させる。
幾つかの実施態様において、PDMS材料には、官能性のあるPDMS材料がある。当業者の一人に理解されるように、官能性のあるPDMS材料は、本明細書で既述のように、反応性のある化学基を含むPDMS材料である。幾つかの実施態様において、PDMS材料を、プラズマ及びシラン共役試薬で処理して、望みの官能性を導入できる。幾つかの実施態様において、PDMS材料を、重合可能基でキャップ付けする。幾つかの実施態様において、重合可能材料はエポキシド基を含む。幾つかの実施態様において、重合可能材料は、アミン基を含む。
幾つかの実施態様において、熱硬化反応が先に行われる。その後、例えば、切断し、トリミングし、入口/出口孔を作り、液体で満たし、配列等行い、膜を作る。次に、光硬化可能成分に、光照射、例えばUV光、を行い、複数の膜を、膜間の境界で反応する官能基と接着させる。
幾つかの実施態様において、混合した2成分熱硬化可能であり且つ光硬化可能材料を使って、PFPEネットワークを、ポリ(ジメチルシロキサン)PDMS材料のような、第2の高分子材料に結合させる。
幾つかの実施態様において、PDMS材料には、官能性のあるPDMS材料がある。当業者の一人に理解されるように、官能性のあるPDMS材料は、本明細書で既述のように、反応性のある化学基を含むPDMS材料である。幾つかの実施態様において、PDMS材料を、プラズマ及びシラン共役試薬で処理して、望みの官能性を導入できる。幾つかの実施態様において、PDMS材料を、重合可能基でキャップ付けする。幾つかの実施態様において、重合可能材料はエポキシド基を含む。幾つかの実施態様において、重合可能材料は、アミン基を含む。
幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、KratonsTMの様なPDMS以外のエラストマー、ブナゴム、天然ゴム、フルオロエラストマー、クロロプレン、ブチルゴム、ニトリルゴム、ポリウレタン又は熱可塑性エラストマーが挙げられる。幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、ポリスチレン、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(エチレンテレフタレート)のようなポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、塩化ポリビニル、ポリオレフィン、ポリ(ケトン)、ポリ(エーテルエーテルケトン)及びポリ(エーテルスルホン)を含むが、これらに制限されない、硬い熱可塑性材料が挙げられる。
幾つかの実施態様において、光硬化可能PFPE液体前駆体と2成分熱硬化可能PFPE液体前駆体の混合物を、2成分の熱硬化可能混合の1成分が、他の成分より過剰であるように作る。この様にして、多層の膜を、多層膜に残存する補足的官能基を介して接着できる。
好ましい実施態様によると、完成したデバイスの膜間が、約60psiの圧力に対し層間の剥離無しに堪える接着を行うよう、材料に加えられる熱硬化及び光硬化物質の量を選択できる。更なる実施態様によると、この膜間が、約5psiと約45psiの間の圧力に対し層間の剥離無しに堪える接着を行うように、熱硬化及び光硬化物質の材料に加えられる量を選択できる。更なる実施態様において、この膜間が、約10psiと約30psiの間の圧力に対し層間の剥離無しに堪える接着を行うよう、熱硬化及び光硬化物質の材料に加えられる量を選択できる。
幾つかの実施態様において、光硬化可能PFPE液体前駆体と2成分熱硬化可能PFPE液体前駆体の混合物を、2成分の熱硬化可能混合の1成分が、他の成分より過剰であるように作る。この様にして、多層の膜を、多層膜に残存する補足的官能基を介して接着できる。
好ましい実施態様によると、完成したデバイスの膜間が、約60psiの圧力に対し層間の剥離無しに堪える接着を行うよう、材料に加えられる熱硬化及び光硬化物質の量を選択できる。更なる実施態様によると、この膜間が、約5psiと約45psiの間の圧力に対し層間の剥離無しに堪える接着を行うように、熱硬化及び光硬化物質の材料に加えられる量を選択できる。更なる実施態様において、この膜間が、約10psiと約30psiの間の圧力に対し層間の剥離無しに堪える接着を行うよう、熱硬化及び光硬化物質の材料に加えられる量を選択できる。
図5A−5Eに関して、多層デバイスの作成方法の説明的な実施例を示す。図5Aに示すように、光硬化可能材料と混合した2成分熱硬化可能材料を、パターンのある鋳型506,508(時には、マスター鋳型又は鋳型と呼ばれる)に配置する。本出願で開示した対象材料の他の実施態様において、混合材料を、パターンのある鋳型の上に回転塗布することができ、又は材料をガスケットの内側にプールし、パターンのある鋳型の上に注ぐ。当業者に理解されるように、一般的に、回転塗布を第1膜502のような薄膜の形成に用い、また鋳造技術は第2の膜504の様な厚い膜の形成に使われる。次に、鋳型506及び508に置かれた混合材料は、(光硬化のような)初回の硬化処置を受け、夫々、第1膜502及び第2膜504を形成する。光硬化は、部分的に材料を硬化させるが、材料の熱硬化成分の開始を行わない。その後、パターンのある鋳型508を第2膜504から取り外す。膜からのパターンのある鋳型の取り外しについては、本明細書により具体的に既述する。次に、第2の膜504を、第1の膜502の上に配置する、そして図5Bに示すように、このコンビネーションに第2の硬化処理を行い、その結果、第1の膜502及び第2の膜504の間に結合、又は接着、が生じ、本明細書では以後"2枚の接着した膜502及び504"と呼ぶ。一般的に、第2の硬化は、材料の2成分熱硬化を開始させる、初期熱硬化である。次に、図5Cにあるように、2接着膜502及び504は、パターンのある鋳型506から取り除かれる。図5Dにおいて、2接着膜502及び504は、平面膜514上に配置され、第1の硬化処理を受けるが、平面膜514は前もって平面鋳型512を塗布した物である。図5Eに示すように、膜502,504及び514に、最終硬化を施して、3層膜が完全に接着する。
他の実施態様に従えば、パターンのある鋳型506に、剥離膜510を塗布することで、硬化した、又は部分的に硬化した膜(図5C参照)の取り外しを容易にする。
更に、例えばパターンのある鋳型506及び/又はパターンのある鋳型508のような鋳型に剥離膜を塗布することによって、鋳型成分と、鋳型上に存在する潜在的官能基との間の反応を減少させる。例えば、剥離膜510は金/パラジウム塗布でもよい。
他の実施態様によれば、部分的に硬化した、また硬化した膜の取り外しを、引きはがし、吸引、空気圧、部分硬化又は硬化した膜の間に溶媒の適用、又はこれらの指導のコンビネーションにより行う。
更に、例えばパターンのある鋳型506及び/又はパターンのある鋳型508のような鋳型に剥離膜を塗布することによって、鋳型成分と、鋳型上に存在する潜在的官能基との間の反応を減少させる。例えば、剥離膜510は金/パラジウム塗布でもよい。
他の実施態様によれば、部分的に硬化した、また硬化した膜の取り外しを、引きはがし、吸引、空気圧、部分硬化又は硬化した膜の間に溶媒の適用、又はこれらの指導のコンビネーションにより行う。
V.官能性のリンカー基によりPFPE材料に多数の側鎖を連結する方法
幾つかの実施態様において、本出願で開示した方法により、デバイス又は膜に、化学"リンカー"分子をエラストマー自体に付加することにより官能性が与えられる。幾つかの実施態様において、官能基は、前駆体材料の骨格に沿って加えられる。この方法の例を反応図式8に示す:
幾つかの実施態様において、本出願で開示した方法により、デバイス又は膜に、化学"リンカー"分子をエラストマー自体に付加することにより官能性が与えられる。幾つかの実施態様において、官能基は、前駆体材料の骨格に沿って加えられる。この方法の例を反応図式8に示す:
幾つかの実施態様において、前駆体材料は、官能性水酸基を含む巨大分子を有する。幾つかの実施態様において、反応図式8に示したように、官能性水酸基には、官能性ジオール基がある。幾つかの実施態様において、2又は3以上の官能性ジオール基は3価の官能性"リンカー"分子を介して結合している。幾つかの実施態様において、3価の官能性のリンカー分子は、2個の官能基R及びR’を有する。
幾つかの実施態様において、R’基は巨大分子の水酸基と反応する。反応図式8において、丸印はリンカー分子を示し、波線はPFPE鎖を表わす。
幾つかの実施態様において、R基はデバイスの表面に望みの官能性を与える。幾つかの実施態様において、R’基は、酸塩化物、イソシアネート基、ハロゲン原子及びエステル分子からなる部類から選択されるが、これらに制限されない。幾つかの実施態様において、R基は、保護されたアミン基及び保護されたアルコール基の中の一つから選択されるが、これらに制限されない。幾つかの実施態様において、巨大分子ジオールは、重合可能なメタクリレート基で官能性を有する。幾つかの実施態様において、官能性巨大分子ジオールを、硬化し及び/又はRolland,J.他 JACS 2004,126,2322-2323に記載されている光化学工程により成型するが、この開示は本明細書の参考文献に全て取り込まれている。
幾つかの実施態様において、R’基は巨大分子の水酸基と反応する。反応図式8において、丸印はリンカー分子を示し、波線はPFPE鎖を表わす。
幾つかの実施態様において、R基はデバイスの表面に望みの官能性を与える。幾つかの実施態様において、R’基は、酸塩化物、イソシアネート基、ハロゲン原子及びエステル分子からなる部類から選択されるが、これらに制限されない。幾つかの実施態様において、R基は、保護されたアミン基及び保護されたアルコール基の中の一つから選択されるが、これらに制限されない。幾つかの実施態様において、巨大分子ジオールは、重合可能なメタクリレート基で官能性を有する。幾つかの実施態様において、官能性巨大分子ジオールを、硬化し及び/又はRolland,J.他 JACS 2004,126,2322-2323に記載されている光化学工程により成型するが、この開示は本明細書の参考文献に全て取り込まれている。
この様に、本出願により開示した対象材料は、官能性のリンカー基により、潜在的な官能基を光硬化可能なPFPE材料に取り込む方法を提供する。この様に、幾つかの実施態様において、PFPE材料の多数の側鎖は、側鎖が重合可能基でキャップ付けられる前は、互いに連結する。幾つかの実施態様において、重合可能基は、メタクリレート基、アクリレート基及びスチレン基からなる部類より選択される。幾つかの実施態様において、潜在的な官能性が完全に硬化したネットワークに存在するように、これらの官能性を上述のような"リンカー"分子に化学的に結合させる。
幾つかの実施態様において、この様にして導入された潜在的な官能性は、PFPEの多層膜を結合するため、又は完全に硬化したPFPE膜を、前もってシラン共役試薬処理を行ったガラス材料、又はシリコン材料の様な、基板に結合するため、又は完全に硬化したPFPE膜を、PDMS材料のような、第2の高分子材料に結合するために用いる。幾つかの実施態様において、PDMS材料を、プラズマ及びシラン共役試薬で処理し、望みの官能性を導入する。幾つかの実施態様において、PDMS材料を、重合可能基でキャップ付ける。幾つかの実施態様において、重合可能基はアクリレート基、スチレン基及びメタクリレート基からなる部類から選択される。
幾つかの実施態様において、この様にして導入された潜在的な官能性は、PFPEの多層膜を結合するため、又は完全に硬化したPFPE膜を、前もってシラン共役試薬処理を行ったガラス材料、又はシリコン材料の様な、基板に結合するため、又は完全に硬化したPFPE膜を、PDMS材料のような、第2の高分子材料に結合するために用いる。幾つかの実施態様において、PDMS材料を、プラズマ及びシラン共役試薬で処理し、望みの官能性を導入する。幾つかの実施態様において、PDMS材料を、重合可能基でキャップ付ける。幾つかの実施態様において、重合可能基はアクリレート基、スチレン基及びメタクリレート基からなる部類から選択される。
幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、KratonsTMの様なPDMS以外のエラストマー、ブナゴム、天然ゴム、フルオロエラストマー、クロロプレン、ブチルゴム、ニトリルゴム、ポリウレタン又は熱可塑性エラストマーが挙げられる。幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、ポリスチレン、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(エチレンテレフタレート)のようなポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、塩化ポリビニル、ポリオレフィン、ポリ(ケトン)、ポリ(エーテルエーテルケトン)及びポリ(エーテルスルホン)を含むが、これらに制限されない、硬い熱可塑性材料が挙げられる。
幾つかの実施態様において、"リンカー"分子に結合した官能性を有するPFPEネットワークは、基材より形成されたデバイスの表面に官能性を持たせるために用いられる。幾つかの実施態様において、タンパク質、オリゴヌクレオチド、薬剤、触媒、染料、センサー、検体及びデバイス表面の濡れ状態を変えることができる荷電のある物質からなる部類から選ばれる、官能性のある分子と結合して、デバイスは官能性を得る。
幾つかの実施態様において、"リンカー"分子に結合した官能性を有するPFPEネットワークは、基材より形成されたデバイスの表面に官能性を持たせるために用いられる。幾つかの実施態様において、タンパク質、オリゴヌクレオチド、薬剤、触媒、染料、センサー、検体及びデバイス表面の濡れ状態を変えることができる荷電のある物質からなる部類から選ばれる、官能性のある分子と結合して、デバイスは官能性を得る。
VI.表面の化学的互換性を改善する方法
本出願で開示した対象材料の幾つかの実施態様により、本明細書で記載した材料及び方法で形成されたデバイスの表面を、デバイスに化学的互換性を与えるために表面安定化させることができる。上記の材料と方法によると、表面安定化は、本明細書で記載した材料から形成されたデバイス表面を末端キャップされたUV及び/又は熱硬化可能液体前駆体(例えば、スチレンで末端キャップされた前駆体)処理によって達せられる。スチレンで末端キャップされた前駆体に含まれる光又は熱硬化成分を活性化することで、前駆体は、材料の潜在的メタクリレート基、スチレン基及び/又はアクリレート基と反応して、これらと結合し、これによりデバイス表面に表面安定化が施される。
他の実施態様によると、本明細書出を通して記載しているように、潜在的メタクリレート基、アクリレート基及び/又はスチレン基を有するPFPE材料から形成されたデバイスに、スチレンによる末端キャップされたUV硬化可能PFPE液体前駆体による処理を施す。
この様な実施態様によると、スチレンによる末端キャップされたUV硬化可能前駆体の溶液を、PFPEから形成されたデバイスの表面に塗布するが、この溶液に用いる溶媒は、ペンタフルオロブタンを含むが、それに制限されない。溶媒は蒸散し、PFPE材料の表面には、塗布したスチレンによる末端キャップされたUV硬化可能前駆体のフィルムが残る。ある実施態様において、その後フィルムはUV光照射により硬化処理され、これにより、フィルムは、PFPE材料の潜在的メタクリレート基、アクリレート基及び/又はスチレン基に接着する。スチレンによる末端キャップされた前駆体で塗布された表面は、ウレタン及び/又はエステル結合のような酸に不安定な基を持たないので、従って表面安定化が得られ、基礎PFPE材料の化学的互換性が改善される。
他の実施態様によると、本明細書で記載するように基材から形成されたデバイスの表面は、気相表面安定化により安定化される。この様な実施態様によると、デバイスは窒素ガス中0.5%のフッ素ガス混合物に曝される。フッ素はフリーラジカルのように基材の水素原子と反応し、これにより気体処理されたデバイスが表面安定化される。
本出願で開示した対象材料の幾つかの実施態様により、本明細書で記載した材料及び方法で形成されたデバイスの表面を、デバイスに化学的互換性を与えるために表面安定化させることができる。上記の材料と方法によると、表面安定化は、本明細書で記載した材料から形成されたデバイス表面を末端キャップされたUV及び/又は熱硬化可能液体前駆体(例えば、スチレンで末端キャップされた前駆体)処理によって達せられる。スチレンで末端キャップされた前駆体に含まれる光又は熱硬化成分を活性化することで、前駆体は、材料の潜在的メタクリレート基、スチレン基及び/又はアクリレート基と反応して、これらと結合し、これによりデバイス表面に表面安定化が施される。
他の実施態様によると、本明細書出を通して記載しているように、潜在的メタクリレート基、アクリレート基及び/又はスチレン基を有するPFPE材料から形成されたデバイスに、スチレンによる末端キャップされたUV硬化可能PFPE液体前駆体による処理を施す。
この様な実施態様によると、スチレンによる末端キャップされたUV硬化可能前駆体の溶液を、PFPEから形成されたデバイスの表面に塗布するが、この溶液に用いる溶媒は、ペンタフルオロブタンを含むが、それに制限されない。溶媒は蒸散し、PFPE材料の表面には、塗布したスチレンによる末端キャップされたUV硬化可能前駆体のフィルムが残る。ある実施態様において、その後フィルムはUV光照射により硬化処理され、これにより、フィルムは、PFPE材料の潜在的メタクリレート基、アクリレート基及び/又はスチレン基に接着する。スチレンによる末端キャップされた前駆体で塗布された表面は、ウレタン及び/又はエステル結合のような酸に不安定な基を持たないので、従って表面安定化が得られ、基礎PFPE材料の化学的互換性が改善される。
他の実施態様によると、本明細書で記載するように基材から形成されたデバイスの表面は、気相表面安定化により安定化される。この様な実施態様によると、デバイスは窒素ガス中0.5%のフッ素ガス混合物に曝される。フッ素はフリーラジカルのように基材の水素原子と反応し、これにより気体処理されたデバイスが表面安定化される。
VII.前駆体材料に官能性のあるモノマーを付加する方法
幾つかの実施態様において、硬化してない前駆体材料に官能性モノマーを付加する方法がある。幾つかの実施態様において、官能性モノマーは、官能性スチレン基、メタクリレート基及びアクリレート基からなる部類から選択される。幾つかの実施態様において、前駆体材料としては、フルオロポリマーがある。幾つかの実施態様において、官能性モノマーとしては、高度にフッ素化したモノマーがある。幾つかの実施態様において、高度のフッ素化したモノマーとしては、ペルフルオロエチルビニルエーテル(EVE)がある。幾つかの実施態様において、前駆体材料としては、ポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS)エラストマーがある。幾つかの実施態様において、前駆体材料としては、ポリウレタンエラストマーがある。幾つかの実施態様において、官能性モノマーをネットワークに硬化ステップで導入する方法がある。
幾つかの実施態様において、官能性モノマーは、液体PFPE前駆体に直接加えられ、架橋によりネットワークに組み込まれる。例えば、モノマーは、ネットワークに導入できるが、このネットワークは、架橋反応した後、PFPEの多層の膜に接着し、完全に硬化したPFPE膜を、ガラス材料又は前もってシラン共役試薬で処理したシリコン材料の様な、基板に結合させ、又は完全に硬化したPFPE膜を、PDME材料のような第2の高分子材料に結合させることができる。幾つかの実施態様において、PDMS材料に、プラズマ又はシラン共役試薬の処理により、望みの官能性を導入できる。幾つかの実施態様において、PDMS材料は、重合可能基でキャップ付けされる。幾つかの実施態様において、重合可能基は、アクリレート基、スチレン基及びメタクリレート基からなる部類より選択される。
幾つかの実施態様において、硬化してない前駆体材料に官能性モノマーを付加する方法がある。幾つかの実施態様において、官能性モノマーは、官能性スチレン基、メタクリレート基及びアクリレート基からなる部類から選択される。幾つかの実施態様において、前駆体材料としては、フルオロポリマーがある。幾つかの実施態様において、官能性モノマーとしては、高度にフッ素化したモノマーがある。幾つかの実施態様において、高度のフッ素化したモノマーとしては、ペルフルオロエチルビニルエーテル(EVE)がある。幾つかの実施態様において、前駆体材料としては、ポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS)エラストマーがある。幾つかの実施態様において、前駆体材料としては、ポリウレタンエラストマーがある。幾つかの実施態様において、官能性モノマーをネットワークに硬化ステップで導入する方法がある。
幾つかの実施態様において、官能性モノマーは、液体PFPE前駆体に直接加えられ、架橋によりネットワークに組み込まれる。例えば、モノマーは、ネットワークに導入できるが、このネットワークは、架橋反応した後、PFPEの多層の膜に接着し、完全に硬化したPFPE膜を、ガラス材料又は前もってシラン共役試薬で処理したシリコン材料の様な、基板に結合させ、又は完全に硬化したPFPE膜を、PDME材料のような第2の高分子材料に結合させることができる。幾つかの実施態様において、PDMS材料に、プラズマ又はシラン共役試薬の処理により、望みの官能性を導入できる。幾つかの実施態様において、PDMS材料は、重合可能基でキャップ付けされる。幾つかの実施態様において、重合可能基は、アクリレート基、スチレン基及びメタクリレート基からなる部類より選択される。
幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、KratonsTMの様なPDMS以外のエラストマー、ブナゴム、天然ゴム、フルオロエラストマー、クロロプレン、ブチルゴム、ニトリルゴム、ポリウレタン又は熱可塑性エラストマーが挙げられる。幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、ポリスチレン、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(エチレンテレフタレート)のようなポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、塩化ポリビニル、ポリオレフィン、ポリ(ケトン)、ポリ(エーテルエーテルケトン)及びポリ(エーテルスルホン)を含むが、これらに制限されない、硬い熱可塑性材料が挙げられる。
幾つかの実施態様において、官能性モノマーを、直接液体PFPE前駆体に付加できるが、また官能性モノマーを使って、タンパク質、オリゴヌクレオチド、薬剤、触媒、染料、センサー、検体及び溝の濡れ状態を変えることができる荷電のある物質からなる部類から選ばれる官能性分子を付加させる。この様なモノマーとしては、tert−ブチルメタクリレート基、tertブチルアクリレート基、ジメチルアミノプロピルメタクリレート基、グリシジルメタクリレート基、ヒドロキシエチルメタクリレート基、アミノプロピルメタクリレート基、アリールアクリレート基、シアノアクリレート基、シアノメタクリレート基、トリメトキシシランアクリレート基、トリメトキシシランメタクリレート基、イソシアナートメタクリレート基、ラクトン含有アクリレート基及びメタクリレート基、糖含有アクリレート基及びメタクリレート基、ポリエチレングリコールメタクリレート基、ノルノルナン含有メタクリレート基及びアクリレート基、多面体オリゴマーシルセスキオクサンメタクリレート基、2−トリメチルシロキシエチルメタクリレート基、1H,1H,2H,2H−フルオルオクチルメタクリレート基、ペンタフルオロスチレン基、ビニルピリジン基、ブロモスチレン基、クロロスチレン基、スチレンスルホン酸、フルオロスチレン基、スチレンアセテート基、アクリルアミド基及びアクリロニトリル基、が挙げられるが、これらに制限されない。
幾つかの実施態様において、官能性モノマーを、直接液体PFPE前駆体に付加できるが、また官能性モノマーを使って、タンパク質、オリゴヌクレオチド、薬剤、触媒、染料、センサー、検体及び溝の濡れ状態を変えることができる荷電のある物質からなる部類から選ばれる官能性分子を付加させる。この様なモノマーとしては、tert−ブチルメタクリレート基、tertブチルアクリレート基、ジメチルアミノプロピルメタクリレート基、グリシジルメタクリレート基、ヒドロキシエチルメタクリレート基、アミノプロピルメタクリレート基、アリールアクリレート基、シアノアクリレート基、シアノメタクリレート基、トリメトキシシランアクリレート基、トリメトキシシランメタクリレート基、イソシアナートメタクリレート基、ラクトン含有アクリレート基及びメタクリレート基、糖含有アクリレート基及びメタクリレート基、ポリエチレングリコールメタクリレート基、ノルノルナン含有メタクリレート基及びアクリレート基、多面体オリゴマーシルセスキオクサンメタクリレート基、2−トリメチルシロキシエチルメタクリレート基、1H,1H,2H,2H−フルオルオクチルメタクリレート基、ペンタフルオロスチレン基、ビニルピリジン基、ブロモスチレン基、クロロスチレン基、スチレンスルホン酸、フルオロスチレン基、スチレンアセテート基、アクリルアミド基及びアクリロニトリル基、が挙げられるが、これらに制限されない。
幾つかの実施態様において、上記の試薬が既に付加されたモノマーを、液体PFPE前駆体と直接混合させて、架橋によりネットワークに取り込む。幾つかの実施態様において、モノマーは、重合可能基、望みの試薬及びPFPE液体前駆体との混和性を可能にするフッ素化したセグメントからなる部類より選んだ基を含む。幾つかの実施態様において、モノマーは重合可能基、望みの試薬及びPFPE液体前駆体との混和性を可能にするフッ素化したセグメントを含まない。
幾つかの実施態様において、モノマーは、完全に硬化したエラストマーの機械的特性を調節するために加えられる。この様なモノマーとしては、ペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、水酸基、ウレタン、尿素、又は他の分子を含む水素結合性モノマー、tert−ブチルメタクリレート基のような大きな側基を有するモノマーが挙げられるが、これらに制限されない。
幾つかの実施態様において、モノマーは、完全に硬化したエラストマーの機械的特性を調節するために加えられる。この様なモノマーとしては、ペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、水酸基、ウレタン、尿素、又は他の分子を含む水素結合性モノマー、tert−ブチルメタクリレート基のような大きな側基を有するモノマーが挙げられるが、これらに制限されない。
幾つかの実施態様において、上記のモノマーのような官能分子を導入すると、機械的に巻き込まれる、即ち、硬化によりネットワーク内で共有結合を作らない。例えば、幾つかの実施態様において、官能性は重合可能モノマーを持たないPFPE鎖に導入し、この様なモノマーを硬化可能PFPE物質と混ぜ合わす。幾つかの実施態様において、この様な巻き込まれた物質を、硬化したPFPE多層膜を互いに接着させるために使うが、2種の物質が次のように反応性がある場合である:エポキシ基/アミン基、水酸基/酸塩化物、水酸基/イソシアネート基、アミン基/イソシアネート基、水酸基/ハロゲン化物、アミン基/ハロゲン化物、アミン基/エステル基及びアミン基/カルボン酸。加熱することにより、官能基は反応して、2種の膜は互いに接着する。付加的に、上記のような巻き込まれた物質を用いて、PFPE膜を、ガラス、シリコン、石英、PDMS,KratonsTM、ブナゴム、天然ゴム、フルオロエラストマー、クロロプレン、ブチルゴム、ニトリルゴム、ポリウレタン又は熱可塑性エラストマーの様な、他の材料の膜と接着させる。幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、ポリスチレン、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(エチレンテレフタレート)のようなポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、塩化ポリビニル、ポリオレフィン、ポリ(ケトン)、ポリ(エーテルエーテルケトン)及びポリ(エーテルスルホン)を含むが、これらに制限されない、硬い熱可塑性材料が挙げられる。
VII.表面に官能性を導入する他の方法
幾つかの実施態様において、本明細書に参考文献として全て取り込まれている、Chen,Y.及びMomose,Y.Surf.Interface.Anal.1999, 27,1073-1083,に記載されているポリ(テトラフルオロエチレン)表面に官能性を導入する方法を用いて、完全に固化したPFPE表面に、アルゴンプラズマは、官能性を導入することができる。より具体的には、特別な理論に特に捕らわれることなく、完全に硬化したPFPE材料をアルゴンプラズマに一定時間曝すと、フッ素化した骨格に沿って官能性が取り込まれる。
この様な官能性を用いて、PFPEの多層膜を接着させたり、完全に硬化したPFPE膜を、前もってシラン共役試薬処理を行ったガラス材料、又はシリコン材料の様な、基板に結合させたり、又は完全に硬化したPFPE膜を、PDMS材料のような、第2の高分子材料に結合させる。幾つかの実施態様において、PDMS材料は、官能性材料を含む。幾つかの実施態様において、PDMS材料は、プラズマ及びシラン共役試薬の処理により、望みの官能性を導入できる。この様な官能性を用いて、タンパク質、オリゴヌクレオチド、薬剤、触媒、染料、センサー、検体及び溝の濡れ状態を変えることができる荷電のある物質を付加することができる。
幾つかの実施態様において、本明細書に参考文献として全て取り込まれている、Chen,Y.及びMomose,Y.Surf.Interface.Anal.1999, 27,1073-1083,に記載されているポリ(テトラフルオロエチレン)表面に官能性を導入する方法を用いて、完全に固化したPFPE表面に、アルゴンプラズマは、官能性を導入することができる。より具体的には、特別な理論に特に捕らわれることなく、完全に硬化したPFPE材料をアルゴンプラズマに一定時間曝すと、フッ素化した骨格に沿って官能性が取り込まれる。
この様な官能性を用いて、PFPEの多層膜を接着させたり、完全に硬化したPFPE膜を、前もってシラン共役試薬処理を行ったガラス材料、又はシリコン材料の様な、基板に結合させたり、又は完全に硬化したPFPE膜を、PDMS材料のような、第2の高分子材料に結合させる。幾つかの実施態様において、PDMS材料は、官能性材料を含む。幾つかの実施態様において、PDMS材料は、プラズマ及びシラン共役試薬の処理により、望みの官能性を導入できる。この様な官能性を用いて、タンパク質、オリゴヌクレオチド、薬剤、触媒、染料、センサー、検体及び溝の濡れ状態を変えることができる荷電のある物質を付加することができる。
幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、KratonsTMの様なPDMS以外のエラストマー、ブナゴム、天然ゴム、フルオロエラストマー、クロロプレン、ブチルゴム、ニトリルゴム、ポリウレタン又は熱可塑性エラストマーが挙げられる。幾つかの実施態様において、第2の高分子材料としては、ポリスチレン、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(エチレンテレフタレート)のようなポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、塩化ポリビニル、ポリオレフィン、ポリ(ケトン)、ポリ(エーテルエーテルケトン)及びポリ(エーテルスルホン)を含むが、これらに制限されない、硬い熱可塑性材料が挙げられる。
幾つかの実施態様において、完全に硬化したPFPE膜は、固体基板とコンフォーマルな接触を行う。幾つかの実施態様において、基板は、ガラス材料、石英材料、シリコン材料、溶融珪素材料及びプラスチック材料からなる部類より選択される。幾つかの実施態様において、PFPE材料に、UV光、例えば185nmUV光、を照射するが、この照射によって、骨格からフッ素原子を奪い、Vurens,G.,他 Langmuir1992,8,1165-1169に記載されているように、基板に化学結合を形成する。この様にして、幾つかの実施態様において、PFPE膜は、フッ素原子引き抜きの後、ラジカル共役により固体基板に共有結合する。
幾つかの実施態様において、完全に硬化したPFPE膜は、固体基板とコンフォーマルな接触を行う。幾つかの実施態様において、基板は、ガラス材料、石英材料、シリコン材料、溶融珪素材料及びプラスチック材料からなる部類より選択される。幾つかの実施態様において、PFPE材料に、UV光、例えば185nmUV光、を照射するが、この照射によって、骨格からフッ素原子を奪い、Vurens,G.,他 Langmuir1992,8,1165-1169に記載されているように、基板に化学結合を形成する。この様にして、幾つかの実施態様において、PFPE膜は、フッ素原子引き抜きの後、ラジカル共役により固体基板に共有結合する。
IX.犠牲膜を用いるミクロ構造の形成方法
本出願で開示した対象材料は、分解性又は選択的溶解性の材料を含む犠牲膜を用いて、例えば液晶の配向層のような、デバイスとして用いるためのミクロ溝、溝、開口部、チャンネル、ミクロ構造等を形成する方法を提供する。幾つかの実施態様において、パターンのある表面、溝、チャンネル、又はミクロ又はナノ開口部を作るために、この方法は、(1)液晶前駆体材料と2次元又は3次元犠牲構造との接触、(2)前駆体材料の処理、例えば硬化処理及び(3)犠牲膜の除去を含む。
従って、幾つかの実施態様において、PFPE液晶前駆体は、多次元足場の上に配置されるが、ここで多次元足場はPFPEネットワークが硬化した後は、分解され、又は洗い流される材料から作られる。これらの材料は、溝、チャンネル、又は開口部が、エラストマーの他の膜がその上に配置された時、埋められてしまうことから保護する。このような分解性又は選択的溶解性材料の例としては、ワックス類、光レジスト類、ポリスルホン類、ポリアセトン類、セルローズ繊維類、塩類、又はいずれかの固体有機又は無機化合物が挙げられるが、これらに制限されない。幾つかの実施例において、犠牲膜は、熱的に、光化学的に又は溶媒との洗浄により取り除かれる。重要なことであるが、本明細書で記載した、材料及びデバイスと有機溶媒との間の適合性が、最終デバイス使用における、犠牲膜高分子構造の使用可能性を決める。
犠牲膜使用によって、ミクロ構造を形成する上で使用する、PFPE材料には、本明細書で記載した、PFPE及びフルオロオレフィン性材料がある。
本出願で開示した対象材料は、分解性又は選択的溶解性の材料を含む犠牲膜を用いて、例えば液晶の配向層のような、デバイスとして用いるためのミクロ溝、溝、開口部、チャンネル、ミクロ構造等を形成する方法を提供する。幾つかの実施態様において、パターンのある表面、溝、チャンネル、又はミクロ又はナノ開口部を作るために、この方法は、(1)液晶前駆体材料と2次元又は3次元犠牲構造との接触、(2)前駆体材料の処理、例えば硬化処理及び(3)犠牲膜の除去を含む。
従って、幾つかの実施態様において、PFPE液晶前駆体は、多次元足場の上に配置されるが、ここで多次元足場はPFPEネットワークが硬化した後は、分解され、又は洗い流される材料から作られる。これらの材料は、溝、チャンネル、又は開口部が、エラストマーの他の膜がその上に配置された時、埋められてしまうことから保護する。このような分解性又は選択的溶解性材料の例としては、ワックス類、光レジスト類、ポリスルホン類、ポリアセトン類、セルローズ繊維類、塩類、又はいずれかの固体有機又は無機化合物が挙げられるが、これらに制限されない。幾つかの実施例において、犠牲膜は、熱的に、光化学的に又は溶媒との洗浄により取り除かれる。重要なことであるが、本明細書で記載した、材料及びデバイスと有機溶媒との間の適合性が、最終デバイス使用における、犠牲膜高分子構造の使用可能性を決める。
犠牲膜使用によって、ミクロ構造を形成する上で使用する、PFPE材料には、本明細書で記載した、PFPE及びフルオロオレフィン性材料がある。
図6A−6D及び図7A−7Cは、分解性又は選択的溶解性材料からできた犠牲膜を用いた、ミクロ構造の作成するための、本出願において開示した方法の実施態様を示す。
図6Aを参照すると、パターンのある基板600が与えられている。液体PFPE前駆体材料602を、パターンのある基板600の上に配置する。幾つかの実施態様において、液体PFPE前駆体材料602は、パターンのある基板600の上に、回転塗布工程により配置される。液体PFPE前駆体材料602は、処理工程Tr1処理により、処理した液体PFPE前駆体材料604になる。
さて図6Bを参照すると、処理された液体PFPE前駆体材料の膜604を、パターンのある基板600から取り外す。幾つかの実施態様において、処理した液体PFPE前駆体材料の膜604を、基板606と接触させる。幾つかの実施態様において、基板606は平面基板又は実質的に平面材料である。幾つかの実施態様において、処理した液体PFPE前駆体材料の膜は、処理工程Tr2処理され、2層膜アセンブリー608になる。
さて図6Cを参照すると、所定の容積の分解性又は選択的溶解性材料610を、回転塗布により2層膜アセンブリー608上に配置する。幾つかの実施態様において、分解性又は選択的溶解性材料610を、2層膜アセンブリー608上に回転塗布工程で配置する。再度図6Cを参照すると、液体前駆体材料602を2層アセンブリー608上に配置し、所定容積の分解性又は選択的溶解性材料610を覆うPFPE材料膜612を作るために処理される。
図6Aを参照すると、パターンのある基板600が与えられている。液体PFPE前駆体材料602を、パターンのある基板600の上に配置する。幾つかの実施態様において、液体PFPE前駆体材料602は、パターンのある基板600の上に、回転塗布工程により配置される。液体PFPE前駆体材料602は、処理工程Tr1処理により、処理した液体PFPE前駆体材料604になる。
さて図6Bを参照すると、処理された液体PFPE前駆体材料の膜604を、パターンのある基板600から取り外す。幾つかの実施態様において、処理した液体PFPE前駆体材料の膜604を、基板606と接触させる。幾つかの実施態様において、基板606は平面基板又は実質的に平面材料である。幾つかの実施態様において、処理した液体PFPE前駆体材料の膜は、処理工程Tr2処理され、2層膜アセンブリー608になる。
さて図6Cを参照すると、所定の容積の分解性又は選択的溶解性材料610を、回転塗布により2層膜アセンブリー608上に配置する。幾つかの実施態様において、分解性又は選択的溶解性材料610を、2層膜アセンブリー608上に回転塗布工程で配置する。再度図6Cを参照すると、液体前駆体材料602を2層アセンブリー608上に配置し、所定容積の分解性又は選択的溶解性材料610を覆うPFPE材料膜612を作るために処理される。
さて図6Dを参照すると、所定容積の分解性又は選択的溶解性材料610を、処理工程Tr3で処理して、所定容積の分解性又は選択的溶解性材料610が取り外し、ミクロ構造616が作られる。
幾つかの実施態様において、ミクロ構造616には、ミクロ溝、チャンネル、又は通過孔等がある。幾つかの実施態様において、処理工程Tr3は、熱処理工程、照射工程、溶解工程及びそれ等のコンビネーション等から選択される。幾つかの実施態様において、パターンのある基板600には、エッチング処理したシリコンウエハーがある。幾つかの実施態様において、パターンのある基材としては、光耐性のパターンのある基板がある。本出願で開示した対象材料の目的のために、パターンのある基板を、光リソグラフィー、電子線リソグラフィー及びイオンエッチング等、当業者が既知の如何なる加工法でも作成可能であるが、これらの加工法に制限されない。
幾つかの実施態様において、ミクロ構造616には、ミクロ溝、チャンネル、又は通過孔等がある。幾つかの実施態様において、処理工程Tr3は、熱処理工程、照射工程、溶解工程及びそれ等のコンビネーション等から選択される。幾つかの実施態様において、パターンのある基板600には、エッチング処理したシリコンウエハーがある。幾つかの実施態様において、パターンのある基材としては、光耐性のパターンのある基板がある。本出願で開示した対象材料の目的のために、パターンのある基板を、光リソグラフィー、電子線リソグラフィー及びイオンエッチング等、当業者が既知の如何なる加工法でも作成可能であるが、これらの加工法に制限されない。
幾つかの実施態様において、分解可能又は選択的溶解可能材料610は、ポリオレフィンスルホン、セルローズ繊維、ポリラクトン及び高分子電解質からなる部類から選択される。幾つかの実施態様において、分解可能又は選択的溶解可能基板610は分解可能又は溶出可能な材料から選択される。幾つかの実子態様において、分解可能又は選択的溶解可能基板610は塩、水溶性高分子及び溶媒可溶性高分子から選択される。
単純な溝に加えて、本出願で開示した対象材料は、複数の複雑構造の作成を提供するが、これらは上述のように、前もって"注入成型"、又は形作られ、また材料に埋め込まれ、その後取り外される、
図7A−Cは犠牲層を用いて、ミクロチャンネル又はミクロ構造を形成するための、本出願で開示した方法を示す。図7Aを参照すると、基板700が提供される。幾つかの実施態様において、基板700を液体PFPE前駆体材料702で塗布する。犠牲構造704は、基板700上に置かれる。幾つかの実施態様において、液体PFPE前駆体材料702は、処理工程Tr1で処理される。
単純な溝に加えて、本出願で開示した対象材料は、複数の複雑構造の作成を提供するが、これらは上述のように、前もって"注入成型"、又は形作られ、また材料に埋め込まれ、その後取り外される、
図7A−Cは犠牲層を用いて、ミクロチャンネル又はミクロ構造を形成するための、本出願で開示した方法を示す。図7Aを参照すると、基板700が提供される。幾つかの実施態様において、基板700を液体PFPE前駆体材料702で塗布する。犠牲構造704は、基板700上に置かれる。幾つかの実施態様において、液体PFPE前駆体材料702は、処理工程Tr1で処理される。
図7Bを参照すると、第2の液体PFPE前駆体材料706は、犠牲構造704が第2の液体前駆体材料706に包み込まれるように、犠牲構造704の上に配置される。第2の液体前駆体材料706は、処理工程Tr1処理される。
図7Cを参照すると、犠牲構造704を、処理工程Tr3で処理し、犠牲構造を分解及び/又は取り外し、これによりミクロ構造708が作られる。幾つかの実施態様において、ミクロ構造708としては、パターンのある構造、チャンネル、溝及び開口部等が挙げられる。
幾つかの実施態様において、基板700はシリコン水を含む。幾つかの実施態様において、犠牲構造704には、分解可能又は選択的溶解可能材料がある。幾つかの実施態様において、犠牲構造704は、ポリオレフィンスルホン、セルローズ繊維、ポリラクトン及び高分子電解質からなる部類より選択される。幾つかの実施態様において、犠牲構造704は、分解可能又は選択的溶解可能材料から選択される。幾つかの実施態様において、犠牲構造704は、塩、水溶性高分子及び溶媒可溶性高分子からなる部類より選択される。
図7Cを参照すると、犠牲構造704を、処理工程Tr3で処理し、犠牲構造を分解及び/又は取り外し、これによりミクロ構造708が作られる。幾つかの実施態様において、ミクロ構造708としては、パターンのある構造、チャンネル、溝及び開口部等が挙げられる。
幾つかの実施態様において、基板700はシリコン水を含む。幾つかの実施態様において、犠牲構造704には、分解可能又は選択的溶解可能材料がある。幾つかの実施態様において、犠牲構造704は、ポリオレフィンスルホン、セルローズ繊維、ポリラクトン及び高分子電解質からなる部類より選択される。幾つかの実施態様において、犠牲構造704は、分解可能又は選択的溶解可能材料から選択される。幾つかの実施態様において、犠牲構造704は、塩、水溶性高分子及び溶媒可溶性高分子からなる部類より選択される。
X.粉末を用いてデバイスの弾性率を増す方法
幾つかの実施態様において、PFPE材料又は本明細書に記載した何れかのフルオロポリマーのような基材から作られるデバイスの弾性率は、硬化のために、本明細書において"PTFE充填剤"と呼ぶ、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)粉末のような粉末を、液体前駆体に混合することで増加する。PTFE自体が高い弾性率を有するので、PTFEを粉末状に加えることは、本出願で開示した対象材料の低弾性率材料内で均一に分散されれば、材料の全体としての弾性率を上げるであろう。PTFE充填剤は、PFPE材料に付加的な化学的安定性及び溶媒耐性を付与することができる。
幾つかの実施態様において、PFPE材料又は本明細書に記載した何れかのフルオロポリマーのような基材から作られるデバイスの弾性率は、硬化のために、本明細書において"PTFE充填剤"と呼ぶ、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)粉末のような粉末を、液体前駆体に混合することで増加する。PTFE自体が高い弾性率を有するので、PTFEを粉末状に加えることは、本出願で開示した対象材料の低弾性率材料内で均一に分散されれば、材料の全体としての弾性率を上げるであろう。PTFE充填剤は、PFPE材料に付加的な化学的安定性及び溶媒耐性を付与することができる。
XI.溶媒耐性である低表面エネルギー材料の応用
他の実施態様によると、本出願で開示した対象材料及び方法は、1又は2以上の以下の材料及び適用の仕方を、組合せ及び/又は置換することができる。
1実施態様によると、本出願で開示した対象材料の材料及び方法は、接着材料のシリコン成分と置き換えることができる。他の実施態様において、本出願で開示した対象材料の材料及び方法は、接着材料と併用しより強い結合及び代替的な接着型を提供できる。本出願で開示した対象材料が適用できる材料の1例としては、柔軟性があり、高い引き裂き強さを有するエラストマーを作るために、加熱したとき急速に硬化する、2液性流動性接着剤のような接着剤がある。この様な接着性は、シリコン塗布した構造を互いに及び他の基板と結合するために適している。この様な接着性の例は、DOW CORNING(R)Q5-8401 ADHESIVE KIT(Dow Corning Corp.,Midland,Michigan,United States of America)である。
他の実施態様によると、本出願で開示した対象材料の材料及び方法は、カラーマスターバッチにおけるシリコン成分により置換できる。他の実施態様において、本出願で開示した対象材料の材料及び方法は、カラーマスターバッチの成分と併用してより強い結合及び代替的結合型を提供できる。本出願で開示した対象材料に関する使用に適したカラーマスターバッチの例は、例えば、SILASTIC(R) LPX RED IRON OXIDE 5(Dow Corning Corp.,Midland,Michigan,United States of America)の様な、液体シリコンゴム類(LSR’s)に関する使用のためにデザインされた、ある範囲の色素マスターバッチであるが、これに制限されない。
他の実施態様によると、本出願で開示した対象材料及び方法は、1又は2以上の以下の材料及び適用の仕方を、組合せ及び/又は置換することができる。
1実施態様によると、本出願で開示した対象材料の材料及び方法は、接着材料のシリコン成分と置き換えることができる。他の実施態様において、本出願で開示した対象材料の材料及び方法は、接着材料と併用しより強い結合及び代替的な接着型を提供できる。本出願で開示した対象材料が適用できる材料の1例としては、柔軟性があり、高い引き裂き強さを有するエラストマーを作るために、加熱したとき急速に硬化する、2液性流動性接着剤のような接着剤がある。この様な接着性は、シリコン塗布した構造を互いに及び他の基板と結合するために適している。この様な接着性の例は、DOW CORNING(R)Q5-8401 ADHESIVE KIT(Dow Corning Corp.,Midland,Michigan,United States of America)である。
他の実施態様によると、本出願で開示した対象材料の材料及び方法は、カラーマスターバッチにおけるシリコン成分により置換できる。他の実施態様において、本出願で開示した対象材料の材料及び方法は、カラーマスターバッチの成分と併用してより強い結合及び代替的結合型を提供できる。本出願で開示した対象材料に関する使用に適したカラーマスターバッチの例は、例えば、SILASTIC(R) LPX RED IRON OXIDE 5(Dow Corning Corp.,Midland,Michigan,United States of America)の様な、液体シリコンゴム類(LSR’s)に関する使用のためにデザインされた、ある範囲の色素マスターバッチであるが、これに制限されない。
更に他の実施態様として、本出願で開示した対象材料の材料及び方法は液体シリコンゴム材料と置き換えることができる。他の実施態様において、本出願で開示した対象材料の材料及び方法は、液体シリコンゴム材料と併用して、液体シリコンゴム材料に、本出願で開示した対象材料のより強い結合及び代替的結合技術を与えることができる。本出願で開示した対象材料に関する使用、又は置き換えに適した液体シリコンゴムの例は、硬くて熱安定性のある2液性無溶媒性液体シリコンゴムのような、液体シリコンゴム塗布であるが、これに制限されない。同様な液体シリコンゴム塗布は、ガラスのみならずポリアミドに対して特に優れた接着性を示し、例えば、DOW CORNING(R)3625A&B KITで代表される製品のような、柔らかい低摩擦性及び非ブロック表面を有する。他の、このような液体シリコンゴムとしては、例えば、DOW CORNING(R) 3629PART A; DOW CORNING(R) 3631PART A&B (2液性無溶媒性熱硬化性液体シリコンゴム);DOW CORNING(R) 3715BASE(硬化して、汚れ防止性で、埃忌避性のある、非常に硬く非常に低摩擦性表面になる2液性無溶媒性シリコンのトップ塗布);DOW CORNING(R) 3730A&B KIT(ガラス構造ばかりでなくポリアミドに対して特に優れた接着性を有する、2液性無溶媒性及び無色液体シリコンゴム);SILASTIC(R) 590LSR PART A&B(優れた熱安定性を有する、2液性無溶媒性液体シリコンゴム);SILASTIC(R) 9252/250P KIT PARTS A&B(2液性無溶媒性熱硬化液体シリコンゴム;ガラス及びポリアミド構造物に対する一般目的塗布;無ハロゲン、低煙毒性及び食品品質を含む3品質が入手可能);SILASTIC(r) 9252/500P KIT PARTS A&B;SILASTIC(R) 9252/900P KIT PARTS A&B;SILASTIC(R) 9280/30 KIT PARTS A & B;SILASTIC(R) 9280/60E KIT PARTS A & B;SILASTIC(R) 9280/70E KIT PARTS A & B;SILASTIC(R) 9280/75E KIT PARTS A & B;SILASTIC(r) LSR 9151-200P PART A; SILASTIC(r) LSR 9451-1000P;RTV Elastomers(Dow Corning Corp.,Midland,Michigan,United States of America);DOW CORNING(R) 734 FLOWABLE SEALANT,CLEAR(一般的シーリング及び結合用途の1液性無溶媒性シリコンエラストマー、このシリコンエラストマーは直ちに使用可能であり、また空気中の湿気に曝されると硬化する、流動液体である); DOW CORNING(R) Q3-3445 RED FLOWABLE ELASTOMER;(高温剥離塗布のための赤色流動性1液無溶媒性シリコンエラストマー、一般的にこの製品は食品を出荷するための構造物を塗布するために用いられ、260℃まで安定である);及びDOW CORNING(R) Q3-3559 SEMIFLOWABLE TEXTILE ELASTOMER(半流動性1液性無溶媒性シリコンエラストマー)である。
更に他の実施態様において、本出願で開示した対象材料の材料及び方法は、水性の予備硬化したシリコンエラストマーで置き換えることができる。他の実施態様において、本出願で開示した対象材料の材料及び方法は、水性シリコンエラストマーと併用し、本明細書に記載した改善した物理的、化学的特性を材料に付与する。本出願で開示した対象材料に関する使用又は置換のために適した水性シリコンエラストマーの例として、本出願で開示した対象材料が一般的に適用できる、水性助剤があり、DOW CORNING(R) 84 ADDITIVE(水性予備硬化したシリコンエラストマー);DOW CORNING(R) 85 ADDITIVE (水性予備硬化したシリコンエラストマー);DOW CORNING(R) ET-4327 EMULSION(繊維質潤滑剤、摩滅耐性、水排除性及びガラス構造物に対する柔軟性があり、一般的にPTFE塗布のためのガラス繊維前処理として用いられる、メチル/フェニル基のついたシリコンエマルジョン);及びDow Corning 7-9120 Dimethicone NF Fluid(店頭で(OTC)局所的また皮膚ケア商品のための、新しい品位のDow Corningにより導入されたポリジメチルシロキサン流動体)などがあるが、これらに制限されない。
更に他の実施態様によると、本出願で開示された対象物質の材料及び方法は、他のシリコン性材料により置き換えられる。他の実施態様において、本出願で開示された対象物質の材料及び方法は、他のシリコン性材料と併用して、他のシリコン性材料に改良された物理的及び化学的特性を付与する。本出願で開示された対象物質に関する使用、又は置き換えに適した他のシリコン性材料の例としては、例えばUnited Chemical Technologies RTV silicone(United Chemical Technologies,Inc.,Bristol,Pennsylvania,United States of America)(電気的/電子的製陶及びカプセル封入に適した、柔軟性のある、透過性エラストマー); Sodium Methyl siliconate(この製品はシリコン表面を水反発性にし、グリーン強度及びグリーン貯蔵時間を増す);Silicone Emulsion(非毒性スプレイ放出可能な試薬として有用であり、乾燥して透明なシリコンフィルムとなる);PDMS/a-Methylstyrene (一時的シリコン塗布を基板から溶出する時に有用);GLASSCLAD(R) 6C(United Chemical Technologies,Inc.,Bristol,Pennsylvania,United States of America)(ファイバースコープ、臨床解析、エレクトロニックスのためのガラス器具の疎水的塗布);GLASSCLAD(R) 18(実験器具、磁器製品、ファイバースコープ、臨床解析及び光バルブのための疎水的塗布); GLASSCLAD(R) HT(>350℃安定性を有する防護的な硬く薄いフィルム塗布);GLASSCLAD(R) PSA(ガラス、絶縁部品、金属及びポリマーへの強い一時的結合を作る高純度圧力感受性接着);GLASSCLAD(R) SO(シリコン上に2酸化シリコンをデポジットするための防護的な硬い塗布);GLASSCLAD(R) EG(柔軟性のある熱安定な樹脂であり、抵抗器及び回路基板に酸化的また機械的バリアーを与える);GLASSCLAD(R) RC(>250℃で安定性を有するメチルシリコンであり,一般的に電気的及び回路基板部品の塗布に用いられる);GLASSCLAD(R) CR(290℃まで使用できる、硬化して柔軟性あるフィルムになるシリコンペイント塗料);GLASSCLAD(R) TF(二酸化シリコンの塗布により、36%二酸化シリコンに変換する、厚いフィルム(0.2〜0.4μm)の原料源、また一般的に誘電体膜、摩擦抵抗性塗布及び半透明性フィルムのために用いる。);GLASSCLAD(R) FF(生物医学装置及び光学デバイスのための、湿気に活性化されるソフトエラストマー);及びUV SILICONE(シリカにマッチした屈折率(R.I)を有するUVで硬化可能シリコン(R.I.)通常のUV源により薄い切断部分で硬化する)等が挙げられる、これらに制限されない。
本出願で開示した対象材料の更なる実施態様によると、本出願で開示した対象材料の材料及び方法は、さらなるシリコン含有材料と置き換え及び/又は併用できる。更なるシリコン含有材料としては、TUFSIL(R)(Specialty Silicone Products,Inc.,Ballston Spa,New York,United States of America)(最初呼吸用マスク、チューブの部品製品及び皮膚と接触する、又は健康管理及び食品加工産業で用いられる他の部分の製造のために、Specialty Siliconesにより開発された);Baysilone Paint Additive TP 3738(LANXESS Corp.,Pittsburgh,Pennsylvania,United States of America)(加水分解に抵抗性がある滑剤); Baysilone Paint Additive TP 3739(表面張力を減少させ、基板の濡れを改善する組成、アニオン性、カチオン性、非イオン性及び粉末のポリメタクリレートであり、液体アクリル性濃硬化材である、APK,APN及びAPAの様な、両性の溶液に対する3種のアクリル性濃厚化剤);Tego Protect 5000(Tego Chemie Service GmbH,Essen,Germany)(一般的にマット仕上げ、透明仕上げ及び色素性塗装システムのための修飾したポリジメチルシロキサン樹脂);Tego Protect 5001(透明ニスシステムに関して通常用いられる、水反撥性のシリコンポリアクリレート樹脂);
Tego Protect 5002(穏和な表面処理の後の再塗装に用いられるシリコンポリアクリレート樹脂);Microsponge 5700 Dimethicone(ミクロスポンジ−ジメチコーンよる技術であり、顔用トリートメント、ファンデーション、口紅、保湿剤及び紫外線予防製品のためのエマルジョン、粉末及びスティック製品の製造に有用であり、ジメチコンは、通常、ポリメタクリレートコポリマーの複雑な架橋マトリックスの中の空隙に詰め込まれている);取り込まれたジメチコーン成分が78%を構成する350cSTポリジメチルシロキサン及び、他の22%もジメチコーン成分からなる1000cSTポリジメチルシロキサン、このシステムは一般的に皮膚に対する保護作用のあるジメチコーンの運搬を容易にする);MB50高分子量ポリジメチルシロキサン添加物シリーズ(表面摩擦を減らし、より早い操作速度で処理を容易にする。一般的にPE,PS,PP,熱可塑性ポリエステルエラストマー、ナイロン6及び66,アセタール及びABSの形で入手可能である。シリコン成分は無臭、無色であり、食品接触を伴う用途に用いられる。製品はシリコン流動体及びPTFEの置き換え物として用いることができる);Slytherm XLT(Dow Corningからの新しいポリジメチルシロキサン低温熱移動流体,従来の有機移動流体とは異なり、無毒、無臭であり、このシステムの他の材料と反応しない、高温では、汚染が無くまたヘドロを作らないという点で付加的な利点がある。);及び561(R)シリコン変圧器流体(この材料は、300℃の引火点を持ち、343℃で発火する。1成分流体は100%PDMSであり、付加物はなく、土中で分解する、沈殿物。水中の酸素欠乏を引き起こさない。)などであるが、これらに制限されない。
Tego Protect 5002(穏和な表面処理の後の再塗装に用いられるシリコンポリアクリレート樹脂);Microsponge 5700 Dimethicone(ミクロスポンジ−ジメチコーンよる技術であり、顔用トリートメント、ファンデーション、口紅、保湿剤及び紫外線予防製品のためのエマルジョン、粉末及びスティック製品の製造に有用であり、ジメチコンは、通常、ポリメタクリレートコポリマーの複雑な架橋マトリックスの中の空隙に詰め込まれている);取り込まれたジメチコーン成分が78%を構成する350cSTポリジメチルシロキサン及び、他の22%もジメチコーン成分からなる1000cSTポリジメチルシロキサン、このシステムは一般的に皮膚に対する保護作用のあるジメチコーンの運搬を容易にする);MB50高分子量ポリジメチルシロキサン添加物シリーズ(表面摩擦を減らし、より早い操作速度で処理を容易にする。一般的にPE,PS,PP,熱可塑性ポリエステルエラストマー、ナイロン6及び66,アセタール及びABSの形で入手可能である。シリコン成分は無臭、無色であり、食品接触を伴う用途に用いられる。製品はシリコン流動体及びPTFEの置き換え物として用いることができる);Slytherm XLT(Dow Corningからの新しいポリジメチルシロキサン低温熱移動流体,従来の有機移動流体とは異なり、無毒、無臭であり、このシステムの他の材料と反応しない、高温では、汚染が無くまたヘドロを作らないという点で付加的な利点がある。);及び561(R)シリコン変圧器流体(この材料は、300℃の引火点を持ち、343℃で発火する。1成分流体は100%PDMSであり、付加物はなく、土中で分解する、沈殿物。水中の酸素欠乏を引き起こさない。)などであるが、これらに制限されない。
XII.ナノ領域の空隙を有する材料及び同上を作成する方法
本出願で開示した対象材料の他の実施態様として、本出願開示の材料は、ナノ領域の空隙をもって作成される。ナノ領域の空隙は、表面積が増加した、多孔性材料を提供し、材料の透過性等を増す。この様な実施態様において、フッ素化溶媒は、本明細書で記載した前駆体に、低濃度導入される。
