JP2008226973A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 本発明は、露光装置に関し、レチクルステージのスキャン動作に対応して走査方向遮光部材を別途動作する必要を無くし、同時に、レチクルあるいはチャック部材に付着したパーティクルを除去可能にすることを目的とする。
【解決手段】 レチクルが配置されるレチクルステージと感応基板が配置される感応基板ステージとを同期して走査し、レチクルの面上に形成されたパターンを感応基板上に転写する露光装置において、レチクルステージは、走査方向に移動する移動テーブルと、移動テーブルに吸着面を下方にして配置されレチクルを吸着するチャック部材と、移動テーブルに配置されレチクルの走査方向の露光領域を制限する走査方向遮光部材と、移動テーブルに配置され走査方向遮光部材を振動を伴って移動させる移動手段とを有することを特徴とする。
【選択図】 図2
【解決手段】 レチクルが配置されるレチクルステージと感応基板が配置される感応基板ステージとを同期して走査し、レチクルの面上に形成されたパターンを感応基板上に転写する露光装置において、レチクルステージは、走査方向に移動する移動テーブルと、移動テーブルに吸着面を下方にして配置されレチクルを吸着するチャック部材と、移動テーブルに配置されレチクルの走査方向の露光領域を制限する走査方向遮光部材と、移動テーブルに配置され走査方向遮光部材を振動を伴って移動させる移動手段とを有することを特徴とする。
【選択図】 図2
Description
本発明は、半導体集積回路等のリソグラフィーに使用される露光装置に関する。
EUV光を露光光として使用するEUV露光装置では、レチクルが配置されるレチクルステージとウエハが配置されるウエハステージとを同期して走査し、レチクルで反射した露光光のレチクルのパターンをウエハ上に転写露光することが行われている。
そして、レチクルブラインドと呼ばれる遮光部材を所定の位置に移動することで様々な露光領域の設定が可能になる。EUV露光装置では、遮光部材として、露光光の露光領域を規定する固定ブラインド、レチクルの走査方向の露光領域を制限する走査方向遮光部材、レチクルの非走査方向の露光領域を制限する非走査方向遮光部材が、レチクルと投影光学系との間に配置されている。
特開平6−232031号公報
そして、レチクルブラインドと呼ばれる遮光部材を所定の位置に移動することで様々な露光領域の設定が可能になる。EUV露光装置では、遮光部材として、露光光の露光領域を規定する固定ブラインド、レチクルの走査方向の露光領域を制限する走査方向遮光部材、レチクルの非走査方向の露光領域を制限する非走査方向遮光部材が、レチクルと投影光学系との間に配置されている。
しかしながら、従来のEUV露光装置では、レチクルの走査方向の露光領域を制限する走査方向遮光部材を、レチクルステージのスキャン動作に対応して別途動作する駆動装置が必要になるという問題があった。
また、レチクルステージには、レチクルを吸着するチャック部材が配置されているが、レチクルあるいはチャック部材に付着したパーティクルを効果的に除去することが望まれている。
また、レチクルステージには、レチクルを吸着するチャック部材が配置されているが、レチクルあるいはチャック部材に付着したパーティクルを効果的に除去することが望まれている。
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、レチクルステージのスキャン動作に対応して走査方向遮光部材を別途動作する必要を無くし、同時に、レチクルあるいはチャック部材に付着したパーティクルを除去することができる露光装置を提供することを目的とする。
第1の発明の露光装置は、レチクルが配置されるレチクルステージと感応基板が配置される感応基板ステージとを同期して走査し、前記レチクルの面上に形成されたパターンを前記感応基板上に転写する露光装置において、前記レチクルステージは、走査方向に移動する移動テーブルと、前記移動テーブルに吸着面を下方にして配置され前記レチクルを吸着するチャック部材と、前記移動テーブルに配置され前記レチクルの走査方向の露光領域を制限する走査方向遮光部材と、前記移動テーブルに配置され前記走査方向遮光部材を振動を伴って移動させる移動手段とを有することを特徴とする。
