JP2008285281A - Device and method for conveying flexible substrate - Google Patents

Device and method for conveying flexible substrate Download PDF

Info

Publication number
JP2008285281A
JP2008285281A JP2007131792A JP2007131792A JP2008285281A JP 2008285281 A JP2008285281 A JP 2008285281A JP 2007131792 A JP2007131792 A JP 2007131792A JP 2007131792 A JP2007131792 A JP 2007131792A JP 2008285281 A JP2008285281 A JP 2008285281A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flexible substrate
substrate
correction
roller
film substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007131792A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Norio Yoshida
徳生 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2007131792A priority Critical patent/JP2008285281A/en
Publication of JP2008285281A publication Critical patent/JP2008285281A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Registering, Tensioning, Guiding Webs, And Rollers Therefor (AREA)
  • Controlling Rewinding, Feeding, Winding, Or Abnormalities Of Webs (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To suitably correct oblique position deviation in a substrate conveying direction of a flexible substrate relative to an opposed object. <P>SOLUTION: The flexible substrate conveying device is provided with: a detection part for detecting position deviation of the flexible substrate 15 relative to the opposite object 16 arranged so as to be opposed to the flexible substrate 15; a correction mechanism for correcting position deviation of the flexible substrate 15 by inclining a rotation axis of a correction roller 11, i.e., at least one roller 10 relative to an axial direction in usual conveying when the position deviation of the flexible substrate 15 is detected by the detection part; and a friction force increase means for increasing the friction force between an outer peripheral surface of the correction roller 11 and a surface of the flexible substrate 15. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、可撓性基板搬送装置及び可撓性基板の搬送方法に関するものである。   The present invention relates to a flexible substrate transport apparatus and a flexible substrate transport method.

近年、液晶表示装置等の表示装置では、従来から用いられてきたガラス基板に代えて可撓性基板であるプラスチックフィルム基板(以下、フィルム基板ともいう)を用いたものが開発されている。   In recent years, a display device such as a liquid crystal display device has been developed that uses a plastic film substrate (hereinafter also referred to as a film substrate), which is a flexible substrate, instead of a conventionally used glass substrate.

このフィルム基板を用いた表示装置を製造する場合には、生産効率を向上させる観点から、ロールツーロール方式の搬送装置を用いてフィルム基板を複数のローラーにより搬送しながら連続して処理することが好ましい。   When manufacturing a display device using this film substrate, from the viewpoint of improving production efficiency, the film substrate can be continuously processed while being transported by a plurality of rollers using a roll-to-roll transport device. preferable.

ロールツーロール方式の搬送装置を用いて液晶表示装置を製造する方法が、例えば特許文献1に開示されている。この特許文献1では、まず、第1巻き出しロールから巻き出された第1フィルム基板に対して、連続的に、印刷法により電極パターン及び配向膜を形成して上記電極パターン上に液晶材料を滴下する。続いて、第2巻き出しロールから巻き出されて第1フィルム基板とは別個の工程により電極パターン及び配向膜が形成された第2フィルム基板と、上記第1フィルム基板とをそれぞれ搬送しながら貼り合わせることによって、液晶表示装置を製造するようにしている。この製造方法によれば、連続的に液晶セルが生産される。   For example, Patent Document 1 discloses a method of manufacturing a liquid crystal display device using a roll-to-roll type transport device. In Patent Document 1, first, an electrode pattern and an alignment film are continuously formed on a first film substrate unwound from a first unwinding roll by a printing method, and a liquid crystal material is placed on the electrode pattern. Dripping. Subsequently, the second film substrate unwound from the second unwinding roll and formed with the electrode pattern and the alignment film in a process separate from the first film substrate, and the first film substrate are respectively attached while being conveyed. By combining them, a liquid crystal display device is manufactured. According to this manufacturing method, liquid crystal cells are continuously produced.

しかし、ロールツーロール方式の搬送装置を用いて表示装置を製造する場合には、複数のローラーがそれぞれ互いに完全に平行な状態を保ちながらフィルム基板(第1フィルム基板及び第2フィルム基板)を搬送することが難しいため、フィルム基板の搬送中にその基板搬送方向が所望の基板搬送方向から僅かにずれることがある。そうすると、特許文献1のように、第1フィルム基板と第2フィルム基板とを搬送しながら貼り合わせた場合には、第1フィルム基板及び第2フィルム基板の互いの表示領域となる有効領域がずれた状態で貼り合わせられやすい。   However, when manufacturing a display device using a roll-to-roll type transport device, the plurality of rollers transport the film substrates (the first film substrate and the second film substrate) while maintaining a state of being completely parallel to each other. Since it is difficult to do so, the substrate transport direction may slightly deviate from the desired substrate transport direction during transport of the film substrate. Then, as in Patent Document 1, when the first film substrate and the second film substrate are bonded together while being transported, the effective areas serving as the display areas of the first film substrate and the second film substrate are shifted. Easy to stick together.

これに対して、対向物である金型に対する封止テープのテープ搬送方向に斜めの位置ずれを修正する方法として、特許文献2が開示されている。特許文献2の封止テープ供給装置は、封止テープをロールツーロール方式で搬送しながら、巻き出しロール及び巻き取りロールの少なくとも一方の回転軸を通常搬送時の軸方向に対して傾けるθ補正機構により、封止テープのテープ搬送方向に斜めの位置ずれを修正している。
特開2004−258673号公報 特開2004−56105号公報
On the other hand, Patent Document 2 is disclosed as a method of correcting a positional deviation oblique in the tape transport direction of the sealing tape with respect to a mold that is an opposite object. The sealing tape supply device disclosed in Patent Document 2 corrects θ by tilting at least one rotation shaft of the unwinding roll and the winding roll with respect to the axial direction during normal conveyance while conveying the sealing tape in a roll-to-roll manner. The mechanism corrects the oblique displacement in the tape transport direction of the sealing tape.
JP 2004-258673 A JP 2004-56105 A

しかし、液晶表示装置を製造する場合には、特許文献1に開示されているように、フィルム基板を連続して複数の工程にかけることが好ましい。ロールツーロール方式の搬送装置によりフィルム基板を連続して複数の工程にかける場合には、フィルム基板が撓むことを抑制するために、巻き出しロールと巻き取りロールとの間にフィルム基板を支持すると共に搬送する複数のローラーを配置する必要がある。   However, when manufacturing a liquid crystal display device, as disclosed in Patent Document 1, it is preferable that the film substrate is continuously subjected to a plurality of steps. When a film substrate is subjected to a plurality of processes continuously by a roll-to-roll type conveying device, the film substrate is supported between the unwinding roll and the take-up roll in order to prevent the film substrate from being bent. In addition, it is necessary to arrange a plurality of rollers to be conveyed.

複数のローラーによりフィルム基板を搬送するロールツーロール方式の搬送装置において、ローラーの間でのフィルム基板の基板搬送方向に対して斜めの位置ずれを修正する場合には、特許文献2の封止テープ供給装置と同様にして、ローラーの回転軸を通常搬送時の軸方向に対して傾けることにより修正することが考えられる。   In a roll-to-roll system conveying apparatus that conveys a film substrate by a plurality of rollers, when correcting an oblique positional deviation with respect to the substrate conveying direction of the film substrate between the rollers, the sealing tape of Patent Document 2 As in the case of the supply device, it is conceivable to correct by tilting the rotation axis of the roller with respect to the axial direction during normal conveyance.

しかし、特許文献2のロールとは異なり各ローラーにはフィルム基板が巻回されていないため、ローラーの回転軸を通常搬送時の軸方向に対して傾けるときに、フィルム基板が回転軸を傾けるローラーの外周面を滑るおそれがある。フィルム基板が回転軸を傾けるローラーの外周面を滑った場合には、フィルム基板の位置ずれを適切に修正することが困難となる。   However, unlike the roll of Patent Document 2, since the film substrate is not wound around each roller, when the rotation axis of the roller is tilted with respect to the axial direction during normal conveyance, the roller on which the film substrate tilts the rotation axis There is a risk of slipping on the outer peripheral surface of the. When the film substrate slides on the outer peripheral surface of the roller that tilts the rotation axis, it is difficult to appropriately correct the positional deviation of the film substrate.

本発明は、斯かる諸点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、対向物に対する可撓性基板の基板搬送方向に斜めの位置ずれを適切に修正しようとすることにある。   The present invention has been made in view of such various points, and an object of the present invention is to appropriately correct an oblique displacement in the substrate transport direction of the flexible substrate with respect to the opposing object.

上記の目的を達成するために、この発明では、回転軸を傾けるローラーの外周面と可撓性基板の表面との間の摩擦力を増大させる摩擦力増大手段を備えるようにした。   In order to achieve the above object, the present invention is provided with a frictional force increasing means for increasing the frictional force between the outer peripheral surface of the roller tilting the rotation axis and the surface of the flexible substrate.

具体的に、本発明に係る可撓性基板搬送装置は、軸方向が互いに平行である複数のローラーを備え、上記複数のローラーが回転することにより可撓性基板を搬送するように構成された可撓性基板搬送装置であって、上記可撓性基板に対向して配置された対向物に対する上記可撓性基板の位置ずれを検出する検出部と、上記検出部によって上記可撓性基板の位置ずれが検出された場合に、少なくとも1つの上記ローラーである修正ローラーの回転軸を、通常搬送時の軸方向に対して傾けることによって、上記可撓性基板の位置ずれを修正する修正機構と、上記修正ローラーの外周面と上記可撓性基板の表面との間の摩擦力を増大させる摩擦力増大手段とを備える。   Specifically, a flexible substrate transport apparatus according to the present invention includes a plurality of rollers whose axial directions are parallel to each other, and is configured to transport the flexible substrate by rotating the plurality of rollers. A flexible substrate transport apparatus, comprising: a detection unit that detects a displacement of the flexible substrate with respect to an opposing object that is disposed to face the flexible substrate; and the detection unit that detects the position of the flexible substrate. A correction mechanism that corrects the positional deviation of the flexible substrate by tilting the rotation axis of the correction roller, which is at least one of the rollers, with respect to the axial direction during normal conveyance when a positional deviation is detected; And a frictional force increasing means for increasing a frictional force between the outer peripheral surface of the correction roller and the surface of the flexible substrate.

上記摩擦力増大手段は、上記修正ローラーに設けられた静電チャックを有していてもよい。   The frictional force increasing means may have an electrostatic chuck provided on the correction roller.

上記摩擦力増大手段は、上記修正ローラーに上記可撓性基板を介して対向して配置され、上記可撓性基板を上記修正ローラーに押圧しながら、上記修正ローラーに連動して上記修正ローラーの回転軸が傾く方向と同じ方向に回転軸が傾く押圧ローラーを有していてもよい。   The frictional force increasing means is disposed to face the correction roller via the flexible substrate, and presses the flexible substrate against the correction roller while interlocking with the correction roller. You may have the press roller in which a rotating shaft inclines in the same direction as the direction in which a rotating shaft inclines.

上記摩擦力増大手段は、上記修正ローラーの回転軸方向の少なくとも一方の端部における外周面に突出して形成された複数の凸部と、上記可撓性基板の幅方向の少なくとも一方の端部に形成されて上記複数の凸部にそれぞれ噛合する複数の貫通孔とにより構成されていてもよい。   The frictional force increasing means includes a plurality of protrusions formed on the outer peripheral surface of at least one end of the correction roller in the rotation axis direction, and at least one end of the flexible substrate in the width direction. You may be comprised by the several through-hole which is formed and each meshes | engages with said several convex part.

上記押圧ローラーは、外周面が樹脂により構成されていることが好ましい。   The pressing roller preferably has an outer peripheral surface made of resin.

上記修正ローラーには、上記可撓性基板が巻き掛けられることが好ましい。   It is preferable that the flexible substrate is wound around the correction roller.

上記修正機構は、上記修正ローラーの一端又は他端を基点として、上記修正ローラーの回転軸を傾けるように構成されていてもよい。   The correction mechanism may be configured to tilt the rotation axis of the correction roller with one end or the other end of the correction roller as a base point.

上記修正機構は、上記修正ローラーの基点と反対側となる先端を上記可撓性基板の搬送方向上手側に移動させるように構成されていてもよい。   The correction mechanism may be configured to move the tip opposite to the base point of the correction roller to the upper side in the conveyance direction of the flexible substrate.

上記修正機構は、上記修正ローラーの基点と反対側となる先端を上記可撓性基板側に移動させるように構成されていてもよい。   The correction mechanism may be configured to move a tip opposite to a base point of the correction roller to the flexible substrate side.

上記修正機構は、上記修正ローラーと、上記修正ローラーにおける上記可撓性基板の搬送方向下手側に並ぶ上記ローラーとを同時に回転軸方向に移動させるように構成されていてもよい。   The correction mechanism may be configured to simultaneously move the correction roller and the roller arranged on the correction roller on the lower side in the conveyance direction of the flexible substrate in the rotation axis direction.

上記検出部は、上記可撓性基板に対向して配置された撮像手段を備え、上記撮像手段により上記可撓性基板に形成されたアライメントマークの位置を検出してもよい。   The detection unit may include an imaging unit arranged to face the flexible substrate, and may detect a position of an alignment mark formed on the flexible substrate by the imaging unit.

上記検出部は、上記可撓性基板にレーザー光を出射する出射部と、上記可撓性基板で反射又は透過した上記レーザー光を受光する受光部とを備え、上記受光部で受光された上記レーザー光に基づいて上記可撓性基板の位置ずれを検出してもよい。   The detection unit includes an emitting unit that emits laser light to the flexible substrate, and a light receiving unit that receives the laser light reflected or transmitted by the flexible substrate, and the light receiving unit receives the laser light. The positional deviation of the flexible substrate may be detected based on laser light.

また、本発明における可撓性基板の搬送方法は、軸方向が互いに平行である複数のローラーを回転させて可撓性基板を搬送する方法であって、上記可撓性基板に対向して配置された対向物に対する上記可撓性基板の位置ずれを検出する検出工程と、上記検出工程で上記可撓性基板の位置ずれが検出された場合に、少なくとも1つの上記ローラーである修正ローラーの回転軸を、通常搬送時の軸方向に対して傾けることによって、上記可撓性基板の位置ずれを修正する修正工程とを有し、上記修正工程では、上記修正ローラーの外周面と上記可撓性基板の表面との間の摩擦力を増大させた状態で上記修正ローラーの回転軸を傾ける。   Further, the method for transporting the flexible substrate in the present invention is a method for transporting the flexible substrate by rotating a plurality of rollers whose axial directions are parallel to each other, and is disposed to face the flexible substrate. A detecting step for detecting a positional deviation of the flexible substrate with respect to the opposed object, and rotation of a correction roller that is at least one of the rollers when the positional deviation of the flexible substrate is detected in the detecting step A correction step of correcting the positional deviation of the flexible substrate by tilting the shaft with respect to the axial direction during normal conveyance. In the correction step, the outer peripheral surface of the correction roller and the flexibility The rotational axis of the correction roller is tilted in a state where the frictional force with the surface of the substrate is increased.

上記修正工程では、上記修正ローラーに設けられた静電チャックにより、上記修正ローラーに上記可撓性基板を吸着させてもよい。   In the correction step, the flexible substrate may be attracted to the correction roller by an electrostatic chuck provided on the correction roller.

上記修正工程では、上記修正ローラーに上記可撓性基板を介して対向して配置された押圧ローラーにより、上記可撓性基板を上記修正ローラーに押圧しながら、上記修正ローラーに連動して上記押圧ローラーの回転軸を上記修正ローラーの回転軸を傾ける方向と同じ方向に傾けてもよい。   In the correction step, the pressing roller disposed in opposition to the correction roller with the flexible substrate interposed therebetween presses the flexible substrate against the correction roller while pressing the flexible substrate against the correction roller. The rotation axis of the roller may be tilted in the same direction as the direction of tilting the rotation axis of the correction roller.

上記修正工程では、上記修正ローラーの回転軸方向の少なくとも一方の端部における外周面に突出して形成された複数の凸部を、上記可撓性基板の幅方向の少なくとも一方の端部に形成された複数の貫通孔にそれぞれ噛合させてもよい。   In the correction step, a plurality of protrusions formed on the outer peripheral surface of at least one end of the correction roller in the rotation axis direction are formed at at least one end in the width direction of the flexible substrate. The plurality of through holes may be engaged with each other.

上記押圧ローラーは、外周面が樹脂により構成されていることが好ましい。   The pressing roller preferably has an outer peripheral surface made of resin.

上記修正ローラーには、上記可撓性基板が巻き掛けられていることが好ましい。   It is preferable that the flexible substrate is wound around the correction roller.

上記修正工程では、上記修正ローラーの一端又は他端を基点として上記修正ローラーの回転軸を傾けてもよい。   In the correction step, the rotation axis of the correction roller may be inclined with one end or the other end of the correction roller as a base point.

上記修正工程では、上記修正ローラーの基点と反対側となる先端を上記可撓性基板の搬送方向上手側に移動させてもよい。   In the correction step, the tip opposite to the base point of the correction roller may be moved to the upper side in the transport direction of the flexible substrate.

上記修正工程では、上記修正ローラーの基点と反対側となる先端を上記可撓性基板側に移動させてもよい。   In the correction step, the tip opposite to the base point of the correction roller may be moved to the flexible substrate side.

上記修正工程では、上記修正ローラーと、上記修正ローラーにおける上記可撓性基板の搬送方向下手側に並ぶ上記ローラーとを同時に回転軸方向に移動させてもよい。   In the correction step, the correction roller and the roller arranged on the correction roller on the lower side in the conveyance direction of the flexible substrate may be simultaneously moved in the rotation axis direction.

