JP2008310193A - 偏光補正光学系及びそれを用いた顕微鏡装置 - Google Patents
偏光補正光学系及びそれを用いた顕微鏡装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008310193A JP2008310193A JP2007159627A JP2007159627A JP2008310193A JP 2008310193 A JP2008310193 A JP 2008310193A JP 2007159627 A JP2007159627 A JP 2007159627A JP 2007159627 A JP2007159627 A JP 2007159627A JP 2008310193 A JP2008310193 A JP 2008310193A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- polarization
- correction optical
- light
- polarization correction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
【課題】顕微鏡装置を構成する光学系により生じる偏光状態の変化を補正する偏光補正光学系及びこの偏光補正光学系を備える顕微鏡装置を提供する。
【解決手段】偏光子1、コンデンサレンズ2、対物レンズ3及び検光子4を備える偏光顕微鏡光学系において、偏光子1及びコンデンサレンズ2の間に、第1光学素子11、第1λ/4板12、第2光学素子13及び第1λ/2板14の順で並んだ第1偏光補正光学系10を配置し、対物レンズ3及び検光子4の間に、第2λ/2板21、第3光学素子22、第2λ/4板23、第4光学素子24の順で並んだ第2偏光補正光学系20を配置して、コンデンサレンズ2及び対物レンズ3で生じる偏光状態の変化を補正する。
【選択図】図3
【解決手段】偏光子1、コンデンサレンズ2、対物レンズ3及び検光子4を備える偏光顕微鏡光学系において、偏光子1及びコンデンサレンズ2の間に、第1光学素子11、第1λ/4板12、第2光学素子13及び第1λ/2板14の順で並んだ第1偏光補正光学系10を配置し、対物レンズ3及び検光子4の間に、第2λ/2板21、第3光学素子22、第2λ/4板23、第4光学素子24の順で並んだ第2偏光補正光学系20を配置して、コンデンサレンズ2及び対物レンズ3で生じる偏光状態の変化を補正する。
【選択図】図3
Description
本発明は、偏光補正光学系、及び、この偏光補正光学系を備える顕微鏡装置に関する。
偏光顕微鏡は、偏光を利用して複屈折性を有する試料の観察に用いられる装置である。このような顕微鏡装置は、照明側と結像側に2つの偏光子がその透過軸を直交させた状態で配置されて構成されており(この配置を「クロスニコル」と呼ぶ)、これらの2つの偏光子の間に偏光状態を変化させる物、すなわち複屈折性を有する試料を配置し、偏光状態を変化させて結像側の偏光子(これを「検光子」と呼ぶ)を通り抜けた光を観察することにより試料の特性を観察するように構成されている。そのため、このような顕微鏡装置においては、試料によるわずかな偏光状態の変化を可視化するために、試料以外、すなわち、この顕微鏡装置を構成する光学系が偏光状態の変化を引き起こすことは、できる限り避けなければならない。しかし、実際は2つの偏光子の間に複雑な光学系が配置されているために偏光状態は変化してしまい、試料の複屈折性を検出する能力を低下させてしまう。特に、この問題は高倍、高開口数の光学系を用いて観察する場合、より顕著となる。
偏光状態の変化は主に2つの原因に依る。1つは顕微鏡装置を構成する光学系に入射する2つの偏光成分、P偏光とS偏光の反射率が入射角ごとに異なることであり、もう1つは反射防止用コートの偏光特性が入射角度依存性を持つことである。これらが原因で、照明側の偏光子を透過した直線偏光は、結像側に配置された検光子に達する時には、楕円偏光化しており、またその長軸は検光子と直交していないために、試料の複屈折とは無関係に光の一部が通り抜けてしまう。この問題を解決する手段として、レクティファイアと呼ばれるレンズからなる偏光補正光学素子を用いる方法や、レクティファイアの屈折面にコーティングを施すことで、より高精度に偏光補正を行う方法が開発されている(例えば、特許文献1参照)。
特開平11−72710号公報
