JP6215002B2 - フォーカスリングの製造方法及びプラズマ処理装置の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施に用いられるプラズマ処理装置1の一例を示す断面概要図である。プラズマ処理装置1は、半導体ウェハ2を収容するチャンバー3を有し、チャンバー3内には半導体ウェハ2を載置する載置台として、静電チャック4、円柱状のサセプタ5が配置されている。チャンバー3の内壁面とサセプタ5の側面との間に、ガスを排出するための側方排気路6が形成され、この側方排気路6の途中に、多孔板からなる排気プレート7が配されている。排気プレート7は、チャンバー3を上下に区分する仕切り板としての機能を有し、排気プレート7の上部は反応室8となり、下部は排気室9となる。排気室9には、排気管10が開口し、図示していない真空ポンプにより、チャンバー3内は真空排気される。また、載置台として、静電チャック4とフォーカスリング14との間にセラミックのリングや金属のリングがさらに設けられていてもよい。
フッ素ゴムに熱伝導性を担保するための充填剤として酸化アルミニウム粉末やカーボン粉末を添加し、硬化させたものからなり、柔軟性と熱伝導性を有する物が使用される。
以下、図4を参照して、熱伝導シート25とフォーカスリング14とを一体化する工程について説明する。
2 半導体ウェハ
3 チャンバー
4 静電チャック
5 サセプタ
6 側方排気路
7 排気プレート
8 反応室
9 排気室
10 排気管
11 静電電極板
12 直流電源
13 絶縁部材
14 フォーカスリング
15 ガス導入シャワーヘッド
16 上部高周波電源
17 下部高周波電源
18 ガス導入管
19 バッファ室
20 上部電極板
21 ガス孔
22 冷媒流路
23 冷媒供給管
24 伝熱ガス供給孔
25 熱伝導シート
25a (熱伝導シートの)一方の面
25b (熱伝導シートの)他方の面
Claims (5)
- 処理チャンバー内で被処理基板を載置保持する載置台の外周上部に着脱可能に装着されるフォーカスリングであって、前記被処理基板を保持する側の表面と前記載置台の外周上部に装着される側の裏面とを有するリング状のリング本体と、前記リング本体の裏面に予め固定され、このリング本体を載置台の外周上部に装着する際に、リング本体と載置台の外周上部との間に介在するように装着された粘着性の熱伝導シートとを有する前記フォーカスリングの製造方法であって、
円弧形状に形成された1つの前記熱伝導シートを分割して各々が円弧形状に形成された複数の熱伝導シートを製作し、
各前記熱伝導シートの一方の面に、各前記熱伝導シートと同質の未加硫ゴムを塗布し、
前記未加硫ゴムが塗布された前記一方の面を前記リング本体に接合し、
前記リング本体と各前記熱伝導シートとを共に加熱処理することにより前記リング本体と各前記熱伝導シートとを加硫接着して一体化させる
処理を有することを特徴とするフォーカスリングの製造方法。 - 請求項1記載のフォーカスリングの製造方法において、
各前記熱伝導シートと前記リング本体を加硫接着するための加熱処理は、各前記熱伝導シートの柔軟性・熱伝導性を変化させない温度と時間で実行されるものである
ことを特徴とするフォーカスリングの製造方法。 - 請求項1記載のフォーカスリングの製造方法において、
各前記熱伝導シートは、液状シリコンゴムに熱伝導性を担保するための充填剤としてカーボンファイバーを添加してなる未加硫ゴムを加硫硬化させ、シート状に成形したものであり、前記加熱処理は、成形済みの各前記熱伝導シートの柔軟性・熱伝導性を変化させない温度である100℃〜150℃に設定されている
ことを特徴とするフォーカスリングの製造方法。 - 請求項1記載のフォーカスリングの製造方法において、
各前記熱伝導シートは、液状フッ素ゴムに熱伝導性を担保するための充填剤としてカーボンファイバーを添加してなる未加硫ゴムを加硫硬化させ、シート状に成形したものであり、前記加熱処理は、成形済みの各前記熱伝導シートの柔軟性・熱伝導性を変化させない温度である130℃〜170℃に設定されている
ことを特徴とするフォーカスリングの製造方法。 - 請求項1〜4のいずれか一つに記載のフォーカスリングの製造方法によって前記フォーカスリングを製造し、
製造された前記フォーカスリングを、被処理基板の周縁部を囲うように載置台の外周上部に設置する
処理を有することを特徴とするプラズマ処理装置の製造方法。
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