この材料は、本明細書で記載したようにUV硬化法、熱硬化法、蒸発、これらの組合せなど、により硬化されるが、これらに限らない。次に、溶媒を硬化した材料から蒸発させる。硬化した材料から溶媒の蒸発後、ナノ領域の空隙が残される。これらナノ領域の空隙は、材料に多孔性を与え、材料の透過性を増し、表面積を増し、相互接続、又は単独、又はこれらの組合せ等が可能である。ある実施態様において、フッ素化溶媒の濃度は約15%以下である。更に、他の実施態様において、フッ素化した溶媒の濃度は約10%以下である。更に他の実施態様において、フッ素化した溶媒の濃度は、約5%以下である。このような実施態様において、溶媒は開孔剤として働き、硬化したエラストマーにナノ領域の空隙を残し、これにより材料の気体透過性を増し、材料にナノ領域の空隙率を作り出し、液体透過性、表面積、これらの組合せ等などを増す。
本出願で開示した対象材料の他の実施態様として、本出願開示の材料は、ナノ領域の空隙をもって作成される。ナノ領域の空隙は、表面積が増加した、多孔性材料を提供し、材料の透過性等を増す。この様な実施態様において、フッ素化溶媒は、本明細書で記載した前駆体に、低濃度導入される。
この材料は、本明細書で記載したようにUV硬化法、熱硬化法、蒸発、これらの組合せなど、により硬化されるが、これらに限らない。次に、溶媒を硬化した材料から蒸発させる。硬化した材料から溶媒の蒸発後、ナノ領域の空隙が残される。これらナノ領域の空隙は、材料に多孔性を与え、材料の透過性を増し、表面積を増し、相互接続、又は単独、又はこれらの組合せ等が可能である。ある実施態様において、フッ素化溶媒の濃度は約15%以下である。更に、他の実施態様において、フッ素化した溶媒の濃度は約10%以下である。更に他の実施態様において、フッ素化した溶媒の濃度は、約5%以下である。このような実施態様において、溶媒は開孔剤として働き、硬化したエラストマーにナノ領域の空隙を残し、これにより材料の気体透過性を増し、材料にナノ領域の空隙率を作り出し、液体透過性、表面積、これらの組合せ等などを増す。
XIII.液晶ディスプレイのためにエンボスしたフルオロポリマー配向層
幾つかの実施態様において、本明細書に記載され、開示された、基材は図8に示すように、液晶ディスプレイの配向層として構成される。図8は光源に対し正の誘電性を示す。図8によると、液晶ディスプレイ画素800は、低表面エネルギー基材配向層804及び液晶(類)802を使って示されている。幾つかの実施態様によると、エンボスされた光硬化可能ペルフルオロポリエーテル(PFPE)材料は、液晶ディスプレイ類(LCDs)800における"配向層"804として配置されている。従って、光硬化可能ペルフルオロポリエーテル類(PFPEs)は配向層804を供給し、配向層804はパターン806でエンボスされ、様々なLCDセルデザインのためのサブ画素特徴を与える。幾つかの実施態様において、パターンは、サブ画素のスケールで、規則正しいパターン又は繰り返しの形である。この様な実施態様において、LCDの画素は類似した、又は独特のパターンを持ちうる。幾つかの実施態様において、エンボスされたパターンは、溝、通過孔、窪み、格子パターンの溝、円形のパターンなどでありうる。
幾つかの実施態様において、パターンは、約10nmと約10μmの間である他の実施態様によると、パターンは約100nmと約5μmの間である。他の実施態様において、パターンは、約0.5μmと約1μmの間である。本明細書で開示した、例えば、PFPE材料のような、低表面エネルギー基材は、PFPE垂直配向(VA)指向界面810において、自発性垂直(ホメオトロピック)ディレクター指向を起こす。ある実施態様において、VA指向界面810は、薄膜ランジスター(TFT)LCDsに使われる。更に、光硬化可能ペルフルオロポリエーテル類(PFPEs)はTFTエレクトロニクスを危険にさらすことなく、現在ラビング技術が当業者に知られているように、望みの配向を提供する。従って、本出願で開示した対象材料は、柔軟性のある液晶ディスプレイの製品に使われる。
幾つかの実施態様において、本明細書に記載され、開示された、基材は図8に示すように、液晶ディスプレイの配向層として構成される。図8は光源に対し正の誘電性を示す。図8によると、液晶ディスプレイ画素800は、低表面エネルギー基材配向層804及び液晶(類)802を使って示されている。幾つかの実施態様によると、エンボスされた光硬化可能ペルフルオロポリエーテル(PFPE)材料は、液晶ディスプレイ類(LCDs)800における"配向層"804として配置されている。従って、光硬化可能ペルフルオロポリエーテル類(PFPEs)は配向層804を供給し、配向層804はパターン806でエンボスされ、様々なLCDセルデザインのためのサブ画素特徴を与える。幾つかの実施態様において、パターンは、サブ画素のスケールで、規則正しいパターン又は繰り返しの形である。この様な実施態様において、LCDの画素は類似した、又は独特のパターンを持ちうる。幾つかの実施態様において、エンボスされたパターンは、溝、通過孔、窪み、格子パターンの溝、円形のパターンなどでありうる。
幾つかの実施態様において、パターンは、約10nmと約10μmの間である他の実施態様によると、パターンは約100nmと約5μmの間である。他の実施態様において、パターンは、約0.5μmと約1μmの間である。本明細書で開示した、例えば、PFPE材料のような、低表面エネルギー基材は、PFPE垂直配向(VA)指向界面810において、自発性垂直(ホメオトロピック)ディレクター指向を起こす。ある実施態様において、VA指向界面810は、薄膜ランジスター(TFT)LCDsに使われる。更に、光硬化可能ペルフルオロポリエーテル類(PFPEs)はTFTエレクトロニクスを危険にさらすことなく、現在ラビング技術が当業者に知られているように、望みの配向を提供する。従って、本出願で開示した対象材料は、柔軟性のある液晶ディスプレイの製品に使われる。
図8によると、各LCD画素800は、光源LSに関し、図8で左側に示された、"明"状態(OFF状態)及び、図8の右側に示された、"暗"状態(ON状態)、の2種の操作モードを有する。これらの状態は、2枚の透明で、導電性の基板又は配向層804の間に置かれた、液晶(LC)分子802の配向性により決定される。偏光板、アナライザー及び/又はカラーフィルター808は、LCディレクターが付加された電場、例えば、AC電圧AC,により再配向する時、コントラスト(幾つかの実施態様では、色)を生ずる。
図9を参照すると、基板902上に配向層908を形成する方法が示されている。基板902は好ましい実施態様に従い作られる。幾つかの実施態様において、基板902は、パターンを持ってもよいし、平面表面でもよい。幾つかの実施態様において、基板902は、透明な、導電基板を含む。本出願で開示した低表面エネルギー基材のような、基材904を基板902の上に配置する。幾つかの実施態様によると、基材904の基板902上への配置は、例えば、液体前駆体基材の基板への滴下し、又は回転塗布など行われる。幾つかの実施態様において、基板上に配置される基材904は、PFPE液体前駆体である。基材904を、その後、例えば本明細書で開示したようにUV硬化工程のような、硬化工程906で処置し、基材を、配向層908として硬化される。夫々に基材配向層908を有する複数の基板902の互いの位置を決め、液晶910をそれ等の間に置き、これにより画素912ができ上がる。
図9を参照すると、基板902上に配向層908を形成する方法が示されている。基板902は好ましい実施態様に従い作られる。幾つかの実施態様において、基板902は、パターンを持ってもよいし、平面表面でもよい。幾つかの実施態様において、基板902は、透明な、導電基板を含む。本出願で開示した低表面エネルギー基材のような、基材904を基板902の上に配置する。幾つかの実施態様によると、基材904の基板902上への配置は、例えば、液体前駆体基材の基板への滴下し、又は回転塗布など行われる。幾つかの実施態様において、基板上に配置される基材904は、PFPE液体前駆体である。基材904を、その後、例えば本明細書で開示したようにUV硬化工程のような、硬化工程906で処置し、基材を、配向層908として硬化される。夫々に基材配向層908を有する複数の基板902の互いの位置を決め、液晶910をそれ等の間に置き、これにより画素912ができ上がる。
典型的LCD例は、いわゆる"捻れネマティックセル"であり、ここで表面処理は、内部の導電性基板表面に適用される、即ち"配向層"が初期(明)状態を確立する。このようなLCDsにおいて、セルの壁に接するディレクターの均一な"平面的"配向は、セルの反対側で直角に配置されており、LC媒体を通して、捻れた光軸を作り出す。捻れた媒体は、平面偏光を回転させ、従って光が第2の偏光板を通して通過することを可能にする。セルの壁に垂直に電場を付加して1軸媒体を作って生ずる暗状態は、偏光を回転させない。
これらのフィルムを配向させる典型的な方法は、導電基板の修飾を伴い、その結果できる界面−配向層−は幾つかの配向性又は固着作用も有する。従来の修飾技術は、基板のポリイミド配向層による塗布を伴い、硬化後、機械的にラビングを受ける。この塗布は、従来、基板上に"回転塗布"され、薄ファイルを作り出す。その間、一般的な材料は、化学的及び熱的な安定性及び接着性を付与し、またこの技術は、化学的多様性に敏感である。しかしながら、このような従来型の修飾技術の幾つかの欠点は、従来の配向層の、配向のために必要な機械的なラビングが、静電荷により電子部品の破壊をもたらす事、従って有用な製品の収量はたった40%でしかないことである。また、従来用いられた材料の配向のメカニズムは、良く理解されてない。他方、本出願で開示した対象材料は、配向層として、例えば光硬化可能ペルフルオロポリエーテル類などの本明細書で開示され、記載された基材を用いることにより、これら及び他の従来型の修飾技術の欠点に対処する。光硬化可能ペルフルオロポリエーテル類(PFPEs)は、特徴のあるフルオロポリマーであり、室温で液体であり、低表面エネルギー、低い毒性、優れた化学耐性(TEFLON(R)材料に類似)を示し、コンフォーマルに適用され、また成形又はエンボスされて、所定のパターンのある表面トポロジーを与える。
これらのフィルムを配向させる典型的な方法は、導電基板の修飾を伴い、その結果できる界面−配向層−は幾つかの配向性又は固着作用も有する。従来の修飾技術は、基板のポリイミド配向層による塗布を伴い、硬化後、機械的にラビングを受ける。この塗布は、従来、基板上に"回転塗布"され、薄ファイルを作り出す。その間、一般的な材料は、化学的及び熱的な安定性及び接着性を付与し、またこの技術は、化学的多様性に敏感である。しかしながら、このような従来型の修飾技術の幾つかの欠点は、従来の配向層の、配向のために必要な機械的なラビングが、静電荷により電子部品の破壊をもたらす事、従って有用な製品の収量はたった40%でしかないことである。また、従来用いられた材料の配向のメカニズムは、良く理解されてない。他方、本出願で開示した対象材料は、配向層として、例えば光硬化可能ペルフルオロポリエーテル類などの本明細書で開示され、記載された基材を用いることにより、これら及び他の従来型の修飾技術の欠点に対処する。光硬化可能ペルフルオロポリエーテル類(PFPEs)は、特徴のあるフルオロポリマーであり、室温で液体であり、低表面エネルギー、低い毒性、優れた化学耐性(TEFLON(R)材料に類似)を示し、コンフォーマルに適用され、また成形又はエンボスされて、所定のパターンのある表面トポロジーを与える。
本明細書で上述したように、LCDsにおけるポリイミド固着膜と関連して示した利点に加えて、PFPEsはLCD生産に有益な幾つかのユニークな特徴を与える。例えば、PFPEフィルムの低表面得ネルギーは、非常に広い面積(例えば、1cm2以上)におよぶ、自発性、均一なホメオトロピック(垂直)配向をもたらす。図8に示すように、偏光顕微鏡写真は、PFPEで塗布したセル800上で、ミリメートルスケールの自発性ホメオトロピック配向−垂直配向(VA)指向界面810−を示す。
他の実施態様において、例えば、負の誘電率を有する液晶は、(自発性ホメオトロピック配向が得られるよう前処理した)光硬化可能ペルフルオロポリエーテル配向層をもつディスプレイデバイスに用いられる。この様な実施態様によると、"off状態"は自発的に生まれた(NA)暗状態である。セル(配向層)を横切って電場を付加すると、ディレクターを90度ずらし、明で、複屈折の"on状態"(セル内の分子の横断配向)を作り出す。
光硬化可能ペルフルオロポリエーテル類(PFPEs)は、ソフトリソグラフィーのための優れた高分子としての利点を有する。従って、例えば、溝、又は溝の波形の正弦波パターン等(即ち、幾つかの実施態様では溝も含まれる、図8のパターン806)のような、パターンをPFPE表面にエンボスすることは、配向層表面上に方向についての優先傾向を作ることになり、これは転じてLCの配向性を決定づける。エンボスされたパターンの大きさは、サブ画素スケールであり得る。
他の実施態様において、例えば、負の誘電率を有する液晶は、(自発性ホメオトロピック配向が得られるよう前処理した)光硬化可能ペルフルオロポリエーテル配向層をもつディスプレイデバイスに用いられる。この様な実施態様によると、"off状態"は自発的に生まれた(NA)暗状態である。セル(配向層)を横切って電場を付加すると、ディレクターを90度ずらし、明で、複屈折の"on状態"(セル内の分子の横断配向)を作り出す。
光硬化可能ペルフルオロポリエーテル類(PFPEs)は、ソフトリソグラフィーのための優れた高分子としての利点を有する。従って、例えば、溝、又は溝の波形の正弦波パターン等(即ち、幾つかの実施態様では溝も含まれる、図8のパターン806)のような、パターンをPFPE表面にエンボスすることは、配向層表面上に方向についての優先傾向を作ることになり、これは転じてLCの配向性を決定づける。エンボスされたパターンの大きさは、サブ画素スケールであり得る。
表面を様々な方向に溝を用いてエンボスできると言うことは、現代のミクロラビング方法を用いずに、ユニークなピクセル化した配向パターンを樹立し、更にカラーディスプレイのための薄膜トランジスター(TFT)からできたより小さな活性表面を高収量で作成することを可能にする。従って、本出願で開示した対象材料は、機械的ラビングを避け、電子部品にもたらしうる靜電気障害を避けて、薄膜トランジスター製品を提供し、ずっと高収量で高品質のデバイスをもたらす。
更に、例えば、PFPEsの様な基材は、低係留エネルギーを与えるので、より早いスイッチング時間を可能にする。また、PFPEsの使用は、サブ画素スケールで配向の絶対制御により、大面積LCDデバイスの効率のよい生産を可能にする。エンボスされたPFPE配向層は、また、現在使われている全てのLCD幾何学的構成:TN(捻れネマティック)、VA(垂直配向)及びIPS(平面内スイッチング)、を容易にする。更に、本出願で開示した対象材料は、プリントした、柔軟性のある、液晶ディスプレイの製造を可能にする。
更に、例えば、PFPEsの様な基材は、低係留エネルギーを与えるので、より早いスイッチング時間を可能にする。また、PFPEsの使用は、サブ画素スケールで配向の絶対制御により、大面積LCDデバイスの効率のよい生産を可能にする。エンボスされたPFPE配向層は、また、現在使われている全てのLCD幾何学的構成:TN(捻れネマティック)、VA(垂直配向)及びIPS(平面内スイッチング)、を容易にする。更に、本出願で開示した対象材料は、プリントした、柔軟性のある、液晶ディスプレイの製造を可能にする。
幾つかの実施態様において、本出願で開示された材料から形成された高分子配向層は、本明細書で述べた2重硬化法により、例えば、他の配向層(例えば、図5A−5Eに示したように)に接着できる。例えば、配向層に対する基材は、光硬化及び熱硬化成分のような、2重の硬化成分を含む。この実施例によると、第1配向層は、マスター鋳型からパターン化され、第1光硬化を受け、第1配向層は、形及びパターン分布を維持するために部分硬化される。第1配向層の熱硬化成分は、後の処理のために非活性のままである。次に幾つかの実施態様において、光硬化した第1配向層は、第2の膜上に配置される。幾つかの実施態様において、第2膜は、例えば、第2配向層、ガラス膜及びシリコン膜等であり得る。幾つかの実施態様において、第2膜は、本明細書で述べた液体基材から形成された、パターンのある膜、又はパターン無しの膜であり得るが、この液体基材を、第1の光硬化処理しても第2膜は部分硬化状態である。第1に硬化した第1配向層を第1に硬化した第2配向層に配置した後、このコンビネーションを熱硬化処理する。熱硬化工程において、第1配向層の熱硬化成分は活性化され、第1配向層の熱成分と第2配向層が結合する。
XIV.柔軟性フルオロポリマーがホログラフィー状に分散した液晶ディスプレイ
ポリマー分散型(PD)液晶ディスプレイ類(LCDs)は、ポリマーマトリクス内の液晶(LC)小滴の分散をしばしば伴う、大面積平面パネルディスプレイにおけるこれら分散の役割故によく知られている。ポリマー分散型(PD)液晶ディスプレイ類(LCDs)は、一般的には、LCをモノマーと混ぜ合わせ、モノマーを重合させて作られる。重合過程において、自発的な相分離が起き、"純粋な"LC滴が、介在するポリマーにより、互いに分離する。このLCDは、分散を横切って電場を付加し、これにより散乱光を増加させ(又は減少させ)(相対)屈折率を変化させることにより作動する。
例えば、Woo,J.Y.,他,J.Macromolecular Science-Physics 2004,B43(4):833-843は、透明な、導電性酸化スズの薄いコートに挟まれた、従来型の透明なポリマーホストマトリックス低分子量ネマティック流動(LC)のミクロ分散からなるポリマー分散液晶(PDLC)デバイスを記載する。付随して光学的変化を伴う、電場に誘導されたディレクター再配向は、広面積LCDs:ポリマー分散型LCs(PDLCs)、にしばしば用いられる。 PDLCsは従来型透明、ポリマーフィルムに分散した低分子量LCのミクロエマルジョンである。"off"状態において、mLCの屈折率とホストポリマーフィルムの間に、ミスマッチがある。従って、mLC滴の分散は、光を効果的に散乱させ、光学的不透明なフィルムを作る。(ポリマーフィルムの両側を塗布しているコンデンサー類似の透明酸化スズを横切って)外部E−場を付加すると、ディレクターは全てのミクロ滴に同じ配向を取らせる。もし、ディレクターに沿った屈折率が、ポリマーフィルムホストの屈折率とマッチしたら、"on"状態において、フィルムは不透明から透明に突然切り替わり、非常に経済的な広面積"光バルブ"となる。
ポリマー分散型(PD)液晶ディスプレイ類(LCDs)は、ポリマーマトリクス内の液晶(LC)小滴の分散をしばしば伴う、大面積平面パネルディスプレイにおけるこれら分散の役割故によく知られている。ポリマー分散型(PD)液晶ディスプレイ類(LCDs)は、一般的には、LCをモノマーと混ぜ合わせ、モノマーを重合させて作られる。重合過程において、自発的な相分離が起き、"純粋な"LC滴が、介在するポリマーにより、互いに分離する。このLCDは、分散を横切って電場を付加し、これにより散乱光を増加させ(又は減少させ)(相対)屈折率を変化させることにより作動する。
例えば、Woo,J.Y.,他,J.Macromolecular Science-Physics 2004,B43(4):833-843は、透明な、導電性酸化スズの薄いコートに挟まれた、従来型の透明なポリマーホストマトリックス低分子量ネマティック流動(LC)のミクロ分散からなるポリマー分散液晶(PDLC)デバイスを記載する。付随して光学的変化を伴う、電場に誘導されたディレクター再配向は、広面積LCDs:ポリマー分散型LCs(PDLCs)、にしばしば用いられる。 PDLCsは従来型透明、ポリマーフィルムに分散した低分子量LCのミクロエマルジョンである。"off"状態において、mLCの屈折率とホストポリマーフィルムの間に、ミスマッチがある。従って、mLC滴の分散は、光を効果的に散乱させ、光学的不透明なフィルムを作る。(ポリマーフィルムの両側を塗布しているコンデンサー類似の透明酸化スズを横切って)外部E−場を付加すると、ディレクターは全てのミクロ滴に同じ配向を取らせる。もし、ディレクターに沿った屈折率が、ポリマーフィルムホストの屈折率とマッチしたら、"on"状態において、フィルムは不透明から透明に突然切り替わり、非常に経済的な広面積"光バルブ"となる。
更に、平面パネル技術は、多くの新しい及び新生の携帯用の製品に適用される。平面ディスプレイの新技術は、ホログラフィーのポリマー分散液晶(HPDLC)である。偏光板及びカラーフィルターは、HPDLCに常に用いられるとは限らないので、ホログラフィー方法をポリマー分散型液晶類(PDLC)に対して適用して作られる、HPDLCは、高輝度、全カラー及び反射ディスプレイに対する候補として期待されている。
ポリマーマトリクス内の液晶分子(LC)の分散は、プレポリマーとLCを混合し、光化学的に重合化を誘導し、重合化誘導の相分離により作られる。相分離過程の動力学は、複雑な現象であり、重合化の結果として、構成物質の化学ポテンシャルの変化により開始される。LC小滴は、重合化及びゲル化の速度及び様々な成分の混和性の変化、に依存する速度で、作られ、成長する。最近、ポリマー構造の効果について、HPDLC特性に関し、様々な考察が為された。例えば、駆動電圧は、アクリルモノマーを異なるアルキル側鎖長で作ることにより、顕著に減少する。改善度は、界面修飾により説明され、即ち、界面修飾はモノマーの結合エネルギー及び硬化したポリマーの表面自由エネルギーで表される。また、HPDLC格子上の様々なモノマー官能性の効果が、報告されている。最近、HPDLCについての大きな課題は、光重合化工程における、格子の収縮を最小にすることである。架橋の間の、ポリマー溶積収縮は、約10%以上のオーダーであり、正確なホログラフィーの格子を作成する上で、致命的である。HPDLCの反射効率及び容積収縮に対するプレポリマー分子構造の効果のみならず、ウレタンアクリレートモノマー官能性について収縮の程度が、研究された。幾つかの報告において、ポリウレタンアクリレート類(PUAs)が、光硬化可能材料として用いられる。PUAsは構造コントロールを行う、即ち、それ等の分子構造は、原材料の分子パラメーターを変えることによりコントロールできる。PUAの柔らかいセグメント及び硬いセグメント構造の長さを変えることにより、これらの電気―光学的特性は、研究されてきた。
ポリマーマトリクス内の液晶分子(LC)の分散は、プレポリマーとLCを混合し、光化学的に重合化を誘導し、重合化誘導の相分離により作られる。相分離過程の動力学は、複雑な現象であり、重合化の結果として、構成物質の化学ポテンシャルの変化により開始される。LC小滴は、重合化及びゲル化の速度及び様々な成分の混和性の変化、に依存する速度で、作られ、成長する。最近、ポリマー構造の効果について、HPDLC特性に関し、様々な考察が為された。例えば、駆動電圧は、アクリルモノマーを異なるアルキル側鎖長で作ることにより、顕著に減少する。改善度は、界面修飾により説明され、即ち、界面修飾はモノマーの結合エネルギー及び硬化したポリマーの表面自由エネルギーで表される。また、HPDLC格子上の様々なモノマー官能性の効果が、報告されている。最近、HPDLCについての大きな課題は、光重合化工程における、格子の収縮を最小にすることである。架橋の間の、ポリマー溶積収縮は、約10%以上のオーダーであり、正確なホログラフィーの格子を作成する上で、致命的である。HPDLCの反射効率及び容積収縮に対するプレポリマー分子構造の効果のみならず、ウレタンアクリレートモノマー官能性について収縮の程度が、研究された。幾つかの報告において、ポリウレタンアクリレート類(PUAs)が、光硬化可能材料として用いられる。PUAsは構造コントロールを行う、即ち、それ等の分子構造は、原材料の分子パラメーターを変えることによりコントロールできる。PUAの柔らかいセグメント及び硬いセグメント構造の長さを変えることにより、これらの電気―光学的特性は、研究されてきた。
対照的に、本出願で開示した対象材料は、ホログラフィーのポリマーが分散した液晶ディスプレイ(PD LCDs)の作成のためのホストポリマーマトリックスとして、本明細書に記載した、例えば、光硬化可能ペルフルオロポリエーテル類(PFPEs)のような、基材の使用を記載する。光硬化可能ペルフルオロポリエーテル類(PFPEs)は、大部分のネマティックLCsと相性が悪く、PFPEの光硬化の際に線引きをしたような相分離を起こす。より具体的に述べると、PFPEの低表面エネルギーは、LC封入の球晶内で、自発性垂直(ホメオトロピック)ディレクター配向を引き起こし、逆に、これは負の誘電性LCを用いた場合に記載したような、強い散乱の"off"状態、を生ずる。更に、ユニークで利点を有する相分離したLC小滴勾配(サイズ分布)があるが、このサイズ分布は光硬化可能ペルフルオロポリエーテル類(PFPEs)とLCの間の本質的な不和合性の結果である。
図10及び11を参照すると、幾つかの実施態様において、本出願で開示した対象材料は、シリコンマスターのようなパターンのある基板1002(図10)から形成された光硬化可能ペルフルオロポリエーテル(PFPE)で型どった配向層1010,1100(図10,11、夫々異なる実施態様を示す)の使用を記載する。これらの配向層の使用により、液晶(LCs)のためのミクロンサイズ(幾つかの実施態様において、四角、溝など)及びサブミクロンサイズ(例えば、およそ100ナノメートルスケールであり、幾つかの実施態様において、丸型であり、またレンズ、四角、三角、均一、非均一、無定型、溝型等として働く)、アドレス可能な"コンテナー"、"バブル"又は"ウェル"1012,1102(図10及び11,夫々、代わりうる実施態様を示す)を作ることができる。幾つかの実施態様において、例えば、図11Aにおける"バブル"又は"ウェル"1102の側面は5μmの大きさである。シール可能なPFPEバブルは、次のメタル化ステップを経て電場で個別に活性化できる。更に、図11Bに示すように、逆成型により5μm粒子を作ることができる。
図10及び11を参照すると、幾つかの実施態様において、本出願で開示した対象材料は、シリコンマスターのようなパターンのある基板1002(図10)から形成された光硬化可能ペルフルオロポリエーテル(PFPE)で型どった配向層1010,1100(図10,11、夫々異なる実施態様を示す)の使用を記載する。これらの配向層の使用により、液晶(LCs)のためのミクロンサイズ(幾つかの実施態様において、四角、溝など)及びサブミクロンサイズ(例えば、およそ100ナノメートルスケールであり、幾つかの実施態様において、丸型であり、またレンズ、四角、三角、均一、非均一、無定型、溝型等として働く)、アドレス可能な"コンテナー"、"バブル"又は"ウェル"1012,1102(図10及び11,夫々、代わりうる実施態様を示す)を作ることができる。幾つかの実施態様において、例えば、図11Aにおける"バブル"又は"ウェル"1102の側面は5μmの大きさである。シール可能なPFPEバブルは、次のメタル化ステップを経て電場で個別に活性化できる。更に、図11Bに示すように、逆成型により5μm粒子を作ることができる。
図10における溝1012及び/又は図11のウェル1102の様な、エンボスしたパターンのある光硬化可能ペルフルオロポリエーテル(PFPE)は、シリコンマスターのようなパターンのある基板及び次の光硬化によって直ちに作ることができる。図10に関しては、パターンのある鋳型1002は、基板1000とコミュニケーション可能であり、これによりこれらの間に液体高分子材料1004を挟むことができる。液体高分子材料1004をパターンのある鋳型1002の溝1006の中に分散する。パターンのある鋳型1002を基板1000とコミュニケーションさせた後、例えばUV硬化法、又は熱硬化法のような処理1008を、その組合せに施す。
処理1008は高分子材料1004に含まれる硬化剤を活性化して、高分子材料を硬化して、パターンのある膜1010を作る。パターンのある膜1010は、パターンのある鋳型1002の溝1012の鏡映像のエンボスされたパターンを有する。
図12に関して、幾つかの実施態様において、ミクロコンテナ1200の"トップ"矢印は、"ボトム"PFPE膜1202をシールする。幾つかの実施態様において、トップ矢印1200は、本明細書で記載した二重の硬化工程を介して、ボトム膜1202をシールする。幾つかの実施態様において、液晶1206を、幾つかの実施態様において、光シールのためにPFPEモノマーで濡らされた、なめらかなPFPEボトム表面1202上に溶着する。"トップ"1200及び"ボトム"1202PFPE表面の接触は、液晶1206をミクロウェル又はミクロバブル1204内に分離する。PFPE材料が低表面エネルギー−を有するので、ミクロバブルをもつ自発性垂直(ホメオトロピック)ディレクター配向が作られる。この配向は、ミクロバブルを横切る電場の付加により、付随する光応答によりかき乱される。光硬化可能ペルフルオロポリエーテル(PFPE)材料とLCの間の本質的不和合性により、ミクロウェル又はバブル1204におけるLCの不連続で、分離した封じ込めが生まれる。これらのミクロウェル又は"バブル"は、ローラー1208を用いたロール積層により、ネマティック液晶(負の誘電性異方性を有する)で填められ、経済的、大面積、柔軟な光バルブになる、識別可能な液晶"画素"ができ上がる。制作過程で、配向層1200,1202は、例えばUV処理、又は熱処理等の硬化1210で処理され、配向層1200,1202内の成分が活性化され、膜を結合させる。
処理1008は高分子材料1004に含まれる硬化剤を活性化して、高分子材料を硬化して、パターンのある膜1010を作る。パターンのある膜1010は、パターンのある鋳型1002の溝1012の鏡映像のエンボスされたパターンを有する。
図12に関して、幾つかの実施態様において、ミクロコンテナ1200の"トップ"矢印は、"ボトム"PFPE膜1202をシールする。幾つかの実施態様において、トップ矢印1200は、本明細書で記載した二重の硬化工程を介して、ボトム膜1202をシールする。幾つかの実施態様において、液晶1206を、幾つかの実施態様において、光シールのためにPFPEモノマーで濡らされた、なめらかなPFPEボトム表面1202上に溶着する。"トップ"1200及び"ボトム"1202PFPE表面の接触は、液晶1206をミクロウェル又はミクロバブル1204内に分離する。PFPE材料が低表面エネルギー−を有するので、ミクロバブルをもつ自発性垂直(ホメオトロピック)ディレクター配向が作られる。この配向は、ミクロバブルを横切る電場の付加により、付随する光応答によりかき乱される。光硬化可能ペルフルオロポリエーテル(PFPE)材料とLCの間の本質的不和合性により、ミクロウェル又はバブル1204におけるLCの不連続で、分離した封じ込めが生まれる。これらのミクロウェル又は"バブル"は、ローラー1208を用いたロール積層により、ネマティック液晶(負の誘電性異方性を有する)で填められ、経済的、大面積、柔軟な光バルブになる、識別可能な液晶"画素"ができ上がる。制作過程で、配向層1200,1202は、例えばUV処理、又は熱処理等の硬化1210で処理され、配向層1200,1202内の成分が活性化され、膜を結合させる。