上記検出工程では、上記可撓性基板に対向して配置された撮像手段により、上記可撓性基板に形成されたアライメントマークの位置を検出してもよい。   In the detection step, the position of the alignment mark formed on the flexible substrate may be detected by an imaging unit arranged to face the flexible substrate.

上記検出工程では、出射部から上記可撓性基板に出射されて上記可撓性基板で反射又は透過したレーザー光を受光部で受光することにより、上記受光部で受光した上記レーザー光に基づいて上記可撓性基板の位置ずれを検出してもよい。   In the detection step, a laser beam emitted from the emitting unit to the flexible substrate and reflected or transmitted by the flexible substrate is received by the light receiving unit, and based on the laser light received by the light receiving unit. A positional deviation of the flexible substrate may be detected.

上記可撓性基板は、表示装置を構成することが好ましい。   The flexible substrate preferably constitutes a display device.

−作用−
本発明の可撓性基板搬送装置によると、検出部は、可撓性基板に対向して配置された対向物に対する可撓性基板の位置ずれを検出する。修正機構は、検出部によって可撓性基板の位置ずれが検出された場合に、少なくとも1つのローラーである修正ローラーの回転軸を、通常搬送時の軸方向に対して傾けることによって、可撓性基板の位置ずれを修正する。そのことにより、検出部により対向物に対する可撓性基板の基板搬送方向に斜めの位置ずれが検出された場合には、修正機構により回転軸を傾ける修正ローラーの一端側に接触する可撓性基板の張力と修正ローラーの他端側に接触する可撓性基板の張力とに差を生じさせることが可能になる。
-Action-
According to the flexible substrate transport apparatus of the present invention, the detection unit detects a positional shift of the flexible substrate with respect to an opposing object disposed to face the flexible substrate. The correction mechanism is flexible by tilting the rotation axis of the correction roller, which is at least one roller, with respect to the axial direction during normal conveyance when the detection unit detects a displacement of the flexible substrate. Correct the misalignment of the board. As a result, when the detection unit detects an oblique displacement in the substrate transport direction of the flexible substrate with respect to the opposite object, the flexible substrate contacts the one end side of the correction roller that tilts the rotation axis by the correction mechanism. It is possible to make a difference between the tension of the flexible substrate and the tension of the flexible substrate contacting the other end of the correction roller.

修正ローラーの一端側に接触する可撓性基板の張力を修正ローラーの他端側に接触する可撓性基板の張力よりも大きくする場合には、修正ローラーの一端側に接触する可撓性基板が修正ローラーの他端側に接触する可撓性基板に比べて搬送され難くなるため、修正ローラーの一端側に接触する可撓性基板の搬送速度が修正ローラーの他端側に接触する可撓性基板の搬送速度よりも遅くなる。   When the tension of the flexible substrate that contacts one end of the correction roller is greater than the tension of the flexible substrate that contacts the other end of the correction roller, the flexible substrate that contacts one end of the correction roller Is less likely to be conveyed than a flexible substrate that contacts the other end of the correction roller, so that the conveyance speed of the flexible substrate that contacts one end of the correction roller is flexible to contact the other end of the correction roller. It becomes slower than the transfer speed of the conductive substrate.

一方、逆に、修正ローラーの他端側に接触する可撓性基板の張力を修正ローラーの一端側に接触する張力よりも大きくする場合には、修正ローラーの他端側に接触する可撓性基板が修正ローラーの一端側に接触する可撓性基板に比べて搬送され難くなるため、修正ローラーの他端側に接触する可撓性基板の搬送速度が修正ローラーの一端側に接触する可撓性基板の搬送速度よりも遅くなる。   On the other hand, when the tension of the flexible substrate that contacts the other end of the correction roller is larger than the tension that contacts the one end of the correction roller, the flexibility that contacts the other end of the correction roller. Since the substrate is less likely to be conveyed than a flexible substrate that contacts one end of the correction roller, the flexible substrate that contacts the other end of the correction roller has a flexible conveyance speed that contacts the one end of the correction roller. It becomes slower than the transfer speed of the conductive substrate.

したがって、修正ローラーの一端側に接触する可撓性基板の張力と修正ローラーの他端側に接触する可撓性基板の張力とに差を生じさせることにより、修正ローラーの一端側に接触する可撓性基板の搬送速度と修正ローラーの他端側に接触する可撓性基板の搬送速度とに差が生じるため、対向物に対する可撓性基板の基板搬送方向に斜めの位置ずれを修正することが可能になる。そのことにより、対向物に対する可撓性基板の基板搬送方向に斜めの位置ずれを防止して、可撓性基板を適切に搬送することが可能となる。   Therefore, by making a difference between the tension of the flexible substrate that contacts one end of the correction roller and the tension of the flexible substrate that contacts the other end of the correction roller, it is possible to contact one end of the correction roller. Since there is a difference between the conveyance speed of the flexible substrate and the conveyance speed of the flexible substrate that contacts the other end of the correction roller, correcting the oblique displacement in the substrate conveyance direction of the flexible substrate with respect to the opposite object Is possible. As a result, it is possible to prevent the position of the flexible substrate from being obliquely displaced in the substrate transport direction with respect to the opposite object, and to transport the flexible substrate appropriately.

それに加えて、修正ローラーの外周面と可撓性基板の表面との間の摩擦力を増大させる摩擦力増大手段を備えているため、修正ローラーの回転軸を傾けるときに、可撓性基板が修正ローラーの外周面を滑ることが抑制される。そのことにより、対向物に対する可撓性基板の基板搬送方向に斜めの位置ずれを適切に修正することが可能になる。   In addition, since a frictional force increasing means for increasing the frictional force between the outer peripheral surface of the correction roller and the surface of the flexible substrate is provided, when the rotation axis of the correction roller is tilted, the flexible substrate is Slip on the outer peripheral surface of the correction roller is suppressed. As a result, it is possible to appropriately correct an oblique positional shift in the substrate transport direction of the flexible substrate with respect to the opposite object.

上記摩擦増大手段が修正ローラーに可撓性基板を介して対向して配置され、可撓性基板を修正ローラー側に押圧する押圧ローラーを有し、その押圧ローラーの外周面が樹脂により構成されている場合には、押圧ローラーの外周面と可撓性基板の表面との間の摩擦力が増大する。そのことにより、修正ローラーに連動して押圧ローラーの回転軸を傾けるときに、可撓性基板が押圧ローラーの外周面を滑ることが抑制される。   The friction increasing means is arranged to face the correction roller through the flexible substrate, has a pressing roller for pressing the flexible substrate to the correction roller side, and the outer peripheral surface of the pressing roller is made of resin. When it exists, the frictional force between the outer peripheral surface of a press roller and the surface of a flexible substrate increases. This suppresses the flexible substrate from sliding on the outer peripheral surface of the pressing roller when the rotation axis of the pressing roller is tilted in conjunction with the correction roller.

修正ローラーに可撓性基板が巻き掛けられる場合には、回転軸を傾けることにより修正ローラーの一端側に接触する可撓性基板の張力と修正ローラーの他端側に接触する可撓性基板の張力とに差を生じさせやすくなるため、修正ローラーの一端側に接触する可撓性基板の搬送速度と修正ローラーの他端側に接触する可撓性基板の搬送速度とに差を生じさせることが容易になる。   When the flexible substrate is wound around the correction roller, by tilting the rotation axis, the tension of the flexible substrate contacting one end of the correction roller and the flexible substrate contacting the other end of the correction roller are tilted. Since it is easy to cause a difference in tension, a difference is caused between the conveyance speed of the flexible substrate that contacts one end of the correction roller and the conveyance speed of the flexible substrate that contacts the other end of the correction roller. Becomes easier.

修正機構が修正ローラーと修正ローラーの基板搬送方向下手側に並ぶローラーとを同時に回転軸方向に移動させるように構成されている場合には、検出部によって可撓性基板におけるローラーの回転軸方向の位置ずれが検出された場合に、修正ローラと修正ローラーの基板搬送方向下手側のローラーとを同時に回転軸方向に移動させることにより、可撓性基板におけるローラーの回転軸方向の位置ずれを修正することが可能になる。   When the correction mechanism is configured to simultaneously move the correction roller and the roller arranged on the lower side of the substrate conveyance direction of the correction roller in the rotation axis direction, the detection unit causes the roller in the flexible substrate to move in the rotation axis direction. When a misalignment is detected, the misalignment of the roller on the flexible substrate in the rotational axis direction is corrected by simultaneously moving the correction roller and the lower roller of the correction roller in the substrate transport direction in the rotational axis direction. It becomes possible.

また、本発明の可撓性基板の搬送方法によると、検出工程では、可撓性基板に対向して配置された対向物に対する可撓性基板の位置ずれを検出する。   Further, according to the flexible substrate transport method of the present invention, in the detection step, the displacement of the flexible substrate with respect to the opposing object arranged to face the flexible substrate is detected.

修正工程では、検出工程で可撓性基板の位置ずれが検出された場合に、少なくとも1つのローラーである修正ローラーの回転軸を、通常搬送時の軸方向に対して傾けることによって、可撓性基板の位置ずれを修正するため、検出工程で対向物に対する可撓性基板の基板搬送方向に斜めの位置ずれが生じたときに、修正ローラーの一端側に接触する可撓性基板の張力と他端側に接触する可撓性基板の張力とに差を生じさせることが可能になる。修正ローラーの一端側に接触する可撓性基板の張力と他端側に接触する可撓性基板の張力とに差を生じさせることにより、修正ローラーの一端側に接触する可撓性基板の搬送速度と修正ローラーの他端側に接触する可撓性基板の搬送速度とに差が生じるため、対向物に対する可撓性基板の基板搬送方向に斜めの位置ずれを修正することが可能になる。したがって、対向物に対する可撓性基板の基板搬送方向に斜めの位置ずれを防止して、可撓性基板を適切に搬送することが可能となる。   In the correction process, when the displacement of the flexible substrate is detected in the detection process, the rotation axis of the correction roller, which is at least one roller, is tilted with respect to the axial direction at the time of normal conveyance, thereby providing flexibility. In order to correct the displacement of the substrate, when the oblique displacement occurs in the substrate transport direction of the flexible substrate with respect to the opposing object in the detection process, the tension of the flexible substrate that contacts one end of the correction roller and the other It is possible to make a difference between the tension of the flexible substrate contacting the end side. Transporting a flexible substrate that contacts one end of the correction roller by creating a difference between the tension of the flexible substrate that contacts one end of the correction roller and the tension of the flexible substrate that contacts the other end Since there is a difference between the speed and the conveyance speed of the flexible substrate that contacts the other end of the correction roller, it is possible to correct the oblique displacement in the substrate conveyance direction of the flexible substrate with respect to the opposite object. Therefore, it is possible to prevent the positional displacement of the flexible substrate with respect to the opposite object from being oblique and to convey the flexible substrate appropriately.

それに加えて、修正工程では、修正ローラーの外周面と可撓性基板の表面との間の摩擦力を増大させた状態で修正ローラーの回転軸を傾けるため、可撓性基板が修正ローラーの外周面を滑ることが抑制される。そのことにより、対向物に対する可撓性基板の基板搬送方向に斜めの位置ずれを適切に修正することが可能になる。   In addition, in the correction process, since the rotation axis of the correction roller is tilted while the frictional force between the outer peripheral surface of the correction roller and the surface of the flexible substrate is increased, the flexible substrate is arranged on the outer periphery of the correction roller. Slip on the surface is suppressed. As a result, it is possible to appropriately correct an oblique positional shift in the substrate transport direction of the flexible substrate with respect to the opposite object.

修正工程において可撓性基板を修正ローラーに押圧する押圧ローラーの外周面が樹脂により構成されている場合には、押圧ローラーの外周面と可撓性基板の表面との間の摩擦力が増大するため、修正ローラーに連動して押圧ローラーの回転軸を傾けるときに可撓性基板が押圧ローラーの外周面を滑ることが抑制される。   When the outer peripheral surface of the pressing roller that presses the flexible substrate against the correcting roller in the correction process is made of resin, the frictional force between the outer peripheral surface of the pressing roller and the surface of the flexible substrate increases. Therefore, the flexible substrate is prevented from slipping on the outer peripheral surface of the pressing roller when the rotation axis of the pressing roller is tilted in conjunction with the correction roller.

修正ローラーに可撓性基板が巻き掛けられている場合には、回転軸を傾けることにより修正ローラーの一端側に接触する可撓性基板の搬送速度と修正ローラーの他端側に接触する可撓性基板の搬送速度とに差を生じさせることが容易になる。   When the flexible substrate is wound around the correction roller, the flexible substrate is brought into contact with one end of the correction roller by tilting the rotation axis, and the flexible substrate is in contact with the other end of the correction roller. It is easy to make a difference between the transport speed of the conductive substrate.

修正工程において、修正ローラーと、修正ローラーの基板搬送方向下手側に並ぶローラーとを同時に回転軸方向に移動させる場合には、検出工程で可撓性基板におけるローラーの回転軸方向の位置ずれが検出された場合に、その可撓性基板におけるローラーの回転軸方向の位置ずれを修正することが可能になる。   In the correction process, when the correction roller and the roller aligned on the lower side in the substrate transport direction of the correction roller are simultaneously moved in the rotation axis direction, the detection process detects the positional deviation of the roller in the rotation axis direction on the flexible substrate. In such a case, it is possible to correct the positional deviation in the rotation axis direction of the roller on the flexible substrate.

可撓性基板が表示装置を構成する場合には、表示装置を連続して製造することが可能になるため、生産性を向上させることが可能となる。   When the flexible substrate constitutes the display device, the display device can be continuously manufactured, and thus productivity can be improved.

本発明によれば、修正ローラーの外周面と可撓性基板の表面との間の摩擦力を増大させる摩擦力増大手段を備えているため、修正ローラーの回転軸を傾けるときに、可撓性基板が修正ローラーの外周面を滑ることを抑制できる。その結果、対向物に対する可撓性基板の基板搬送方向に斜めの位置ずれを適切に修正することができる。   According to the present invention, since the frictional force increasing means for increasing the frictional force between the outer peripheral surface of the correction roller and the surface of the flexible substrate is provided, when the rotation axis of the correction roller is tilted, the flexibility is increased. It can suppress that a board | substrate slips on the outer peripheral surface of a correction roller. As a result, it is possible to appropriately correct an oblique displacement in the substrate transport direction of the flexible substrate with respect to the opposing object.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the following embodiment.

《発明の実施形態1》
図1〜図7は、本発明の実施形態1を示している。図1〜図5は、本実施形態1の可撓性基板搬送装置の要部を示す概略図である。図6は、第1フィルム基板15に位置ずれが生じた状態の貼り合わせフィルム基板を第2フィルム基板16側から示す図である。図7は、可撓性基板搬送装置により製造される液晶表示装置Sを概略的に示す断面図である。尚、図2については、反射ミラー19の図示を省略した。また、図4については、第1フィルム基板15と第1フィルム基板15を搬送する一対のローラー10とのみを図示した。
Embodiment 1 of the Invention
1 to 7 show Embodiment 1 of the present invention. 1 to 5 are schematic views showing the main part of the flexible substrate carrying apparatus of the first embodiment. FIG. 6 is a diagram showing the bonded film substrate in a state where the first film substrate 15 is displaced from the second film substrate 16 side. FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing the liquid crystal display device S manufactured by the flexible substrate transfer device. In FIG. 2, the reflection mirror 19 is not shown. Moreover, about FIG. 4, only the 1st film board | substrate 15 and a pair of roller 10 which conveys the 1st film board | substrate 15 were shown in figure.

まず、表示装置である液晶表示装置Sの製造に用いる本実施形態1の可撓性基板搬送装置について説明する。   First, the flexible substrate transfer apparatus according to the first embodiment used for manufacturing the liquid crystal display device S as a display device will be described.

可撓性基板搬送装置は、図1〜図3に示すように、軸方向が互いに平行である複数のローラー10を備え、複数のローラー10が回転することによりそれぞれ可撓性基板基板である第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16を搬送するように構成されている。   As shown in FIGS. 1 to 3, the flexible substrate transport apparatus includes a plurality of rollers 10 whose axial directions are parallel to each other, and each of the plurality of rollers 10 rotates to be a flexible substrate substrate. The first film substrate 15 and the second film substrate 16 are transported.

上記複数のローラー10は、それぞれ通常搬送時の軸方向が基板搬送方向に対して90°に配置されている。また、各ローラー10は、例えばアルミニウム等により形成されており、直径が、例えば76.2mm以上且つ200mm以下等の大きさである。   The plurality of rollers 10 are arranged such that the axial direction during normal conveyance is 90 ° with respect to the substrate conveyance direction. Each roller 10 is made of, for example, aluminum, and has a diameter of, for example, 76.2 mm or more and 200 mm or less.