しかしながら、レクティファイアでは、偏光面の回転は補正されるが、光学素子の入射面等に設けられている反射防止用コートによる楕円偏光化の補正をすることができないという課題があり、また、一般に、光軸から離れ傾いた面に設計値通りのコーティングを施すことは難しい。さらに、異なる光学系の偏光を補正するためには、コートを新たに設計する必要があり、これは煩雑な作業である。
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、屈折面を有する光学素子と四分の一波長板若しくは二分の一波長板とを組み合わせ、偏光子と検光子との間に配置された被補正光学系により生じる偏光状態の変化を補正する偏光補正光学系を提供することを目的とし、また、この偏光補正光学系を備えることにより、被補正光学系による偏光状態の変化が良好に補正された顕微鏡装置を提供することを目的とする。
前記課題を解決するために、本発明に係る偏光補正光学系は、被補正光学系を透過した光の当該被補正光学系による偏光状態の変化(例えば、実施形態におけるコンデンサレンズ2や対物レンズ3を透過した光に生じる偏光面の傾きやリタデーション)を補正するものである。その上で、第1の本発明に係る偏光補正光学系は、被補正光学系の光源側に配置される第1の偏光補正光学系(例えば、実施形態における第1偏光補正光学系10)と、被補正光学系の像側に配置される第2の偏光補正光学系(例えば、実施形態における第2偏光補正光学系20)とからなり、第1の偏光補正光学系が、光が透過する順に、少なくとも1面以上の屈折面を有する第1の光学素子と、第1の四分の一波長板と、少なくとも1面以上の屈折面を有する第2の光学素子と、第1の二分の一波長板とから構成され、第2の偏光補正光学系が、光が透過する順に、第2の二分の一波長板と、少なくとも1面以上の屈折面を有する第3の光学素子と、第2の四分の一波長板と、少なくとも1面以上の屈折面を有する第4の光学素子とから構成される。
また、第2の本発明に係る偏光補正光学系(例えば、実施形態における第3偏光補正光学系10′)は、被補正光学系の光源側に配置され、光が透過する順に、少なくとも1面以上の屈折面を有する第1の光学素子と、四分の一波長板と、少なくとも1面以上の屈折面を有する第2の光学素子と、二分の一波長板とから構成される。
また、第3の本発明に係る偏光補正光学系(例えば、実施形態における第4偏光補正光学系20′)は、被補正光学系の像側に配置され、光が透過する順に、二分の一波長板と、少なくとも1面以上の屈折面を有する第1の光学素子と、四分の一波長板と、少なくとも1面以上の屈折面を有する第2の光学素子とから構成される。
また、第4の本発明に係る偏光補正光学系は、被補正光学系の光源側に配置される第1の偏光補正光学系(例えば、実施形態における第5偏光補正光学系30)と、被補正光学系の像側に配置される第2の偏光補正光学系(例えば、実施形態における第6偏光補正光学系40)とからなり、第1の偏光補正光学系が、光が透過する順に、少なくとも1面以上の屈折面を有する第1の光学素子と、第1の四分の一波長板と、少なくとも1面以上の屈折面を有する第2の光学素子と、第2の四分の一波長板とから構成され、第2の偏光補正光学系が、光が透過する順に、第3の四分の一波長板と、少なくとも1面以上の屈折面を有する第3の光学素子と、第4の四分の一波長板と、少なくとも1面以上の屈折面を有する第4の光学素子とから構成される。
また、第5の本発明に係る偏光補正光学系(例えば、実施形態における第7偏光補正光学系30′)は、被補正光学系の光源側に配置され、光が透過する順に、少なくとも1面以上の屈折面を有する第1の光学素子と、第1の四分の一波長板と、少なくとも1面以上の屈折面を有する第2の光学素子と、第2の四分の一波長板とから構成される。
さらに、第6の本発明に係る偏光補正光学系(例えば、実施形態における第8偏光補正光学系40′)は、被補正光学系の像側に配置され、光が透過する順に、第1の四分の一波長板と、少なくとも1面以上の屈折面を有する第1の光学素子と、第2の四分の一波長板と、少なくとも1面以上の屈折面を有する第2の光学素子とから構成される。
また、前記課題を解決するために、本発明に係る顕微鏡装置は、予め定められた偏光特性を有し、光源からの光を偏光する偏光子と、この偏光子を透過した光を集光して試料に照射するコンデンサレンズと、試料からの光を集光して拡大像を結像する対物レンズと、予め定められた偏光特性を有し、対物レンズ及び拡大像の間に配設される検光子とを備えており、偏光子とコンデンサレンズとの間、若しくは、対物レンズと検光子との間に上述の偏光補正光学系のいずれかが配置されて構成される。