柔軟なパネル全体の両側を硬化し、印加した電場内の液晶を再配向させる導電表面を作る。"曲面上の伝達性熱移動の高分解能、マッピングのための、色相捕獲性一過的液晶法"及びコレステロール性LCsを用いた表面温度測定法、から光減衰ウオールサイズパネル等までの範囲の使用が可能である。
一般的に、良く定義された"バブル"又は"空隙"のこの取り扱いは、以下の多くの応用に役立つが、これらに制限されない:(1)ポリマー分散液晶(PDLC)ワイドレンジ光バルブに対する通常のマトリックス材料に対する代替物としてのPFPE使用;(2)それ自体応用のための低表面エネルギーマトリクスとしての役目に加え、デザインした空隙型及びスペースを有するPFPE型を、高分子マトリクス内に空隙を作る様、通常の高分子マトリクス材料を成型するために加工し、次にこれに液晶を充填し、例えば、ミクロ及びナノレンズ配列、ホトニックバンドギャップ材料及び位相マスクのような、場変調デバイスを加工できる;(3)より一般的に、PFPE材料は、通常の材料のハイフィデリティ成型により、ミクロ及びナノレンズ、ホトニックバンドギャップ材料及び位相マスクの加工を可能にする。
一般的に、良く定義された"バブル"又は"空隙"のこの取り扱いは、以下の多くの応用に役立つが、これらに制限されない:(1)ポリマー分散液晶(PDLC)ワイドレンジ光バルブに対する通常のマトリックス材料に対する代替物としてのPFPE使用;(2)それ自体応用のための低表面エネルギーマトリクスとしての役目に加え、デザインした空隙型及びスペースを有するPFPE型を、高分子マトリクス内に空隙を作る様、通常の高分子マトリクス材料を成型するために加工し、次にこれに液晶を充填し、例えば、ミクロ及びナノレンズ配列、ホトニックバンドギャップ材料及び位相マスクのような、場変調デバイスを加工できる;(3)より一般的に、PFPE材料は、通常の材料のハイフィデリティ成型により、ミクロ及びナノレンズ、ホトニックバンドギャップ材料及び位相マスクの加工を可能にする。
幾つかの実施態様によると、液晶ディスプレイスクリーン2620は、マイクロプロセッサー2601によりコントロールされる。図26に示すように、マイクロプロセッサー2601には、一般的に中央プロセッシングユニット(CPU)2600、メモリー2602,使用者インターフェース2604,コミニュケーションインターフェース回路2606,ランダムアクセスメモリー(RAM)2608,及びこれらを互いに接続させるバス2610がある。マイクロプロセッサー2601はプログラム可能であり、メモリー2602における、液晶ディスプレイスクリーン2620のコントロール、活性化及び不活性化等に関するデータを貯蔵できる。CPU2600は、メモリー2602に蓄えられた指令及び使用者インターフェース2604を通し使用者にインプットされた指令を判断し、実行する。メモリー2602には、ディスプレイスクリーン2620上に作られまた表示された対象及び/又はイメージを制御する、ディスプレイスクリーン2620の制御手順に対する作動手順2616及び操作システム2612及びコミニュケーション手順2614がある。
一般的にディスプレイを考察する参考文献としては、US20040135961;JP2004163780;及びJP2004045784があるが、これらに限られない。また、これらの参考文献は、そこで引用している文献も含め、全て本明細書の参考文献に取り込まれている。
一般的に、柔軟性のあるディスプレイを考察する参考文献としては、JP2005326825があるが、これに限られない。この文献はここに引用されている参考文献も含め、全て本明細書の参考文献に取り込まれている。
一般的にポリマー配向層を考察する参考文献としては、JP2003057658;JP2001048904;EP351718;US6491988;及びJP2002229030があるが、これらに限られない。また、これらの参考文献は、そこで引用している文献も含め、全て本明細書の参考文献に取り込まれている。
一般的に溝又はパターンのある配向層を考察する参考文献としては、US2005221009;US20020126245;Polymer Preprint,ACS(2004),45(1),905-906;Adv.Mater.2005,17,1398;Appl.Phys.Lett.1998,72(17),2078;及びAppl.Phys.Lett.2003,82(23),4050があるが、これらに限られない。また、これらの参考文献は、そこで引用している文献も含め、全て本明細書の参考文献に取り込まれている。
一般的にフッ素及び高分子配向層を考察する参考文献としては、JP2005326439;US6682786;JP2003238491;CN1211743;及びApplied Physics Letters, Part2(2001),40(4A),L364があるが、これらに限られない。また、これらの参考文献は、そこで引用している文献も含め、全て本明細書の参考文献に取り込まれている。
一般的に、柔軟性のあるディスプレイを考察する参考文献としては、JP2005326825があるが、これに限られない。この文献はここに引用されている参考文献も含め、全て本明細書の参考文献に取り込まれている。
一般的にポリマー配向層を考察する参考文献としては、JP2003057658;JP2001048904;EP351718;US6491988;及びJP2002229030があるが、これらに限られない。また、これらの参考文献は、そこで引用している文献も含め、全て本明細書の参考文献に取り込まれている。
一般的に溝又はパターンのある配向層を考察する参考文献としては、US2005221009;US20020126245;Polymer Preprint,ACS(2004),45(1),905-906;Adv.Mater.2005,17,1398;Appl.Phys.Lett.1998,72(17),2078;及びAppl.Phys.Lett.2003,82(23),4050があるが、これらに限られない。また、これらの参考文献は、そこで引用している文献も含め、全て本明細書の参考文献に取り込まれている。
一般的にフッ素及び高分子配向層を考察する参考文献としては、JP2005326439;US6682786;JP2003238491;CN1211743;及びApplied Physics Letters, Part2(2001),40(4A),L364があるが、これらに限られない。また、これらの参考文献は、そこで引用している文献も含め、全て本明細書の参考文献に取り込まれている。
図13に、100%PFPE及び他のフッ素化した配向層も含め、PFPEの表面エネルギーとTeflonAF,ペルフルオロシラン、N,N−ジメチルーN−オクタデシルー3−アミノプロピルトリメチルシリルクロライド(DMOAP),セチルトリメチルアンモニウムブロマイド(CTAB),ポリイミド及び清浄化したITO等、幾つかの典型的な配向層の比較が示されている。PFPEの表面エネルギーは現在使われている標準配向層よりずっと低く、また5CB:ホメオトロピック、MLC−6608:平面;5CB及びMLC6608:ホメオトロピック;及び5CB及びMLC−6608:平面等の、正及び負の誘電性の液晶に対して、各タイプの配向層により得られた液晶配向モードは、図13に言及されている。
図14に関しては、PFPE上の正誘電性のネマティック液晶の複屈折率の模様(テクスチャー)についての偏光顕微鏡像は、PFPEによる自発性ホメオトロピック配向を示す(挿入図参照)。
図15において、PFPEの正及び負の誘電液晶の複屈折模様(テクスチャー)の比較を偏光顕微鏡像で示す。図15のパートA(左パネル、0°;右パネル、45°)は、PFPE上の正の誘電性ネマティック液晶、例えば5CB、の自発性ホメオトロピック配向を示し、またパートB(左パネル、0°;右パネル、45°)はPFPE上の負の誘電性ネマティック液晶、例えばMLC−6608、の自発性平面配向を示す。交差偏光の配向を矢印で表す、本出願で開示された対象材料の実施態様によると、平面配向は均一ではなく、ランダムな領域を表す。
図14に関しては、PFPE上の正誘電性のネマティック液晶の複屈折率の模様(テクスチャー)についての偏光顕微鏡像は、PFPEによる自発性ホメオトロピック配向を示す(挿入図参照)。
図15において、PFPEの正及び負の誘電液晶の複屈折模様(テクスチャー)の比較を偏光顕微鏡像で示す。図15のパートA(左パネル、0°;右パネル、45°)は、PFPE上の正の誘電性ネマティック液晶、例えば5CB、の自発性ホメオトロピック配向を示し、またパートB(左パネル、0°;右パネル、45°)はPFPE上の負の誘電性ネマティック液晶、例えばMLC−6608、の自発性平面配向を示す。交差偏光の配向を矢印で表す、本出願で開示された対象材料の実施態様によると、平面配向は均一ではなく、ランダムな領域を表す。
図16に関しては、パートA及びパートB(各々、左パネル、0°;右パネル、45°)は、トルエンで前処理したPFPE配向層上の液晶配向の偏光顕微鏡写真を示す。パートAは,正の誘電性ネマティック液晶、例えば5CB(挿入図参照)、の自発性ホメオトロピック配向を示す。図16のパートBは,本出願で開示された対象材料の実施態様(挿入図参照)によると、負の誘電性のネマティック液晶、例えば、MLC−6608,の自発性ホメオトロピック配向を示す。交差偏光の配向性を矢印で示す。
図17において、パートA及びパートB(各々、左パネル、0°;右パネル、45°)は、水で前処理したPFPE配向層上の液晶配向の偏光顕微鏡写真を示す。パートAは,正の誘電性ネマティック液晶、例えば5CB、の平面配向を示し、またパートBは,本出願で開示された対象材料の実施態様によると、負の誘電性のネマティック液晶、例えば、MLC−6608,の平面配向のランダム領域を示す。交差偏光の配向性を矢印で示す。
図18において、パートA、B及びC(各々、左パネル、0°;右パネル、45°)は、ラングミュア−ブロジェット(LB)法により形成されたPFPEフィルム上の液晶配向の偏光顕微鏡写真を示す。パートAは,1層厚みのPFPE LBフィルムのネマティック液晶の平面配向を示し、またパートB及びCは,本出願で開示された対象材料の実施態様によると、各々、5層厚み及び10層厚みの、PFPE LBフィルムのネマティック液晶の平面配向を示す。
図19に関しては、PFPE配向層をトルエン又は水で前処理した実施例の結果の概要を表で示す。
図17において、パートA及びパートB(各々、左パネル、0°;右パネル、45°)は、水で前処理したPFPE配向層上の液晶配向の偏光顕微鏡写真を示す。パートAは,正の誘電性ネマティック液晶、例えば5CB、の平面配向を示し、またパートBは,本出願で開示された対象材料の実施態様によると、負の誘電性のネマティック液晶、例えば、MLC−6608,の平面配向のランダム領域を示す。交差偏光の配向性を矢印で示す。
図18において、パートA、B及びC(各々、左パネル、0°;右パネル、45°)は、ラングミュア−ブロジェット(LB)法により形成されたPFPEフィルム上の液晶配向の偏光顕微鏡写真を示す。パートAは,1層厚みのPFPE LBフィルムのネマティック液晶の平面配向を示し、またパートB及びCは,本出願で開示された対象材料の実施態様によると、各々、5層厚み及び10層厚みの、PFPE LBフィルムのネマティック液晶の平面配向を示す。
図19に関しては、PFPE配向層をトルエン又は水で前処理した実施例の結果の概要を表で示す。
図20は、本出願で開示した対象材料の実施例によると、エンボスにより溝を付けたPFPE配向層の作成の図式的説明を示す。図20によると、幾つかの実施態様で導電基板を含む、基板2000に、基材2002を置き、支える。幾つかの実施態様において、基材2002はPFPE材料を含む。
パターンのある回折格子鋳型2004を、基板2000上に置き、基板2000上の基材2002と接触させる。パターンのある回折格子鋳型2004を基板2000上に置いた後、この組み物に、硬化処理2006を施し、基材2002中の、例えば、UV硬化剤、熱硬化剤などの硬化剤が活性化される。硬化処理2006の後、パターンのある回折格子鋳型2004を、取り外し、配向層2008上に、パターンのある回折格子鋳型2004のパターンの鏡映像を有する配向層2008が得られる。
パターンのある回折格子鋳型2004を、基板2000上に置き、基板2000上の基材2002と接触させる。パターンのある回折格子鋳型2004を基板2000上に置いた後、この組み物に、硬化処理2006を施し、基材2002中の、例えば、UV硬化剤、熱硬化剤などの硬化剤が活性化される。硬化処理2006の後、パターンのある回折格子鋳型2004を、取り外し、配向層2008上に、パターンのある回折格子鋳型2004のパターンの鏡映像を有する配向層2008が得られる。
図21A及び21Bに関しては、配向層2100は、パターンのある鋳型2102(図21A)上のパターンの鏡映像を有することが示される(図21B)。本出願で開示された対象材料の実施態様によると、図21A及び21Bに示すパターンは、"シャークスキン"タイプのデザインに似ている。図22に関しては,パートA及びパートBは、回折格子マスター及びPFPEレプリカの原子間力顕微鏡像を示すが、ここで回折格子の正弦波溝は忠実に複製されている。図23は、図22に示すエンボスされたPFPEフィルム上の平面液晶配向の、一組の偏光顕微鏡像(左パネル、0°;右パネル、45°)を示す。図24A及び24B(各々、左パネル、0°;右パネル、45°)は、夫々、図21A及び21Bに示されたパターンのような、シャークスキンパターンをエンボスされたPFPEフィルム上の平面液晶配向の偏光顕微鏡写真を示す。様々な倍率のパターンのある膜表面が、図24A及び24Bの様々な像で示されている、即ち、図24Aは倍率10Xであり、図24Bは倍率40Xである。
図25に関しては、しばしばカラーディスプレイで用いられる薄膜トランジスターTFTの図式的説明を示す。図25は、操作的情報伝達における、偏光してない白色光UWL,偏光P,ガラスG,酸化スズインジウムITO,TFトランジスターTFT,溝のある配向層GAL,液晶LC,及びカラーフィルターCFからなる部品を示す。
図25に関しては、しばしばカラーディスプレイで用いられる薄膜トランジスターTFTの図式的説明を示す。図25は、操作的情報伝達における、偏光してない白色光UWL,偏光P,ガラスG,酸化スズインジウムITO,TFトランジスターTFT,溝のある配向層GAL,液晶LC,及びカラーフィルターCFからなる部品を示す。
XV.実施例
以下の実施例は、本出願で開示した対象材料の代表的実施例を実行するための当業者に対するガイダンスを提供するために含まれている。本出願開示及び当業者の一般レベルを考慮して、以下の実施例は典型的なものを意図しており、本出願で開示した対象材料から離れることなく、無数の変化、修飾、交換は可能であると言うことを、当業者は十分良く理解できる。
以下の実施例は、本出願で開示した対象材料の代表的実施例を実行するための当業者に対するガイダンスを提供するために含まれている。本出願開示及び当業者の一般レベルを考慮して、以下の実施例は典型的なものを意図しており、本出願で開示した対象材料から離れることなく、無数の変化、修飾、交換は可能であると言うことを、当業者は十分良く理解できる。
一般的考察
PFPEデバイスは、本明細書に参照文献として全て取り込まれている、Rolland,J.他JACS 2004,126,2322-2323に以前報告されている。Rolland.J.,他により開示された具体的PFPE材料は、側鎖の延長が無く、従って、PFPE類が、ジイソシアネートリンカーで鎖延長された時に存在する、多数の水素結合を持たない。また、この材料は、様々な応用に重要である剛性的及び引き裂き強さのような機械的特性を改良するために必要な、架橋間に高分子量を持たない。更に、この材料は、荷電分子、生体高分子、又は触媒のような、様々な分子を取り込む為の官能性を持たない。
本明細書において、上記の問題を扱う為の様々な方法を記載する。この様な改良としては、鎖延長、多数のPFPE膜、他のガラス、シリコン、石英及び他の高分子のような基板への改良した接着を記載する方法、のみならず、濡れ特性の変化させる、又は触媒、生体高分子、又は他の物質を付加させる、官能性のモノマーを取り込む能力が挙げられる。また、加熱によるフリーラジカル硬化、2成分硬化化学及び光酸生成系を用いた光硬化を伴う、PFPEエラストマーを硬化する改良した方法も記載する。
PFPEデバイスは、本明細書に参照文献として全て取り込まれている、Rolland,J.他JACS 2004,126,2322-2323に以前報告されている。Rolland.J.,他により開示された具体的PFPE材料は、側鎖の延長が無く、従って、PFPE類が、ジイソシアネートリンカーで鎖延長された時に存在する、多数の水素結合を持たない。また、この材料は、様々な応用に重要である剛性的及び引き裂き強さのような機械的特性を改良するために必要な、架橋間に高分子量を持たない。更に、この材料は、荷電分子、生体高分子、又は触媒のような、様々な分子を取り込む為の官能性を持たない。
本明細書において、上記の問題を扱う為の様々な方法を記載する。この様な改良としては、鎖延長、多数のPFPE膜、他のガラス、シリコン、石英及び他の高分子のような基板への改良した接着を記載する方法、のみならず、濡れ特性の変化させる、又は触媒、生体高分子、又は他の物質を付加させる、官能性のモノマーを取り込む能力が挙げられる。また、加熱によるフリーラジカル硬化、2成分硬化化学及び光酸生成系を用いた光硬化を伴う、PFPEエラストマーを硬化する改良した方法も記載する。
実施例1
以下に示す(ここで、n=2である)化学構造を有する液体PFPE前駆体を、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを有するミクロ流動性マスターに注ぐ。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーが入る第2のマスター最上部に液体PFPE 前駆体の小滴を置き、3700rpmで、1分間、回転塗布を行い約20μm厚みを作る。次にウェーハーをUVチャンバーに置き、約10分間、パージ用窒素の下でUV光(λ=365)照射する。3番目に、ガラススライド上で、液体PFPE前駆体の小滴の横からドクターブレードを引いて、滑らかで平面状のPFPE膜を作る。次にこのスライドをUVチェンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。厚みのある膜をその後除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を厚さ20μm膜の最上部に置き、シールするために望みの領域に配列する。この膜をオーブンに置き、120℃で2時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、ガラススライド上の完全に硬化したPFPE平滑膜の上に置き、120℃15時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
以下に示す(ここで、n=2である)化学構造を有する液体PFPE前駆体を、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを有するミクロ流動性マスターに注ぐ。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーが入る第2のマスター最上部に液体PFPE 前駆体の小滴を置き、3700rpmで、1分間、回転塗布を行い約20μm厚みを作る。次にウェーハーをUVチャンバーに置き、約10分間、パージ用窒素の下でUV光(λ=365)照射する。3番目に、ガラススライド上で、液体PFPE前駆体の小滴の横からドクターブレードを引いて、滑らかで平面状のPFPE膜を作る。次にこのスライドをUVチェンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。厚みのある膜をその後除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を厚さ20μm膜の最上部に置き、シールするために望みの領域に配列する。この膜をオーブンに置き、120℃で2時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、ガラススライド上の完全に硬化したPFPE平滑膜の上に置き、120℃15時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
実施例2
熱フリーラジカル
ガラス
メタクリレート基をキャプ付けされた液体PFPE前駆体を、1wt%の2,2−アゾビスイソブチロニトリルと混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ込む。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブン中に入れ、65℃で20時間、パージ用窒素の下で加熱する。その後、硬化した膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを使い入口孔を膜を通して開ける。その後、この膜を、清浄化したガラススライドの上に置き、流体を入口孔から導入する。
熱フリーラジカル
ガラス
メタクリレート基をキャプ付けされた液体PFPE前駆体を、1wt%の2,2−アゾビスイソブチロニトリルと混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ込む。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブン中に入れ、65℃で20時間、パージ用窒素の下で加熱する。その後、硬化した膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを使い入口孔を膜を通して開ける。その後、この膜を、清浄化したガラススライドの上に置き、流体を入口孔から導入する。
実施例3
熱フリーラジカル−部分硬化
膜と膜の接着
メタクリレート基でキャップ付けされた液体PFPE前駆体を、1wt%の2,2−アゾビスイソブチロニトリルと混ぜ合わせ、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブン中に入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素の下で加熱する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その最上部に置いた液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。第3に、滑らかで、平面のPFPE膜を、ガラススライド上の液体PFPE前駆体の小滴をドクターブレードで引いて作る。ウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。厚みのある膜をその後除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を厚さ20μm膜の最上部に置き、シールするために望みの領域に配列する。この膜をオーブンに置き、65℃で10時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。
ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、ガラススライド上の部分的に硬化したPFPE平滑膜の上に置き、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
熱フリーラジカル−部分硬化
膜と膜の接着
メタクリレート基でキャップ付けされた液体PFPE前駆体を、1wt%の2,2−アゾビスイソブチロニトリルと混ぜ合わせ、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブン中に入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素の下で加熱する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その最上部に置いた液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。第3に、滑らかで、平面のPFPE膜を、ガラススライド上の液体PFPE前駆体の小滴をドクターブレードで引いて作る。ウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。厚みのある膜をその後除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を厚さ20μm膜の最上部に置き、シールするために望みの領域に配列する。この膜をオーブンに置き、65℃で10時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。
ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、ガラススライド上の部分的に硬化したPFPE平滑膜の上に置き、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
実施例4
熱フリーラジカル−部分硬化
ポリウレタンへの接着
メタクリレート基を有する光硬化可能液体ポリウレタン前駆体を、1wt%の2,2−アゾビスイソブチロニトリルと混ぜ合わせ、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブン中に入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素の下で加熱する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターを作るが、マスターの最上部に置いた液体PFPE前駆体の小滴の、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまでの、回転塗布による。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。第3に、滑らかで、平面のPFPE膜を、ガラススライド上の液体PFPE前駆体の小滴をドクターブレードで引いて作る。ウェファーをオーブンの中に入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。厚みのある膜をその後除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を厚さ20μm膜の最上部に置き、シールするために望みの領域に配列する。この膜をオーブンの中に置き、65℃で10時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、ガラススライド上の部分的に硬化したPFPE平滑膜の上に置き、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
熱フリーラジカル−部分硬化
ポリウレタンへの接着
メタクリレート基を有する光硬化可能液体ポリウレタン前駆体を、1wt%の2,2−アゾビスイソブチロニトリルと混ぜ合わせ、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブン中に入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素の下で加熱する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターを作るが、マスターの最上部に置いた液体PFPE前駆体の小滴の、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまでの、回転塗布による。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。第3に、滑らかで、平面のPFPE膜を、ガラススライド上の液体PFPE前駆体の小滴をドクターブレードで引いて作る。ウェファーをオーブンの中に入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。厚みのある膜をその後除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を厚さ20μm膜の最上部に置き、シールするために望みの領域に配列する。この膜をオーブンの中に置き、65℃で10時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、ガラススライド上の部分的に硬化したPFPE平滑膜の上に置き、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
実施例5
熱フリーラジカル―部分硬化
シリコン含有ポリウレタンへの接着
PDMSブロック及びメタクリレート基を有する光硬化可能液体ポリウレタン前駆体を、1wt%の2,2−アゾビスイソブチロニトリルと混ぜ合わせ、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブン中に入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素の下で加熱する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターを作るが、マスターの最上部に置いた液体PFPE前駆体の小滴の、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまでの回転塗布による。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。第3に、滑らかで、平面のPFPE膜を、ガラススライド上の液体PFPE前駆体の小滴をドクターブレードで引いて作る。ウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。厚みのある膜をその後除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を厚さ20μm膜の最上部に置き、シールするために望みの領域に配列する。この膜をオーブンの中に置き、65℃で10時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、ガラススライド上の部分的に硬化したPFPE平滑膜の上に置き、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
熱フリーラジカル―部分硬化