上記第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16は、図示は省略するが、それぞれ第1巻き出しロール及び第2巻き出しロールから巻き出されて搬送される。すなわち、第1巻き出しロール及び第2巻き出しロールは、ロール状に巻かれた第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16がそれぞれリールに取り付けられて構成されている。そうして、可撓性基板搬送装置は、これら第1巻き出しロール及び第2巻き出しロールからそれぞれ第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16をそれぞれ巻き出すと共に複数のローラー10により支持しながら搬送することにより、より長尺な第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16に対して連続して所定の処理を施すことが可能になっている。   Although illustration is abbreviate | omitted, the said 1st film board | substrate 15 and the 2nd film board | substrate 16 are respectively unwound from the 1st unwinding roll and the 2nd unwinding roll, and are conveyed. That is, the first unwinding roll and the second unwinding roll are configured such that the first film substrate 15 and the second film substrate 16 wound in a roll shape are respectively attached to the reels. Thus, the flexible substrate transport device unwinds the first film substrate 15 and the second film substrate 16 from the first unwinding roll and the second unwinding roll, respectively, and supports them by the plurality of rollers 10. By carrying, predetermined processing can be continuously applied to the longer first film substrate 15 and second film substrate 16.

上記可撓性基板搬送装置は、搬送される第1フィルム基板15にTFT(薄膜トランジスタ)、画素電極及びカラーフィルタ等を形成する素子基板領域形成部と、搬送される第2フィルム基板16に共通電極等を形成する対向基板領域形成部と、第1フィルム基板15と第2フィルム基板16とを貼り合わせる貼り合わせ部とを備えている。   The flexible substrate transport device includes an element substrate region forming unit that forms TFTs (thin film transistors), pixel electrodes, color filters, and the like on the transported first film substrate 15 and a common electrode on the transported second film substrate 16. And the like, and a bonding portion for bonding the first film substrate 15 and the second film substrate 16 to each other.

素子基板領域形成部は、対向物であるマスク18を介して第1フィルム基板15を露光する第1露光部を備え、対向基板領域形成部は、マスクを介して第2フィルム基板16を露光する第2露光部を備えている。   The element substrate region forming unit includes a first exposure unit that exposes the first film substrate 15 through a mask 18 that is a counter object, and the counter substrate region forming unit exposes the second film substrate 16 through the mask. A second exposure unit is provided.

上記第1露光部は、図1及び図2に示すように、一対のローラー10により第1フィルム基板15を搬送しながら、第1フィルム基板15にマスク18を介してプロキシミティ露光を施すように構成されている。図2の24は、第1フィルム基板15の搬送方向を示している。   As shown in FIGS. 1 and 2, the first exposure unit performs proximity exposure on the first film substrate 15 through a mask 18 while conveying the first film substrate 15 by a pair of rollers 10. It is configured. Reference numeral 24 in FIG. 2 indicates the transport direction of the first film substrate 15.

すなわち、第1露光部には、第1フィルム基板15を搬送する一対のローラー10の間に板状のステージ17が設置されており、このステージ17に第1フィルム基板15を介して対向するようにマスク18が配置されている。このマスク18には、所定のパターンが描かれている。マスク18の第1フィルム基板15と反対側には、マスク18に対して傾けて設置され、基板搬送方向24から照射された光をマスク18側に反射する反射ミラー19が配置されている。   That is, the first exposure unit is provided with a plate-like stage 17 between a pair of rollers 10 that conveys the first film substrate 15, and faces the stage 17 via the first film substrate 15. A mask 18 is disposed on the surface. A predetermined pattern is drawn on the mask 18. On the opposite side of the mask 18 from the first film substrate 15, a reflection mirror 19 is disposed that is inclined with respect to the mask 18 and reflects light irradiated from the substrate transport direction 24 toward the mask 18.

この反射ミラー19の基板搬送方向24側には反射ミラー19に向かって均一照度の平行光を出射する光学系及び光源20が設置されている。この光学系及び光源20は、第1フィルム基板15を搬送する上記一対のローラー10における基板搬送方向24側のローラー10上に配置されている。   An optical system and a light source 20 that emit parallel light with uniform illuminance toward the reflection mirror 19 are installed on the reflection mirror 19 on the substrate transport direction 24 side. The optical system and the light source 20 are disposed on the roller 10 on the substrate transport direction 24 side in the pair of rollers 10 that transport the first film substrate 15.

さらに、反射ミラー19とマスク18との間には、照射された光を平行光にするコリメーター21が配置されている。そうして、第1露光部は、光源20から反射ミラー19に向かって照射された平行光が反射ミラー19で反射することにより、コリメーター21及びマスク18を順に介して第2フィルム基板16を所定パターンで露光するようになっている。図1及び図2の22は、光の進行方向を示している。   Further, a collimator 21 that converts the irradiated light into parallel light is disposed between the reflection mirror 19 and the mask 18. Then, the first exposure unit reflects the parallel light irradiated from the light source 20 toward the reflection mirror 19 by the reflection mirror 19, and thereby passes the second film substrate 16 through the collimator 21 and the mask 18 in order. Exposure is performed in a predetermined pattern. Reference numeral 22 in FIGS. 1 and 2 indicates the traveling direction of light.

さらに、第1露光部は、第1フィルム基板15に対向して配置されたマスク18に対する第1フィルム基板15の位置ずれを検出する検出部と、検出部によって第1フィルム基板15の位置ずれが検出された場合に、1つのローラー10である修正ローラー11の回転軸を、通常搬送時の軸方向に対して傾けることによって、第1フィルム基板15の位置ずれを修正する修正機構と、修正ローラー11の外周面と第1フィルム基板15の表面との間の摩擦力を増大させる摩擦力増大手段とを備えている。   Further, the first exposure unit detects a positional deviation of the first film substrate 15 with respect to the mask 18 disposed to face the first film substrate 15, and the positional deviation of the first film substrate 15 is detected by the detection unit. A correction mechanism that corrects misalignment of the first film substrate 15 by tilting the rotation axis of the correction roller 11, which is one roller 10, with respect to the axial direction during normal conveyance when detected, and a correction roller And a frictional force increasing means for increasing the frictional force between the outer peripheral surface of 11 and the surface of the first film substrate 15.

上記検出部は、第1フィルム基板15に対向配置された撮像手段23を備え、その撮像手段23により第1フィルム基板15に形成されたアライメントマーク21の位置を検出する。撮像手段23は、例えばCCDカメラ等であり、マスク18及びコリメーター21における第1フィルム基板15の幅方向外側に複数設置され、搬送される第1フィルム基板15の有効領域の四隅に形成されたアライメントマーク28にそれぞれ対向するように配置されている。アライメントマーク28は、例えば第1フィルム基板15の表面に予め形成された電極パターン等である。そうして、検出部は、アライメントマーク28の位置を検出することによってマスク18に対する第1フィルム基板15の位置ずれを検出するようになっている。   The detection unit includes an imaging unit 23 disposed opposite to the first film substrate 15, and detects the position of the alignment mark 21 formed on the first film substrate 15 by the imaging unit 23. The imaging means 23 is, for example, a CCD camera or the like, and a plurality of the imaging means 23 are installed outside the first film substrate 15 in the width direction of the mask 18 and the collimator 21 and formed at the four corners of the effective area of the first film substrate 15 to be conveyed. The alignment marks 28 are arranged so as to face each other. The alignment mark 28 is, for example, an electrode pattern formed in advance on the surface of the first film substrate 15. Thus, the detection unit detects the position shift of the first film substrate 15 with respect to the mask 18 by detecting the position of the alignment mark 28.

上記修正機構は、検出部によって第1フィルム基板15の基板搬送方向24に斜めの位置ずれが検出された場合に、図4に示すように、第1フィルム基板15を搬送する一対のローラー10における基板搬送方向24上手側の修正ローラー11の一端側又は他端側を基点として、修正ローラー11の回転軸を傾け、その修正ローラー11の基点と反対側となる先端を第1フィルム基板15の搬送方向24上手側に移動させるように構成されている。   The correction mechanism includes a pair of rollers 10 that transport the first film substrate 15 as illustrated in FIG. 4 when the detection unit detects an oblique displacement in the substrate transport direction 24 of the first film substrate 15. The rotation axis of the correction roller 11 is inclined with the one end side or the other end side of the correction roller 11 on the upper side in the substrate transport direction 24 as a base point, and the tip opposite to the base point of the correction roller 11 is transported to the first film substrate 15. It is comprised so that it may move to the direction 24 upper side.

上記修正ローラー11は、例えば従動ローラーであり、回転軸が通常搬送時の軸方向に対して例えば2°以下等の範囲で傾けることが可能になっている。また、修正ローラー11には、第1フィルム基板15が巻き掛けられる。   The correction roller 11 is, for example, a driven roller, and the rotation shaft can be tilted within a range of, for example, 2 ° or less with respect to the axial direction during normal conveyance. Further, the first film substrate 15 is wound around the correction roller 11.

上記修正機構により修正ローラー11の一端を基点として、修正ローラー11の回転軸を傾け、修正ローラー11の基点と反対側となる先端を第1フィルム基板15の搬送方向24上手側に移動させた場合には、修正ローラー11が2点鎖線で示す修正ローラー11の位置25に配置する。そのことにより、修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の張力が修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15の張力よりも大きくなり、修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15が修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15よりも搬送され難くなる。そうすると、修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度が修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度よりも遅くなる。   When the correction mechanism 11 tilts the rotation axis of the correction roller 11 with the one end of the correction roller 11 as a base point and moves the tip opposite to the base point of the correction roller 11 to the upper side in the transport direction 24 of the first film substrate 15. The correction roller 11 is arranged at the position 25 of the correction roller 11 indicated by a two-dot chain line. Accordingly, the tension of the first film substrate 15 that contacts the other end side of the correction roller 11 becomes larger than the tension of the first film substrate 15 that contacts one end side of the correction roller 11, and the other end side of the correction roller 11. The first film substrate 15 in contact with the first roller is less likely to be conveyed than the first film substrate 15 in contact with one end side of the correction roller 11. If it does so, the conveyance speed of the 1st film substrate 15 which contacts the other end side of the correction roller 11 will become slower than the conveyance speed of the 1st film substrate 15 which contacts the one end side of the correction roller 11.

一方、修正機構により修正ローラー11の他端を基点として、修正ローラー11の回転軸を傾け、修正ローラー11の基点と反対側となる先端を第1フィルム基板15の搬送方向24上手側に移動させた場合には、修正ローラー11が2点鎖線で示す修正ローラー11の位置26に配置する。そのことにより、修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15の張力が修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の張力よりも大きくなり、修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度が修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度よりも遅くなる。   On the other hand, the correction mechanism tilts the rotation axis of the correction roller 11 with the other end of the correction roller 11 as a base point, and moves the tip opposite to the base point of the correction roller 11 to the upper side in the transport direction 24 of the first film substrate 15. In such a case, the correction roller 11 is disposed at the position 26 of the correction roller 11 indicated by a two-dot chain line. Accordingly, the tension of the first film substrate 15 that contacts one end side of the correction roller 11 becomes larger than the tension of the first film substrate 15 that contacts the other end side of the correction roller 11, and The conveyance speed of the 1st film board | substrate 15 which contacts is slower than the conveyance speed of the 1st film board | substrate 15 which contacts the other end side of the correction roller 11. FIG.

そうして、修正機構は、検出部により位置ずれが検出された第1フィルム基板15の領域を修正ローラー11よりも基板搬送方向24とは反対側に搬送した後に、修正ローラー11の回転軸を通常搬送時の軸方向に対して傾けて、修正ローラー11の一端に接触する第1フィルム基板15の搬送速度と他端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度とに差を生じさせることによって、マスク18に対する第1フィルム基板15の基板搬送方向24に斜めの位置ずれを修正するように構成されている。   Then, after the correction mechanism transports the region of the first film substrate 15 in which the position shift is detected by the detection unit to the opposite side of the substrate transport direction 24 from the correction roller 11, the correction mechanism rotates the rotation axis of the correction roller 11. Inclining with respect to the axial direction during normal conveyance, and causing a difference between the conveyance speed of the first film substrate 15 that contacts one end of the correction roller 11 and the conveyance speed of the first film substrate 15 that contacts the other end side. Thus, the oblique positional deviation in the substrate transport direction 24 of the first film substrate 15 with respect to the mask 18 is corrected.

さらに、修正機構は、修正ローラー11と、修正ローラー11の第1フィルム基板15の搬送方向下手側に並ぶローラー10とを同時に回転軸方向に移動させるように構成されている。すなわち、修正機構は、検出部によってマスク18に対する第1フィルム基板15におけるローラー10の回転軸方向の位置ずれが検出された場合に、修正ローラー11と修正ローラー11の基板搬送方向下手側のローラー10とを、マスク18に対して第1フィルム基板15がずれた方向とは反対側の回転軸方向に移動させることにより、第1フィルム基板15の回転軸方向の位置ずれを修正するようになっている。   Further, the correction mechanism is configured to simultaneously move the correction roller 11 and the roller 10 arranged on the lower side in the transport direction of the first film substrate 15 of the correction roller 11 in the rotation axis direction. That is, the correction mechanism detects that the detection unit detects a positional deviation in the rotation axis direction of the roller 10 on the first film substrate 15 with respect to the mask 18. Is moved in the direction of the rotational axis opposite to the direction in which the first film substrate 15 is displaced with respect to the mask 18, thereby correcting the positional deviation of the first film substrate 15 in the rotational axis direction. Yes.

尚、上記修正機構は、各ローラー10の回転速度を必要に応じて変化させるように構成されている。すなわち、修正機構は、検出部によりマスク18に対する第1フィルム基板15の基板搬送方向の位置ずれが検出された場合に、各ローラー10の回転速度を変化させることによって第1フィルム基板15の基板搬送方向の位置ずれを修正するようになっている。このように、第1露光部は、マスク18に対する第1フィルム基板15の位置ずれを修正すると共に第1フィルム基板15に露光を施すように構成されている。   In addition, the said correction mechanism is comprised so that the rotational speed of each roller 10 may be changed as needed. That is, the correction mechanism changes the rotational speed of each roller 10 when the position of the first film substrate 15 in the substrate transfer direction relative to the mask 18 is detected by the detection unit, thereby transferring the substrate of the first film substrate 15. The misalignment in the direction is corrected. As described above, the first exposure unit is configured to correct the positional deviation of the first film substrate 15 with respect to the mask 18 and to expose the first film substrate 15.

上記摩擦力増大手段は、修正ローラー11に設けられた静電チャック13を有している。静電チャック13は、修正ローラー11の外縁に設けられている。また、静電チャック13は、修正ローラー11の内部に修正ローラー11の外周面に沿って埋設された電極14を備えている。この静電チャック13は、電極14に電圧を印加することにより発生する静電力により、第1フィルム基板15を修正ローラー11の外周面に静電吸着する。そのことにより、修正ローラー11の外周面と第1フィルム基板15の表面との間の摩擦力を増大させる。   The frictional force increasing means has an electrostatic chuck 13 provided on the correction roller 11. The electrostatic chuck 13 is provided on the outer edge of the correction roller 11. The electrostatic chuck 13 includes an electrode 14 embedded in the correction roller 11 along the outer peripheral surface of the correction roller 11. The electrostatic chuck 13 electrostatically attracts the first film substrate 15 to the outer peripheral surface of the correction roller 11 by an electrostatic force generated by applying a voltage to the electrode 14. Thereby, the frictional force between the outer peripheral surface of the correction roller 11 and the surface of the first film substrate 15 is increased.

尚、本明細書において修正ローラー11の外周面と第1フィルム基板15の表面との間の摩擦力を増大させるとは、修正ローラー11の外周面と第1フィルム基板15の表面との間の摩擦力を摩擦力増大手段を備えていない場合よりも増大させることを意味する。   In this specification, increasing the frictional force between the outer peripheral surface of the correction roller 11 and the surface of the first film substrate 15 means that the frictional force between the outer peripheral surface of the correction roller 11 and the surface of the first film substrate 15 is increased. This means that the frictional force is increased as compared with the case where no frictional force increasing means is provided.

上記第2露光部は、上記第1露光部と同様に構成されている。すなわち、第2露光部は、第1露光部と同様の検出部、修正機構及び摩擦力増大手段を有し、一対のローラー10により第2フィルム基板16を搬送しながら、マスク18に対する第2フィルム基板16の位置ずれを修正すると共に第2フィルム基板16にマスク18を介してプロキシミティ露光を施すように構成されている。   The second exposure unit is configured in the same manner as the first exposure unit. That is, the second exposure unit has the same detection unit, correction mechanism, and frictional force increasing means as the first exposure unit, and the second film with respect to the mask 18 while transporting the second film substrate 16 by the pair of rollers 10. The positional deviation of the substrate 16 is corrected, and proximity exposure is performed on the second film substrate 16 through a mask 18.

上記貼り合わせ部は、図3に示すように、それぞれ一対のローラー10により第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16を搬送しながら、第1フィルム基板15に第2フィルム基板16を対向配置させて貼り合わせるように構成されている。すなわち、第2フィルム基板16は、第1フィルム基板15の対向物である。ここで、図3の25は、第2フィルム基板16の搬送方向を示している。   As shown in FIG. 3, the bonding unit causes the first film substrate 15 to face the second film substrate 16 while the first film substrate 15 and the second film substrate 16 are conveyed by the pair of rollers 10. Are configured to be pasted together. That is, the second film substrate 16 is an object opposite to the first film substrate 15. Here, reference numeral 25 in FIG. 3 indicates the transport direction of the second film substrate 16.