本発明に係る偏光補正光学系及び顕微鏡装置を以上のように構成すると、偏光顕微鏡光学系を構成するコンデンサレンズ及び対物レンズ(すなわち、被補正光学系)で生じる偏光状態の変化を、屈折面を有する複数の光学素子と四分の一波長板若しくは二分の一波長板とを組み合わせた偏光補正光学系により高精度に補正することができる。
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照して説明する。図1は、偏光顕微鏡光学系を構成する照明光学系と結像光学系とを示しており、図示しない光源側から順に、偏光子1、コンデンサレンズ2、対物レンズ3及び検光子4を有して構成され、コンデンサレンズ2と対物レンズ3との間に試料5が配置される。図2は、この偏光顕微鏡光学系を備える透過照明型の顕微鏡装置を示しており、光源6から放射された光はコレクタレンズ7やミラー等を介して偏光子1に照射される。この偏光子1を透過した光は直線偏光となり、コンデンサレンズ2で集光されて試料5を照明する。そして、照明された試料5からの光は、対物レンズ3により集光されて検光子4に入射し、この検光子4を透過した光は結像レンズ8によって拡大像として形成され、観察者はこの拡大像を、接眼レンズ9を介して観察する。
このような偏光顕微鏡光学系において、偏光子1と検光子4とは、その透過軸が直交するように配置されており(上述の「クロスニコル」)、これらの偏光子1及び検光子4との間に偏光状態(偏光面の傾き及びリタデーション)を変化させる物体がなければ、偏光子1を透過した直線偏光は検光子4を透過することができない。しかし、これらの偏光子1及び検光子4の間に複屈折性を有する試料5が配置されて偏光子1を透過した直線偏光の偏光状態が変化すると、検光子4を光の一部が通り抜け、観察者はその像を観察することができる。なお、このときの視野内の輝度は、試料5のリタデーション量が小さい場合にはその量に比例することが知られている。
上述のように、偏光子1と検光子4との間に配置されたコンデンサレンズ2や対物レンズ3では偏光状態の変化が生ずる。そのため、屈折面を有する光学素子と四分の一波長板(以下、「λ/4板」と呼ぶ)若しくは二分の一波長板(以下、「λ/2板」と呼ぶ)とを組み合わせた偏光補正光学系を用いてこれらのコンデンサレンズ2及び対物レンズ3で生ずる偏光状態の変化を補正した偏光顕微鏡光学系の実施例について以下に説明する。なお、λ/4板は円偏光と直線偏光とを交互に変換する光学素子であり、λ/2板は速軸を挟んで軸対称に偏光面を回転させる光学素子である。
まず第1実施例として、偏光顕微鏡の光学系で、コンデンサレンズ2及び対物レンズ3のそれぞれに対して、これらのレンズ2,3で生ずる偏光状態の変化を補正するように構成した場合について、図3を用いて説明する。この第1実施例に係る偏光顕微鏡光学系は、偏光子1とコンデンサレンズ2との間に第1偏光補正光学系10が配置され、対物レンズ3と検光子4との間に第2偏光補正光学系20が配置されており、第1偏光補正光学系10は、主にコンデンサレンズ2の偏光状態の変化を補正し、第2偏光補正光学系20は、主に対物レンズ3の偏光状態の変化を補正するために用いられる。
ここで、第1偏光補正光学系10は、偏光子1側から順に、凹レンズ、凸レンズ、凹レンズの順でそれぞれがほぼ同じ曲率を有する凹面と凸面とが組み合わされた第1光学素子11、第1λ/4板12、凹レンズ、凸レンズの順でほぼ同じ曲率を有する凹面と凸面とが組み合わされた第2光学素子13、及び、第1λ/2板14から構成される。また、第2偏光補正光学系20は、対物レンズ3側から順に、第2λ/2板21、凸レンズ、凹レンズの順でほぼ同じ曲率を有する凹面と凸面とが組み合わされた第3光学素子22、第2λ/4板23、及び、凹レンズ、凸レンズ、凹レンズの順でそれぞれがほぼ同じ曲率を有する凹面と凸面とが組み合わされた第4光学素子24から構成される。なお、この第1及び第2偏光補正光学系10,20において、第1〜第4光学素子11,13,22,24は、少なくとも1面以上の屈折面を有しているが、全体として屈折力を有さないように構成されていることが好ましい。
次に、図4〜図7を用いて第1及び第2偏光補正光学系10,20によりコンデンサレンズ2及び対物レンズ3の偏光状態の変化を補正する方法について説明する。なお、図5及び図7は、第1若しくは第2偏光補正光学系10,20の偏光状態をポアンカレ球の上に表したものであり、ポアンカレ球を構成するストークスパラメータのうち、S1−S3平面に投影した状態を表している。
