JP2008244096A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008244096A5 JP2008244096A5 JP2007081747A JP2007081747A JP2008244096A5 JP 2008244096 A5 JP2008244096 A5 JP 2008244096A5 JP 2007081747 A JP2007081747 A JP 2007081747A JP 2007081747 A JP2007081747 A JP 2007081747A JP 2008244096 A5 JP2008244096 A5 JP 2008244096A5
- Authority
- JP
- Japan
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007081747A JP5035884B2 (ja) | 2007-03-27 | 2007-03-27 | 熱伝導シート及びこれを用いた被処理基板の載置装置 |
US12/055,633 US8702903B2 (en) | 2007-03-27 | 2008-03-26 | Thermally conductive sheet and substrate mounting device including same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007081747A JP5035884B2 (ja) | 2007-03-27 | 2007-03-27 | 熱伝導シート及びこれを用いた被処理基板の載置装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008244096A JP2008244096A (ja) | 2008-10-09 |
JP2008244096A5 true JP2008244096A5 (ja) | 2010-05-06 |
JP5035884B2 JP5035884B2 (ja) | 2012-09-26 |
Family
ID=39793968
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007081747A Expired - Fee Related JP5035884B2 (ja) | 2007-03-27 | 2007-03-27 | 熱伝導シート及びこれを用いた被処理基板の載置装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8702903B2 (ja) |
JP (1) | JP5035884B2 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8524005B2 (en) * | 2006-07-07 | 2013-09-03 | Tokyo Electron Limited | Heat-transfer structure and substrate processing apparatus |
US20090221150A1 (en) * | 2008-02-29 | 2009-09-03 | Applied Materials, Inc. | Etch rate and critical dimension uniformity by selection of focus ring material |
JP5430136B2 (ja) * | 2008-12-08 | 2014-02-26 | 電気化学工業株式会社 | 部材表面の改質方法。 |
JP5392617B2 (ja) * | 2009-03-18 | 2014-01-22 | 株式会社リコー | 画像形成装置 |
JP5587312B2 (ja) * | 2009-07-02 | 2014-09-10 | ニッタ株式会社 | 機能膜付粘着テープおよび機能膜の転写方法 |
JP5619486B2 (ja) | 2010-06-23 | 2014-11-05 | 東京エレクトロン株式会社 | フォーカスリング、その製造方法及びプラズマ処理装置 |
JP5762798B2 (ja) * | 2011-03-31 | 2015-08-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 天井電極板及び基板処理載置 |
KR20130011569A (ko) * | 2011-07-22 | 2013-01-30 | 삼성전자주식회사 | 콘택홀 형성 방법 및 이를 형성하기에 적합한 식각 장치 |
US20130240142A1 (en) * | 2012-03-15 | 2013-09-19 | Globalfoundries Singapore Pte. Ltd. | Isolation between a baffle plate and a focus adapter |
JP2014107387A (ja) * | 2012-11-27 | 2014-06-09 | Tokyo Electron Ltd | 載置台構造及びフォーカスリングを保持する方法 |
US20150001180A1 (en) * | 2013-06-28 | 2015-01-01 | Applied Materials, Inc. | Process kit for edge critical dimension uniformity control |
JP6215002B2 (ja) | 2013-10-25 | 2017-10-18 | 東京エレクトロン株式会社 | フォーカスリングの製造方法及びプラズマ処理装置の製造方法 |
JP6261287B2 (ja) * | 2013-11-05 | 2018-01-17 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
KR102401501B1 (ko) * | 2014-12-19 | 2022-05-23 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 기판 프로세싱 챔버를 위한 에지 링 |
KR102424818B1 (ko) * | 2015-05-27 | 2022-07-25 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 플라즈마 처리 장치 및 포커스 링 |
DE102015112036B4 (de) * | 2015-07-23 | 2017-05-11 | Schott Ag | Monolithische Unterlage zur vollflächigen Unterstützung eines Werkstücks |
JP3210105U (ja) * | 2016-03-04 | 2017-04-27 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | ユニバーサルプロセスキット |