貼り合わせ部には、第1フィルム基板15を搬送する一対のローラー10の間に、搬送される第1フィルム基板15の一方の表面に沿うように板状のステージ27が配置されている。また、第2フィルム基板16を搬送する一対のローラー10の間には、第2フィルム基板16を第1フィルム基板15側に押圧するローラー12が、ステージ27の表面に対向して配置されている。そうして、貼り合わせ部は、一対のローラー10により搬送される第2フィルム基板16をローラー12により第1フィルム基板15を介してステージ27に押しつけることにより、第1フィルム基板15と第2フィルム基板16とを貼り合わせるようになっている。   A plate-like stage 27 is disposed along the one surface of the first film substrate 15 to be transported between the pair of rollers 10 that transport the first film substrate 15 in the bonding portion. Further, between the pair of rollers 10 that convey the second film substrate 16, a roller 12 that presses the second film substrate 16 toward the first film substrate 15 is disposed to face the surface of the stage 27. . Then, the laminating unit presses the second film substrate 16 conveyed by the pair of rollers 10 against the stage 27 via the first film substrate 15 by the roller 12, thereby the first film substrate 15 and the second film. The substrate 16 is bonded together.

この貼り合わせ部も、上記第1露光部及び第2露光部と同様に、検出部、修正機構及び摩擦力増大手段を備え、第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の位置ずれを修正すると共に第1フィルム基板15と第2フィルム基板16とを貼り合わせるように構成されている。   Similarly to the first exposure unit and the second exposure unit, the bonding unit also includes a detection unit, a correction mechanism, and a frictional force increasing unit, and corrects the positional deviation of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16. In addition, the first film substrate 15 and the second film substrate 16 are bonded together.

貼り合わせ部の検出部は、図5に示すように、第1フィルム基板15と、第2フィルム基板16とが貼り合わせられた貼り合わせフィルム基板に対向して配置されたCCDカメラ等の撮像手段23を備え、その撮像手段23により第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16の表面にそれぞれ形成されたアライメントマーク28,29をそれぞれ検出する。そうして、検出された第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16のそれぞれのアライメントマーク28,29の位置に基いて第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の位置ずれを検出するようになっている。   As shown in FIG. 5, the detection unit of the bonding unit is an imaging unit such as a CCD camera disposed so as to face the bonded film substrate on which the first film substrate 15 and the second film substrate 16 are bonded. , And the alignment marks 28 and 29 respectively formed on the surfaces of the first film substrate 15 and the second film substrate 16 are detected by the imaging means 23. Then, based on the detected positions of the alignment marks 28 and 29 of the first film substrate 15 and the second film substrate 16, the positional deviation of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16 is detected. It has become.

貼り合わせ部の修正機構は、上記第1露光部の修正機構と同様に、検出部によって第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の位置ずれが検出された場合に、第1フィルム基板15を搬送する一対のローラー10における基板搬送方向24上手側の修正ローラー11の回転軸を、通常搬送時の軸方向に対して傾けることによって、第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の基板搬送方向24に斜めの位置ずれを修正するように構成されている。   Similar to the correction mechanism of the first exposure unit, the correction unit of the bonding unit moves the first film substrate 15 when the detection unit detects a positional shift of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16. Substrate transport direction of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16 by tilting the rotation axis of the correction roller 11 on the upper side of the substrate transport direction 24 in the pair of rollers 10 to be transported with respect to the axial direction during normal transport. 24 is configured to correct an oblique positional deviation.

また、貼り合わせ部の修正機構は、上記第1露光部の修正機構と同様に、検出部によって第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15のローラー10の回転軸方向の位置ずれが検出された場合には、修正ローラー11と、修正ローラー11の基板搬送方向下手側のローラー10とを同時に回転軸方向に移動させるように構成されている。そのことにより、第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の回転軸方向の位置ずれを修正するようになっている。   Further, in the correction mechanism of the bonding unit, as in the correction mechanism of the first exposure unit, the detection unit detects a displacement in the rotation axis direction of the roller 10 of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16. In this case, the correction roller 11 and the roller 10 on the lower side in the substrate transport direction of the correction roller 11 are simultaneously moved in the rotation axis direction. As a result, the positional deviation in the rotation axis direction of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16 is corrected.

尚、この修正機構は、上記第1露光部の修正工程と同様に、必要に応じて各ローラー10の回転速度を変化させることによって、第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の基板搬送方向の位置ずれを修正するように構成されている。   In addition, this correction | amendment mechanism changes the board | substrate conveyance direction of the 1st film board | substrate 15 with respect to the 2nd film board | substrate 16 by changing the rotational speed of each roller 10 as needed similarly to the correction process of the said 1st exposure part. It is configured to correct the positional deviation.

さらに、可撓性基板搬送装置は、第2フィルム基板16の各有効領域にシール部材37を供給するシール供給部と、第2フィルム基板16に供給されたシール部材37の内側に液晶材料を滴下する滴下部と、貼り合わせフィルム基板を各有効領域毎に分断する分断部とを備えている。そうして、可撓性基板搬送装置は、第1巻き出しロール及び第2巻き出しロールからそれぞれ巻き出された第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16に連続して所定の処理を施して液晶表示装置Sを製造するようになっている。   Furthermore, the flexible substrate transport device drops a liquid crystal material inside the seal supply unit that supplies the seal member 37 to each effective area of the second film substrate 16 and the seal member 37 that is supplied to the second film substrate 16. And a dividing portion for dividing the bonded film substrate into each effective area. Then, the flexible substrate transport device performs a predetermined process continuously on the first film substrate 15 and the second film substrate 16 respectively unwound from the first unwinding roll and the second unwinding roll. The liquid crystal display device S is manufactured.

次に、上記可撓性基板搬送装置により製造する液晶表示装置Sについて説明する。   Next, the liquid crystal display device S manufactured by the flexible substrate transfer device will be described.

液晶表示装置Sは、図7に示すように、素子基板30と、素子基板30に対向して設けられた対向基板31と、これら素子基板30と対向基板31との間に形成された液晶層32とを備えている。   As shown in FIG. 7, the liquid crystal display device S includes an element substrate 30, a counter substrate 31 provided to face the element substrate 30, and a liquid crystal layer formed between the element substrate 30 and the counter substrate 31. 32.

上記素子基板30は、図示は省略するが、第1フィルム基板15の表面に複数の画素が設けられ、各画素毎にTFT、画素電極及びカラーフィルタが形成された構造を有する。また、素子基板30には、液晶層32側の表面に配向膜33が設けられていると共に、液晶層32とは反対側の表面に偏光板34が積層されている。   Although not shown, the element substrate 30 has a structure in which a plurality of pixels are provided on the surface of the first film substrate 15 and a TFT, a pixel electrode, and a color filter are formed for each pixel. The element substrate 30 is provided with an alignment film 33 on the surface on the liquid crystal layer 32 side, and a polarizing plate 34 is laminated on the surface opposite to the liquid crystal layer 32.

上記対向基板31は、図示は省略するが、第2フィルム基板16の表面にITOからなる共通電極が形成された構造を有する。また、対向基板31には、液晶層32側の表面に配向膜35が設けられていると共に、液晶層32とは反対側の表面に偏光板36が積層されている。   Although not shown, the counter substrate 31 has a structure in which a common electrode made of ITO is formed on the surface of the second film substrate 16. The counter substrate 31 is provided with an alignment film 35 on the surface on the liquid crystal layer 32 side, and a polarizing plate 36 is laminated on the surface opposite to the liquid crystal layer 32.

上記液晶層32は、素子基板30と対向基板31との間に介在されたシール部材37によって封止されている。こうして、液晶表示装置Sは、TFTにより液晶層32における液晶分子の配向を制御して所望の表示を行うようになっている。   The liquid crystal layer 32 is sealed by a sealing member 37 interposed between the element substrate 30 and the counter substrate 31. In this way, the liquid crystal display device S performs desired display by controlling the alignment of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 32 by the TFT.

−製造方法−
次に、上記液晶表示装置Sの製造方法と共に液晶表示装置Sを構成する第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16の搬送方法について説明する。
-Manufacturing method-
Next, the conveyance method of the 1st film substrate 15 and the 2nd film substrate 16 which comprise the liquid crystal display device S with the manufacturing method of the said liquid crystal display device S is demonstrated.

液晶表示装置Sの製造方法には、素子基板領域形成工程と、対向基板領域基板形成工程と、貼り合わせ工程と、分断工程とが含まれ、第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16を、それぞれ軸方向が互いに平行である複数のローラー10により搬送しながら、素子基板領域形成工程、対向基板領域形成工程、貼り合わせ工程及び分断工程にかけて液晶表示装置Sを製造する。第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16の搬送速度は、それぞれ例えば毎分600mm以上且つ900mm以下等である。   The manufacturing method of the liquid crystal display device S includes an element substrate region forming step, a counter substrate region substrate forming step, a bonding step, and a dividing step. The first film substrate 15 and the second film substrate 16 are The liquid crystal display device S is manufactured through an element substrate region forming step, a counter substrate region forming step, a bonding step, and a dividing step while being transported by a plurality of rollers 10 whose axial directions are parallel to each other. The conveyance speeds of the first film substrate 15 and the second film substrate 16 are, for example, 600 mm or more and 900 mm or less per minute, respectively.

第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16は、基板長さ方向に並んで液晶表示装置Sの表示領域を構成する複数の有効領域を有し、例えば幅が500mm等であり、厚みが50μm以上且つ100μm以下等である。また、第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16は、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)と、PEN(ポリエチレンナフタレート)と、PES(ポリエチレンサルファイル)と、ガラス繊維が混入された樹脂との少なくとも1つ等から形成されている。   The 1st film board | substrate 15 and the 2nd film board | substrate 16 have several effective area | regions which comprise the display area of liquid crystal display device S along with a board | substrate length direction, for example, width is 500 mm etc., and thickness is 50 micrometers or more. And 100 μm or less. In addition, the first film substrate 15 and the second film substrate 16 are, for example, at least of PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate), PES (polyethylene sulfide), and a resin mixed with glass fibers. It is formed from one or the like.

上記素子基板領域形成工程では、まず、第1巻き出しロールから巻き出した第1フィルム基板15の有効領域に連続してTFT、画素電極及びカラーフィルタ等を形成する。この素子基板領域形成工程には、露光工程が含まれる。   In the element substrate region forming step, first, a TFT, a pixel electrode, a color filter, and the like are formed continuously in an effective region of the first film substrate 15 unwound from the first unwinding roll. This element substrate region forming step includes an exposure step.

露光工程では、図1及び図2に示すように、一対のローラー10により第1フィルム基板15を支持しながら搬送すると共に、第1フィルム基板15の有効領域をマスク18を介して露光する。   In the exposure step, as shown in FIGS. 1 and 2, the first film substrate 15 is transported while being supported by a pair of rollers 10, and the effective area of the first film substrate 15 is exposed through a mask 18.

この露光工程には、第1フィルム基板15とマスク18との位置ずれを検出する検出工程と、検出工程で第1フィルム基板15の位置ずれが検出された場合に、上記一対のローラー10における基板搬送方向24上手側の修正ローラー11の回転軸を、通常搬送時の軸方向に対して傾けることによって、第1フィルム基板15の位置ずれを修正する修正工程とが含まれる。   The exposure process includes a detection process for detecting a positional deviation between the first film substrate 15 and the mask 18, and a substrate in the pair of rollers 10 when the positional deviation of the first film substrate 15 is detected in the detection process. And a correction step of correcting the positional deviation of the first film substrate 15 by tilting the rotation axis of the correction roller 11 on the upper side in the conveyance direction 24 with respect to the axial direction during normal conveyance.

上記検出工程では、第1フィルム基板15に対向配置された撮像手段23により、第1フィルム基板15に形成されたアライメントマーク28を検出する。そうして、検出された第1フィルム基板15のアライメントマーク28の位置に基づいてマスク18に対する第1フィルム基板15の位置ずれを検出する。   In the detection step, the alignment mark 28 formed on the first film substrate 15 is detected by the imaging means 23 disposed opposite to the first film substrate 15. Then, based on the detected position of the alignment mark 28 of the first film substrate 15, the positional deviation of the first film substrate 15 with respect to the mask 18 is detected.

上記修正工程では、図4に示すように、修正ローラー11の一端又は他端を基点として、修正ローラー11の回転軸を傾け、修正ローラー11の基点と反対側となる先端を第1フィルム基板15の搬送方向24上手側に移動させる。そのことにより、修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度と修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度とに差を生じさせ、マスク18に対する第1フィルム基板15の基板搬送方向24に斜めの位置ずれを修正する。   In the correction step, as shown in FIG. 4, the rotation axis of the correction roller 11 is inclined with one end or the other end of the correction roller 11 as a base point, and the tip opposite to the base point of the correction roller 11 is the first film substrate 15. Is moved to the upper side in the transporting direction 24 of FIG. As a result, a difference is caused between the conveyance speed of the first film substrate 15 in contact with one end side of the correction roller 11 and the conveyance speed of the first film substrate 15 in contact with the other end side of the correction roller 11. An oblique displacement in the substrate transport direction 24 of the first film substrate 15 is corrected.

すなわち、検出工程によりマスク18に対する第1フィルム基板15の基板搬送方向24に斜めの位置ずれを検出した場合には、まず、複数のローラー10を逆回転させて第1フィルム基板15を基板搬送方向24とは反対方向に搬送することにより、位置ずれが検出された有効領域を修正ローラー11よりも基板搬送方向24と反対側に配置させる。   That is, when an oblique position shift is detected in the substrate transport direction 24 of the first film substrate 15 with respect to the mask 18 by the detection step, first, the plurality of rollers 10 are rotated in the reverse direction to move the first film substrate 15 in the substrate transport direction. By transporting in the opposite direction to 24, the effective area in which the positional deviation is detected is arranged on the opposite side of the substrate transport direction 24 from the correction roller 11.

続いて、検出工程により検出された第1フィルム基板15の位置ずれが、図2で示す第1フィルム基板15の搬送方向24に対して斜め上の位置ずれである場合には、修正ローラー11の一端を基点として、修正ローラー11の回転軸を傾けることにより、修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15の張力よりも修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の張力を大きくする。そのことにより、修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15を修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15よりも搬送され難くした状態で、第1フィルム基板15を基板搬送方向24に搬送して、修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度を修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度よりも遅くする。そうして、修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15を修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15よりも速く搬送することにより、マスク18に対する第1フィルム基板15の上記基板搬送方向24に対して斜め上の位置ずれを修正する。   Subsequently, when the positional deviation of the first film substrate 15 detected by the detection step is an oblique positional deviation with respect to the transport direction 24 of the first film substrate 15 shown in FIG. By tilting the rotation axis of the correction roller 11 with one end as a base point, the first film substrate 15 that contacts the other end of the correction roller 11 rather than the tension of the first film substrate 15 that contacts the one end of the correction roller 11 Increase the tension. Accordingly, the first film substrate 15 is made to be a substrate in a state in which the first film substrate 15 that contacts the other end side of the correction roller 11 is less transported than the first film substrate 15 that contacts the one end side of the correction roller 11. The conveyance speed of the 1st film board | substrate 15 which conveys in the conveyance direction 24 and contacts the other end side of the correction roller 11 is made slower than the conveyance speed of the 1st film board | substrate 15 which contacts the one end side of the correction roller 11. Then, the first film substrate 15 that contacts the one end side of the correction roller 11 is transported faster than the first film substrate 15 that contacts the other end side of the correction roller 11, whereby the first film substrate 15 with respect to the mask 18. The positional deviation obliquely above the substrate transport direction 24 is corrected.

一方、検出工程により検出された第1フィルム基板15の位置ずれが、図2で示す第1フィルム基板15の搬送方向24に対して斜め下の位置ずれである場合には、修正ローラー11の他端を基点として、修正ローラー11の回転軸を傾けることにより、修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の張力よりも一端側に接触する第1フィルム基板15の張力を大きくした状態で、第1フィルム基板15を基板搬送方向24に搬送して、修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度を修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度よりも遅くする。そうして、マスク18に対する第1フィルム基板15の上記基板搬送方向24に対して斜め下の位置ずれを修正する。   On the other hand, when the positional deviation of the first film substrate 15 detected by the detection step is a positional deviation obliquely below the conveying direction 24 of the first film substrate 15 shown in FIG. By tilting the rotation axis of the correction roller 11 with the end as a base point, the tension of the first film substrate 15 contacting one end side is made larger than the tension of the first film substrate 15 contacting the other end side of the correction roller 11. In the state, the first film substrate 15 is conveyed in the substrate conveyance direction 24, and the conveyance speed of the first film substrate 15 that contacts one end side of the correction roller 11 is contacted with the other end side of the correction roller 11. Slower than the conveyance speed of 15. Thus, the positional deviation obliquely below the substrate transport direction 24 of the first film substrate 15 with respect to the mask 18 is corrected.

この修正工程では、修正ローラー11に設けられた静電チャック13により、修正ローラー11に第1フィルム基板15を静電吸着させる。そのことにより、修正ローラー11の外周面と第1フィルム基板15との間の摩擦力を増大させた状態で修正ローラー11の回転軸を傾ける。   In this correction step, the first film substrate 15 is electrostatically attracted to the correction roller 11 by the electrostatic chuck 13 provided on the correction roller 11. Thereby, the rotational axis of the correction roller 11 is tilted in a state where the frictional force between the outer peripheral surface of the correction roller 11 and the first film substrate 15 is increased.