一例としてまず、図4及び図5を用いて第1偏光補正光学系10について説明する。偏光子1を透過した光はその偏光面が45°傾いた直線偏光となり、ストークスパラメータS2上の状態P10に位置する。この直線偏光を第1光学素子11に入射させて屈折面で屈折させると、この直線偏光の偏光面が傾き状態P11になる。そして、第1λ/4板12を透過させると元の直線偏光、すなわち状態P10のときの直線偏光と長軸が一致した楕円偏光である状態P12になる。次に、第2光学素子13に入射させて屈折面で屈折させると、楕円偏光の長軸が傾いて状態P13となり、この状態で速軸が元の直線偏光の方向である第1λ/2板14を透過させるとこの第1λ/2板14の速軸を挟んで軸対称の偏光状態P14の楕円偏光になる。コンデンサレンズ2に対して直線偏光が入射されると、コンデンサレンズ2は、この直線偏光の偏光面を傾けるとともに楕円化するように作用する(偏光状態を図5の矢印2の方向に変化させるように作用する)。そのため、コンデンサレンズ2は、状態P14における楕円偏光の偏光面を傾けると共に、元の直線偏光の状態に戻すように作用し、結果的にこのコンデンサレンズ2を透過した光線は状態P10に戻り、そのため、コンデンサレンズ2による偏光状態の変化は補正される。
一方、図6及び図7に示すように、第2偏光補正光学系20において、コンデンサレンズ2から出射した光は、上述の第1偏光補正光学系10により偏光状態の変化が補正されているため、その偏光面が45°傾いた直線偏光であり、ストークスパラメータS2上の状態P20に位置する。この状態P20の直線偏光が対物レンズ3を透過すると、偏光面が傾くと共に楕円化した状態P21となり、この状態P21にある楕円偏光が第2λ/2板21を透過すると、この第2λ/2板21の速軸を挟んで軸対称の偏光状態P22の楕円偏光になる。さらに、この状態P22の楕円偏光を第3光学素子22に入射させて屈折面で屈折させると、元の直線偏光(状態P20)の振動方向と楕円の長軸が一致した状態P23の楕円偏光になる。そして、この状態P23の楕円偏光が第2λ/4板23を透過すると、直線偏光である状態P24になる。最後に、この状態P24にある直線偏光を第4光学素子24に入射させて屈折面で屈折させると、この直線偏光の偏光面が傾いて元の直線偏光の状態P20に戻り、そのため、対物レンズ3による偏光状態の変化は補正される。
このように、第1実施例に係る第1及び第2偏光補正光学系10,20によれば、コンデンサレンズ2及び対物レンズ3のそれぞれで生じる偏光面の傾き及びリタデーション(すなわち、偏光状態の変化)を、屈折面を有し全体として屈折力のない4個の光学素子11,13,22,24と、2個のλ/4板12,23と、2個のλ/2板14,21とだけを用いて高精度に補正することができる。
次に、図8を用いて偏光顕微鏡光学系の第2実施例について説明する。上述の第1実施例においては、第1及び第2偏光補正光学系10,20を用いて、コンデンサレンズ2及び対物レンズ3で生じる偏光状態の変化を補正するように構成していたが、この第2実施例においては、第1実施例における第1偏光補正光学系10と同一の構成を有する第3偏光補正光学系10′を偏光子1とコンデンサレンズ2との間に配置し、一つの偏光補正光学系10′でコンデンサレンズ2及び対物レンズ3で生じる偏光状態の変化を補正するように構成している。なお、この第3偏光補正光学系10′の構成及び効果は第1実施例で説明した第1偏光補正光学系10と同じであるため詳細な説明は省略する。
また、図9に偏光顕微鏡光学系の第3実施例を示す。この第3実施例は、第1実施例における第2偏光補正光学系20と同一の構成を有する第4偏光補正光学系20′を対物レンズ3と検光子4との間に配置し、一つの偏光補正光学系20′でコンデンサレンズ2及び対物レンズ3で生じた偏光状態の変化を補正するように構成している。なお、この第4偏光補正光学系20′の構成及び効果は第1実施例で説明した第2偏光補正光学系20と同じであるため詳細な説明は省略する。
以上の第1〜第3実施例においては、屈折面を有する光学素子と、λ/4板及びλ/2板とを組み合わせてコンデンサレンズ2及び対物レンズ3で生じる偏光状態の変化を補正するように構成した場合について説明したが、この第4実施例以降では、光学素子とλ/4板を複数組み合わせて補正した場合について、図を用いて説明する。まず、図10を用いて第4実施例に係る偏光顕微鏡光学系について説明する。この第4実施例においては、第1実施例と同様に、偏光子1とコンデンサレンズ2との間に第5偏光補正光学系30が配置され、対物レンズ3と検光子4との間に第6偏光補正光学系40が配置されており、第5偏光補正光学系30は、主にコンデンサレンズ2の偏光状態の変化を補正し、第6偏光補正光学系40は、主に対物レンズ3の偏光状態の変化を補正するために用いられる。