第2の発明の露光装置は、第1の発明の露光装置において、前記移動手段は、超音波リニアアクチュエータを有することを特徴とする。
第3の発明の露光装置は、第1または第2の発明の露光装置において、前記移動テーブルは、走査方向に移動する粗動テーブルに微動可能に配置される微動テーブルであることを特徴とする。
第3の発明の露光装置は、第1または第2の発明の露光装置において、前記移動テーブルは、走査方向に移動する粗動テーブルに微動可能に配置される微動テーブルであることを特徴とする。
第4の発明の露光装置は、第1ないし第3のいずれか1の発明の露光装置において、前記チャック部材は、静電チャックであることを特徴とする。
第5の発明の露光装置は、第1ないし第4のいずれか1の発明の露光装置において、前記移動手段は、露光時に、前記走査方向遮光部材の端部を前記レチクルのパターン面の外側の非パターン部の下方に位置させることを特徴とする。
第5の発明の露光装置は、第1ないし第4のいずれか1の発明の露光装置において、前記移動手段は、露光時に、前記走査方向遮光部材の端部を前記レチクルのパターン面の外側の非パターン部の下方に位置させることを特徴とする。
第6の発明の露光装置は、第5の発明の露光装置において、前記移動手段は、一対の前記走査方向遮光部材の端部を前記レチクルの両側の前記非パターン部に位置させることを特徴とする。
第7の発明の露光装置は、第1ないし第6のいずれか1の発明の露光装置において、前記レチクルの非走査方向の露光領域を制限する非走査方向遮光部材と、前記露光光の露光領域を規定する固定ブラインドとを有することを特徴とする。
第7の発明の露光装置は、第1ないし第6のいずれか1の発明の露光装置において、前記レチクルの非走査方向の露光領域を制限する非走査方向遮光部材と、前記露光光の露光領域を規定する固定ブラインドとを有することを特徴とする。
第8の発明の露光装置は、第7の発明の露光装置において、前記走査方向遮光部材、前記固定ブラインド、前記非走査方向遮光部材が、前記レチクルに近い側から順に配置されていることを特徴とする。
本発明の露光装置では、レチクルステージのスキャン動作に対応して走査方向遮光部材を別途動作する必要を無くし、同時に、レチクルあるいはチャック部材に付着したパーティクルを除去することができる。
以下、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
図1は本発明の露光装置の一実施形態を示している。
この露光装置は、光源部11、照明光学系13、レチクルステージ15、投影光学系17およびウエハステージ19を有している。
光源部11はターゲット材料をプラズマ化しEUV光からなるパルス光を発生させる。
図1は本発明の露光装置の一実施形態を示している。
この露光装置は、光源部11、照明光学系13、レチクルステージ15、投影光学系17およびウエハステージ19を有している。
光源部11はターゲット材料をプラズマ化しEUV光からなるパルス光を発生させる。
光源部11では、ノズル21の先端から、ガスあるいは液体状のターゲット材料が発光部23に間歇的に噴出される。レーザ装置25から射出したレーザ光27は、レンズ29を介してターゲット材料上に集光し、ターゲット材料をプラズマ化する。これにより、パルス光からなるEUV光31が発生する。
照明光学系13は、レチクルステージ15の下側に配置されるレチクル33の下面に照明光を導く。
照明光学系13は、レチクルステージ15の下側に配置されるレチクル33の下面に照明光を導く。
照明光学系13では、光源部11からのEUV光31が、コリメータミラーとして作用する凹面反射鏡35を介して略平行光束となり、第1のフライアイミラー37および第2のフライアイミラー39からなるオプティカルインテグレータ41に入射する。これにより、第2のフライアイミラー39の反射面の近傍に、所定の形状(本例では円弧状であるがこの形状に限られるものではない)を有する実質的な面光源が形成される。実質的な面光源からのEUV光31は、反射鏡43,45により反射された後、平面反射鏡47により偏向される。