また、修正工程では、修正ローラー11と、修正ローラー11の第1フィルム基板15の搬送方向下手側に並ぶローラー10とを同時に回転軸方向に移動させる。すなわち、検出工程により、マスク18に対する第1フィルム基板15におけるローラー10の回転軸方向の位置ずれが検出された場合には、修正ローラー11と、修正ローラー11の基板搬送方向下手側のローラー10とを第1フィルム基板15がずれた方向とは反対側の回転軸方向に移動させることにより、第1フィルム基板15の回転軸方向の位置ずれを修正する。   In the correction process, the correction roller 11 and the roller 10 arranged on the lower side in the transport direction of the first film substrate 15 of the correction roller 11 are simultaneously moved in the rotation axis direction. That is, in the detection step, when the positional deviation in the rotation axis direction of the roller 10 on the first film substrate 15 with respect to the mask 18 is detected, the correction roller 11 and the roller 10 on the lower side in the substrate transport direction of the correction roller 11 Is moved in the direction of the rotation axis opposite to the direction in which the first film substrate 15 is displaced, thereby correcting the positional deviation of the first film substrate 15 in the direction of the rotation axis.

尚、検出工程により、マスク18に対する第1フィルム基板15の基板搬送方向24の位置ずれが検出された場合には、必要に応じて修正ローラー11の回転速度を変化させることにより、第1フィルム基板15における基板搬送方向の位置ずれを修正する。このようにして、露光工程では、マスク18に対する第1フィルム基板15の位置ずれを修正すると共に第1フィルム基板15に露光を施す。   In addition, when the position shift of the board | substrate conveyance direction 24 of the 1st film board | substrate 15 with respect to the mask 18 is detected by the detection process, the 1st film board | substrate is changed by changing the rotational speed of the correction roller 11 as needed. 15 is corrected in the substrate transfer direction. In this way, in the exposure step, the positional deviation of the first film substrate 15 with respect to the mask 18 is corrected and the first film substrate 15 is exposed.

その後、第1フィルム基板15を搬送しながら、第1フィルム基板15のTFT及び画素電極等が形成された有効領域に、例えば印刷法等により配向膜33を形成する。   Thereafter, while the first film substrate 15 is being conveyed, the alignment film 33 is formed on the effective region of the first film substrate 15 where the TFTs, pixel electrodes, and the like are formed, for example, by a printing method or the like.

上記対向基板領域形成工程では、まず、第2巻き出しロールから送り出された第2フィルム基板16の有効領域に連続して共通電極等を形成する。この対向基板領域形成工程には、素子基板領域形成工程の露光工程と同様の露光工程が含まれる。すなわち、対向基板領域形成工程における露光工程は、検出工程及び修正工程を有し、修正ローラー11の外周面と第2フィルム基板16の表面との間の摩擦力を増大させた状態で修正ローラー11の回転軸を傾けることにより、マスク18に対する第2フィルム基板16の位置ずれを修正すると共にマスク18を介して第2フィルム基板16を露光する。   In the counter substrate region forming step, first, a common electrode or the like is continuously formed in the effective region of the second film substrate 16 fed from the second unwinding roll. This counter substrate region forming step includes an exposure step similar to the exposure step of the element substrate region forming step. That is, the exposure process in the counter substrate region forming process includes a detection process and a correction process, and the correction roller 11 is in a state where the frictional force between the outer peripheral surface of the correction roller 11 and the surface of the second film substrate 16 is increased. By tilting the rotation axis, the positional deviation of the second film substrate 16 with respect to the mask 18 is corrected, and the second film substrate 16 is exposed through the mask 18.

次に、第2フィルム基板16を搬送しながら、第2フィルム基板16の共通電極等が形成された有効領域に、例えば印刷法等により配向膜35を形成する。続いて、第2フィルム基板16の配向膜35が形成された表面に硬化していないシール部材37を枠状に供給した後、シール部材37の内側に液晶材料を滴下する。   Next, while transporting the second film substrate 16, the alignment film 35 is formed on the effective region of the second film substrate 16 where the common electrodes and the like are formed, for example, by a printing method or the like. Subsequently, an uncured seal member 37 is supplied in a frame shape on the surface of the second film substrate 16 on which the alignment film 35 is formed, and then a liquid crystal material is dropped inside the seal member 37.

次に行う貼り合わせ工程では、図3に示すように、それぞれ一対のローラー10により第1フィルム基板15と第1フィルム基板15の対向物である第2フィルム基板16を搬送しながら、第1フィルム基板15と第2フィルム基板16とを貼り合わせる。   In the bonding process performed next, as shown in FIG. 3, the first film substrate 15 and the second film substrate 16, which are opposed to the first film substrate 15, are conveyed by the pair of rollers 10, respectively. The substrate 15 and the second film substrate 16 are bonded together.

すなわち、第2フィルム基板16を搬送する一対のローラー10の間に配置されたローラー12により第2フィルム基板16を、第1フィルム基板15を介して第1フィルム基板15を搬送する一対のローラー10の間に配置されたステージ27に押しつけることによって、第1フィルム基板15と第2フィルム基板16とを貼り合わせる。ここで、第1フィルム基板15と第2フィルム基板16とは、それぞれ配向膜33,35が形成された表面を対向させて貼り合わせる。このとき、第1フィルム基板15と第2フィルム基板16との間のシール部材37に囲まれた領域に液晶層32が形成される。   That is, the pair of rollers 10 that transports the second film substrate 16 through the first film substrate 15 by the roller 12 disposed between the pair of rollers 10 that transport the second film substrate 16. The first film substrate 15 and the second film substrate 16 are bonded together by being pressed against the stage 27 disposed between the two. Here, the first film substrate 15 and the second film substrate 16 are bonded together with the surfaces on which the alignment films 33 and 35 are formed facing each other. At this time, the liquid crystal layer 32 is formed in a region surrounded by the seal member 37 between the first film substrate 15 and the second film substrate 16.

この貼り合わせ工程は、上記露光工程と同様に、検出工程と修正工程とが含まれる。   This bonding step includes a detection step and a correction step, similar to the exposure step.

貼り合わせ工程における検出工程では、図5に示すように、貼り合わせフィルム基板に対向して配置された撮像手段23により、第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16にそれぞれ形成されたアライメントマーク28,29を検出する。そうして、第2フィルム基板16のアライメントマーク29に対する第1フィルム基板15のアライメントマーク28の位置ずれを検出することにより、第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の位置ずれを検出する。   In the detection step in the bonding step, as shown in FIG. 5, the alignment marks 28 formed on the first film substrate 15 and the second film substrate 16 respectively by the image pickup means 23 arranged facing the bonded film substrate. , 29 are detected. Then, by detecting the displacement of the alignment mark 28 of the first film substrate 15 with respect to the alignment mark 29 of the second film substrate 16, the displacement of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16 is detected.

修正工程では、上記露光工程の修正工程と同様に、検出工程で第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の基板搬送方向24に斜めの位置ずれが検出された場合に、第1フィルム基板15を搬送する一対のローラー10における基板搬送方向24上手側の第1フィルム基板15が巻き掛けられた修正ローラー11の一端又は他端を基点として、修正ローラー11の回転軸を傾け、修正ローラー11の基点と反対側となる先端を第1フィルム基板15の搬送方向24上手側に移動させる。   In the correction step, similarly to the correction step in the exposure step, when the oblique displacement is detected in the substrate transport direction 24 of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16 in the detection step, the first film substrate 15 is detected. The rotation axis of the correction roller 11 is inclined with respect to one end or the other end of the correction roller 11 around which the first film substrate 15 on the upper side of the substrate transport direction 24 in the pair of rollers 10 that transports the substrate is wound. The tip opposite to the base point is moved to the upper side in the transport direction 24 of the first film substrate 15.

この貼り合わせ工程の修正工程でも、修正ローラー11に設けられた静電チャック13により、修正ローラー11に第1フィルム基板15を静電吸着させ、修正ローラー11の外周面と第1フィルム基板15の表面との間の摩擦力を増大させた状態で修正ローラー11の回転軸を傾ける。そうして、第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の基板搬送方向24に斜めの位置ずれを修正する。   Even in the correction step of the bonding step, the first film substrate 15 is electrostatically attracted to the correction roller 11 by the electrostatic chuck 13 provided on the correction roller 11, and the outer peripheral surface of the correction roller 11 and the first film substrate 15 are fixed. The rotational axis of the correction roller 11 is tilted in a state where the frictional force with the surface is increased. Thus, the oblique displacement in the substrate transport direction 24 of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16 is corrected.

すなわち、検出工程により第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の基板搬送方向24に斜めの位置ずれを検出した場合には、まず、複数のローラー10を逆回転させて第1フィルム基板15を基板搬送方向24とは反対方向に搬送することにより、位置ずれが検出された有効領域を修正ローラー11よりも基板搬送方向24と反対側に配置させる。   That is, in the case where an oblique positional shift is detected in the substrate transport direction 24 of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16 by the detection step, first, the plurality of rollers 10 are reversely rotated to remove the first film substrate 15. By transporting the substrate in the direction opposite to the substrate transport direction 24, the effective area in which the positional deviation is detected is arranged on the side opposite to the substrate transport direction 24 from the correction roller 11.

続いて、検出工程により検出された第1フィルム基板15の位置ずれが、図6(a)に示すように、第1フィルム基板15の搬送方向24に対して斜め上の位置ずれである場合には、修正ローラー11の一端を基点として、修正ローラー11の回転軸を傾けることにより、修正ローラー11を図4に2点差線で示す位置25に配置させる。そのことにより、修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15の張力よりも修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の張力を大きくした状態で、第1フィルム基板15を基板搬送方向24に搬送して、修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度を修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度よりも遅くする。そうして、第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の上記基板搬送方向24に対して斜め上の位置ずれを修正する。   Subsequently, when the positional deviation of the first film substrate 15 detected by the detection step is an oblique positional deviation with respect to the transport direction 24 of the first film substrate 15 as shown in FIG. In FIG. 4, the correction roller 11 is disposed at a position 25 indicated by a two-point difference line in FIG. 4 by tilting the rotation axis of the correction roller 11 with one end of the correction roller 11 as a base point. Thus, the first film substrate 15 is in a state in which the tension of the first film substrate 15 contacting the other end side of the correction roller 11 is larger than the tension of the first film substrate 15 contacting the one end side of the correction roller 11. Is transported in the substrate transport direction 24 so that the transport speed of the first film substrate 15 in contact with the other end side of the correction roller 11 is slower than the transport speed of the first film substrate 15 in contact with one end side of the correction roller 11. . Then, the positional deviation obliquely above the substrate transport direction 24 of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16 is corrected.

一方、検出工程により検出された第1フィルム基板15の位置ずれが、図6(b)に示すように、第1フィルム基板15の搬送方向24に対して斜め下の位置ずれである場合には、修正ローラー11の他端を基点として、修正ローラー11の回転軸を傾けることにより、修正ローラー11を図4に2点差線で示す位置26に配置させる。そのことにより、修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度を修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度よりも遅くする。そうして、第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の上記基板搬送方向24に対して斜め下の位置ずれを修正する。   On the other hand, when the positional deviation of the first film substrate 15 detected by the detection step is a positional deviation obliquely downward with respect to the transport direction 24 of the first film substrate 15 as shown in FIG. By tilting the rotation axis of the correction roller 11 with the other end of the correction roller 11 as a base point, the correction roller 11 is arranged at a position 26 indicated by a two-dot line in FIG. Accordingly, the conveyance speed of the first film substrate 15 that contacts one end side of the correction roller 11 is made slower than the conveyance speed of the first film substrate 15 that contacts the other end side of the correction roller 11. Thus, the position shift obliquely below the substrate transport direction 24 of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16 is corrected.

また、修正工程では、露光工程における修正工程と同様に、修正ローラー11と、修正ローラー11の第1フィルム基板15の搬送方向下手側に並ぶローラー10とを同時に回転軸方向に移動させる。すなわち、検出工程によって第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15におけるローラー10の回転軸方向の位置ずれが検出された場合には、修正ローラー11と、修正ローラー11の基板搬送方向下手側のローラー10とを第1フィルム基板15がずれた方向とは反対側の回転軸方向に移動させることにより、第1フィルム基板15の回転軸方向の位置ずれを修正する。   Further, in the correction process, similarly to the correction process in the exposure process, the correction roller 11 and the roller 10 arranged on the lower side in the transport direction of the first film substrate 15 of the correction roller 11 are simultaneously moved in the rotation axis direction. That is, when the detection process detects a positional deviation in the rotation axis direction of the roller 10 on the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16, the correction roller 11 and the lower roller in the substrate transport direction of the correction roller 11. 10 is moved in the direction of the rotational axis opposite to the direction in which the first film substrate 15 is displaced, thereby correcting the positional deviation of the first film substrate 15 in the rotational axis direction.

尚、検出工程により、第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の基板搬送方向24の位置ずれが検出された場合には、必要に応じて修正ローラー11の回転速度を変化させることにより、第1フィルム基板15における基板搬送方向の位置ずれを修正する。そうして、貼り合わせ工程では、第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の位置ずれを修正すると共に第1フィルム基板15と第2フィルム基板16とを貼り合わせる。   In addition, when a position shift in the substrate transport direction 24 of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16 is detected by the detection step, the rotation speed of the correction roller 11 is changed as necessary, so that the first The positional deviation in the substrate transport direction in one film substrate 15 is corrected. Thus, in the bonding step, the first film substrate 15 and the second film substrate 16 are bonded together while correcting the positional deviation of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16.

その後、貼り合わせ工程により形成された貼り合わせフィルム基板に対して、紫外線の照射や加熱処理を行うことにより、シール部材37を硬化させる。   Thereafter, the sealing member 37 is cured by performing ultraviolet irradiation or heat treatment on the bonded film substrate formed in the bonding step.

次に行う分断工程では、貼り合わせ工程により形成された貼り合わせフィルム基板を有効領域毎にカッター又はレーザーにより分断して複数の個別貼り合わせフィルム基板を形成する。その後、各個別貼り合わせフィルム基板の両面にそれぞれ偏光板34,36を積層する。以上のようにして、複数のローラー10を回転させて第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16をそれぞれ搬送しながら、これら第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16に連続して所定の処理を施して複数の液晶表示装置Sを製造する。   In the next dividing step, the bonded film substrate formed by the bonding step is divided by a cutter or a laser for each effective area to form a plurality of individually bonded film substrates. Thereafter, polarizing plates 34 and 36 are laminated on both surfaces of each individually bonded film substrate. As described above, while the plurality of rollers 10 are rotated to convey the first film substrate 15 and the second film substrate 16 respectively, predetermined processing is continuously performed on the first film substrate 15 and the second film substrate 16. A plurality of liquid crystal display devices S are manufactured.

−実施形態1の効果−
したがって、この実施形態1によると、第1露光部及び貼り合わせ部が修正ローラー11の外周面と第1フィルム基板15の表面との間の摩擦力を増大させる摩擦力増大手段をそれぞれ備えているため、修正ローラー11の回転軸を傾けるときに、第1フィルム基板15が修正ローラー11の外周面を滑ることを抑制できる。その結果、マスク18及び第2フィルム基板16のそれぞれに対する第1フィルム基板15の基板搬送方向に斜めの位置ずれを適切に修正することができる。
-Effect of Embodiment 1-
Therefore, according to the first embodiment, each of the first exposure unit and the bonding unit includes a friction force increasing unit that increases the frictional force between the outer peripheral surface of the correction roller 11 and the surface of the first film substrate 15. Therefore, when the rotation axis of the correction roller 11 is tilted, the first film substrate 15 can be prevented from sliding on the outer peripheral surface of the correction roller 11. As a result, it is possible to appropriately correct an oblique displacement in the substrate transport direction of the first film substrate 15 with respect to each of the mask 18 and the second film substrate 16.

さらに、第2露光部が第1露光部と同様の摩擦力増大手段を備えているため、マスクに対する第2フィルム基板16の基板搬送方向に斜めの位置ずれを適切に修正できる。   Furthermore, since the second exposure unit includes the same frictional force increasing means as that of the first exposure unit, it is possible to appropriately correct an oblique positional shift in the substrate transport direction of the second film substrate 16 with respect to the mask.

さらに、第1露光部及び貼り合わせ部では、修正ローラー11に第1フィルム基板15が巻き掛けられるため、回転軸を傾けることにより修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15の張力と修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の張力とに差を生じさせやすくなる。したがって、修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度と修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度とに差を生じさせることが容易にできる。   Furthermore, in the 1st exposure part and the bonding part, since the 1st film board | substrate 15 is wound around the correction roller 11, the tension | tensile_strength of the 1st film board | substrate 15 which contacts the one end side of the correction roller 11 by inclining a rotating shaft It becomes easy to make a difference between the tension of the first film substrate 15 contacting the other end side of the correction roller 11. Therefore, it is easy to make a difference between the conveyance speed of the first film substrate 15 that contacts the one end side of the correction roller 11 and the conveyance speed of the first film substrate 15 that contacts the other end side of the correction roller 11.

第2露光部においても、修正ローラー11に第2フィルム基板16が巻き掛けられるため、修正ローラー11の一端側に接触する第2フィルム基板16の搬送速度と修正ローラー11の他端側に接触する第2フィルム基板16の搬送速度とに差を生じさせることが容易にできる。   Also in the second exposure unit, since the second film substrate 16 is wound around the correction roller 11, the conveyance speed of the second film substrate 16 that contacts one end side of the correction roller 11 and the other end side of the correction roller 11 are contacted. It is easy to make a difference in the conveyance speed of the second film substrate 16.

また、第1露光部及び貼り合わせ部における修正機構が修正ローラー11と修正ローラー11の基板搬送方向下手側に並ぶローラー10とを同時に回転軸方向に移動させるようにそれぞれ構成されているため、マスク18及び第2フィルム基板16のそれぞれに対する第1フィルム基板15におけるローラー10の回転軸方向の位置ずれを修正することができる。   In addition, since the correction mechanism in the first exposure unit and the bonding unit is configured to simultaneously move the correction roller 11 and the roller 10 arranged on the lower side of the correction roller 11 in the substrate transport direction in the rotation axis direction, respectively, the mask The positional deviation in the rotation axis direction of the roller 10 in the first film substrate 15 with respect to each of the 18 and the second film substrate 16 can be corrected.