ここで、第5偏光補正光学系30は、偏光子1側から順に、凹レンズ、凸レンズ、凹レンズの順でそれぞれがほぼ同じ曲率を有する凹面と凸面とが組み合わされた第1光学素子31、第1λ/4板32、凹レンズ、凸レンズの順でほぼ同じ曲率を有する凹面と凸面とが組み合わされた第2光学素子33、及び、第2λ/4板34から構成される。また、第6偏光補正光学系40は、対物レンズ3側から順に、第3λ/4板41、凸レンズ、凹レンズの順でほぼ同じ曲率を有する凹面と凸面とが組み合わされた第3光学素子42、第4λ/4板43、及び、凹レンズ、凸レンズ、凹レンズの順でそれぞれがほぼ同じ曲率を有する凹面と凸面とが組み合わされた第4光学素子44から構成される。なお、この第5及び第6偏光補正光学系30,40において、第1〜第4光学素子31,33,42,44は、少なくとも1面以上の屈折面を有しているが、全体として屈折力を有さないように構成されていることが好ましい。
図11に示すように、第5偏光補正光学系30において、偏光子1を透過した光は、その偏光面が45°傾いた直線偏光であり、ストークスパラメータS2上の状態P30に位置する。この直線偏光を第1光学素子31に入射させて屈折面で屈折させると、この直線偏光の偏光面が回転し状態P31になり、この状態で第1λ/4板32を透過させると楕円偏光である状態P32となる。そして、この楕円偏光を第2光学素子33に入射させて屈折面で屈折させると偏光面が回転し状態P33となり、さらに、この状態で第2λ/4板34を透過させるとストークスパラメータS1,S3が共に負の領域である状態P34になる。第1実施例で説明したように、コンデンサレンズ2は、直線偏光の偏光面を回転させると共に楕円化するように作用する。そのため、コンデンサレンズ2は、状態P34における楕円偏光の偏光面を回転させると共に、元の直線偏光の状態に戻すように作用し、結果的にこのコンデンサレンズ2を透過した光線は状態P30に戻り、そのため、コンデンサレンズ2による偏光状態の変化は補正される。
一方、図12に示すように、第6偏光補正光学系40において、コンデンサレンズ2から出射した光は、上述の第5偏光補正光学系30により偏光状態の変化が補正されているため、その偏光面が45°傾いた直線偏光であり、ストークスパラメータS2上の状態P40に位置する。この状態P40の直線偏光が対物レンズ3を透過すると、偏光面が回転すると共に楕円化した状態P41となる。そして、この状態P41にある楕円偏光が第3λ/4板41を透過すると状態P42になり、第3光学素子42を透過すると状態P43になり、第4λ/4板43を透過すると状態P44になり、最後に第4光学素子44を透過すると元の直線偏光の状態P40に戻るため、対物レンズ3で生じた偏光状態の変化はこの第6偏光補正光学系40により補正される。
このように、この第4実施例に示す第5偏光補正光学系30及び第6偏光補正光学系40によれば、屈折面を有し全体として屈折力のない4個の光学素子31,33,42,44と、4個のλ/4板32,34,41,43とを組み合わせるだけでコンデンサレンズ2及び対物レンズ3で生じた偏光状態の変化を高精度に補正することができる。
次に、図13を用いて偏光顕微鏡光学系の第5実施例について説明する。上述の第4実施例においては、第5及び第6偏光補正光学系30,40を用いて、コンデンサレンズ2及び対物レンズ3で生じる偏光状態の変化を補正するように構成していたが、この第5実施例においては、第4実施例における第5偏光補正光学系30と同一の構成を有する第7偏光補正光学系30′を偏光子1とコンデンサレンズ2との間に配置し、一つの偏光補正光学系30′でコンデンサレンズ2及び対物レンズ3で生じる偏光状態の変化を補正するように構成している。なお、この第7偏光補正光学系30′の構成及び効果は第4実施例で説明した第5偏光補正光学系30と同じであるため詳細な説明は省略する。
また、図14に偏光顕微鏡光学系の第6実施例を示す。この第6実施例は、第4実施例における第6偏光補正光学系40と同一の構成を有する第8偏光補正光学系40′を対物レンズ3と検光子4との間に配置し、一つの偏光補正光学系40′でコンデンサレンズ2及び対物レンズ3で生じた偏光状態の変化を補正するように構成している。なお、この第8偏光補正光学系40′の構成及び効果は第4実施例で説明した第6偏光補正光学系40と同じであるため詳細な説明は省略する。