シリコン含有ポリウレタンへの接着
PDMSブロック及びメタクリレート基を有する光硬化可能液体ポリウレタン前駆体を、1wt%の2,2−アゾビスイソブチロニトリルと混ぜ合わせ、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブン中に入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素の下で加熱する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターを作るが、マスターの最上部に置いた液体PFPE前駆体の小滴の、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまでの回転塗布による。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。第3に、滑らかで、平面のPFPE膜を、ガラススライド上の液体PFPE前駆体の小滴をドクターブレードで引いて作る。ウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。厚みのある膜をその後除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を厚さ20μm膜の最上部に置き、シールするために望みの領域に配列する。この膜をオーブンの中に置き、65℃で10時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、ガラススライド上の部分的に硬化したPFPE平滑膜の上に置き、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
実施例6
熱フリーラジカル−部分硬化
PFPE−PDMSブロックコポリマーへの接着
メタクリレート基でキャップ付けられたPFPE及びPDMSブロックを含む液体前駆体を、1wt%の2,2−アゾビスイソブチロニトリルと混ぜ合わせ、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブン中に入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素の下で加熱する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その最上部に置いた液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。第3に、滑らかで、平面のPFPE膜を、ガラススライド上の液体PFPE前駆体の小滴をドクターブレードで引いて作る。ウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。厚みのある膜をその後除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を厚さ20μm膜の最上部に置き、シールするために望みの領域に配列する。この膜をオーブンの中に置き、65℃で10時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、ガラススライド上の部分的に硬化したPFPE平滑膜の上に置き、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
熱フリーラジカル−部分硬化
PFPE−PDMSブロックコポリマーへの接着
メタクリレート基でキャップ付けられたPFPE及びPDMSブロックを含む液体前駆体を、1wt%の2,2−アゾビスイソブチロニトリルと混ぜ合わせ、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブン中に入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素の下で加熱する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その最上部に置いた液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。第3に、滑らかで、平面のPFPE膜を、ガラススライド上の液体PFPE前駆体の小滴をドクターブレードで引いて作る。ウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。厚みのある膜をその後除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を厚さ20μm膜の最上部に置き、シールするために望みの領域に配列する。この膜をオーブンの中に置き、65℃で10時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、ガラススライド上の部分的に硬化したPFPE平滑膜の上に置き、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
実施例7
熱フリーラジカル−部分硬化
ガラス接着
メタクリレート基でキャップ付けられた液体PFPE前駆体を、1wt%の2,2−アゾビスイソブチロニトリルと混ぜ合わせ、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブン中に入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素の下で加熱する。部分硬化した膜をウェファーから取り外し、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜をシランカップリング試薬、トリメトキシシリルプロピルメタクリレートで処理したガラススライド最上部に置く。この膜をオーブンの中に置き、65℃で20時間加熱し、PFPE膜とガラススライドの恒久的結合ができる。流体を導入する為に、小針を入口孔に置く。
熱フリーラジカル−部分硬化
ガラス接着
メタクリレート基でキャップ付けられた液体PFPE前駆体を、1wt%の2,2−アゾビスイソブチロニトリルと混ぜ合わせ、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブン中に入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素の下で加熱する。部分硬化した膜をウェファーから取り外し、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜をシランカップリング試薬、トリメトキシシリルプロピルメタクリレートで処理したガラススライド最上部に置く。この膜をオーブンの中に置き、65℃で20時間加熱し、PFPE膜とガラススライドの恒久的結合ができる。流体を導入する為に、小針を入口孔に置く。
実施例8
熱フリーラジカル−部分硬化
PDMS接着
液体ポリ(ジメチルシロキサン)前駆体を、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。このウェファーをオーブン中に入れ、80℃で3時間、加熱する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その上に置いたメタクリレートユニットでキャップ付けした液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。PDMS膜をその後除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を酸素プラズマで20分処理し、その後、シランカップリング試薬、トリメトキシシリルプロピルメタクリレートで処理する。次に、処理したPDMS膜を部分的に硬化したPFPE薄膜の最上部に置き、65°10時間加熱した。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、ガラススライド上の部分的に硬化したPFPE平滑膜の上に置き、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
熱フリーラジカル−部分硬化
PDMS接着
液体ポリ(ジメチルシロキサン)前駆体を、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。このウェファーをオーブン中に入れ、80℃で3時間、加熱する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その上に置いたメタクリレートユニットでキャップ付けした液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間、パージ用窒素下で加熱する。PDMS膜をその後除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を酸素プラズマで20分処理し、その後、シランカップリング試薬、トリメトキシシリルプロピルメタクリレートで処理する。次に、処理したPDMS膜を部分的に硬化したPFPE薄膜の最上部に置き、65°10時間加熱した。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、ガラススライド上の部分的に硬化したPFPE平滑膜の上に置き、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
実施例9
熱フリーラジカル
SYLGARD184(R)及び官能性PDMSを用いたPDMS接着
エキタイポリ(ジメチルシロキサン)前駆体を、これがSYLGARD184(R)の基礎成分又は硬化成分として働くよう、デザインした。この前駆体は、エポキシ基、メタクリレート基、又はアミン基のような潜在する官能性を含むが、これを標準的硬化剤と混ぜ、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。このウェファーをオーブン中に入れ、80℃で3時間加熱する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その上に置いたメタクリレートユニットでキャップ付けした液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間パージ用窒素下で加熱した。このPDMS膜をその後除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。このPDMA膜を部分硬化したPFPE薄膜の上に置き、65℃で10時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、ガラススライド上の部分的に硬化したPFPE平滑膜の上に置き、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
熱フリーラジカル
SYLGARD184(R)及び官能性PDMSを用いたPDMS接着
エキタイポリ(ジメチルシロキサン)前駆体を、これがSYLGARD184(R)の基礎成分又は硬化成分として働くよう、デザインした。この前駆体は、エポキシ基、メタクリレート基、又はアミン基のような潜在する官能性を含むが、これを標準的硬化剤と混ぜ、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。このウェファーをオーブン中に入れ、80℃で3時間加熱する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その上に置いたメタクリレートユニットでキャップ付けした液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で2〜3時間パージ用窒素下で加熱した。このPDMS膜をその後除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。このPDMA膜を部分硬化したPFPE薄膜の上に置き、65℃で10時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、ガラススライド上の部分的に硬化したPFPE平滑膜の上に置き、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
実施例10
エポキシ基/アミン基
PFPEジエポキシ及びPFPEジアミンを含む、以下に示すような、2成分液体PFPE前駆体システムをお互い化学量論比混ぜ、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブン中に入れ、65℃で5時間加熱する。硬化した膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。この膜を清浄化したガラススライド最上部に置き、入口孔を通して液体を導入する。
エポキシ基/アミン基
PFPEジエポキシ及びPFPEジアミンを含む、以下に示すような、2成分液体PFPE前駆体システムをお互い化学量論比混ぜ、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブン中に入れ、65℃で5時間加熱する。硬化した膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。この膜を清浄化したガラススライド最上部に置き、入口孔を通して液体を導入する。
実施例11
エポキシ基/アミン基−過剰
ガラスへの接着
PFPEジエポキシ及びPFPEジアミンを含む、以下に示すような、2成分液体PFPE前駆体システムをお互い4:1エポキシ基:アミン基比エポキシ基が過剰になるよう混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブン中に入れ、65℃で5時間、パージ用窒素の下で加熱する。硬化した膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。この膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、清浄化したガラススライド最上部に置いた。このスライドを65℃で5時間加熱し、デバイスをガラススライドに恒久的に結合させた。次に入口孔を通して流体を導入する。
エポキシ基/アミン基−過剰
ガラスへの接着
PFPEジエポキシ及びPFPEジアミンを含む、以下に示すような、2成分液体PFPE前駆体システムをお互い4:1エポキシ基:アミン基比エポキシ基が過剰になるよう混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブン中に入れ、65℃で5時間、パージ用窒素の下で加熱する。硬化した膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。この膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、清浄化したガラススライド最上部に置いた。このスライドを65℃で5時間加熱し、デバイスをガラススライドに恒久的に結合させた。次に入口孔を通して流体を導入する。
実施例12
エポキシ基/アミン基−過剰
PFPE膜への接着
PFPEジエポキシ及びPFPEジアミンを含む、以下に示すような、2成分液体PFPE前駆体システムをお互い1:4エポキシ基:アミン基比であり、アミン基が過剰になるよう混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その上に置いた、過剰なエポキシ樹脂があるように、4:1エポキシ基:アミン基比に混合した液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で5時間加熱する。厚い膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。厚い膜を硬化したPFPE薄膜の最上部に置き、65℃で5時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で5時間加熱し、このデバイスをガラススライドに接着させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
エポキシ基/アミン基−過剰
PFPE膜への接着
PFPEジエポキシ及びPFPEジアミンを含む、以下に示すような、2成分液体PFPE前駆体システムをお互い1:4エポキシ基:アミン基比であり、アミン基が過剰になるよう混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その上に置いた、過剰なエポキシ樹脂があるように、4:1エポキシ基:アミン基比に混合した液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で5時間加熱する。厚い膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。厚い膜を硬化したPFPE薄膜の最上部に置き、65℃で5時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で5時間加熱し、このデバイスをガラススライドに接着させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
実施例13
エポキシ基/アミン基−過剰
PDMS膜への接着
液体ポリ(ジメチルシロキサン)前駆体を、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。このウェファーをオーブンに入れ、80℃で3時間加熱する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターを、過剰なエポキシ樹脂があるように、4:1エポキシ基:アミン基比に混合した液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で5時間加熱する。PDMS膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。その後、この膜を20分間酸素プラズマで処理し、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理する。処理したPDMS膜をPFPE薄膜の最上部に置き、65℃で10時間加熱し、2層の膜を結合させる。その後、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
エポキシ基/アミン基−過剰
PDMS膜への接着
液体ポリ(ジメチルシロキサン)前駆体を、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。このウェファーをオーブンに入れ、80℃で3時間加熱する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターを、過剰なエポキシ樹脂があるように、4:1エポキシ基:アミン基比に混合した液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で5時間加熱する。PDMS膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。その後、この膜を20分間酸素プラズマで処理し、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理する。処理したPDMS膜をPFPE薄膜の最上部に置き、65℃で10時間加熱し、2層の膜を結合させる。その後、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
実施例14
エポキシ基/アミン基−過剰
PFPE膜への接着。生体分子の結合
PFPEジエポキシ及びPFPEジアミンを含む、以下に示すような、2成分液体PFPE前駆体システムをお互い1:4エポキシ基:アミン基比でアミン基が過剰になるよう混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターを、過剰なエポキシ樹脂があるように、4:1エポキシ基:アミン基比に混合した液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で5時間加熱する。その後、厚い膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を開ける。厚い膜を硬化したPFPE薄膜の最上部に置き、65℃で5時間加熱する。その後、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で5時間加熱し、このデバイスをガラススライドに接着させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。フリーアミン基により官能性を有するタンパク質を含む水溶液を、未反応のエポキシ分子が並ぶ、溝に流し、それにより、溝は、タンパク質により官能性を有するようになる。
エポキシ基/アミン基−過剰
PFPE膜への接着。生体分子の結合
PFPEジエポキシ及びPFPEジアミンを含む、以下に示すような、2成分液体PFPE前駆体システムをお互い1:4エポキシ基:アミン基比でアミン基が過剰になるよう混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターを、過剰なエポキシ樹脂があるように、4:1エポキシ基:アミン基比に混合した液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で5時間加熱する。その後、厚い膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を開ける。厚い膜を硬化したPFPE薄膜の最上部に置き、65℃で5時間加熱する。その後、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で5時間加熱し、このデバイスをガラススライドに接着させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。フリーアミン基により官能性を有するタンパク質を含む水溶液を、未反応のエポキシ分子が並ぶ、溝に流し、それにより、溝は、タンパク質により官能性を有するようになる。
実施例15
エポキシ基/アミン基−過剰
PFPE膜への接着。荷電分子の結合
PFPEジエポキシ及びPFPEジアミンを含む、以下に示すような、2成分液体PFPE前駆体システムをお互い1:4エポキシ基:アミン基比アミン基が過剰になるよう混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、過剰なエポキシ樹脂があるように、4:1エポキシ基:アミン基比に混合した液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で5時間加熱する。厚い膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。厚い膜を硬化したPFPE薄膜の最上部に置き、65℃で5時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で5時間加熱し、このデバイスをガラススライドに接着させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。フリーアミン基により官能性を有する荷電分子を含む水溶液を、未反応のエポキシ分子が並ぶ、溝に流し、それにより、溝は、荷電分子により官能性を有するようになる。
エポキシ基/アミン基−過剰
PFPE膜への接着。荷電分子の結合
PFPEジエポキシ及びPFPEジアミンを含む、以下に示すような、2成分液体PFPE前駆体システムをお互い1:4エポキシ基:アミン基比アミン基が過剰になるよう混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、過剰なエポキシ樹脂があるように、4:1エポキシ基:アミン基比に混合した液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で5時間加熱する。厚い膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。厚い膜を硬化したPFPE薄膜の最上部に置き、65℃で5時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で5時間加熱し、このデバイスをガラススライドに接着させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。フリーアミン基により官能性を有する荷電分子を含む水溶液を、未反応のエポキシ分子が並ぶ、溝に流し、それにより、溝は、荷電分子により官能性を有するようになる。
実施例16
エポキシ基/アミン基−部分硬化
ガラスへの接着
PFPEジエポキシ及びPFPEジアミンを含む、以下に示すような、2成分液体PFPE前駆体システムをお互い化学量論比混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブンに入れ、部分硬化するように、65℃で0.5時間加熱する。部分硬化した膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。この膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で5時間加熱し、この膜をガラススライドに接着させる。流体を導入するために小針を入口に置く。
エポキシ基/アミン基−部分硬化
ガラスへの接着
PFPEジエポキシ及びPFPEジアミンを含む、以下に示すような、2成分液体PFPE前駆体システムをお互い化学量論比混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブンに入れ、部分硬化するように、65℃で0.5時間加熱する。部分硬化した膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。この膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で5時間加熱し、この膜をガラススライドに接着させる。流体を導入するために小針を入口に置く。
実施例17
エポキシ基/アミン基−部分硬化
膜と膜の接着
PFPEジエポキシ及びPFPEジアミンを含む、以下に示すような、2成分液体PFPE前駆体システムをお互い化学量論比混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブンに入れ、部分硬化するように、65℃で0.5時間加熱する。部分硬化した膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、部分硬化するように、65℃で0.5時間加熱する。厚い膜を約20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。この膜をオーブンに入れ、2層の膜が接着するように、65℃で1時間加熱する。その後、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを用いて、流体入口孔及び排出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
エポキシ基/アミン基−部分硬化
膜と膜の接着
PFPEジエポキシ及びPFPEジアミンを含む、以下に示すような、2成分液体PFPE前駆体システムをお互い化学量論比混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、望みの面積に、厚さ約3mmまで、液体を収容する。このウェファーをオーブンに入れ、部分硬化するように、65℃で0.5時間加熱する。部分硬化した膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、部分硬化するように、65℃で0.5時間加熱する。厚い膜を約20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。この膜をオーブンに入れ、2層の膜が接着するように、65℃で1時間加熱する。その後、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを用いて、流体入口孔及び排出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
実施例18
エポキシ基/アミン基−部分硬化
PDMS接着
液体ポリ(ジメチルシロキサン)前駆体を、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。このウェファーをオーブンに入れ、80℃で3時間加熱する。硬化したPDMS膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。その後、この膜を20分間酸素プラズマで処理し、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で0.5時間加熱する。処理したPDMS膜を部分硬化したPFPE薄膜の最上部に置き、65℃で1時間加熱する。その後、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
エポキシ基/アミン基−部分硬化
PDMS接着
液体ポリ(ジメチルシロキサン)前駆体を、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。このウェファーをオーブンに入れ、80℃で3時間加熱する。硬化したPDMS膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。その後、この膜を20分間酸素プラズマで処理し、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。このウェファーをオーブンに入れ、65℃で0.5時間加熱する。処理したPDMS膜を部分硬化したPFPE薄膜の最上部に置き、65℃で1時間加熱する。その後、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で10時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
実施例19
ポスト硬化に利用できる潜伏した官能基による光硬化
ガラスへの接着
以下に示す構造(ここで、Rはエポキシ基であり、曲線はPFPE鎖であり、また丸印はリンカー分子である)を有する液体PFPE前駆体を、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合して、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、完全に硬化した膜をマスターから取り外し、ルアスタブを使って入口孔を開ける。このデバイスをシランカップリング試薬、アミノプロピリトリエトキシシラン、で処理したガラススライド上に置き、65℃で15時間加熱して、デバイスをガラススライドに恒久的に結合させる。流体を導入するために、小針を入口孔に置く。