レチクルステージ15は、粗動テーブル48、微動テーブル49を有している。粗動テーブル48は、X,Y,Z方向に移動可能とされ、微動テーブル49を介してレチクル33を走査方向に移動する。微動テーブル49は、粗動テーブル48に微動可能に配置されている。
微動テーブル49の下側には静電チャック51が固定され、静電チャック51の下面にレチクル33が吸着保持されている。レチクル33の下方には、走査方向遮光部材53,54、固定ブラインド55、非走査方向遮光部材57が配置されている。遮光部材53,54,55,57の詳細は後述する。
微動テーブル49の下側には静電チャック51が固定され、静電チャック51の下面にレチクル33が吸着保持されている。レチクル33の下方には、走査方向遮光部材53,54、固定ブラインド55、非走査方向遮光部材57が配置されている。遮光部材53,54,55,57の詳細は後述する。
平面反射鏡47により偏向されたEUV光31は、非走査方向遮光部材57、固定ブラインド55および走査方向遮光部材53,54の開口部を通り、レチクル33の下面に細長い円弧状の照明領域を形成する。なお、説明の便宜上、非走査方向遮光部材57、固定ブラインド55および走査方向遮光部材53,54はレチクル33に入射する照明光を遮光しているが、レチクル33から反射してきた光束を遮光する構成としても良い。また、入射側、反射側の両方で光束を遮光する構成にしても良い。つまり、最終的にウエハ上における露光領域の形状が規定できるように配置されていれば良い。
レチクル33は、EUV光31を反射する多層膜とパターンを形成するための吸収体パターン層を有しており、レチクル33でEUV光31が反射されることによりEUV光31はパターン化される。
投影光学系17は、4つの反射ミラーを有しており、各ミラー17a〜17dにはEUV光31を反射する多層膜が備えられている。レチクル33により反射されパターン化されたEUV光31は第1ミラー17aから第4ミラー17dまで順次反射されて、レチクルパターンの縮小された像をウエハ61上に形成する。
投影光学系17は、4つの反射ミラーを有しており、各ミラー17a〜17dにはEUV光31を反射する多層膜が備えられている。レチクル33により反射されパターン化されたEUV光31は第1ミラー17aから第4ミラー17dまで順次反射されて、レチクルパターンの縮小された像をウエハ61上に形成する。
ウエハステージ19は、X,Y,Z方向に移動可能とされている。ウエハステージ19の上側には静電チャック59が固定され、静電チャック59の上面にウエハ61が吸着保持されている。ウエハ61上のダイを露光するときには、EUV光31がレチクル33の所定の領域に照射され、レチクル33とウエハ61は投影光学系17に対して投影光学系17の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクル33のパターンはウエハ61上の所定の露光範囲(ダイに対して)に露光される。
図2および図3はレチクルステージ15の詳細を示している。
図2において、粗動テーブル48の下側には、微動テーブル49が配置されている。微動テーブル49は、粗動テーブル48の下側に姿勢制御用アクチュエータ62を介して保持されており、姿勢制御用アクチュエータ62により微動可能とされている。
微動テーブル49の下側には静電チャック51が固定されている。静電チャック51の下面の吸着面51aには、レチクル33が吸着保持されている。レチクル33の下方には、投影光学系17が配置され、レチクル33と投影光学系17の間に、走査方向遮光部材53,54、固定ブラインド55、非走査方向遮光部材57が順に配置されている。走査方向遮光部材53,54をレチクル33の近傍に配置することにより、走査方向遮光部材53,54による遮光精度を向上することができる。
図2において、粗動テーブル48の下側には、微動テーブル49が配置されている。微動テーブル49は、粗動テーブル48の下側に姿勢制御用アクチュエータ62を介して保持されており、姿勢制御用アクチュエータ62により微動可能とされている。
微動テーブル49の下側には静電チャック51が固定されている。静電チャック51の下面の吸着面51aには、レチクル33が吸着保持されている。レチクル33の下方には、投影光学系17が配置され、レチクル33と投影光学系17の間に、走査方向遮光部材53,54、固定ブラインド55、非走査方向遮光部材57が順に配置されている。走査方向遮光部材53,54をレチクル33の近傍に配置することにより、走査方向遮光部材53,54による遮光精度を向上することができる。