第2露光部においても、第1露光部と同様の修正機構を備えているため、第2フィルム基板16におけるローラー10の回転軸方向の位置ずれを修正することができる。   Since the second exposure unit also includes a correction mechanism similar to that of the first exposure unit, the positional deviation of the roller 10 in the rotation axis direction on the second film substrate 16 can be corrected.

また、素子基板領域形成工程の露光工程と貼り合わせ工程とのそれぞれに含まれる修正工程では、修正ローラー11の外周面と第1フィルム基板15の表面との間の摩擦力を増大させた状態で修正ローラー11の回転軸を傾けるため、第1フィルム基板15が修正ローラー11の外周面を滑ることを抑制できる。その結果、マスク18及び第2フィルム基板16のそれぞれに対する第1フィルム基板15の基板搬送方向に斜めの位置ずれを適切に修正できる。   Moreover, in the correction process included in each of the exposure process and the bonding process of the element substrate region forming process, the frictional force between the outer peripheral surface of the correction roller 11 and the surface of the first film substrate 15 is increased. Since the rotation axis of the correction roller 11 is tilted, the first film substrate 15 can be prevented from sliding on the outer peripheral surface of the correction roller 11. As a result, it is possible to appropriately correct an oblique displacement in the substrate transport direction of the first film substrate 15 with respect to each of the mask 18 and the second film substrate 16.

さらに、対向基板領域形成工程の露光工程に含まれる修正工程でも、修正ローラー11の外周面と第2フィルム基板16の表面との間の摩擦力を増大させた状態で修正ローラー11の回転軸を傾けるため、マスクに対する第2フィルム基板16の基板搬送方向に斜めの位置ずれを適切に修正できる。   Further, even in the correction process included in the exposure process of the counter substrate region forming process, the rotational axis of the correction roller 11 is adjusted with the frictional force between the outer peripheral surface of the correction roller 11 and the surface of the second film substrate 16 increased. Since it is tilted, it is possible to appropriately correct an oblique positional shift in the substrate transport direction of the second film substrate 16 with respect to the mask.

さらに、素子基板領域形成工程及び貼り合わせ工程における修正工程では、修正ローラー11に第1フィルム基板15が巻き掛けられているため、回転軸を傾けることにより修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15の張力と修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の張力とに差を生じさせやすくなる結果、修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度と修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の搬送速度とに差を生じさせることが容易にできる。   Furthermore, in the correction process in the element substrate region forming process and the bonding process, since the first film substrate 15 is wound around the correction roller 11, the first film is in contact with one end side of the correction roller 11 by tilting the rotation axis. As a result of easily causing a difference between the tension of the film substrate 15 and the tension of the first film substrate 15 that contacts the other end of the correction roller 11, the conveyance speed of the first film substrate 15 that contacts the one end of the correction roller 11. And the conveyance speed of the first film substrate 15 that contacts the other end of the correction roller 11 can be easily made different.

また、対向基板領域形成工程における修正工程においても、修正ローラー11に第2フィルム基板16が巻き掛けられているため、修正ローラー11の一端側に接触する第2フィルム基板16の搬送速度と修正ローラー11の他端側に接触する第2フィルム基板16の搬送速度とに差を生じさせることが容易にできる。   Further, also in the correction step in the counter substrate region forming step, the second film substrate 16 is wound around the correction roller 11, so that the conveyance speed of the second film substrate 16 that contacts one end side of the correction roller 11 and the correction roller It is easy to make a difference between the transport speed of the second film substrate 16 that contacts the other end of 11.

素子基板領域形成工程及び貼り合わせ工程の修正工程において、修正ローラー11と、修正ローラー11の基板搬送方向下手側に並ぶローラー10とを同時に回転軸方向に移動させるため、マスク18及び第2フィルム基板16のそれぞれに対する第1フィルム基板15におけるローラー10の回転軸方向の位置ずれを修正することができる。   In the correction process of the element substrate region formation process and the bonding process, the mask 18 and the second film substrate are used to simultaneously move the correction roller 11 and the roller 10 arranged on the lower side of the correction roller 11 in the substrate transport direction. The positional deviation in the rotation axis direction of the roller 10 in the first film substrate 15 with respect to each of the 16 can be corrected.

対向基板領域形成工程の修正工程においても、修正ローラー11と、修正ローラー11の基板搬送方向下手側に並ぶローラー10とを同時に回転軸方向に移動させるため、第2フィルム基板16におけるローラー10の回転軸方向の位置ずれを修正することができる。   Also in the correction process of the counter substrate region forming process, the rotation of the roller 10 in the second film substrate 16 is performed in order to simultaneously move the correction roller 11 and the roller 10 arranged on the lower side of the correction roller 11 in the substrate transport direction. Axial misalignment can be corrected.

さらに、第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16がそれぞれ液晶表示装置Sを構成するため、液晶表示装置Sを連続して製造することが可能になる結果、生産性を向上させることができる。   Furthermore, since the first film substrate 15 and the second film substrate 16 each constitute the liquid crystal display device S, the liquid crystal display device S can be manufactured continuously, and as a result, productivity can be improved.

《発明の実施形態2》
図8及び図9は、本発明の実施形態2を示している。尚、以降の各実施形態では、図1〜図7と同じ部分については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。図8は、本実施形態2の可撓性基板搬送装置の貼り合わせ部を概略的に示す側面図である。図9は、押圧ローラー40を修正ローラー11とは反対側から概略的に示す図である。
<< Embodiment 2 of the Invention >>
8 and 9 show Embodiment 2 of the present invention. In the following embodiments, the same portions as those in FIGS. 1 to 7 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. FIG. 8 is a side view schematically showing a bonding portion of the flexible substrate carrying device according to the second embodiment. FIG. 9 is a diagram schematically showing the pressing roller 40 from the side opposite to the correction roller 11.

上記実施形態1では、貼り合わせ部の摩擦力増大手段が静電チャック13を有しているとしたが、本実施形態2では、貼り合わせ部の摩擦力増大手段は、図8及び図9に示すように、修正ローラー11に第1フィルム基板15を介して対向して配置され、第1フィルム基板15を修正ローラー11に押圧する押圧ローラー40を有している。   In Embodiment 1 described above, the frictional force increasing means of the bonding portion has the electrostatic chuck 13, but in Embodiment 2, the frictional force increasing means of the bonding portion is shown in FIGS. 8 and 9. As shown, the correction roller 11 is disposed so as to face the first film substrate 15 and has a pressing roller 40 that presses the first film substrate 15 against the correction roller 11.

上記押圧ローラー40は、修正ローラー11の回転軸方向の両端部に対向する位置にそれぞれ設けられた一対のホイール41が軸部材42により同一の回転軸を有するように接続されて一体に形成されている。また、押圧ローラー40は、外周面が樹脂により構成されている。この押圧ローラー40は、修正機構により修正ローラー11を傾けるときに、第1フィルム基板15を修正ローラー11に押圧しながら、修正ローラー11に連動して修正ローラー11を傾ける方向と同じ方向に傾くようになっている。   The pressing roller 40 is integrally formed by connecting a pair of wheels 41 provided at positions opposite to both ends of the correction roller 11 in the rotation axis direction so as to have the same rotation axis by a shaft member 42. Yes. Moreover, as for the press roller 40, the outer peripheral surface is comprised with resin. When the correction roller 11 is tilted by the correction mechanism, the pressing roller 40 is inclined in the same direction as the direction in which the correction roller 11 is tilted in conjunction with the correction roller 11 while pressing the first film substrate 15 against the correction roller 11. It has become.

すなわち、貼り合わせ工程における修正工程では、少なくとも修正機構により修正ローラー11を傾けるときに、押圧ローラー40により、第1フィルム基板15を修正ローラー11に押圧する。そのことにより、修正ローラー11の外周面と第1フィルム基板15の表面との間の摩擦力を増大させる。そうして、押圧ローラー40により第1フィルム基板15を修正ローラー11に押圧しながら、修正ローラー11に連動して押圧ローラー40の回転軸を修正ローラー11の回転軸を傾ける方向と同じ方向に傾けることによって、第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の基板搬送方向に斜めの位置ずれを修正する。   That is, in the correction process in the bonding process, at least when the correction roller 11 is tilted by the correction mechanism, the first film substrate 15 is pressed against the correction roller 11 by the pressing roller 40. Thereby, the frictional force between the outer peripheral surface of the correction roller 11 and the surface of the first film substrate 15 is increased. Then, while pressing the first film substrate 15 against the correction roller 11 by the pressing roller 40, the rotation axis of the pressing roller 40 is tilted in the same direction as the direction of tilting the rotation axis of the correction roller 11 in conjunction with the correction roller 11. Accordingly, the oblique displacement in the substrate transport direction of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16 is corrected.

−実施形態2の効果−
したがって、この実施形態2の摩擦力増大手段によっても、修正ローラー11の外周面と第1フィルム基板15の表面との間の摩擦力を増大させることができるため、上記実施形態1と同様の効果を得ることができる。
-Effect of Embodiment 2-
Therefore, since the frictional force increasing means of the second embodiment can also increase the frictional force between the outer peripheral surface of the correction roller 11 and the surface of the first film substrate 15, the same effect as in the first embodiment. Can be obtained.

さらに、押圧ローラー40の外周面が樹脂により構成されているため、押圧ローラー40の外周面と第1フィルム基板15の表面との間の摩擦力を増大させることができる。その結果、押圧ローラー40の回転軸を傾けるときに、第1フィルム基板15が押圧ローラー40の外周面を滑ることを抑制できる。   Furthermore, since the outer peripheral surface of the pressing roller 40 is made of resin, the frictional force between the outer peripheral surface of the pressing roller 40 and the surface of the first film substrate 15 can be increased. As a result, when the rotation axis of the pressing roller 40 is tilted, the first film substrate 15 can be prevented from sliding on the outer peripheral surface of the pressing roller 40.

《発明の実施形態3》
図10〜図12は、本発明の実施形態3を示している。図10は、修正ローラー11を回転軸方向から概略的に示す図である。図11及び図12は、修正ローラー11の凸部が貫通孔45に噛合した状態の第1フィルム基板15を示す図である。
<< Embodiment 3 of the Invention >>
10 to 12 show Embodiment 3 of the present invention. FIG. 10 is a diagram schematically illustrating the correction roller 11 from the direction of the rotation axis. 11 and 12 are views showing the first film substrate 15 in a state where the convex portion of the correction roller 11 is engaged with the through hole 45.

上記実施形態1では、摩擦力増大手段が静電チャックを有しているとした。また、上記実施形態2では、摩擦力増大手段が押圧ローラー40を有しているとしたが、本実施形態3では、図10〜図12に示すように、摩擦力増大手段は、修正ローラー11の外周面に突出して形成された複数の凸部44と、第1フィルム基板15に形成されて上記複数の凸部44にそれぞれ噛合する複数の貫通孔45とにより構成されている。   In the first embodiment, the frictional force increasing means has the electrostatic chuck. In the second embodiment, the frictional force increasing unit includes the pressing roller 40. However, in the third exemplary embodiment, as illustrated in FIGS. And a plurality of through-holes 45 formed on the first film substrate 15 and meshing with the plurality of convex portions 44, respectively.

上記複数の凸部44は、修正ローラー11の回転軸方向の両端部における外周面に形成されている。上記複数の貫通孔45は、第1フィルム基板15の幅方向の両端部に形成されている。そうして、可撓性基板搬送装置は、第1フィルム基板15を搬送したときに修正ローラー11に設けられた複数の凸部44がそれぞれ貫通孔45に噛合するようになっている。   The plurality of convex portions 44 are formed on the outer peripheral surface at both ends of the correction roller 11 in the rotation axis direction. The plurality of through holes 45 are formed at both ends in the width direction of the first film substrate 15. Thus, in the flexible substrate transport device, when the first film substrate 15 is transported, the plurality of convex portions 44 provided on the correction roller 11 are respectively engaged with the through holes 45.

すなわち、修正工程では、修正ローラー11の外周面に形成された複数の凸部44を、第1フィルム基板15に形成された複数の貫通孔45にそれぞれ噛合させる。そのことにより、修正ローラー11の外周面と第1フィルム基板15の表面との間の摩擦力を増大させる。そうして、修正ローラー11の凸部44を第1フィルム基板15の貫通孔45に噛合させた状態で、修正機構により修正ローラー11の回転軸を傾けることによって、第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の基板搬送方向に斜めの位置ずれを修正する。   That is, in the correction process, the plurality of convex portions 44 formed on the outer peripheral surface of the correction roller 11 are respectively meshed with the plurality of through holes 45 formed in the first film substrate 15. Thereby, the frictional force between the outer peripheral surface of the correction roller 11 and the surface of the first film substrate 15 is increased. Then, in a state where the convex portion 44 of the correction roller 11 is engaged with the through hole 45 of the first film substrate 15, the first rotation with respect to the second film substrate 16 is performed by tilting the rotation axis of the correction roller 11 by the correction mechanism. The positional deviation oblique to the substrate transport direction of the film substrate 15 is corrected.

−実施形態3の効果−
したがって、この実施形態3の摩擦力増大手段によっても、修正ローラー11の外周面と第1フィルム基板15の表面との間の摩擦力を増大させることができる結果、上記実施形態1と同様の効果を得ることができる。
-Effect of Embodiment 3-
Therefore, the frictional force increasing means of the third embodiment can increase the frictional force between the outer peripheral surface of the correction roller 11 and the surface of the first film substrate 15. As a result, the same effect as in the first embodiment can be obtained. Can be obtained.

《発明の実施形態4》
図13及び図14は、本発明の実施形態4を示している。図13は、本実施形態4の貼り合わせ部における検出部を概略的に示す断面図である。図14は、本実施形態4のアライメントマーク28,29を貼り合わせフィルム基板の第2フィルム基板16側から示す図である。
<< Embodiment 4 of the Invention >>
13 and 14 show Embodiment 4 of the present invention. FIG. 13 is a cross-sectional view schematically showing a detection unit in the bonding unit of the fourth embodiment. FIG. 14 is a view showing the alignment marks 28 and 29 of the fourth embodiment from the second film substrate 16 side of the bonded film substrate.

上記実施形態1では、貼り合わせ部における検出部は、撮像手段23を備え、その撮像手段23により第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16にそれぞれ形成されたアライメントマーク28,29の位置を検出するとしたが、本実施形態4では、図13に示すように、貼り合わせ部における検出部は、第1フィルム基板15と第2フィルム基板16とが貼り合わせられて形成された貼り合わせフィルム基板にレーザー光を出射する出射部50と、第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16を透過したレーザー光を受光する受光部51とを備え、受光部51で受光されたレーザー光に基づいて第1フィルム基板15の位置ずれを検出する。   In the first embodiment, the detection unit in the bonding unit includes the imaging unit 23, and the imaging unit 23 detects the positions of the alignment marks 28 and 29 formed on the first film substrate 15 and the second film substrate 16, respectively. However, in the fourth embodiment, as shown in FIG. 13, the detection unit in the bonding unit is a bonded film substrate formed by bonding the first film substrate 15 and the second film substrate 16. An emission unit 50 that emits laser light and a light receiving unit 51 that receives laser light that has passed through the first film substrate 15 and the second film substrate 16 are provided, and the first is based on the laser light received by the light receiving unit 51. The positional deviation of the film substrate 15 is detected.

出射部50と受光部51とは、貼り合わせフィルム基板を介して貼り合わせフィルム基板の表面に垂直な方向に対向して配置されている。ここで、図13の52は、レーザー光の進行方向を示している。アライメントマーク28,29は、図14に示すように、例えば第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16の有効領域の四隅に形成された貫通孔等である。   The light emission part 50 and the light-receiving part 51 are arrange | positioned facing the direction perpendicular | vertical to the surface of a bonding film board | substrate through a bonding film board | substrate. Here, 52 in FIG. 13 indicates the traveling direction of the laser beam. As shown in FIG. 14, the alignment marks 28 and 29 are, for example, through holes formed at the four corners of the effective area of the first film substrate 15 and the second film substrate 16.

本実施形態4の貼り合わせ工程における検出工程では、出射部50から第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16に出射されて第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16を透過したレーザー光を受光部51で受光する。そうして、受光部51で受光したレーザー光に基づいて第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の位置ずれを検出する。   In the detection process in the bonding process of the fourth embodiment, the laser beam emitted from the emission unit 50 to the first film substrate 15 and the second film substrate 16 and transmitted through the first film substrate 15 and the second film substrate 16 is received. The unit 51 receives the light. Then, based on the laser light received by the light receiving unit 51, the positional deviation of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16 is detected.

第2フィルム基板16に対して第1フィルム基板15が位置ずれしていない場合には、第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16にそれぞれ形成されたアライメントマーク28,29が出射部50と受光部51とが対向する方向に重なって貼り合わせフィルム基板に貫通孔が形成されているため、貼り合わせフィルム基板におけるアライメントマーク28,29が設けられた領域ではレーザー光が第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16に吸収及び反射されることなく透過して受光部51で受光される。したがって、この場合には、強度が比較的高いレーザー光が受光部で受光される。   When the first film substrate 15 is not displaced with respect to the second film substrate 16, the alignment marks 28 and 29 formed respectively on the first film substrate 15 and the second film substrate 16 receive light from the emitting portion 50. Since the through-hole is formed in the bonded film substrate so as to overlap with the portion 51 facing the laser beam, the laser beam is emitted from the first film substrate 15 and the first film region in the region where the alignment marks 28 and 29 are provided in the bonded film substrate. 2 The light is received by the light receiving portion 51 without being absorbed and reflected by the film substrate 16. Therefore, in this case, laser light having a relatively high intensity is received by the light receiving unit.