ポスト硬化に利用できる潜伏した官能基による光硬化
ガラスへの接着
以下に示す構造(ここで、Rはエポキシ基であり、曲線はPFPE鎖であり、また丸印はリンカー分子である)を有する液体PFPE前駆体を、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合して、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、完全に硬化した膜をマスターから取り外し、ルアスタブを使って入口孔を開ける。このデバイスをシランカップリング試薬、アミノプロピリトリエトキシシラン、で処理したガラススライド上に置き、65℃で15時間加熱して、デバイスをガラススライドに恒久的に結合させる。流体を導入するために、小針を入口孔に置く。
実施例20
ポスト硬化に利用できる潜伏した官能基による光硬化
PFPEへの接着
以下に示す構造(ここで、Rはエポキシ基であり、曲線はPFPE鎖であり、また丸印はリンカー分子である)を有する液体PFPE前駆体を、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合して、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、完全に硬化した膜をマスターから取り外し、ルアスタブを使って入口孔を開ける。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体(ここでRはアミノ基)の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365mm)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、より厚い膜を20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。次に、これらの膜をオーブンに入れ、65℃で2時間加熱する。次に、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で15時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
ポスト硬化に利用できる潜伏した官能基による光硬化
PFPEへの接着
以下に示す構造(ここで、Rはエポキシ基であり、曲線はPFPE鎖であり、また丸印はリンカー分子である)を有する液体PFPE前駆体を、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合して、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、完全に硬化した膜をマスターから取り外し、ルアスタブを使って入口孔を開ける。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体(ここでRはアミノ基)の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365mm)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、より厚い膜を20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。次に、これらの膜をオーブンに入れ、65℃で2時間加熱する。次に、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で15時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
実施例21
ポスト硬化に利用できる潜伏した官能基による光硬化
PDMSへの接着
液体ポリ(ジメチルシロキサン)前駆体を、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。このウェファーをオーブンに入れ、80℃で3時間加熱する。硬化したPDMS膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。その後、この膜を20分間酸素プラズマで処理し、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体(ここでRはエポキシ基)の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、より厚いPDMS膜を20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。次に、これらの膜をオーブンに入れ、65℃で2時間加熱する。次に、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で15時間加熱し、このデバイスを恒久的にガラススライドに結合させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
ポスト硬化に利用できる潜伏した官能基による光硬化
PDMSへの接着
液体ポリ(ジメチルシロキサン)前駆体を、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。このウェファーをオーブンに入れ、80℃で3時間加熱する。硬化したPDMS膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。その後、この膜を20分間酸素プラズマで処理し、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体(ここでRはエポキシ基)の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、より厚いPDMS膜を20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。次に、これらの膜をオーブンに入れ、65℃で2時間加熱する。次に、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で15時間加熱し、このデバイスを恒久的にガラススライドに結合させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
実施例22
ポスト硬化に利用できる潜伏した官能基による光硬化
生体分子の結合
以下に示す構造(ここで、Rはアミン基であり、曲線はPFPE鎖であり、また丸印はリンカー分子である)を有する液体PFPE前駆体を、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合して、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、完全に硬化した膜をマスターから取り外し、ルアスタブを使って入口孔を開ける。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体(ここでRはエポキシ基)の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、より厚い膜を20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。次に、これらの膜をオーブンに入れ、65℃で2時間加熱する。次に、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で15時間加熱し、このデバイスを恒久的にガラススライドに結合させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。フリーアミン基により官能性を有するタンパク質を含む水溶液を、未反応のエポキシ分子が並ぶ、溝に流し、それにより、溝は、タンパク質により官能性を有するようになる。
ポスト硬化に利用できる潜伏した官能基による光硬化
生体分子の結合
以下に示す構造(ここで、Rはアミン基であり、曲線はPFPE鎖であり、また丸印はリンカー分子である)を有する液体PFPE前駆体を、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合して、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、完全に硬化した膜をマスターから取り外し、ルアスタブを使って入口孔を開ける。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体(ここでRはエポキシ基)の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、より厚い膜を20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。次に、これらの膜をオーブンに入れ、65℃で2時間加熱する。次に、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で15時間加熱し、このデバイスを恒久的にガラススライドに結合させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。フリーアミン基により官能性を有するタンパク質を含む水溶液を、未反応のエポキシ分子が並ぶ、溝に流し、それにより、溝は、タンパク質により官能性を有するようになる。
実施例23
ポスト硬化に利用できる潜伏した官能基による光硬化
荷電分子の結合
以下に示す構造(ここで、Rはアミン基であり、曲線はPFPE鎖であり、また丸印はリンカー分子である)を有する液体PFPE前駆体を、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合して、溝の形をした100μmフィーチャーをもつミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、完全に硬化した膜をマスターから取り外し、ルアスタブを使って入口孔を開ける。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体(ここでRはエポキシ基)の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、より厚い膜を20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。次に、これらの膜をオーブンに入れ、65℃で2時間加熱する。次に、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で15時間加熱し、このデバイスを恒久的にガラススライドに結合させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。フリーアミン基により官能性を有する荷電分子を含む水溶液を、未反応のエポキシ分子が並ぶ、溝に流し、それにより、溝は、荷電分子により官能性を有するようになる。
ポスト硬化に利用できる潜伏した官能基による光硬化
荷電分子の結合
以下に示す構造(ここで、Rはアミン基であり、曲線はPFPE鎖であり、また丸印はリンカー分子である)を有する液体PFPE前駆体を、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合して、溝の形をした100μmフィーチャーをもつミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、完全に硬化した膜をマスターから取り外し、ルアスタブを使って入口孔を開ける。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体(ここでRはエポキシ基)の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、より厚い膜を20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。次に、これらの膜をオーブンに入れ、65℃で2時間加熱する。次に、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で15時間加熱し、このデバイスを恒久的にガラススライドに結合させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。フリーアミン基により官能性を有する荷電分子を含む水溶液を、未反応のエポキシ分子が並ぶ、溝に流し、それにより、溝は、荷電分子により官能性を有するようになる。
実施例24
ポスト硬化に利用できる官能性モノマーによる光硬化
ガラスへの結合
液体PFPEジメタクリレート前駆体又はモノメタクリレートPFPEマクロモノマーを以下に示す構造(ここで、Rはエポキシ基)を有するモノマーと混合し、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合し、溝の形の100μmフィーチャーを有するミクロ流動性マスターに注入する。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、完全に硬化した膜をマスターから取り外し、ルアスタブを使って入口孔を開ける。このデバイスをシランカップリング試薬、アミノプロピリトリエトキシシランで処理したガラススライド上に置き、65℃で15時間加熱して、デバイスをガラススライドに恒久的に結合させる。流体を導入するために、小針を入口孔に置く。
ポスト硬化に利用できる官能性モノマーによる光硬化
ガラスへの結合
液体PFPEジメタクリレート前駆体又はモノメタクリレートPFPEマクロモノマーを以下に示す構造(ここで、Rはエポキシ基)を有するモノマーと混合し、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合し、溝の形の100μmフィーチャーを有するミクロ流動性マスターに注入する。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、完全に硬化した膜をマスターから取り外し、ルアスタブを使って入口孔を開ける。このデバイスをシランカップリング試薬、アミノプロピリトリエトキシシランで処理したガラススライド上に置き、65℃で15時間加熱して、デバイスをガラススライドに恒久的に結合させる。流体を導入するために、小針を入口孔に置く。
実施例25
ポスト硬化に利用できる官能性モノマーによる光硬化
PFPEへの結合
液体PFPEジメタクリレート前駆体を以下に示す構造(ここで、Rはエポキシ基)を有するモノマーと混合し、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合し、溝の形の100μmフィーチャーを有するミクロ流動性マスターに注入する。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、完全に硬化した膜をマスターから取り外し、ルアスタブを使って入口孔を開ける。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを有する第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体プラス官能基(ここでRはアミノ基)の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、より厚い膜を20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。次に、これらの膜をオーブンに入れ、65℃で2時間加熱する。次に、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で15時間加熱し、このデバイスを恒久的にガラススライドに結合させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
ポスト硬化に利用できる官能性モノマーによる光硬化
PFPEへの結合
液体PFPEジメタクリレート前駆体を以下に示す構造(ここで、Rはエポキシ基)を有するモノマーと混合し、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合し、溝の形の100μmフィーチャーを有するミクロ流動性マスターに注入する。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、完全に硬化した膜をマスターから取り外し、ルアスタブを使って入口孔を開ける。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを有する第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体プラス官能基(ここでRはアミノ基)の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、より厚い膜を20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。次に、これらの膜をオーブンに入れ、65℃で2時間加熱する。次に、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で15時間加熱し、このデバイスを恒久的にガラススライドに結合させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
実施例26
ポスト硬化に利用できる官能性モノマーによる光硬化
PDMSへの結合
液体ポリ(ジメチルシロキサン)前駆体を、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。このウェファーをオーブンに入れ、80℃で3時間加熱する。硬化したPDMS膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。その後、この膜を20分間酸素プラズマで処理し、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体プラス官能基(ここでRはエポキシ基)プラス光開始剤の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、より厚いPDMS膜を20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。次に、これらの膜をオーブンに入れ、65℃で2時間加熱する。次に、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で15時間加熱し、このデバイスを恒久的にガラススライドに結合させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
ポスト硬化に利用できる官能性モノマーによる光硬化
PDMSへの結合
液体ポリ(ジメチルシロキサン)前駆体を、溝の形をした100μmフィーチャーを含むミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。このウェファーをオーブンに入れ、80℃で3時間加熱する。硬化したPDMS膜を取り外し、トリムし、ルアスタブを用いて、入口孔を開ける。その後、この膜を20分間酸素プラズマで処理し、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体プラス官能基(ここでRはエポキシ基)プラス光開始剤の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、より厚いPDMS膜を20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。次に、これらの膜をオーブンに入れ、65℃で2時間加熱する。次に、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で15時間加熱し、このデバイスを恒久的にガラススライドに結合させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
実施例27
ポスト硬化に利用できる官能性モノマーによる光硬化
生体分子の結合
液体PFPEジメタクリレート前駆体を以下に示す構造(ここで、Rはアミン基)を有するモノマーと混合し、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合し、溝の形の100μmフィーチャーを有するミクロ流動性マスターに注入する。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、完全に硬化した膜をマスターから取り外し、ルアスタブを使って入口孔を開ける。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを有する第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体プラス官能基(ここでRはアミノ基)の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、より厚い膜を20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。次に、これらの膜をオーブンに入れ、65℃で2時間加熱する。次に、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で15時間加熱し、このデバイスを恒久的にガラススライドに結合させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。フリーアミン基により官能性を有するタンパク質を含む水溶液を、未反応のエポキシ分子が並ぶ、溝に流し、それにより、溝は、タンパク質により官能性を有するようになる。
ポスト硬化に利用できる官能性モノマーによる光硬化
生体分子の結合
液体PFPEジメタクリレート前駆体を以下に示す構造(ここで、Rはアミン基)を有するモノマーと混合し、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合し、溝の形の100μmフィーチャーを有するミクロ流動性マスターに注入する。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、完全に硬化した膜をマスターから取り外し、ルアスタブを使って入口孔を開ける。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを有する第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体プラス官能基(ここでRはアミノ基)の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、より厚い膜を20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。次に、これらの膜をオーブンに入れ、65℃で2時間加熱する。次に、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で15時間加熱し、このデバイスを恒久的にガラススライドに結合させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。フリーアミン基により官能性を有するタンパク質を含む水溶液を、未反応のエポキシ分子が並ぶ、溝に流し、それにより、溝は、タンパク質により官能性を有するようになる。
実施例28
ポスト硬化に利用できる潜伏した官能基による光硬化
荷電分子の結合
液体PFPEジメタクリレート前駆体を以下に示す構造(ここで、Rはアミン基)を有するモノマーと混合し、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合し、溝の形の100μmフィーチャーを有するミクロ流動性マスターに注入する。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、完全に硬化した膜をマスターから取り外し、ルアスタブを使って入口孔を開ける。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを有する第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体プラス官能基(ここでRはエポキシ基)の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、より厚い膜を20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。次に、これらの膜をオーブンに入れ、65℃で2時間加熱する。次に、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で15時間加熱し、このデバイスを恒久的にガラススライドに結合させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。フリーアミン基により官能性を有する荷電分子を含む水溶液を、未反応のエポキシ分子が並ぶ、溝に流し、それにより、溝は、荷電分子により官能性を有するようになる。
ポスト硬化に利用できる潜伏した官能基による光硬化
荷電分子の結合
液体PFPEジメタクリレート前駆体を以下に示す構造(ここで、Rはアミン基)を有するモノマーと混合し、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合し、溝の形の100μmフィーチャーを有するミクロ流動性マスターに注入する。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、完全に硬化した膜をマスターから取り外し、ルアスタブを使って入口孔を開ける。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを有する第2のマスターは、その最上部に置いた、液体PFPE前駆体プラス官能基(ここでRはエポキシ基)の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、より厚い膜を20μmの厚みの膜の最上部に置き、シールを作るために、望みの面積に配列する。次に、これらの膜をオーブンに入れ、65℃で2時間加熱する。次に、薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。結合した膜を、シランカップリング試薬、アミノプロピルトリエトキシシランで処理した、ガラススライド上に置き、オーブンに入れ、65℃で15時間加熱し、このデバイスを恒久的にガラススライドに結合させる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。フリーアミン基により官能性を有する荷電分子を含む水溶液を、未反応のエポキシ分子が並ぶ、溝に流し、それにより、溝は、荷電分子により官能性を有するようになる。
実施例29
犠牲溝を用いたPFPEミクロ流体デバイスの製造
ガラススライド上で、液体PFPEジメタクリレート前駆体の小滴の横からドクターブレードを引いて、滑らかで平面状のPFPE膜を作る。このスライドをUVチャンバーに入れ、パージ用窒素の下で、UV光(λ=365)を10分間照射する。溝の形状のポリ酪酸からなる骨組みを、PFPEの平面上で、滑らかな膜の最上部に置く。液体PFPEジメタクリレート前駆体を1wt%のフリーラジカル光開始剤と混ぜ、骨組みの上に注ぐ。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、この装置をUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、このデバイスを、150℃で24時間加熱し、ポリ酪酸を分解すると、溝の形をした窪みが表われる。
犠牲溝を用いたPFPEミクロ流体デバイスの製造
ガラススライド上で、液体PFPEジメタクリレート前駆体の小滴の横からドクターブレードを引いて、滑らかで平面状のPFPE膜を作る。このスライドをUVチャンバーに入れ、パージ用窒素の下で、UV光(λ=365)を10分間照射する。溝の形状のポリ酪酸からなる骨組みを、PFPEの平面上で、滑らかな膜の最上部に置く。液体PFPEジメタクリレート前駆体を1wt%のフリーラジカル光開始剤と混ぜ、骨組みの上に注ぐ。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、この装置をUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、このデバイスを、150℃で24時間加熱し、ポリ酪酸を分解すると、溝の形をした窪みが表われる。
実施例30
185nm光を用いた、PFPEデバイスのガラスへの接着
液体PFPEジメタクリレート前駆体を、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを有するミクロ流動性マスターに注ぐ。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーが入る第2のマスター最上部に液体PFPE前駆体の小滴を置き、3700rpmで、1分間、回転塗布を行い約20μm厚みにする。次にウェーハーをUVチャンバーに置き、約10分間、パージ用窒素の下でUV光(λ=365)照射する。その後、厚みのある膜を除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を厚さ20μm膜の最上部に置き、シールするために望みの領域に配列する。この膜をオーブンに置き、120℃で2時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。次に、結合した膜を、シールができるように、清浄化したガラススライドの上に置く。この装置を185nmUV光で20分間照射して、デバイスとガラスの間に恒久的な結合ができる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
185nm光を用いた、PFPEデバイスのガラスへの接着