走査方向遮光部材53,54は、微動テーブル49に配置される案内部材63に沿って、微動テーブル49の走査方向(Y方向)に移動可能とされている。微動テーブル49の下面には、図3に示すように、レチクル33(静電チャック51)の両側となる位置に、一対の案内部材63が配置されている。一対の案内部材63は微動テーブル49の走査方向(Y方向)に延在されている。そして、一対の案内部材63に、走査方向遮光部材53,54が配置されている。走査方向遮光部材53,54は、一対の案内部材63を跨いで配置され、その両端を案内部材63により案内されている。案内部材63には、走査方向遮光部材53,54を走査方向に移動する移動機構65(図2および図3では図示を省略する)が配置されている。
移動機構65は、図4に示すように、超音波リニアアクチュエータ67、リニアガイド69を有している。案内部材63には矩形状の凹部63aが形成されている。凹部63aには、走査方向遮光部材53,54の端部を挟んで超音波リニアアクチュエータ67およびリニアガイド69が配置されている。リニアガイド69は、走査方向遮光部材53,54の端部を案内する。超音波リニアアクチュエータ67は、圧電素子(不図示)の駆動により走査方向遮光部材53,54を移動する。そして、圧電素子の駆動により、リニアモータを使用する場合に比較して比較的大きな振動が案内部材63に発生する。なお、超音波リニアアクチュエータ67は周知であるため詳細な説明を省略する。また、案内部材63は、その両側に配置される一対の超音波リニアアクチュエータ67の振動の干渉を防止するため走査方向の中央部で分断されているが図示を省略する。
リニアガイド69上の走査方向遮光部材53,54の位置は、リニアエンコーダ(不図示)により測定可能とされている。そして、レチクル33の交換時、フィデューシャルマークのオートフォーカス時には、図3に示すように、レチクル33の走査方向の外側に走査方向遮光部材53,54が位置される。
図3において符号Sは、レチクル33のパターン面33aに照射される円弧状の照明領域を示している。この円弧状の照明領域Sの中心を径方向に通る直線の方向がレチクル33の走査方向とされている。そして、照明領域Sの走査方向の両側となる位置にレチクル33の走査方向を制限する一対の走査方向遮光部材53,54が配置されている。この走査方向遮光部材53,54は、走査前後での露光エリアのはみ出しを防止するもので、マスクブラインド、同期ブラインドと呼ばれることもある。なお、レチクル33のパターン面33aの外側には、パターン面33aを囲んでパターンの形成されない非パターン部33bが形成されている。
図3において符号Sは、レチクル33のパターン面33aに照射される円弧状の照明領域を示している。この円弧状の照明領域Sの中心を径方向に通る直線の方向がレチクル33の走査方向とされている。そして、照明領域Sの走査方向の両側となる位置にレチクル33の走査方向を制限する一対の走査方向遮光部材53,54が配置されている。この走査方向遮光部材53,54は、走査前後での露光エリアのはみ出しを防止するもので、マスクブラインド、同期ブラインドと呼ばれることもある。なお、レチクル33のパターン面33aの外側には、パターン面33aを囲んでパターンの形成されない非パターン部33bが形成されている。
そして、露光時には、図5および図6に示すように、走査方向遮光部材53,54の内側端が、レチクル33のパターン面33aと非パターン部33bとの境界に位置される。この状態は露光中維持され走査方向遮光部材53,54の移動は行われない。露光動作の開始時には、図5の(a)に示すように、走査方向遮光部材54が照明領域Sを覆う位置に位置しレチクル33の走査方向の露光領域が制限される。また、露光動作の終了時には、図5の(b)に示すように、走査方向遮光部材53が照明領域Sを覆う位置に位置しレチクル33の走査方向の露光領域が制限される。これにより、不要な照明光がウエハ61に照射されることが防止される。