一方、第2フィルム基板16に対して第1フィルム基板15が位置ずれしている場合には、第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16にそれぞれ形成されたアライメントマーク28,29が出射部50と受光部51とが対向する方向に重ならないため、貼り合わせフィルム基板のアライメントマーク28,29が形成された領域においてもレーザー光は第1フィルム基板15又は第2フィルム基板16に吸収及び反射されて減衰する。したがって、この場合には、強度が比較的低いレーザー光が受光部51で受光される。このように受光部51で受光されるレーザー光に基づいて、第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の位置ずれを検出する。   On the other hand, when the first film substrate 15 is displaced with respect to the second film substrate 16, the alignment marks 28 and 29 respectively formed on the first film substrate 15 and the second film substrate 16 are emitted from the emission unit 50. And the light receiving portion 51 do not overlap in the facing direction, the laser light is absorbed and reflected by the first film substrate 15 or the second film substrate 16 even in the region where the alignment marks 28 and 29 of the bonded film substrate are formed. It attenuates. Therefore, in this case, laser light having a relatively low intensity is received by the light receiving unit 51. As described above, based on the laser light received by the light receiving unit 51, the displacement of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16 is detected.

−実施形態4の効果−
したがって、この実施形態4によっても、第1フィルム基板15対向して配置される第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の位置ずれを検出することができるため、上記実施形態1と同様の効果を得ることができる。
-Effect of Embodiment 4-
Therefore, also in the fourth embodiment, since the positional deviation of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16 disposed to face the first film substrate 15 can be detected, the same effect as in the first embodiment. Can be obtained.

《その他の実施形態》
上記実施形態2では、貼り合わせ部の摩擦増大手段が押圧ローラー40を有しているとした。また、上記実施形態3では、貼り合わせ部の摩擦増大手段が修正ローラー11に形成された複数の凸部44と、第1フィルム基板15に形成された複数の貫通孔45により構成されているとしたが、本発明はこれに限られず、第1露光部及び第2露光部における摩擦増大手段が、上記押圧ローラー40を有していてもよく、また、修正ローラー11に形成された複数の凸部44と第1フィルム基板15に形成された貫通孔45により構成されていてもよい。
<< Other Embodiments >>
In the second embodiment, it is assumed that the friction increasing means of the bonded portion has the pressing roller 40. Further, in Embodiment 3 described above, the friction increasing means of the bonded portion is constituted by a plurality of convex portions 44 formed on the correction roller 11 and a plurality of through holes 45 formed on the first film substrate 15. However, the present invention is not limited to this, and the friction increasing means in the first exposure unit and the second exposure unit may include the pressing roller 40, and a plurality of protrusions formed on the correction roller 11. The part 44 and the through-hole 45 formed in the first film substrate 15 may be included.

上記実施形態1では、第1露光部の修正機構は、修正ローラー11の基点と反対側となる先端を第1フィルム基板15の搬送方向24上手側に移動させるように構成されているとしたが、本発明はこれに限られず、第1露光部の修正機構は、図15(a)及び(b)に示すように、修正ローラー11の一端又は他端を基点として修正ローラー11の回転軸を傾け、修正ローラー11の基点と反対側となる先端を第1フィルム基板15側に移動させて、2点鎖線で示す修正ローラー11の位置60,61に配置させるように構成されていてもよい。   In Embodiment 1 described above, the correction mechanism of the first exposure unit is configured to move the tip opposite to the base point of the correction roller 11 to the upper side in the transport direction 24 of the first film substrate 15. The present invention is not limited to this, and the correction mechanism of the first exposure unit uses the rotation axis of the correction roller 11 based on one end or the other end of the correction roller 11 as shown in FIGS. 15 (a) and 15 (b). It may be configured to tilt and move the tip opposite to the base point of the correction roller 11 to the first film substrate 15 side and arrange it at the positions 60 and 61 of the correction roller 11 indicated by a two-dot chain line.

この構成によっても、修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15の張力と修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の張力とに差を生じさせることが可能であるため、上記実施形態1と同様の効果を得ることができる。   Also with this configuration, it is possible to make a difference between the tension of the first film substrate 15 that contacts one end of the correction roller 11 and the tension of the first film substrate 15 that contacts the other end of the correction roller 11. Therefore, the same effect as in the first embodiment can be obtained.

さらに、修正ローラー11は、外径が可変のエキスパンダロールであってもよい。エキスパンダロールは、図16に示すように、例えば、修正ローラー11の軸部分が比較的高い弾性率を有する部材により構成され、修正ローラー11内部の空気圧を増加させてその外径を大きくすることによって、修正ローラー11を、2点鎖線で示す中央に向かって外径がなだらかに大きくなる形状62にすることが可能になっている。したがって、修正ローラー11がエキスパンダロールである場合には、第1フィルム基板15の幅方向の全体が修正ローラー11に支持された状態を維持しながら、修正ローラー11の基点と反対側となる先端を第1フィルム基板15側に移動させることができる。   Furthermore, the correction roller 11 may be an expander roll having a variable outer diameter. As shown in FIG. 16, for example, the expander roll is configured by a member having a relatively high elastic modulus in the shaft portion of the correction roller 11, and increases the air pressure inside the correction roller 11 to increase its outer diameter. Thus, the correcting roller 11 can be formed into a shape 62 whose outer diameter gradually increases toward the center indicated by the two-dot chain line. Therefore, when the correction roller 11 is an expander roll, while maintaining the state where the entire width direction of the first film substrate 15 is supported by the correction roller 11, the tip that is opposite to the base point of the correction roller 11. Can be moved to the first film substrate 15 side.

上記実施形態1では、第1露光部が1つの修正ローラー11の回転軸を、通常搬送時の軸方向に対して傾けることによって、第1フィルム基板15の位置ずれを修正する修正機構を備えているとしたが、本発明はこれに限られず、第1露光部は、複数の修正ローラー11の回転軸を、それぞれ通常搬送時の軸方向に対して傾けることによって、各修正ローラー11の一端側に接触する第1フィルム基板15の張力と修正ローラー11の他端側に接触する第1フィルム基板15の張力とに差を生じさせて、第1フィルム基板15の位置ずれを修正する修正機構を備えていてもよく、少なくとも1つの修正ローラー11の回転軸を、通常搬送時の軸方向に対して傾けることによって、第1フィルム基板15の位置ずれを修正する修正機構を備えていればよい。   In the first embodiment, the first exposure unit includes a correction mechanism that corrects the positional deviation of the first film substrate 15 by tilting the rotation axis of one correction roller 11 with respect to the axial direction during normal conveyance. However, the present invention is not limited to this, and the first exposure unit tilts the rotation shafts of the plurality of correction rollers 11 with respect to the axial direction at the time of normal conveyance, thereby one end side of each correction roller 11. A correction mechanism that corrects the positional deviation of the first film substrate 15 by causing a difference between the tension of the first film substrate 15 in contact with the tension and the tension of the first film substrate 15 in contact with the other end of the correction roller 11. A correction mechanism that corrects the positional deviation of the first film substrate 15 by tilting the rotation axis of at least one correction roller 11 with respect to the axial direction during normal conveyance may be provided. It may be Re.

また、第2露光部及び貼り合わせ部についても、第1露光部と同様に、少なくとも1つの修正ローラー11の回転軸を、通常搬送時の軸方向に対して傾けることによって、第1フィルム基板15又は第2フィルム基板16の位置ずれを修正する修正機構を備えていればよい。   As for the second exposure unit and the bonding unit, similarly to the first exposure unit, the first film substrate 15 is inclined by tilting the rotation axis of at least one correction roller 11 with respect to the axial direction during normal conveyance. Or what is necessary is just to provide the correction mechanism which corrects the position shift of the 2nd film board | substrate 16. FIG.

上記実施形態2では、アライメントマーク28,29が第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16の有効領域の四隅に形成された貫通孔であるとしたが、本発明はこれに限られず、アライメントマーク28,29は、例えばITO又はIZO等からなるデポ膜であってもよい。アライメントマーク28,29がデポ膜であると、第2フィルム基板16に対して第1フィルム基板15が位置ずれしていない場合には、アライメントマーク28,29がレーザー光の出射方向に重なっていることにより、レーザー光がデポ膜に一部吸収されるため、受光部51で受光されるレーザー光の強度が比較的低くなる。   In the second embodiment, the alignment marks 28 and 29 are the through holes formed at the four corners of the effective area of the first film substrate 15 and the second film substrate 16, but the present invention is not limited to this, and the alignment mark 28 and 29 may be deposited films made of, for example, ITO or IZO. If the alignment marks 28 and 29 are deposition films, the alignment marks 28 and 29 are overlapped in the laser beam emission direction when the first film substrate 15 is not displaced with respect to the second film substrate 16. As a result, the laser beam is partially absorbed by the deposition film, so that the intensity of the laser beam received by the light receiving unit 51 is relatively low.

一方、第2フィルム基板16に対して第1フィルム基板15が位置ずれしている場合には、アライメントマーク28,29がレーザーの出射方向に重なっていないことにより、デポ膜に吸収されるレーザー光が減少するため、受光部51で受光されるレーザー光の強度が比較的高くなる。したがって、アライメントマーク28,29が、デポ膜であっても、受光部51で受光されたレーザー光に基づいて第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の位置ずれを検出することが可能である。   On the other hand, when the first film substrate 15 is displaced with respect to the second film substrate 16, the alignment marks 28 and 29 do not overlap with the laser emission direction, so that the laser light absorbed by the deposition film. Therefore, the intensity of the laser beam received by the light receiving unit 51 becomes relatively high. Therefore, even if the alignment marks 28 and 29 are deposition films, it is possible to detect the displacement of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16 based on the laser light received by the light receiving unit 51. .

また、アライメントマーク28,29はレーザー光を反射する膜(Al膜等)で構成されていてもよく、第1露光部及び貼り合わせ部における検出部は、受光部が第1フィルム基板15で反射したレーザー光を受光することにより、受光部で受光されたレーザー光に基づいて第1フィルム基板15の位置ずれを検出するように構成されていてもよく、第2露光部における検出部も同様に構成されていてもよい。   In addition, the alignment marks 28 and 29 may be formed of a film (Al film or the like) that reflects laser light, and the light-receiving part is reflected by the first film substrate 15 as the detection part in the first exposure part and the bonding part. By receiving the laser beam that has been received, the positional deviation of the first film substrate 15 may be detected based on the laser beam received by the light receiving unit, and the detection unit in the second exposure unit is similarly configured. It may be configured.

上記実施形態1では、貼り合わせ部の修正機構が第2フィルム基板16に対する第1フィルム基板15の位置ずれを修正するように構成されているとしたが、本発明はこれに限られず、貼り合わせ部の修正機構は、第2フィルム基板16を搬送する一対のローラー10における基板搬送方向25と反対側のローラー10を修正ローラー11として、その修正ローラー11の回転軸を通常搬送時の軸方向に対して傾けることによって、第2フィルム基板16の対向物である第1フィルム基板15に対する第2フィルム基板16の位置ずれを修正するように構成されていてもよい。   In Embodiment 1 described above, the correction mechanism of the bonding unit is configured to correct the positional deviation of the first film substrate 15 with respect to the second film substrate 16, but the present invention is not limited to this, and bonding is performed. The correction mechanism of the part uses the roller 10 on the opposite side to the substrate transport direction 25 in the pair of rollers 10 that transports the second film substrate 16 as the correction roller 11, and the rotation axis of the correction roller 11 in the axial direction during normal transport By tilting with respect to the second film substrate 16, the positional deviation of the second film substrate 16 with respect to the first film substrate 15, which is the opposite object of the second film substrate 16, may be corrected.

また、貼り合わせ部の修正機構は、第1フィルム基板15を搬送する一対のローラー10における基板搬送方向24と反対側のローラー10と、第2フィルム基板16を搬送する一対のローラー10における基板搬送方向25と反対側のローラー10とをそれぞれ修正ローラー11として、それら修正ローラー11の回転軸をそれぞれ通常搬送時の軸方向に対して傾けることによって、第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16のそれぞれが互いに対する位置ずれを修正するように構成されていてもよい。   Further, the correction mechanism of the bonding unit is such that the substrate 10 is transported in the pair of rollers 10 that transports the second film substrate 16 and the roller 10 on the side opposite to the substrate transport direction 24 in the pair of rollers 10 that transports the first film substrate 15. The roller 10 on the opposite side to the direction 25 is used as the correction roller 11, and the rotation axes of the correction rollers 11 are inclined with respect to the axial direction at the time of normal conveyance, thereby the first film substrate 15 and the second film substrate 16. Each may be configured to correct misalignment relative to each other.

上記実施形態1では、第1フィルム基板15と第2フィルム基板16とを貼り合わせる前にシール部材37の内側に液晶材料を滴下する、いわゆる滴下注入法により液晶層32を形成するとしたが、本発明はこれに限られず、第1フィルム基板15と第2フィルム基板16とを貼り合わせた後にシール部材37に設けられた注入口から液晶材料を注入する真空注入法により液晶層32を形成してもよい。   In the first embodiment, the liquid crystal layer 32 is formed by a so-called dropping injection method in which a liquid crystal material is dropped inside the seal member 37 before the first film substrate 15 and the second film substrate 16 are bonded. The invention is not limited to this, and the liquid crystal layer 32 is formed by a vacuum injection method in which a liquid crystal material is injected from an injection port provided in the seal member 37 after the first film substrate 15 and the second film substrate 16 are bonded together. Also good.

上記実施形態1では、第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16は、液晶表示装置Sを構成するとして説明したが、本発明はこれに限られず、第1フィルム基板15及び第2フィルム基板16は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の他の表示装置を構成してもよい。   In the first embodiment, the first film substrate 15 and the second film substrate 16 are described as constituting the liquid crystal display device S. However, the present invention is not limited to this, and the first film substrate 15 and the second film substrate 16 are included. May constitute another display device such as an organic electroluminescence display device.

以上説明したように、本発明は、可撓性基板搬送装置及び可撓性基板の搬送方法について有用であり、特に、対向物に対する可撓性基板の基板搬送方向に斜めの位置ずれを適切に修正する場合に適している。   As described above, the present invention is useful for a flexible substrate transport apparatus and a flexible substrate transport method, and in particular, it is possible to appropriately correct an oblique positional shift in the substrate transport direction of the flexible substrate with respect to the opposite object. Suitable for correcting.

実施形態1の第1フィルム基板搬送状態の可撓性基板搬送装置における露光部を概略的に示す側面図である。It is a side view which shows roughly the exposure part in the flexible substrate conveying apparatus of the 1st film substrate conveyance state of Embodiment 1. FIG. 実施形態1の第1フィルム基板搬送状態の可撓性基板搬送装置における露光部を反射ミラー側から示す図である。It is a figure which shows the exposure part in the flexible substrate conveyance apparatus of the 1st film substrate conveyance state of Embodiment 1 from the reflective mirror side. 実施形態1の第1フィルム基板及び第2フィルム基板搬送状態の可撓性基板搬送装置における貼り合わせ部を概略的に示す側面図である。It is a side view which shows schematically the bonding part in the flexible substrate conveying apparatus of the 1st film substrate of Embodiment 1, and a 2nd film substrate conveyance state. 修正機構により回転軸を傾けた状態の修正ローラーを第1フィルム基板表面の法線方向から示す図である。It is a figure which shows the correction roller of the state which inclined the rotating shaft by the correction mechanism from the normal line direction of the 1st film substrate surface. 貼り合わせ部における検出部を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematically the detection part in a bonding part. 第2フィルム基板に対して第1フィルム基板が基板搬送方向に斜めに位置ずれした状態を示す図である。It is a figure which shows the state which the 1st film board | substrate shifted diagonally in the board | substrate conveyance direction with respect to the 2nd film board | substrate. 液晶表示装置を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows a liquid crystal display device roughly. 実施形態2の第1フィルム基板及び第2フィルム基板搬送状態の可撓性基板搬送装置における貼り合わせ部を概略的に示す側面図である。It is a side view which shows roughly the bonding part in the 1st film substrate of Embodiment 2, and the flexible substrate conveyance apparatus of a 2nd film substrate conveyance state. 押圧ローラーを修正ローラーとは反対側から概略的に示す図である。It is a figure which shows a press roller schematically from the opposite side to a correction roller. 実施形態3の修正ローラーを回転軸方向から概略的に示す図である。It is a figure which shows roughly the correction roller of Embodiment 3 from the rotating shaft direction. 修正ローラーの凸部が貫通孔に噛合した状態の第1フィルム基板を上面から示す図である。It is a figure which shows the 1st film board | substrate of the state which the convex part of the correction roller meshed with the through-hole from the upper surface. 修正ローラーの凸部が貫通孔に噛合した状態の第1フィルム基板を修正ローラーの回転軸方向から示す図である。It is a figure which shows the 1st film substrate of the state which the convex part of the correction roller meshed with the through-hole from the rotating shaft direction of a correction roller. 実施形態4の貼り合わせ部における検出部を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows roughly the detection part in the bonding part of Embodiment 4. 実施形態4の第1フィルム基板及び第2フィルム基板に形成されたアライメントマークを貼り合わせフィルム基板表面の第2フィルム基板側から示す図である。It is a figure which shows the alignment mark formed in the 1st film substrate of Embodiment 4, and the 2nd film substrate from the 2nd film substrate side of a bonding film substrate surface. その他の実施形態における回転軸を傾けた状態の修正ローラーを基板搬送方向上手側から示す図である。It is a figure which shows the correction roller of the state which inclined the rotating shaft in other embodiment from the board | substrate conveyance direction upper side. エキスパンダロールを概略的に示す図である。It is a figure which shows an expander roll schematically.