液体PFPEジメタクリレート前駆体を、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを有するミクロ流動性マスターに注ぐ。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーが入る第2のマスター最上部に液体PFPE前駆体の小滴を置き、3700rpmで、1分間、回転塗布を行い約20μm厚みにする。次にウェーハーをUVチャンバーに置き、約10分間、パージ用窒素の下でUV光(λ=365)照射する。その後、厚みのある膜を除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を厚さ20μm膜の最上部に置き、シールするために望みの領域に配列する。この膜をオーブンに置き、120℃で2時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。次に、結合した膜を、シールができるように、清浄化したガラススライドの上に置く。この装置を185nmUV光で20分間照射して、デバイスとガラスの間に恒久的な結合ができる。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
実施例31
封入したデバイスの"エポキシ外被"
液体PFPEジメタクリレート前駆体を、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを有するミクロ流動性マスターに注ぐ。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーが入る第2のマスター最上部に液体PFPE前駆体の小滴を置き、3700rpmで、1分間、回転塗布を行い約20μm厚みにする。次にウェーハーをUVチャンバーに置き、約10分間、パージ用窒素の下でUV光(λ=365)照射する。その後、厚みのある膜を除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を厚さ20μm膜の最上部に置き、シールするために望みの領域に配列する。この膜をオーブンに置き、120℃で2時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。次に、結合した膜を、シールができるように、清浄化したガラススライドの上に置く。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。全器具を、硬化させるためにデバイスに注がれた液体エポキシ前駆体で包む。外被により、デバイスは、基板に機械的に結合する。
封入したデバイスの"エポキシ外被"
液体PFPEジメタクリレート前駆体を、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合し、溝の形をした100μmフィーチャーを有するミクロ流動性マスターに注ぐ。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーが入る第2のマスター最上部に液体PFPE前駆体の小滴を置き、3700rpmで、1分間、回転塗布を行い約20μm厚みにする。次にウェーハーをUVチャンバーに置き、約10分間、パージ用窒素の下でUV光(λ=365)照射する。その後、厚みのある膜を除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を厚さ20μm膜の最上部に置き、シールするために望みの領域に配列する。この膜をオーブンに置き、120℃で2時間加熱する。薄膜をトリムし、接着膜をマスターから持ち上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。次に、結合した膜を、シールができるように、清浄化したガラススライドの上に置く。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。全器具を、硬化させるためにデバイスに注がれた液体エポキシ前駆体で包む。外被により、デバイスは、基板に機械的に結合する。
実施例32
3本のアームを有するPFPE前駆体からPFPEデバイスの製作
以下に示す構造(ここで、丸印はリンカー分子である)を有する液体PFPE前駆体を、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合して、溝の形をした100μmフィーチャーをもつミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターを作成するが、これはその最上部に置いた、液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。第3に、滑らかで、平面のPFPE膜を、ガラススライド上の液体PFPE前駆体の小滴をドクターブレードで引いて作る。このスライドをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、厚みのある膜を除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を厚さ20μm膜の最上部に置き、シールするために望みの領域に配列する。この膜をオーブンに置き、120℃で2時間加熱する。その後、薄フィルムをトリムし、接着膜をマスターから引き上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。次に、結合した膜をガラススライド上の完全に硬化したPFPE平滑膜の上に置き、120℃で15時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
3本のアームを有するPFPE前駆体からPFPEデバイスの製作
以下に示す構造(ここで、丸印はリンカー分子である)を有する液体PFPE前駆体を、1wt%のフリーラジカル光開始剤と混合して、溝の形をした100μmフィーチャーをもつミクロ流動性マスターに注ぎ入れる。PDMS型を用いて、液体を望みの面積に、厚さ約3mm入れる。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。別に、溝の形をした100μmフィーチャーを含む第2のマスターを作成するが、これはその最上部に置いた、液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。第3に、滑らかで、平面のPFPE膜を、ガラススライド上の液体PFPE前駆体の小滴をドクターブレードで引いて作る。このスライドをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、厚みのある膜を除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。この膜を厚さ20μm膜の最上部に置き、シールするために望みの領域に配列する。この膜をオーブンに置き、120℃で2時間加熱する。その後、薄フィルムをトリムし、接着膜をマスターから引き上げる。ルアスタブを使い、流体の入口孔及び出口孔を開ける。次に、結合した膜をガラススライド上の完全に硬化したPFPE平滑膜の上に置き、120℃で15時間加熱する。流体を導入するために小針を入口に置き、Unger.M.他、Science.2000,288,113-6.に報告されたように膜バルブを動かす。
実施例33
光硬化したPFPE/PDMSハイブリッド
溝の形をした100μmフィーチャーを含むマスターを作成するが、これは、その最上部に置いた、光開始剤を含む液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。光開始剤を含むPDMSジメタクリレートを、薄いPFPE膜の上に厚さ3mmまで注ぎ込む。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、この膜を除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。ハイブリッドデバイスをガラススライドの上に置き、シールする。流体の導入のために、小針を、入口孔に置く。
光硬化したPFPE/PDMSハイブリッド
溝の形をした100μmフィーチャーを含むマスターを作成するが、これは、その最上部に置いた、光開始剤を含む液体PFPE前駆体の小滴を、3700rpm、1分間、厚さ約20μmまで、回転塗布して作る。光開始剤を含むPDMSジメタクリレートを、薄いPFPE膜の上に厚さ3mmまで注ぎ込む。次に、ウェーハーをUVチャンバーに置き、UV光(λ=365)を10分間、パージ用窒素の下で照射する。その後、この膜を除き、トリムし、ルアスタブを用いて入口孔を膜に開ける。ハイブリッドデバイスをガラススライドの上に置き、シールする。流体の導入のために、小針を、入口孔に置く。
実施例34
混合された、光及び熱硬化可能材料から形成されたミクロ流体デバイス
第1に、少量の、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンの様な、光開始剤を含む所定量、例えば、5g、の鎖延長したPFPEジメタクリレートを秤量する。次に、重量比1:1、例えば、5g、の鎖延長したPFPEジイソシアネートを加える。次に、化学量論的量の−N(C=O)−及び−OH基有する、ある量、例えば0.3mlのPFPEテトロール(Mn〜2000g/mol)を加える。3種類の成分を十分混合し、真空下で脱気する。
マスター鋳型を、光リトグラフ方で作り、アルゴンプラズマを用いて、例えば、金/パラジウムの、薄金属膜で塗布する。デバイスのための薄膜は、PFPE混合物をパターンのある基板の上に1500rpmで回転塗布して作る。薄い、平面の(パターンのない)膜もまた、回転塗布される。別に、より厚い膜を、一般的には、材料を内部、例えばPDMSガスケットに、にプールして、金属で塗布されたマスター鋳型の上に、注ぐ。その後、全ての膜を、UVチャンバーに入れ、10分間窒素でパージし、十分なパージ用窒素の下で10分間光硬化し、固体の弾性のある部品とする。その後、この膜を、トリムし、入口/出口孔をパンチする。次に、膜を重ね合わせて、これらの膜がコンフォーマルシールを作るように、決められた位置に配列する。重ねられた膜を105℃で10分間加熱する。加熱工程により、光硬化したマトリックスに物理的に巻き込まれた、熱硬化可能材料の熱硬化が開始する。膜はコンフォーカルな接触なので、強い接着が得られる。次に、2個の接着膜をパターンのあるマスターから、ジメチルホルムアミドのような、溶媒により、取り外し、又は持ち上げ、第3の平面の、光硬化した、未加熱の基板に接して置く。この3層デバイスを、110℃で、15時間加熱し、3層を完全に接着させる。
他の実施態様によると、熱硬化は約20℃と約200℃の間の温度で活性化される。更に他の実施態様によると、熱硬化は、約50℃と約150℃の間で活性化される。更に、熱硬化が、約75℃と約200℃の間で活性化するよう選択する。
更に他の実施態様によると、材料に加えられる光硬化薬物の量は、本質的に熱硬化薬物の量と等しい。更なる実施態様において、材料に加えられる熱硬化薬剤の量は、光硬化薬剤の量の約10%である。他の実施態様において、熱硬化薬剤の量は、光硬化薬剤の量の50%である。
混合された、光及び熱硬化可能材料から形成されたミクロ流体デバイス
第1に、少量の、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンの様な、光開始剤を含む所定量、例えば、5g、の鎖延長したPFPEジメタクリレートを秤量する。次に、重量比1:1、例えば、5g、の鎖延長したPFPEジイソシアネートを加える。次に、化学量論的量の−N(C=O)−及び−OH基有する、ある量、例えば0.3mlのPFPEテトロール(Mn〜2000g/mol)を加える。3種類の成分を十分混合し、真空下で脱気する。
マスター鋳型を、光リトグラフ方で作り、アルゴンプラズマを用いて、例えば、金/パラジウムの、薄金属膜で塗布する。デバイスのための薄膜は、PFPE混合物をパターンのある基板の上に1500rpmで回転塗布して作る。薄い、平面の(パターンのない)膜もまた、回転塗布される。別に、より厚い膜を、一般的には、材料を内部、例えばPDMSガスケットに、にプールして、金属で塗布されたマスター鋳型の上に、注ぐ。その後、全ての膜を、UVチャンバーに入れ、10分間窒素でパージし、十分なパージ用窒素の下で10分間光硬化し、固体の弾性のある部品とする。その後、この膜を、トリムし、入口/出口孔をパンチする。次に、膜を重ね合わせて、これらの膜がコンフォーマルシールを作るように、決められた位置に配列する。重ねられた膜を105℃で10分間加熱する。加熱工程により、光硬化したマトリックスに物理的に巻き込まれた、熱硬化可能材料の熱硬化が開始する。膜はコンフォーカルな接触なので、強い接着が得られる。次に、2個の接着膜をパターンのあるマスターから、ジメチルホルムアミドのような、溶媒により、取り外し、又は持ち上げ、第3の平面の、光硬化した、未加熱の基板に接して置く。この3層デバイスを、110℃で、15時間加熱し、3層を完全に接着させる。
他の実施態様によると、熱硬化は約20℃と約200℃の間の温度で活性化される。更に他の実施態様によると、熱硬化は、約50℃と約150℃の間で活性化される。更に、熱硬化が、約75℃と約200℃の間で活性化するよう選択する。
更に他の実施態様によると、材料に加えられる光硬化薬物の量は、本質的に熱硬化薬物の量と等しい。更なる実施態様において、材料に加えられる熱硬化薬剤の量は、光硬化薬剤の量の約10%である。他の実施態様において、熱硬化薬剤の量は、光硬化薬剤の量の50%である。
実施例35
ミクロ流体デバイス製作のための多成分材料
各成分の化学構造は下記に述べる。以下の実施例において、第1成分(成分1)は鎖延長した、光硬化可能PFPE液体前駆体である。合成としては、有機スズ触媒を用いたウレタン化学を利用し、市販で入手可能なPFPEジオール(ZDOL)を代表的なジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート(IPDI)による鎖延長反応がある。鎖延長の後、鎖はメタクリレートを含むジイソシアナートモノマー(EIM)で末端キャップ付けされる。
ミクロ流体デバイス製作のための多成分材料
各成分の化学構造は下記に述べる。以下の実施例において、第1成分(成分1)は鎖延長した、光硬化可能PFPE液体前駆体である。合成としては、有機スズ触媒を用いたウレタン化学を利用し、市販で入手可能なPFPEジオール(ZDOL)を代表的なジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート(IPDI)による鎖延長反応がある。鎖延長の後、鎖はメタクリレートを含むジイソシアナートモノマー(EIM)で末端キャップ付けされる。
第2の成分は、鎖延長したPFPEジイソシアナートである。これは、生成したポリマー鎖がイソシアナート基(成分2a)でキャップ付けされるような、モル比のZDOLとIPDIの反応で作られる。反応は、再び、有機スズ触媒を用いた古典的ウレタン化学を利用する。
実施例36
薄フィルムPFPE配向層
PFPE配向特性を調べるために、液晶光学的セルを作る。配向層を、図9に示した方法に従って作成する。導電ガラス基板(酸化スズインジウム(ITO)で塗布された)を、エタノール中で30分間超音波洗浄後、20分間のUVO処理により清浄化する。PFPE薄フィルムを清浄化された基板上に、1000rpm、1分間の回転塗布により被覆させる。PFPEフィルムを、連続的パージ用窒素の下で、UV照射により硬化させる。UVチャンバーを、硬化処理の前に10分間、窒素パージし、その後フィルムを20分間UV照射する。硬化後、2枚のPFPEを塗布した基板を、互いにサンドイッチ状に重ね合わせ、40μmスペーサーで離し、エポキシでシールする。次に、この光学セルを、ネマティック温度とアイソトロピック転移温度の間の温度で、毛細管現象により、ネマティックLC、5CB(Δε>0)又はMLC−6608(Δε<0)、を注入する。これらの光学セルを、透過偏光顕微鏡により交差した偏光板の間で観察する。複屈折の模様(テクスチャー)像を、CCDカメラで記録する。
図14に示したように、PFPEは、正の誘電性液晶5CBの自発性ホメオトロピック配向を作り出すことを記した。この配向は、広範囲の距離(数cm)にわたり均一である。PFPE上の5CBの配向は、図15パートA及びパートBに示すように、負の誘電性液晶、MLC−6608の配向と比較される。図15パートAは、5CBのホメオトロピック配向を示す偏光顕微鏡像であり、図15パートBは、負の誘電性液晶、MLC−6608,の自発性平面配向を示す。後者の配向は、均一ではなく、平面配向の領域を示す。これらの配向特性は、フッ素化した材料に特有であることが確認された。Teflon(R)-AF及びペルフルオロシラン配向層を用いた対照実験は、5CBのホメオトロピック配向及びMLC−6608の平面配向を示した。
同様な実験を裸のガラス基板上で行い、5CB及びMLC−6608両者が、ランダム領域を有する、平面配向であると言う結果を得た。
薄フィルムPFPE配向層
PFPE配向特性を調べるために、液晶光学的セルを作る。配向層を、図9に示した方法に従って作成する。導電ガラス基板(酸化スズインジウム(ITO)で塗布された)を、エタノール中で30分間超音波洗浄後、20分間のUVO処理により清浄化する。PFPE薄フィルムを清浄化された基板上に、1000rpm、1分間の回転塗布により被覆させる。PFPEフィルムを、連続的パージ用窒素の下で、UV照射により硬化させる。UVチャンバーを、硬化処理の前に10分間、窒素パージし、その後フィルムを20分間UV照射する。硬化後、2枚のPFPEを塗布した基板を、互いにサンドイッチ状に重ね合わせ、40μmスペーサーで離し、エポキシでシールする。次に、この光学セルを、ネマティック温度とアイソトロピック転移温度の間の温度で、毛細管現象により、ネマティックLC、5CB(Δε>0)又はMLC−6608(Δε<0)、を注入する。これらの光学セルを、透過偏光顕微鏡により交差した偏光板の間で観察する。複屈折の模様(テクスチャー)像を、CCDカメラで記録する。
図14に示したように、PFPEは、正の誘電性液晶5CBの自発性ホメオトロピック配向を作り出すことを記した。この配向は、広範囲の距離(数cm)にわたり均一である。PFPE上の5CBの配向は、図15パートA及びパートBに示すように、負の誘電性液晶、MLC−6608の配向と比較される。図15パートAは、5CBのホメオトロピック配向を示す偏光顕微鏡像であり、図15パートBは、負の誘電性液晶、MLC−6608,の自発性平面配向を示す。後者の配向は、均一ではなく、平面配向の領域を示す。これらの配向特性は、フッ素化した材料に特有であることが確認された。Teflon(R)-AF及びペルフルオロシラン配向層を用いた対照実験は、5CBのホメオトロピック配向及びMLC−6608の平面配向を示した。
同様な実験を裸のガラス基板上で行い、5CB及びMLC−6608両者が、ランダム領域を有する、平面配向であると言う結果を得た。
実施例37
薄フィルムPFPE配向層の表面エネルギー測定
PFPEの薄フィルムを、接触角実験のために作成した。(酸化スズインディウム(ITO)で塗布した)導電性ガラス基板を30分間エタノール中超音波洗浄し、その後20分間UVO処理し、清浄化した。PFPEの薄フィルムを、清浄化した基板上に、1000rpm、1分間の回転塗布により被覆させる。PFPEフィルムを、連続したパージ用窒素の下で、UV照射により硬化する。UVチャンバーを、硬化処理前に10分間窒素でパージし、その後フィルムを20分間、UV照射する。
水とエチレングリコールの間の静止接触角を、PFPE薄フィルムばかりでなく、Teflon−AF及びポリイミド、ペルフルオロシランの自己凝集した単層膜、DMOAP及びCTABの薄フィルム及び清浄化したITOを塗布したガラスに対して、標準的側角器を用いて測定した。これらの材料の表面エネルギーは、オーウェンズ−ヴェント式を用いて計算した。図13に計算した表面エネルギーの概要を示す。フッ素化した材料、特にPFPE,の表面エネルギーは、DMOAP及びポリイミドのような標準的配向層の値よりはるかに低い。
薄フィルムPFPE配向層の表面エネルギー測定
PFPEの薄フィルムを、接触角実験のために作成した。(酸化スズインディウム(ITO)で塗布した)導電性ガラス基板を30分間エタノール中超音波洗浄し、その後20分間UVO処理し、清浄化した。PFPEの薄フィルムを、清浄化した基板上に、1000rpm、1分間の回転塗布により被覆させる。PFPEフィルムを、連続したパージ用窒素の下で、UV照射により硬化する。UVチャンバーを、硬化処理前に10分間窒素でパージし、その後フィルムを20分間、UV照射する。
水とエチレングリコールの間の静止接触角を、PFPE薄フィルムばかりでなく、Teflon−AF及びポリイミド、ペルフルオロシランの自己凝集した単層膜、DMOAP及びCTABの薄フィルム及び清浄化したITOを塗布したガラスに対して、標準的側角器を用いて測定した。これらの材料の表面エネルギーは、オーウェンズ−ヴェント式を用いて計算した。図13に計算した表面エネルギーの概要を示す。フッ素化した材料、特にPFPE,の表面エネルギーは、DMOAP及びポリイミドのような標準的配向層の値よりはるかに低い。
実施例38
薄フィルムPFPE配向層の前処理又は"ピックリング"
PFPEのLC配向能力への極性又は非極性環境の影響を、PFPEの薄フィルムの前処理又は"ピックリング"により検査した。導電ガラス基板(酸化スズインジウム(ITO)で塗布された)を、エタノール中で30分間、超音波洗浄し、その後UVO処理を20分間行い清浄化した。PFPE薄フィルムを、1000rpm、1分間の回転塗布により、清浄化した基板上に被覆させた。PFPEフィルムを、連続したパージ用窒素の下で、UV照射により硬化させた。UVチャンバーを、硬化前に窒素で10分間パージし、その後このフィルムを20分間、UV照射した。硬化後、PFPEを塗布した基板を、トルエン又は水中に一晩、浸漬させ、次の3種の中の1方法、即ち:窒素ガス気流中、空気中で一晩、又は真空中、により乾燥させた。全ての乾燥法は、同じ配列結果をもたらした。乾燥後、同じ溶媒で"ピックリング"した2枚のPFPE塗布した基板は、40μmのスペーサーで離され、互いに重ね合わされ、エポキシによりシールされた。その後、光学セルに、5CB(Δε>0)又はMLC−6608(Δε<0)のネマティックLCを、毛細管現象により、ネマティックからアイソトロピック転移温度の間の温度で、注入した。その後、これらの光学セルを、透過偏光顕微鏡により交差した偏光板の間で観察した。複屈折の模様(テクスチャー)像を、CCDカメラで記録する。図16,パートA及びパートBに、トルエン中に"ピックリング"した、PFPE配向層を使った光学セルのLC複屈折模様(テクスチャー)を示す。正及び負の誘電率LCのホメオトロピック配向を、これらの基板を使って作り出す。図17のパートA及びパートBに示すように、水中で"ピックリング"したPFPE配向層は、LCディレクターに対して、全く異なる配向効果を有する。図17のパートA及びパートBは、正及び負の誘電性LCの平面配向を示す。しかしながら、この平面配向は、高いプレチルト角度を持ち、従って、暗及び明状態の間のコントラストが下がる。
同様な実験を裸のガラス基板に対して行い、5CB及びMLC−6608両者が、ランダム領域を有する、平面配向であるという結果を得た。
薄フィルムPFPE配向層の前処理又は"ピックリング"
PFPEのLC配向能力への極性又は非極性環境の影響を、PFPEの薄フィルムの前処理又は"ピックリング"により検査した。導電ガラス基板(酸化スズインジウム(ITO)で塗布された)を、エタノール中で30分間、超音波洗浄し、その後UVO処理を20分間行い清浄化した。PFPE薄フィルムを、1000rpm、1分間の回転塗布により、清浄化した基板上に被覆させた。PFPEフィルムを、連続したパージ用窒素の下で、UV照射により硬化させた。UVチャンバーを、硬化前に窒素で10分間パージし、その後このフィルムを20分間、UV照射した。硬化後、PFPEを塗布した基板を、トルエン又は水中に一晩、浸漬させ、次の3種の中の1方法、即ち:窒素ガス気流中、空気中で一晩、又は真空中、により乾燥させた。全ての乾燥法は、同じ配列結果をもたらした。乾燥後、同じ溶媒で"ピックリング"した2枚のPFPE塗布した基板は、40μmのスペーサーで離され、互いに重ね合わされ、エポキシによりシールされた。その後、光学セルに、5CB(Δε>0)又はMLC−6608(Δε<0)のネマティックLCを、毛細管現象により、ネマティックからアイソトロピック転移温度の間の温度で、注入した。その後、これらの光学セルを、透過偏光顕微鏡により交差した偏光板の間で観察した。複屈折の模様(テクスチャー)像を、CCDカメラで記録する。図16,パートA及びパートBに、トルエン中に"ピックリング"した、PFPE配向層を使った光学セルのLC複屈折模様(テクスチャー)を示す。正及び負の誘電率LCのホメオトロピック配向を、これらの基板を使って作り出す。図17のパートA及びパートBに示すように、水中で"ピックリング"したPFPE配向層は、LCディレクターに対して、全く異なる配向効果を有する。図17のパートA及びパートBは、正及び負の誘電性LCの平面配向を示す。しかしながら、この平面配向は、高いプレチルト角度を持ち、従って、暗及び明状態の間のコントラストが下がる。
同様な実験を裸のガラス基板に対して行い、5CB及びMLC−6608両者が、ランダム領域を有する、平面配向であるという結果を得た。
実施例39
PFPEラングミュア−ブロジェットフィルム配向層
図18,パートA,B及びCに示すように、液晶光学セルを、PFPEのラングミュアー−ブロジェット(LB)フィルム配列特性を調べるために作成した。導電ガラス基板(酸化スズインジウム(ITO)で塗布した)をエタノール中で30分間超音波洗浄後20分間UVO処理して清浄化した。標準ラングミュア−ブロジェット凹型(KSV Instruments)を酢酸ブチルで清浄化し、標準法によりキャリブレーションした。Solkane中の0.5wt%PFPE溶液を調整し、凹型中の水層に滴下して被覆させた。1,5,及び10層の厚さのLBフィルムを2mN/mの表面圧力及び1.0mm/minの浸漬速度で、作成した。PFPELBフィルムを連続したパージ用窒素下でUV照射により硬化した。UVチャンバーを硬化前に、窒素で10分間パージし、その後フィルムにUV光を20分間照射した。硬化後、2枚の同数の膜を有するPFPELBフィルムを、互いに重ね合わせ、40μmスペーサーで離し、エポキシでシールした。その後、光学セルに、5CB(Δε>0)又はMLC−6608(Δε<0)のネマティックLCを、毛細管現象により、ネマティックからアイソトロピック転移温度の間の温度で、注入した。その後、これらの光学セルを、透過偏光顕微鏡により交差した偏光板の間で観察した。次に、複屈折模様(テクスチャー)の像は、CCDカメラで記録した。図18パートA,B及びCは、PFPELBフィルムの配列挙動を示す。1,5及び10層の厚さのLBフィルムは、正の誘電性(5CB)及び負の誘電性(MLC−6608)LCのほとんど均一な平面配向を示した。
図19は、上記考察した実験のLC配向結果についての表による概要である。
PFPEラングミュア−ブロジェットフィルム配向層
図18,パートA,B及びCに示すように、液晶光学セルを、PFPEのラングミュアー−ブロジェット(LB)フィルム配列特性を調べるために作成した。導電ガラス基板(酸化スズインジウム(ITO)で塗布した)をエタノール中で30分間超音波洗浄後20分間UVO処理して清浄化した。標準ラングミュア−ブロジェット凹型(KSV Instruments)を酢酸ブチルで清浄化し、標準法によりキャリブレーションした。Solkane中の0.5wt%PFPE溶液を調整し、凹型中の水層に滴下して被覆させた。1,5,及び10層の厚さのLBフィルムを2mN/mの表面圧力及び1.0mm/minの浸漬速度で、作成した。PFPELBフィルムを連続したパージ用窒素下でUV照射により硬化した。UVチャンバーを硬化前に、窒素で10分間パージし、その後フィルムにUV光を20分間照射した。硬化後、2枚の同数の膜を有するPFPELBフィルムを、互いに重ね合わせ、40μmスペーサーで離し、エポキシでシールした。その後、光学セルに、5CB(Δε>0)又はMLC−6608(Δε<0)のネマティックLCを、毛細管現象により、ネマティックからアイソトロピック転移温度の間の温度で、注入した。その後、これらの光学セルを、透過偏光顕微鏡により交差した偏光板の間で観察した。次に、複屈折模様(テクスチャー)の像は、CCDカメラで記録した。図18パートA,B及びCは、PFPELBフィルムの配列挙動を示す。1,5及び10層の厚さのLBフィルムは、正の誘電性(5CB)及び負の誘電性(MLC−6608)LCのほとんど均一な平面配向を示した。
図19は、上記考察した実験のLC配向結果についての表による概要である。
実施例40
エンボスしたPFPE配向層
液晶光学セルを、PFPEのエンボスしたフィルムの配列特性を調べるために作成した。導電ガラス基板(酸化スズインジウム(ITO)で塗布した)をエタノール中で30分間超音波洗浄後20分間UVO処理して清浄化した。図20に示すように、数滴のPFPEを清浄化した基板と、正弦波形を有するホログラフィー性の回折格子である、マスターの間に挟んだ。PFPEフィルムを、連続したパージ用窒素下でUV照射により硬化した。UVチャンバーは硬化前に、窒素で10分間パージし、その後フィルムにUV光を20分間照射した。硬化後、回折格子を取り外し、回折格子及びPFPEフィルムを、原子間力顕微鏡(AFM)により観察した。図22に示すように、回折格子の正弦波形は、PFPEフィルム上で完全にエンボスされたことが、AFM像により確認できた。同じパターンを有する、2枚のエンボスされたフィルムを、互いに重ね合わせ、40μmスペーサーで離し、エポキシでシールした。その後、光学セルに、5CB(Δε>0)のネマティックLCを、毛細管現象により、ネマティックからアイソトロピック転移温度の間の温度で、注入した。その後、これらの光学セルを、透過偏光顕微鏡により交差した偏光板の間で観察した。次に、複屈折模様(テクスチャー)の像を、CCDカメラで記録した。
図23は、巨視的に、均一で平面の配列が、1mmあたり3600個の溝を有する溝間隔のエンボスされた配向層を用いて形成されたことを示す。平面配向層は、また、1mmあたり1200個の溝のある配向層を用いて作られる。図24は、シャークスキンパターンでエンボスされたPFPEフィルムを用いて形成された平面配向を示す。理論的に、理想的な溝間隔を有する如何なるパターンでエンボスされたPFPEフィルムも、ネマティックLCの平面配向を作り出す。
本出願で開示した対象材料についての様々な詳述は、本出願で開示した対象材料の範囲から離れることなく変えうると言うことは理解されるであろう。更に、前述の内容は、説明のためだけであり、制限のためではない。
エンボスしたPFPE配向層