非走査方向遮光部材57は、図3に示すように、円弧状の照明領域Sの走査方向に垂直な方向の両側に配置されている。非走査方向遮光部材57は、照明領域Sの非走査方向を制限して走査幅を決定する。非走査方向遮光部材57は図示しない駆動装置により走査方向に垂直な方向に移動可能とされている。
固定ブラインド55は、レチクル33に照射される円弧形状の照明領域Sの形状を定めている。固定ブラインド55は投影光学系17の投影領域を決めるためのスリットでありレチクルステージ15を走査させない静止露光の場合の最大露光領域を規定する。固定ブラインド55は光学設計上、レチクル33のパターン面33aに近づけて設置することが望ましいため、図2に示すように、走査方向遮光部材53,54の下側に近接して設置されている。
固定ブラインド55は、レチクル33に照射される円弧形状の照明領域Sの形状を定めている。固定ブラインド55は投影光学系17の投影領域を決めるためのスリットでありレチクルステージ15を走査させない静止露光の場合の最大露光領域を規定する。固定ブラインド55は光学設計上、レチクル33のパターン面33aに近づけて設置することが望ましいため、図2に示すように、走査方向遮光部材53,54の下側に近接して設置されている。
上述した露光装置では、レチクルステージ15の微動テーブル49に走査方向遮光部材53,54を設けたので、微動テーブル49とともに走査方向遮光部材53,54が移動する。従って、露光動作の開始および終了時に、レチクルステージ15のスキャン動作に対応して走査方向遮光部材53,54を別途動作する必要がなくなり、レチクルステージ15と走査方向遮光部材53,54との同期動作制御を不要にすることができる。
また、上述した露光装置では、走査方向遮光部材53,54を超音波リニアアクチュエータ67を備えた移動機構65により移動するようにしたので、レチクル33あるいは静電チャック51に付着したパーティクルを効果的に除去することができる。すなわち、超音波リニアアクチュエータ67を移動機構65に使用する場合には、リニアモータを使用する場合に比較して比較的大きな振動が案内部材63に発生し、この振動が静電チャック51に伝達され静電チャック51が振動する。
従って、レチクル33の交換時には、レチクル33を静電チャック51に取り付ける前に、移動機構65を所定時間だけ作動して走査方向遮光部材53,54を往復動することにより、静電チャック51の吸着面51aに付着したパーティクルを重力で落下させ、吸着面51aからパーティクルを除去することができる。これにより、静電チャック51にレチクル33を吸着した時に、静電チャック51とレチクル33との間にパーティクルが介在することが低減し、レチクル33の取り付け精度を向上することができる。
また、静電チャック51にレチクル33を取り付けた後に、移動機構65を所定時間だけ作動して走査方向遮光部材53,54を往復動することにより、レチクル33のパターン面33aに付着したパーティクルを重力で落下させ、パターン面33aからパーティクルを除去することができる。これにより、パターン面33aにパーティクルが存在することが減少し、露光精度を向上することができる。
さらに、上述した露光装置では、図5および図6に示すように、露光時に走査方向遮光部材53,54の内側端を、レチクル33のパターン面33aと非パターン部33bとの境界の下方に位置したので、レチクル33が誤落下した場合に損傷することを防止することができる。すなわち、露光時に、静電チャック51の電源が誤作動等によりオフしてレチクル33が誤落下した場合には、走査方向遮光部材53,54上にレチクル33が載置されレチクル33の損傷が防止される。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のような形態でも良い。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のような形態でも良い。
(1)上述した実施形態では、走査方向遮光部材53,54を超音波リニアアクチュエータ67を備えた移動機構65により移動した例について説明したが、走査方向遮光部材の移動時に振動を発生させるような移動機構であれば良い。
(2)上述した実施形態では、チャック部材に静電チャック51を用いた例について説明したが、レチクルを吸着可能なチャック部材であれば良い。