なお、以上の説明では、透過照明型の顕微鏡装置について説明したが、対物レンズを結像光学系と照明光学系の両方で使用する落射照明型の顕微鏡装置でも、本発明は全く同様に成立する。
また、上記の実施の形態では、代表的な偏光顕微鏡光学系について述べた。しかし、この発明は偏光顕微鏡に限定されるものではなく、偏光を利用する各種光学機器、例えばエリプソメータ、微分干渉顕微鏡などの偏光特性の変化を補償することが可能である。また、上述の実施形態は一例に過ぎず、上述の構成に限られるものでなく、本発明の効果範囲内において適切に変更が可能である。
1 偏光子 2 コンデンサレンズ 3 対物レンズ 4 検光子 5 試料
10 第1偏光補正光学系 11 第1光学素子 12 第1λ/4板
13 第2光学素子 14 第1λ/2板
20 第2偏光補正光学系 21 第2λ/2板 22 第3光学素子
23 第2λ/4板 24 第4光学素子
10′ 第3偏光補正光学系 20′ 第4偏光補正光学系
30 第5偏光補正光学系 31 第1光学素子 32 第1λ/4板
33 第2光学素子 34 第2λ/4板
40 第6偏光補正光学系 41 第3λ/4板 42 第3光学素子
43 第4λ/4板 44 第4光学素子
30′ 第7偏光補正光学系 40′ 第8偏光補正光学系
10 第1偏光補正光学系 11 第1光学素子 12 第1λ/4板
13 第2光学素子 14 第1λ/2板
20 第2偏光補正光学系 21 第2λ/2板 22 第3光学素子
23 第2λ/4板 24 第4光学素子
10′ 第3偏光補正光学系 20′ 第4偏光補正光学系
30 第5偏光補正光学系 31 第1光学素子 32 第1λ/4板
33 第2光学素子 34 第2λ/4板
40 第6偏光補正光学系 41 第3λ/4板 42 第3光学素子
43 第4λ/4板 44 第4光学素子
30′ 第7偏光補正光学系 40′ 第8偏光補正光学系
Claims (12)
- 被補正光学系を透過した光の当該被補正光学系による偏光状態の変化を補正する偏光補正光学系であって、
前記被補正光学系の光源側に配置される第1の偏光補正光学系と、
前記被補正光学系の像側に配置される第2の偏光補正光学系とからなり、
前記第1の偏光補正光学系が、前記光が透過する順に、
少なくとも1面以上の屈折面を有する第1の光学素子と、
第1の四分の一波長板と、
少なくとも1面以上の屈折面を有する第2の光学素子と、
第1の二分の一波長板とから構成され、
前記第2の偏光補正光学系が、前記光が透過する順に、
第2の二分の一波長板と、
少なくとも1面以上の屈折面を有する第3の光学素子と、
第2の四分の一波長板と、
少なくとも1面以上の屈折面を有する第4の光学素子とから構成される偏光補正光学系。 - 被補正光学系を透過した光の当該被補正光学系による偏光状態の変化を補正する偏光補正光学系であって、
前記被補正光学系の光源側に配置され、前記光が透過する順に、
少なくとも1面以上の屈折面を有する第1の光学素子と、
四分の一波長板と、
少なくとも1面以上の屈折面を有する第2の光学素子と、
二分の一波長板とから構成される偏光補正光学系。 - 被補正光学系を透過した光の当該被補正光学系による偏光状態の変化を補正する偏光補正光学系であって、
前記被補正光学系の像側に配置され、前記光が透過する順に、
二分の一波長板と、
少なくとも1面以上の屈折面を有する第1の光学素子と、
四分の一波長板と、
少なくとも1面以上の屈折面を有する第2の光学素子とから構成される偏光補正光学系。 - 被補正光学系を透過した光の当該被補正光学系による偏光状態の変化を補正する偏光補正光学系であって、
前記被補正光学系の光源側に配置される第1の偏光補正光学系と、
前記被補正光学系の像側に配置される第2の偏光補正光学系とからなり、
前記第1の偏光補正光学系が、前記光が透過する順に、
少なくとも1面以上の屈折面を有する第1の光学素子と、
第1の四分の一波長板と、
少なくとも1面以上の屈折面を有する第2の光学素子と、
第2の四分の一波長板とから構成され、
前記第2の偏光補正光学系が、前記光が透過する順に、
第3の四分の一波長板と、
少なくとも1面以上の屈折面を有する第3の光学素子と、
第4の四分の一波長板と、
少なくとも1面以上の屈折面を有する第4の光学素子とから構成される偏光補正光学系。 - 被補正光学系を透過した光の当該被補正光学系による偏光状態の変化を補正する偏光補正光学系であって、
前記被補正光学系の光源側に配置され、前記光が透過する順に、
少なくとも1面以上の屈折面を有する第1の光学素子と、
第1の四分の一波長板と、
少なくとも1面以上の屈折面を有する第2の光学素子と、