符号の説明Explanation of symbols

S 液晶表示装置
10 ローラー
11 修正ローラー(ローラー)
13 静電チャック
15 第1フィルム基板(可撓性基板)
16 第2フィルム基板(可撓性基板)
23 撮像手段
24 第1フィルム基板の搬送方向
25 第2フィルム基板の搬送方向
28 第1フィルム基板のアライメントマーク
29 第2フィルム基板のアライメントマーク
40 押圧ローラー
44 凸部
45 貫通孔
50 出射部
51 受光部
S Liquid crystal display device 10 Roller 11 Correction roller (roller)
13 Electrostatic chuck 15 First film substrate (flexible substrate)
16 Second film substrate (flexible substrate)
23 Imaging means 24 First film substrate transport direction 25 Second film substrate transport direction 28 First film substrate alignment mark 29 Second film substrate alignment mark 40 Press roller 44 Protruding portion 45 Through hole 50 Emitting portion 51 Light receiving portion

Claims (25)

軸方向が互いに平行である複数のローラーを備え、上記複数のローラーが回転することにより可撓性基板を搬送するように構成された可撓性基板搬送装置であって、
上記可撓性基板に対向して配置された対向物に対する上記可撓性基板の位置ずれを検出する検出部と、
上記検出部によって上記可撓性基板の位置ずれが検出された場合に、少なくとも1つの上記ローラーである修正ローラーの回転軸を、通常搬送時の軸方向に対して傾けることによって、上記可撓性基板の位置ずれを修正する修正機構と、
上記修正ローラーの外周面と上記可撓性基板の表面との間の摩擦力を増大させる摩擦力増大手段とを備える
ことを特徴とする可撓性基板搬送装置。
A flexible substrate transport apparatus comprising a plurality of rollers whose axial directions are parallel to each other and configured to transport a flexible substrate by rotating the plurality of rollers,
A detection unit for detecting a positional shift of the flexible substrate with respect to an opposing object disposed to face the flexible substrate;
When the displacement of the flexible substrate is detected by the detection unit, the flexible shaft is tilted with respect to the axial direction during normal conveyance by tilting the rotation shaft of the correction roller, which is at least one of the rollers. A correction mechanism for correcting the positional deviation of the substrate;
A flexible substrate transport apparatus comprising: friction force increasing means for increasing a friction force between the outer peripheral surface of the correction roller and the surface of the flexible substrate.
請求項1において、
上記摩擦力増大手段は、上記修正ローラーに設けられた静電チャックを有している
ことを特徴とする可撓性基板搬送装置。
In claim 1,
The flexible substrate transfer apparatus, wherein the frictional force increasing means includes an electrostatic chuck provided on the correction roller.
請求項1において、
上記摩擦力増大手段は、上記修正ローラーに上記可撓性基板を介して対向して配置され、上記可撓性基板を上記修正ローラーに押圧しながら、上記修正ローラーに連動して上記修正ローラーの回転軸が傾く方向と同じ方向に回転軸が傾く押圧ローラーを有している
ことを特徴とする可撓性基板搬送装置。
In claim 1,
The frictional force increasing means is disposed to face the correction roller via the flexible substrate, and presses the flexible substrate against the correction roller while interlocking with the correction roller. A flexible substrate transport apparatus comprising a pressing roller whose rotation axis is inclined in the same direction as the rotation axis is inclined.
請求項1において、
上記摩擦力増大手段は、上記修正ローラーの回転軸方向の少なくとも一方の端部における外周面に突出して形成された複数の凸部と、上記可撓性基板の幅方向の少なくとも一方の端部に形成されて上記複数の凸部にそれぞれ噛合する複数の貫通孔とにより構成されている
ことを特徴とする可撓性基板搬送装置。
In claim 1,
The frictional force increasing means includes a plurality of protrusions formed on the outer peripheral surface of at least one end of the correction roller in the rotation axis direction, and at least one end of the flexible substrate in the width direction. A flexible substrate transport apparatus comprising: a plurality of through holes formed and meshed with the plurality of convex portions, respectively.
請求項3において、
上記押圧ローラーは、外周面が樹脂により構成されている
ことを特徴とする可撓性基板搬送装置。
In claim 3,
The said press roller is a flexible substrate conveying apparatus characterized by the outer peripheral surface being comprised with resin.
請求項1において、
上記修正ローラーには、上記可撓性基板が巻き掛けられる
ことを特徴とする可撓性基板搬送装置。
In claim 1,
The flexible substrate transport apparatus, wherein the flexible substrate is wound around the correction roller.
請求項1において、
上記修正機構は、上記修正ローラーの一端又は他端を基点として、上記修正ローラーの回転軸を傾けるように構成されている
ことを特徴とする可撓性基板搬送装置。
In claim 1,
The flexible substrate transport apparatus, wherein the correction mechanism is configured to tilt a rotation axis of the correction roller with one end or the other end of the correction roller as a base point.
請求項7において、
上記修正機構は、上記修正ローラーの基点と反対側となる先端を上記可撓性基板の搬送方向上手側に移動させるように構成されている
ことを特徴とする可撓性基板搬送装置。
In claim 7,
The flexible substrate transport apparatus, wherein the correction mechanism is configured to move a tip opposite to a base point of the correction roller to the upper side in the transport direction of the flexible substrate.
請求項7において、
上記修正機構は、上記修正ローラーの基点と反対側となる先端を上記可撓性基板側に移動させるように構成されている
ことを特徴とする可撓性基板搬送装置。
In claim 7,
The flexible substrate transport apparatus, wherein the correction mechanism is configured to move a tip opposite to a base point of the correction roller to the flexible substrate side.
請求項1において、
上記修正機構は、上記修正ローラーと、上記修正ローラーにおける上記可撓性基板の搬送方向下手側に並ぶ上記ローラーとを同時に回転軸方向に移動させるように構成されている
ことを特徴とする可撓性基板搬送装置。
In claim 1,
The said correction mechanism is comprised so that the said correction roller and the said roller located in the conveyance direction lower side of the said flexible substrate in the said correction roller may be simultaneously moved to a rotating shaft direction, It is characterized by the above-mentioned. Substrate transfer device.
請求項1において、
上記検出部は、上記可撓性基板に対向して配置された撮像手段を備え、上記撮像手段により上記可撓性基板に形成されたアライメントマークの位置を検出する
ことを特徴とする可撓性基板搬送装置。
In claim 1,
The detection unit includes an imaging unit arranged to face the flexible substrate, and detects a position of an alignment mark formed on the flexible substrate by the imaging unit. Substrate transfer device.
請求項1において、
上記検出部は、上記可撓性基板にレーザー光を出射する出射部と、上記可撓性基板で反射又は透過した上記レーザー光を受光する受光部とを備え、上記受光部で受光された上記レーザー光に基づいて上記可撓性基板の位置ずれを検出する
ことを特徴とする可撓性基板搬送装置。
In claim 1,
The detection unit includes an emitting unit that emits laser light to the flexible substrate, and a light receiving unit that receives the laser light reflected or transmitted by the flexible substrate, and the light receiving unit receives the laser light. A flexible substrate transport apparatus that detects a displacement of the flexible substrate based on a laser beam.
軸方向が互いに平行である複数のローラーを回転させて可撓性基板を搬送する方法であって、
上記可撓性基板に対向して配置された対向物に対する上記可撓性基板の位置ずれを検出する検出工程と、
上記検出工程で上記可撓性基板の位置ずれが検出された場合に、少なくとも1つの上記ローラーである修正ローラーの回転軸を、通常搬送時の軸方向に対して傾けることによって、上記可撓性基板の位置ずれを修正する修正工程とを有し、
上記修正工程では、上記修正ローラーの外周面と上記可撓性基板の表面との間の摩擦力を増大させた状態で上記修正ローラーの回転軸を傾ける
ことを特徴とする可撓性基板の搬送方法。
A method of conveying a flexible substrate by rotating a plurality of rollers whose axial directions are parallel to each other,
A detection step of detecting a positional shift of the flexible substrate with respect to an opposing object disposed to face the flexible substrate;
When the displacement of the flexible substrate is detected in the detection step, the flexible shaft is tilted with respect to the axial direction during normal conveyance by tilting the rotation axis of the correction roller, which is at least one of the rollers. A correction step of correcting the positional deviation of the substrate,
In the correction step, the flexible substrate is transported by tilting the rotation axis of the correction roller in a state where the frictional force between the outer peripheral surface of the correction roller and the surface of the flexible substrate is increased. Method.
請求項13において、
上記修正工程では、上記修正ローラーに設けられた静電チャックにより、上記修正ローラーに上記可撓性基板を静電吸着させる
ことを特徴とする可撓性基板の搬送方法。
In claim 13,
In the correcting step, the flexible substrate is electrostatically attracted to the correcting roller by an electrostatic chuck provided on the correcting roller.
請求項13において、
上記修正工程では、上記修正ローラーに上記可撓性基板を介して対向して配置された押圧ローラーにより、上記可撓性基板を上記修正ローラーに押圧しながら、上記修正ローラーに連動して上記押圧ローラーの回転軸を上記修正ローラーの回転軸を傾ける方向と同じ方向に傾ける
ことを特徴とする可撓性基板の搬送方法。
In claim 13,
In the correction step, the pressing roller disposed in opposition to the correction roller with the flexible substrate interposed therebetween presses the flexible substrate against the correction roller while pressing the flexible substrate against the correction roller. A method of transporting a flexible substrate, wherein the rotation axis of the roller is tilted in the same direction as the direction of tilting the rotation axis of the correction roller.
請求項13において、
上記修正工程では、上記修正ローラーの回転軸方向の少なくとも一方の端部における外周面に突出して形成された複数の凸部を、上記可撓性基板の幅方向の少なくとも一方の端部に形成された複数の貫通孔にそれぞれ噛合させる
ことを特徴とする可撓性基板の搬送方法。
In claim 13,
In the correction step, a plurality of protrusions formed on the outer peripheral surface of at least one end of the correction roller in the rotation axis direction are formed at at least one end in the width direction of the flexible substrate. A flexible substrate transport method comprising engaging a plurality of through holes with each other.
請求項15において、
上記押圧ローラーは、外周面が樹脂により構成されている
ことを特徴とする可撓性基板の搬送方法。
In claim 15,
The said press roller is that the outer peripheral surface is comprised with resin, The conveying method of the flexible board | substrate characterized by the above-mentioned.
請求項13において、
上記修正ローラーには、上記可撓性基板が巻き掛けられている
ことを特徴とする可撓性基板の搬送方法。
In claim 13,
The method for transporting a flexible substrate, wherein the flexible substrate is wound around the correction roller.
請求項13において、
上記修正工程では、上記修正ローラーの一端又は他端を基点として上記修正ローラーの回転軸を傾ける
ことを特徴とする可撓性基板の搬送方法。
In claim 13,
In the correction step, the flexible substrate carrying method is characterized in that the rotation axis of the correction roller is inclined with one end or the other end of the correction roller as a base point.
請求項19において、
上記修正工程では、上記修正ローラーの基点と反対側となる先端を上記可撓性基板の搬送方向上手側に移動させる
ことを特徴とする可撓性基板の搬送方法。
In claim 19,
In the correction step, the tip of the correction roller opposite to the base point is moved to the upper side in the transport direction of the flexible substrate.
請求項19において、
上記修正工程では、上記修正ローラーの基点と反対側となる先端を上記可撓性基板側に移動させる
ことを特徴とする可撓性基板の搬送方法。
In claim 19,
In the correction step, the tip of the correction roller opposite to the base point is moved to the flexible substrate side.
請求項13において、
上記修正工程では、上記修正ローラーと、上記修正ローラーにおける上記可撓性基板の搬送方向下手側に並ぶ上記ローラーとを同時に回転軸方向に移動させる
ことを特徴とする可撓性基板の搬送方法。
In claim 13,
The said correction process WHEREIN: The said correction roller and the said roller arranged in the conveyance direction lower side of the said flexible substrate in the said correction roller are simultaneously moved to a rotating shaft direction, The conveyance method of the flexible substrate characterized by the above-mentioned.
請求項13において、
上記検出工程では、上記可撓性基板に対向して配置された撮像手段により、上記可撓性基板に形成されたアライメントマークの位置を検出する
ことを特徴とする可撓性基板の搬送方法。
In claim 13,
In the detecting step, the position of the alignment mark formed on the flexible substrate is detected by an imaging unit arranged to face the flexible substrate.
請求項13において、
上記検出工程では、出射部から上記可撓性基板に出射されて上記可撓性基板で反射又は透過したレーザー光を受光部で受光することにより、上記受光部で受光した上記レーザー光に基づいて上記可撓性基板の位置ずれを検出する
ことを特徴とする可撓性基板の搬送方法。
In claim 13,
In the detection step, a laser beam emitted from the emitting unit to the flexible substrate and reflected or transmitted by the flexible substrate is received by the light receiving unit, and based on the laser light received by the light receiving unit. A method for transporting a flexible substrate, comprising detecting a displacement of the flexible substrate.
請求項13において、
上記可撓性基板は、表示装置を構成する
ことを特徴とする可撓性基板の搬送方法。
In claim 13,
The flexible substrate comprises a display device, wherein the flexible substrate is conveyed.
JP2007131792A 2007-05-17 2007-05-17 Device and method for conveying flexible substrate Pending JP2008285281A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007131792A JP2008285281A (en) 2007-05-17 2007-05-17 Device and method for conveying flexible substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007131792A JP2008285281A (en) 2007-05-17 2007-05-17 Device and method for conveying flexible substrate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008285281A true JP2008285281A (en) 2008-11-27

Family

ID=40145394

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007131792A Pending JP2008285281A (en) 2007-05-17 2007-05-17 Device and method for conveying flexible substrate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008285281A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010261081A (en) * 2009-05-08 2010-11-18 V Technology Co Ltd Vapor deposition method and vapor deposition apparatus
JP2016541016A (en) * 2013-11-18 2016-12-28 コーニング精密素材株式会社Corning Precision Materials Co., Ltd. Flexible substrate bonding method
CN106783682A (en) * 2016-12-15 2017-05-31 武汉华星光电技术有限公司 Flexible display screen producing device and preparation method
CN115159216A (en) * 2022-06-27 2022-10-11 广西广盛新材料科技有限公司 Strip steel deviation rectifying method and device, terminal equipment and storage medium

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010261081A (en) * 2009-05-08 2010-11-18 V Technology Co Ltd Vapor deposition method and vapor deposition apparatus
JP2016541016A (en) * 2013-11-18 2016-12-28 コーニング精密素材株式会社Corning Precision Materials Co., Ltd. Flexible substrate bonding method
CN106783682A (en) * 2016-12-15 2017-05-31 武汉华星光电技术有限公司 Flexible display screen producing device and preparation method
CN115159216A (en) * 2022-06-27 2022-10-11 广西广盛新材料科技有限公司 Strip steel deviation rectifying method and device, terminal equipment and storage medium

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101717830B1 (en) Method for continuously producing optical display panel and system for continuously producing optical display panel
US8432428B2 (en) Roller alignment
WO2019244653A1 (en) Glass roll manufacturing method
CN104136968B (en) The production system of optical display means and the production method of optical display means
TW201213928A (en) System and method for continuously manufacturing liquid crystal display devices
JP2008285281A (en) Device and method for conveying flexible substrate
JP2014066909A (en) Continuous production method for optical display panel and continuous production system for optical display panel
JP2008139523A (en) Optical film-pasting method, optical film-pasting device, and manufacturing method of display panel
JP6066055B2 (en) Organic EL sealing device
US9496526B2 (en) Apparatus and method for taking flexible display panel off, and method for manufacturing the same
TWI596388B (en) Method for producing an optical member affixed body
WO2015029998A1 (en) Film bonding device, optical-display-device production system, and optical-display-device production method
WO2014125993A1 (en) Cutting device, cutting method, and method of manufacturing laminate optical member
JP6203234B2 (en) Apparatus and method for continuously manufacturing an optical display device
JP2008233207A (en) Device and method for manufacturing liquid crystal display panel
KR20140141137A (en) Imprinter
KR20180050108A (en) Manufacturing system for laminated film and manufacturing method for laminated film
TW201720648A (en) Manufacturing method for optical laminate
WO2019244654A1 (en) Glass roll manufacturing method
WO2015022850A1 (en) Apparatus for manufacturing optical member-bonded body
KR101873048B1 (en) Polarized Film Attaching Apparatus for Display Panel
JP2007108255A (en) Device for sticking polarizing plate
KR101529931B1 (en) Optical member attaching apparatus
JP5969247B2 (en) Continuous manufacturing method of optical display panel, continuous manufacturing system thereof, switching method and feeding device
KR102231024B1 (en) A conveying device for conveying a long optical film having a cut surface, and a continuous manufacturing system for an optical display panel