(2)上述した実施形態では、チャック部材に静電チャック51を用いた例について説明したが、レチクルを吸着可能なチャック部材であれば良い。
(3)上述した実施形態では、粗動テーブル48と微動テーブル49を備えたレチクルステージ15に本発明を適用し、微動テーブル49に静電チャック33を配置した例について説明したが、微動テーブルの無いレチクルステージにも適用することができる。この場合には、粗動テーブルに対応するテーブルに静電チャック、走査方向遮光部材、移動機構が配置される。
(4)上述した実施形態では、EUV光31の光源にレーザ生成プラズマ光源を用いた例について説明したが、例えば、間歇的にターゲット材料を電極間に供給し、それに合わせて放電を行ってEUV光を発生する放電プラズマエックス線源であっても良い。
(5)上述した実施形態では、EUV光露光装置に本発明を適用した例について説明したが、本発明はレチクルで反射した露光光により感応基板の露光を行う露光装置に広く適用することができる。
(5)上述した実施形態では、EUV光露光装置に本発明を適用した例について説明したが、本発明はレチクルで反射した露光光により感応基板の露光を行う露光装置に広く適用することができる。
15…レチクルステージ、19…ウエハステージ、33…レチクル、33a…パターン面、33b…非パターン部、48…粗動テーブル、49…微動テーブル、51…静電チャック、53,54…走査方向遮光部材、55…固定ブラインド、57…非走査方向遮光部材、61…ウエハ、63…案内部材、65…移動機構、67…超音波リニアアクチュエータ。
Claims (8)
- レチクルが配置されるレチクルステージと感応基板が配置される感応基板ステージとを同期して走査し、前記レチクルの面上に形成されたパターンを前記感応基板上に転写する露光装置において、
前記レチクルステージは、
走査方向に移動する移動テーブルと、
前記移動テーブルに吸着面を下方にして配置され前記レチクルを吸着するチャック部材と、
前記移動テーブルに配置され前記レチクルの走査方向の露光領域を制限する走査方向遮光部材と、
前記移動テーブルに配置され前記走査方向遮光部材を振動を伴って移動させる移動手段と、
を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項1記載の露光装置において、
前記移動手段は、超音波リニアアクチュエータを有することを特徴とする露光装置。 - 請求項1または請求項2記載の露光装置において、
前記移動テーブルは、走査方向に移動する粗動テーブルに微動可能に配置される微動テーブルであることを特徴とする露光装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれか1項記載の露光装置において、
前記チャック部材は、静電チャックであることを特徴とする露光装置。 - 請求項1ないし請求項4のいずれか1項記載の露光装置において、
前記移動手段は、露光時に、前記走査方向遮光部材の端部を前記レチクルのパターン面の外側の非パターン部の下方に位置させることを特徴とする露光装置。 - 請求項5記載の露光装置において、
前記移動手段は、一対の前記走査方向遮光部材の端部を前記レチクルの両側の前記非パターン部に位置させることを特徴とする露光装置。 - 請求項1ないし請求項6のいずれか1項記載の露光装置において、
前記レチクルの非走査方向の露光領域を制限する非走査方向遮光部材と、
前記露光光の露光領域を規定する固定ブラインドと、
を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項7記載の露光装置において、
前記走査方向遮光部材、前記固定ブラインド、前記非走査方向遮光部材が、前記レチクルに近い側から順に配置されていることを特徴とする露光装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2007-03-09 JP JP2007059961A patent/JP2008226973A/ja not_active Withdrawn
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