第2の四分の一波長板とから構成される偏光補正光学系。 - 被補正光学系を透過した光の当該被補正光学系による偏光状態の変化を補正する偏光補正光学系であって、
前記被補正光学系の像側に配置され、前記光が透過する順に、
第1の四分の一波長板と、
少なくとも1面以上の屈折面を有する第1の光学素子と、
第2の四分の一波長板と、
少なくとも1面以上の屈折面を有する第2の光学素子とから構成される偏光補正光学系。 - 予め定められた偏光特性を有し、光源からの光を偏光する偏光子と、前記偏光子を透過した光を集光して試料に照射するコンデンサレンズと、前記試料からの光を集光して拡大像を結像する対物レンズと、予め定められた偏光特性を有し、前記対物レンズ及び前記拡大像の間に配設される検光子とを備える顕微鏡装置であって、
前記偏光子と前記コンデンサレンズとの間に請求項1に記載の偏光補正光学系を構成する前記第1の偏光補正光学系が配置され、
前記対物レンズと前記検光子との間に請求項1に記載の偏光補正光学系を構成する前記第2の偏光補正光学系が配置された顕微鏡装置。 - 予め定められた偏光特性を有し、光源からの光を偏光する偏光子と、前記偏光子を透過した光を集光して試料に照射するコンデンサレンズと、前記試料からの光を集光して拡大像を結像する対物レンズと、予め定められた偏光特性を有し、前記対物レンズ及び前記拡大像の間に配設される検光子とを備える顕微鏡装置であって、
前記偏光子と前記コンデンサレンズとの間に請求項2に記載の偏光補正光学系が配置された顕微鏡装置。 - 予め定められた偏光特性を有し、光源からの光を偏光する偏光子と、前記偏光子を透過した光を集光して試料に照射するコンデンサレンズと、前記試料からの光を集光して拡大像を結像する対物レンズと、予め定められた偏光特性を有し、前記対物レンズ及び前記拡大像の間に配設される検光子とを備える顕微鏡装置であって、
前記対物レンズと前記検光子との間に請求項3に記載の偏光補正光学系が配置された顕微鏡装置。 - 予め定められた偏光特性を有し、光源からの光を偏光する偏光子と、前記偏光子を透過した光を集光して試料に照射するコンデンサレンズと、前記試料からの光を集光して拡大像を結像する対物レンズと、予め定められた偏光特性を有し、前記対物レンズ及び前記拡大像の間に配設される検光子とを備える顕微鏡装置であって、
前記偏光子と前記コンデンサレンズとの間に請求項4に記載の偏光補正光学系を構成する前記第1の偏光補正光学系が配置され、
前記対物レンズと前記検光子との間に請求項4に記載の偏光補正光学系を構成する前記第2の偏光補正光学系が配置された顕微鏡装置。 - 予め定められた偏光特性を有し、光源からの光を偏光する偏光子と、前記偏光子を透過した光を集光して試料に照射するコンデンサレンズと、前記試料からの光を集光して拡大像を結像する対物レンズと、予め定められた偏光特性を有し、前記対物レンズ及び前記拡大像の間に配設される検光子とを備える顕微鏡装置であって、
前記偏光子と前記コンデンサレンズとの間に請求項5に記載の偏光補正光学系が配置された顕微鏡装置。 - 予め定められた偏光特性を有し、光源からの光を偏光する偏光子と、前記偏光子を透過した光を集光して試料に照射するコンデンサレンズと、前記試料からの光を集光して拡大像を結像する対物レンズと、予め定められた偏光特性を有し、前記対物レンズ及び前記拡大像の間に配設される検光子とを備える顕微鏡装置であって、
前記対物レンズと前記検光子との間に請求項6に記載の偏光補正光学系が配置された顕微鏡装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007159627A JP2008310193A (ja) | 2007-06-18 | 2007-06-18 | 偏光補正光学系及びそれを用いた顕微鏡装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007159627A JP2008310193A (ja) | 2007-06-18 | 2007-06-18 | 偏光補正光学系及びそれを用いた顕微鏡装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008310193A true JP2008310193A (ja) | 2008-12-25 |
Family
ID=40237823