液晶光学セルを、PFPEのエンボスしたフィルムの配列特性を調べるために作成した。導電ガラス基板(酸化スズインジウム(ITO)で塗布した)をエタノール中で30分間超音波洗浄後20分間UVO処理して清浄化した。図20に示すように、数滴のPFPEを清浄化した基板と、正弦波形を有するホログラフィー性の回折格子である、マスターの間に挟んだ。PFPEフィルムを、連続したパージ用窒素下でUV照射により硬化した。UVチャンバーは硬化前に、窒素で10分間パージし、その後フィルムにUV光を20分間照射した。硬化後、回折格子を取り外し、回折格子及びPFPEフィルムを、原子間力顕微鏡(AFM)により観察した。図22に示すように、回折格子の正弦波形は、PFPEフィルム上で完全にエンボスされたことが、AFM像により確認できた。同じパターンを有する、2枚のエンボスされたフィルムを、互いに重ね合わせ、40μmスペーサーで離し、エポキシでシールした。その後、光学セルに、5CB(Δε>0)のネマティックLCを、毛細管現象により、ネマティックからアイソトロピック転移温度の間の温度で、注入した。その後、これらの光学セルを、透過偏光顕微鏡により交差した偏光板の間で観察した。次に、複屈折模様(テクスチャー)の像を、CCDカメラで記録した。
図23は、巨視的に、均一で平面の配列が、1mmあたり3600個の溝を有する溝間隔のエンボスされた配向層を用いて形成されたことを示す。平面配向層は、また、1mmあたり1200個の溝のある配向層を用いて作られる。図24は、シャークスキンパターンでエンボスされたPFPEフィルムを用いて形成された平面配向を示す。理論的に、理想的な溝間隔を有する如何なるパターンでエンボスされたPFPEフィルムも、ネマティックLCの平面配向を作り出す。
本出願で開示した対象材料についての様々な詳述は、本出願で開示した対象材料の範囲から離れることなく変えうると言うことは理解されるであろう。更に、前述の内容は、説明のためだけであり、制限のためではない。
を示す図である。
図1A〜1Cは、本出願で開示された対象物質の実施態様により、基材のパターンのある膜の作成法の概略図を示す。
図2A〜2Dは、本出願で開示された対象物質の実施態様により、多層膜デバイスの作成の概略的説明を示す。
図3A〜3Cは、本出願で開示された対象物質の実施態様により、基板に1層の基材を接着させる方法を示す。
図4A〜4Cは、本出願で開示された対象物質の実施態様により、基材のパターンのある膜を、基材で形成された他のパターンのある膜に接着させる方法を示す。
図5A〜5Eは、本出願で開示された対象物質の実施態様により、多層膜デバイスを作る方法を示す。
図6A〜6Dは、本出願で開示された対象物質の実施態様により、分解可能又は、選択的に可溶な材料から形成された犠牲層を用いた、ミクロ構造作成法を示す。
図7A〜7Cは、本出願で開示された対象物質の実施態様により、分解可能又は、選択的に可溶な材料から形成された犠牲層を用いた、ミクロ構造作成法を示す。
本出願で開示された対象物質の実施態様により、液晶ディスプレイピクセルの概略的表示であり、2種のディスプレイ作動モード(明(左側)及び暗(右側))を示す。
本出願で開示された対象物質の実施態様により、薄層フィルム高分子配向層及び液晶光学セルの段階的作製法の概略的表示を示す。
図10A〜10Dは、本出願で開示された対象物質の実施態様により、パターンのある鋳型と同一パターンを有する配向層の作製法を示す。
図11A及び11Bは、本出願で開示された対象物質の実施態様により、一辺が約5μmの方形ミクロウェルでエンボスされた、光硬化したPFPEの光学画像を示す。
図12は、本出願で開示された対象物質の実施態様により、カプセルに封じ込まれた液晶"バブル"作成の概略的表示であり、ミクロウェルに封じ込まれたPFPEシート1200;(その後続く、光硬化シールのためのPFPE前駆体で濡らした)第2の平坦なPFPEシート1202;液晶流動体1206;及び"バブル"を満たす液晶の硬化及び/又はシールのための、液晶材料源1210を示す。
図13は、PFPE及び他のフッ素化配向層と、テフロンAF,ペルフルオロシラン、DMOAP,CTAB,ポリイミド及び清潔なITOの様な、幾つかの典型的な配向層表面エネルギーの比較であり、PFPEの表面エネルギーは、現在用いられている標準的な配向層よりはるかに低い、また各タイプの配向層により得られた、正及び負の誘電性液晶に対する液晶配向モードは、図に注記されている。
本出願で開示された対象物質の実施態様により、PFPE上の正の誘電性ネマティック液晶の複屈折模様(テクスチャー)の偏光顕微鏡写真を示し、PFPE(挿入図参照)により形成された自発性ホメオトロピック配向を示す。
本出願で開示された対象物質の実施態様により、パートA及びBは、PFPE上の正(5CB)及び負(MLC−6608)液晶の複屈折模様(テクスチャー)の誘電性偏光顕微鏡写真を示し、パートA(左パネル、0°;右パネル、45°)はPFPE上の正の誘電性ネマティック液晶の自発性ホメオトロピック配向を示し、パートB(左パネル、0°;右パネル、45°)は、PFPE上の負の誘電性ネマティック液晶の自発性平面配向を示し、平面配向は均一ではなく、ランダム領域を示す、ここで交差した偏光板の配向を矢印で示す。
本出願で開示された対象物質の実施態様により、パートA及びパートBは、トルエンで前処理したPFPE配向層上の液晶の偏光顕微鏡写真であり、A(左パネル、0°;右パネル、45°)は正の誘電性ネマティック液晶(5CB)(挿入図参照)の自発性ホメオトロピック配向を示し、またパートB(左パネル、0°;右パネル、45°)は負の誘電性ネマティック液晶(MLC−6608)(挿入図参照)の自発性ホメオトロピック配向を示し、ここで交差した偏光板の配向を矢印で示す。
本出願で開示された対象物質の実施態様により、パートA及びパートBは、水の前処理を行ったPFPE配向層上の液晶の偏光顕微鏡写真であり、A(左パネル、0°;右パネル、45°)は正の誘電性ネマティック液晶(5CB)のランダム平面配向を示し、またB(左パネル、0°;右パネル、45°)は負の誘電性ネマティック液晶(MLC−6608)のランダム平面配向を示し、ここで交差した偏光板の配向を矢印で示す。
本出願で開示された対象物質の実施態様により、パートA、B及びCは、ラングミュア−ブロジェット(LB)方で形成されたPFPEフィルム上の液晶の偏光顕微鏡写真であり、パートA(左パネル、0°;右パネル、45°)は、1層の厚みのPFPE LBフィルム上のネマティック液晶の平面配向を示し、またパートB及びC(各、左パネル、0°;右パネル、45°)は、夫々、5層及び10層の厚さのPFPE LBフィルム上のネマティック液晶の平面配向を示し、ここで交差した偏光板の配向を矢印で示す。
本出願で開示された対象物質の実施態様により、PFPE配向層がトルエン又は水で前処理された実験の結果についての表による概要を示す。
本出願で開示された対象物質の実施態様により、エンボスによる溝のあるPFPE配向層の作成についての概略的表示である。
図21A及び21Bは、本出願で開示された対象物質の実施態様により、パターンのある鋳型と、本出願で開示された材料物質の基材から形成された、パターンのある鋳型から型形成された、鏡映像を示す。
本出願で開示された対象物質の実施態様により、パートA及びBは、回折格子原型及びPFPEレプリカの原子間力顕微鏡像であり、回折格子の正弦波の溝は正確に複製されている。
図23は、図22に示された様な、エンボスされたPFPEフィルム上の平面液晶配向の偏光顕微鏡写真(左パネル、0°;右パネル、45°)のセットであり、ここで交差偏光板の方向は矢印で示されている。
図24A及び24B(左パネル、0°;右パネル、45°)は、本出願で開示された対象物質の実施態様により、図21に示されたパターンのような、シャークスキンパターンがエンボスされたPFPEフィルム上の平面液晶配向の偏光顕微鏡写真であり、ここで交差偏光板の方向は矢印で示され、また図24Aの倍率は10Xであり、図24Bの倍率は40Xである。
本出願で開示された対象物質の実施態様により、カラーディスプレイで良く用いられる、薄膜トランジスター(TFT)の概略的表示を示す。
本出願で開示された対象物質の実施態様により、ディスプレイスクリーン及びディスプレイスクリーンのためのマイクロプロセッサーコントローラーの概略的表示を示す。
Claims (140)
- 膜低表面エネルギー高分子材料の層から成る液晶ディスプレイであって、この層の表面が成型パターンである液晶ディスプレイ。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が第1配向層からなる請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が、更に光硬化剤を含む請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が、更に熱硬化剤を含む請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が、更に光硬化可能かつ熱硬化可能な試薬を含む請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が、ペルフルオロポリエーテル(PFPE)を含む請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が、フルオロオレフィンベースのフルオエラストマーを含む請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が、ポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS)、ポリ(テトラメチレンオキシド)、ポリ(エチレンオキシド)、ポリ(オキセタン)、ポリイソプレン、ポリブタジエン、又はこれらの混合物である請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 更に金属酸化物を有し、この金属酸化物が前記低表面エネルギー高分子材料中に分布する請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記金属酸化物が、前記低表面エネルギー高分子材料中に実質的に均一に分布する請求項9に記載の液晶ディスプレイ。
- 更に第2配向層を有し、この第2配向層が前記第1配向層と連結する請求項2に記載の液晶ディスプレイ。
- 更に液晶を有し、この液晶が前記第1配向層と前記第2配向層との間に分散する請求項11に記載の液晶ディスプレイ。
- 更に低分子量液晶を有し、この低分子量液晶が前記第1配向層と前記第2配向層との間に分散する請求項11に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記液晶の分子量が約100〜約2000である請求項13に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記第1配向層が、前記第2配向層から100μm以下の間隔離れて置かれた請求項11に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記第1配向層が、前記第2配向層から約5μm〜約80μmの間隔離れて置かれた請求項11に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記第1配向層が、第2配向層から約40μmの間隔離れて置かれた請求項11に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記第1配向層及び前記第2配向層が、互いにある角度を持って配置された請求項11に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記第1配向層及び前記第2配向層が、互いに90°の角度を持って配置された請求項11に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記成型パターンが溝を有する請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記溝の幅が約0.1μm〜約2μmである請求項20に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記溝の幅が約0.3μm〜約0.7μmである請求項20に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記層の長さが約2m以下であり、高さが約2m以下である請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記溝の長さが約2m以下である請求項20に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記溝の長さが約2cm以下である請求項20に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記成型パターンが規則正しい格子パターンである請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が、複数の貫通孔を規定する請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記貫通孔の平均直径が約20μm以下である請求項27に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記貫通孔の平均直径が約20nm〜約10μmである請求項27に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記貫通孔の平均直径が約0.1μm〜約7μmである請求項27に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記層の厚さが約10オングストローム〜約1000オングストロームである請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記層の厚さが約5オングストローム〜約200オングストロームである請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 更に第2配向層を有し、第1配向層及び第2配向層が、その表面に1つの成型パターンを有する請求項2に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記第1配向層上の成型パターンが、前記第2配向層上の成型パターンと異なる請求項33に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記第1配向層が、成型パターンを有せず、成型パターンを有する第2配向層の表面とコミュニケートする関係にある請求項34に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記配向層が、ラングミュアーブロジェットフィルムとして形成され、かつフッ素化ポリマーの多層の薄フィルム層からなる請求項2に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記成型パターンが、1mmあたり約1000個〜約4000個の溝を有する請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記成型パターンが1mmあたり約1200個〜約3600個の溝を有する請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記成型パターンが1mmあたり約1200個以上の溝を有する請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記成型パターンが1mmあたり約3600個以下の溝を有する請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が約30mN/m以下の表面エネルギーを有する請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が約7mN/m〜約20mN/mの表面エネルギーを有する請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が約5mN/m〜約15mN/mの表面エネルギーを有する請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 更に、ミクロ相分離構造、コポリマー及びブロックコポリマーを有する請求項1に記載の液晶ディスプレイ。
- 成型された低表面エネルギー高分子材料の層を有する液晶ディスプレイであって、この層が、導電体、金属ナノ粒子、金属酸化物、導電性ポリマー、トルエン及び水から成る群から選択される処理を施された液晶ディスプレイ。
- 低表面エネルギー高分子の配向層を有するディスプレイスクリーンであって、約90°の曲率半径まで柔軟性があるディスプレイスクリーン。
- 低表面エネルギー高分子の配向層、この配向層の表面に形成された成型パターン及びこの成型パターン上を被覆する液晶からなるディスプレイスクリーンであって、この液晶が前記低表面エネルギー高分子配向層上で自発性配向を受ける、ディスプレイスクリーン。
- 前記液晶の配向が、印加した電圧により変化する請求項47に記載のディスプレイスクリーン。
- (a)パターンある鋳型を用意する段階、(b)硬化剤を含む液体低表面エネルギー高分子材料をパターンある鋳型上へ被覆する段階、(c)該硬化剤を活性化して、該液体低表面エネルギー高分子材料を硬化する段階及び(d)該パターンある鋳型より硬化した低表面エネルギー高分子材料を除去し、この硬化した低表面エネルギー高分子材料の表面に該パターンある鋳型のレプリカがエンボスされた段階からなる、ディスプレイスクリーン配向層の作成方法。
- 前記硬化剤が光硬化可能な試薬から成る請求項49に記載の方法。
- 前記硬化剤が熱硬化可能な試薬から成る請求項49に記載の方法。
- 前記硬化剤が光硬化可能かつ熱硬化可能な試薬から成る請求項49に記載の方法。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が約30mN/m以下の表面エネルギーを有する請求項49に記載の方法。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が約7mN/m〜約20mN/mの表面エネルギーを有する請求項49に記載の方法。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が約5mN/m〜約15mN/mの表面エネルギーを有する請求項49に記載の方法。
- 前記低表面エネルギー高分子材料がペルフルオロポリエーテル(PFPE)から成る請求項49に記載の方法。
- 更に低分子量液晶を被覆する段階を含み、この低分子量液晶が前記硬化した低表面エネルギー高分子材料のエンボスされたパターンとコミュニケートする請求項49に記載の方法。
- 前記エンボスされたパターンが溝を含む請求項49に記載の方法。
- 前記溝の幅が約0.1μm〜約2μmである請求項58に記載の方法。
- 前記溝の幅が約0.3μm〜約0.7μmである請求項58に記載の方法。
- 前記溝の長さが約2m以下である請求項58に記載の方法。
- 前記溝の長さが約2cm以下である請求項58に記載の方法。
- エンボスされた該パターンが規則的パターンを含む請求項58に記載の方法。
- 前記エンボスされたパターンが複数の貫通孔を規定する請求項49に記載の方法。
- 前記貫通孔の平均直径が約20μm以下である請求項64に記載の方法。
- 前記層の厚さが約10オングストローム〜約1000オングストロームである請求項49に記載の方法。
- 前記層の厚さが約5オングストローム〜約200オングストロームである請求項49に記載の方法。
- エンボスされた該パターンが1mmあたり約1000個〜約4000個の溝を有する請求項49に記載の方法。
- エンボスされた該パターンが1mmあたり約1200個〜約3600個の溝を有する請求項49に記載の方法。
- 低表面エネルギー高分子材料の層から成り、該層の表面がその上に形成された成型されたパターンを含む画素。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が更に光硬化剤を含む請求項70に記載の画素。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が更に熱硬化剤を含む請求項70に記載の画素。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が更に光硬化可能かつ熱硬化可能な試薬を含む請求項70に記載の画素。
- 前記低表面エネルギー高分子材料が約7mN/m〜約20mN/mの表面エネルギーを有する請求項70に記載の画素。
- 前記低表面エネルギー高分子材料がペルフルオロポリエーテル(PFPE)から成る請求項70に記載の画素。
- 更に低分子量液晶を含み、該低分子量液晶が前記低表面エネルギー高分子材料の成型パターンとコミュニケートする請求項70に記載の画素。
- 前記成型パターンが溝を有する請求項70に記載の画素。
- 前記溝の幅が約0.1μm〜約20μmである請求項77に記載の画素。
- 前記成型パターンが複数の貫通孔を規定する請求項70に記載の画素。
- 前記貫通孔の平均直径が約20μm以下である請求項79に記載の画素。
- 前記層の厚さが約10オングストローム〜約1000オングストロームである請求項70に記載の画素。
- 前記層の厚さが約5オングストローム〜約200オングストロームである請求項70に記載の画素。
- 前記成型パターンが1mmあたり約1000個〜約4000個の溝を有する請求項70に記載の画素。
- PFPE液体前駆体から形成された第1配向層からなる液晶ディスプレイ。
- 前記PFPE液体前駆体が光硬化剤を含む請求項84に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記PFPE液体前駆体が熱硬化剤を含む請求項84に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記PFPE液体前駆体が光硬化かつ熱硬化可能な試薬を含む請求項84に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記PFPE液体前駆体が更に金属酸化物を含む請求項84に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記金属酸化物がPFPE液体前駆体内に実質的に均一に分布する請求項88に記載の液晶ディスプレイ。
- 更に第2配向層を含み、該第2配向層が前記第1配向層と連結する請求項84に記載の液晶ディスプレイ。
- 更に液晶を有し、この液晶が前記第1配向層と前記第2配向層との間に分散する請求項90に記載の液晶ディスプレイ。
- 更に低分子量液晶を有し、この低分子量液晶が前記第1配向層と前記第2配向層との間に分散する請求項90に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記液晶の分子量が約100〜約2000である請求項92に記載の液晶ディスプレイ。
- 第1配向層と第2配向層の間隔が約5μm〜約100μmである請求項90に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記第1配向層及び前記第2配向層が、互いにある角度を持って配置された請求項90に記載の液晶ディスプレイ。
- 更に第1配向層の表面に成型パターンを有する請求項84に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記成型パターンが溝を含む請求項96に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記溝の幅が約0.1μm〜約2μmである請求項97に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記第1配向層の長さが約2m以下であり、高さが約2m以下である請求項84に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記溝の長さが約2m以下である請求項97に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記溝の長さが約2cm以下である請求項97に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記第1配向層が複数の貫通孔を規定する請求項84に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記貫通孔の平均直径が約20μm以下である請求項102に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記貫通孔の平均直径が約20nm〜約10μmである請求項102に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記貫通孔の平均直径が約0.1μm〜約7μmである請求項102に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記第1配向層の厚さが、約10オングストローム〜約1000オングストロームである請求項84に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記第1配向層の厚さが、約5オングストローム〜約200オングストロームである請求項84に記載の液晶ディスプレイ。
- 更に、PFPE液体前駆体から形成された第2配向層を有し、第1配向層及び第2配向層がその表面に形成された1つの成型パターンを有する請求項84に記載の液晶ディスプレイ。
- 更に、第2配向層を有し、該第2配向層の表面が成型パターンを有する請求項84に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記第1配向層が、ラングミュアーブロジェットフィルムとして形成され、かつ多層から成る請求項2に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記成型パターンが、1mmあたり約1000個〜約4000個の溝を含む請求項96に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記成型パターンが、1mmあたり約3600個以上の溝を含む請求項84に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記第1配向層の表面エネルギーが約5mN/m〜約15mN/mである請求項84に記載の液晶ディスプレイ。
- 第1PFPE配向層から成る液晶ディスプレイであって、このPFPEが硬化剤を含む液晶ディスプレイ。
- 前記硬化剤が光硬化剤から成る請求項114に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記硬化剤が熱硬化剤から成る請求項114に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記硬化剤が光硬化剤及び熱硬化剤から成る請求項114に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記PFPE液体前駆体が更に金属酸化物を含む請求項114に記載の液晶ディスプレイ。
- 更に第2配向層を有し、該第2配向層が前記第1配向層と連結する請求項114に記載の液晶ディスプレイ。
- 更に、前記PFPE第1配向層と前記第2配向層の間に置かれた低分子量液晶を有する請求項119に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記PFPE第1配向層が、第2配向層と約5μm〜約100μmの間隔を離れて置かれた請求項119に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記PFPE第1配向層が第2配向層と互いにある角度を持って置かれた請求項119に記載の液晶ディスプレイ。
- 更に、前記PFPE第1配向層の表面上に成型パターンを有する請求項114に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記成型パターンが溝を有する請求項123に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記溝の幅が約0.1μm〜約2μmである請求項124に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記PFPE第1配向層の長さが約2m以下であり、かつ高さが約2m以下である請求項114に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記溝の長さが約2m以下である請求項124に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記溝の長さが約2cm以下である請求項124に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記成型パターンが規則的格子パターンを含む請求項123に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記PFPE第1配向層が複数の貫通孔を規定する請求項114に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記貫通孔の平均直径が、約20nm〜約10μmである請求項130に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記貫通孔の平均直径が約0.1μm〜約7μmである請求項130に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記PFPE第1配向層の厚さが約10オングストローム〜約1000オングストロームである請求項114に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記PFPE第1配向層の厚さが約5オングストローム〜約200オングストロームである請求項114に記載の液晶ディスプレイ。
- 更にPFPE液体前駆体から形成された第2配向層を有し、第1配向層及び第2配向層の表面に1つの成型パターンが形成された請求項114に記載の液晶ディスプレイ。
- 更に第2配向層を有し、該第2配向層の表面が1つの成型パターンを有する請求項114に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記成型パターンが、1mmあたり約1000個〜約4000個の溝を有する請求項123に記載の液晶ディスプレイ。
- 前記PFPE第1配向層の表面エネルギーが約5mN/m〜約15mN/mである請求項114に記載の液晶ディスプレイ。
- PFPE液体前駆体から配向層を形成させる段階から成り、該PFPE液体前駆体が硬化剤を含むディスプレイスクリーン配向層の作成方法。
- 前記硬化剤が、光硬化剤、熱硬化剤及び光硬化剤と熱硬化剤の併用から成る群から選択される請求項139に記載の方法。
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