US10199252B2 (en) * | 2017-06-30 | 2019-02-05 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Thermal pad for etch rate uniformity |
JP6982701B2 (ja) * | 2018-12-05 | 2021-12-17 | 株式会社アルバック | 静電チャック、真空処理装置及び基板処理方法 |
KR102077974B1 (ko) * | 2019-08-29 | 2020-02-14 | 주식회사 기가레인 | 플라즈마 처리 수직도가 향상된 포커스링을 포함하는 플라즈마 처리 장치 |
KR102077975B1 (ko) * | 2019-10-15 | 2020-02-14 | 주식회사 기가레인 | 플라즈마 처리 수직도가 향상된 플라즈마 처리 장치 |
KR102322187B1 (ko) * | 2019-12-03 | 2021-11-04 | 세메스 주식회사 | 기판 지지 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
JP7454976B2 (ja) * | 2020-03-24 | 2024-03-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板支持台、プラズマ処理システム及びエッジリングの交換方法 |
KR20220027509A (ko) * | 2020-08-27 | 2022-03-08 | 삼성전자주식회사 | 플라즈마 공정 장치 및 플라즈마 공정 장치에서의 웨이퍼 디척킹 방법 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100238626B1 (ko) * | 1992-07-28 | 2000-02-01 | 히가시 데쓰로 | 플라즈마 처리장치 |
JP4151749B2 (ja) * | 1998-07-16 | 2008-09-17 | 東京エレクトロンAt株式会社 | プラズマ処理装置およびその方法 |
KR100292410B1 (ko) * | 1998-09-23 | 2001-06-01 | 윤종용 | 불순물 오염이 억제된 반도체 제조용 반응 챔버 |
JP4417574B2 (ja) * | 2000-02-14 | 2010-02-17 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
JP2001291807A (ja) * | 2000-04-10 | 2001-10-19 | Three M Innovative Properties Co | 熱伝導性シート |
JP4592916B2 (ja) * | 2000-04-25 | 2010-12-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体の載置装置 |
JP4559595B2 (ja) * | 2000-07-17 | 2010-10-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体の載置装置及びプラズマ処理装置 |
JP2003133770A (ja) * | 2001-10-29 | 2003-05-09 | Inoac Corp | 放熱シート |
US7232591B2 (en) * | 2002-04-09 | 2007-06-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of using an adhesive for temperature control during plasma processing |
US20040173314A1 (en) * | 2003-03-05 | 2004-09-09 | Ryoji Nishio | Plasma processing apparatus and method |
US20040261946A1 (en) * | 2003-04-24 | 2004-12-30 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus, focus ring, and susceptor |
US7658816B2 (en) * | 2003-09-05 | 2010-02-09 | Tokyo Electron Limited | Focus ring and plasma processing apparatus |
US7244336B2 (en) * | 2003-12-17 | 2007-07-17 | Lam Research Corporation | Temperature controlled hot edge ring assembly for reducing plasma reactor etch rate drift |
-
2007
- 2007-03-27 JP JP2007081747A patent/JP5035884B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-03-26 US US12/055,633 patent/US8702903B2/en active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008244096A5 (ja) | ||
CN300729186S (zh) | 菜板(f-t) | |
CN300729457S (zh) | 酒瓶包装盒(和谐高炉家酒2) | |
CN300728401S (zh) | 灯(tect-m-t) | |
CN300728374S (zh) | 路灯 | |
CN300833218S (zh) | 花布(112) | |
CN300728288S (zh) | 型材(单推拉窗下滑) | |
CN300728247S (zh) | 汽车空调装置蒸发器(薄型) | |
CN300829559S (zh) | 晾衣架驱动器 | |
CN300816380S (zh) | 分配阀 | |
CN300728241S (zh) | 分体挂壁式空调器(p型) | |
CN300728161S (zh) | 刀闸阀(无凹槽) | |
CN300808974S (zh) | 门把手(hd6351) | |
CN300727997S (zh) | 散热器 | |
CN300727991S (zh) | 标签(jmy-022) | |
CN300727778S (zh) | 数控雕铣机床 | |
CN300798749S (zh) | 嵌灯(led-dw020) | |
CN300796743S (zh) | 面料(07-36) | |
CN300796048S (zh) | 垂置式中压离心通风机 | |
CN300781256S (zh) | 挂坠(时来运转1) | |
CN300775742S (zh) | 显示器(二) | |
CN300734464S (zh) | 玻璃(童趣) | |
CN300731200S (zh) | 花边(枕套) | |
CN300727511S (zh) | 插座(电脑电源一键控pc04-12) | |
CN300730881S (zh) | 灯(2) |