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007159627A Pending JP2008310193A (ja) | 2007-06-18 | 2007-06-18 | 偏光補正光学系及びそれを用いた顕微鏡装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008310193A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109583433A (zh) * | 2019-01-15 | 2019-04-05 | 上海思立微电子科技有限公司 | 光处理装置、镜头组件 |
CN110741386A (zh) * | 2018-06-15 | 2020-01-31 | 深圳市汇顶科技股份有限公司 | 指纹识别装置和电子设备 |
CN112198763A (zh) * | 2020-09-29 | 2021-01-08 | 华中科技大学 | 套刻误差测量装置及其测量方法和优化方法 |
-
2007
- 2007-06-18 JP JP2007159627A patent/JP2008310193A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110741386A (zh) * | 2018-06-15 | 2020-01-31 | 深圳市汇顶科技股份有限公司 | 指纹识别装置和电子设备 |
CN109583433A (zh) * | 2019-01-15 | 2019-04-05 | 上海思立微电子科技有限公司 | 光处理装置、镜头组件 |
CN112198763A (zh) * | 2020-09-29 | 2021-01-08 | 华中科技大学 | 套刻误差测量装置及其测量方法和优化方法 |
CN112198763B (zh) * | 2020-09-29 | 2021-07-27 | 华中科技大学 | 套刻误差测量装置及其测量方法和优化方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6548727B2 (ja) | 照明装置及び計測装置 | |
WO2016031567A1 (ja) | 複屈折測定装置および複屈折測定方法 | |
CN109470173A (zh) | 一种双通道同时相移干涉显微*** | |
EP1882968A1 (en) | Polarization microscope | |
JP2008310193A (ja) | 偏光補正光学系及びそれを用いた顕微鏡装置 | |
US20100085637A1 (en) | Differential interference contrast microscope | |
JP2017173223A (ja) | 光学装置および撮像装置 | |
US10082656B2 (en) | Lamellar bone observation microscope | |
US20100188748A1 (en) | Polarization compensation optical system and polarization compensation optical element used therein | |
US20220003910A1 (en) | Aligning a polarization device using a spatially variant polarization element | |
JP5370155B2 (ja) | 表面検査装置及び表面検査方法 | |
JP2009063722A (ja) | 偏光補正光学系及びそれを用いた顕微鏡装置 | |
JP2011112358A (ja) | 干渉計、収差測定方法及び収差測定システム | |
JP2009236839A (ja) | 表面検査装置 | |
JP6448528B2 (ja) | エリプソメータ | |
WO2007026791A1 (ja) | 偏光補償光学系 | |
JP2008111916A (ja) | 偏光観察用対物レンズとそれを備える顕微鏡 | |
JP2018116136A (ja) | 磁気光学カー効果顕微鏡 | |
JP7318874B2 (ja) | 光測定装置 | |
WO2022220112A1 (ja) | 光測定装置 | |
JP4185102B2 (ja) | 露光装置 | |
JP4935254B2 (ja) | 微分干渉顕微鏡 | |
JP2017173685A (ja) | 光学装置および撮像装置 | |
JP2007271311A (ja) | 表面検査装置 | |
JP2004340735A (ja) | 波面収差測定装置 |