JP2008178479A

JP2008178479A - 殺菌ガス浸透装置

Info

Publication number: JP2008178479A
Application number: JP2007013013A
Authority: JP
Inventors: Yasuo Nakamura; 八寿雄中村; Yukihiro Kamase; 幸広釜瀬; Takashi Urano; 崇浦野
Original assignee: IHI Shibaura Machinery Corp
Current assignee: IHI Shibaura Machinery Corp
Priority date: 2007-01-23
Filing date: 2007-01-23
Publication date: 2008-08-07
Anticipated expiration: 2027-01-23
Also published as: JP4773982B2

Abstract

【課題】殺菌ガスによる殺菌ガス浸透装置において、内部にガスが浸透しにくい被殺菌処理対象物の殺菌処理を効率よく行うことができる装置を提供する。
【解決手段】被殺菌処理対象物を内部に収納する殺菌庫１と、内部にガスが浸透しにくい被殺菌処理対象物に殺菌ガスを浸透させる機構とを有する殺菌ガス浸透装置において、排殺菌庫１内の雰囲気ガスを排気することにより圧力を変動させて、殺菌庫１の内部と外部とに圧力差を設けることができる機構を設けた。
【選択図】図１

Description

本発明は、寝具などの被殺菌処理対象物にオゾンガスなどの殺菌ガスを浸透させる殺菌ガス浸透装置に関する。

従来、介護用・医療機関用の機器、寝具類を滅菌・殺菌する方法において、耐熱性のある被殺菌処理対象物に対しては、ヒーターなどにより水を加熱して蒸気を発生させ、大気圧を超える圧力下で飽和蒸気により滅菌する高圧蒸気滅菌器による方法がある（特許文献１参照）。また、耐熱性のない被殺菌処理対象物に対しては、エチレンオキサイド（ＥＯＧ）ガスを浸透させて滅菌する方法がある。
特開平６−１９００２４号公報

しかし、上述した高圧蒸気滅菌による方法は、耐熱性の無い被殺菌処理対象物には適用することができない。また、エチレンオキサイドガスを浸透させて殺菌する方法では、処理後の残留ガスを脱気させるためには長時間の放置や脱気工程が必要であり、さらに発がん性の問題から残留ガス排出時にガス処理装置が必要になるなど安全性や殺菌効率の点で問題がある。また、ガス処理を常圧下で処理した場合、寝具などのガスの浸透しにくい被殺菌処理対象物に対しては、すみずみまで効率的に殺菌を行えないなどの問題を有している。

本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。

即ち、請求項１においては、被殺菌処理対象物を内部に収納する殺菌庫と、内部にガスが浸透しにくい被殺菌処理対象物に殺菌ガスを浸透させる機構とを有する殺菌ガス浸透装置において、殺菌庫内の圧力を陰圧及び陽圧に変動できる機構を設けたものである。

請求項２においては、被殺菌処理対象物を内部に収納する殺菌庫と、内部にガスが浸透しにくい被殺菌処理対象物に殺菌ガスを浸透させる機構とを有する殺菌ガス浸透装置において、殺菌庫内の圧力を陰圧から常圧までの範囲で制御する機構を設けたものである。

請求項３においては、前記殺菌ガスがオゾンガスであるものである。

請求項４においては、前記殺菌ガスが安定化二酸化塩素であるものである。

請求項５においては、請求項３に記載の殺菌ガス浸透装置において、オゾンガスが被殺菌処理対象物に浸透する際に、同時に殺菌庫内に水を噴霧する機構を設けたものである。

請求項６においては、請求項３に記載の殺菌ガス浸透装置において、オゾンガスが被殺菌処理対象物に浸透する際に、同時に殺菌庫内に酸化促進水を噴霧する機構を設けたものである。

請求項７においては、被殺菌処理対象物を内部に収納する殺菌庫と、内部にガスが浸透しにくい被殺菌処理対象物に殺菌ガスを浸透させる機構と、殺菌庫内の殺菌ガスを無害化して排気する機構とを有するオゾンガスを用いた殺菌ガス浸透装置において、１台のオゾン濃度測定装置で殺菌庫外のオゾン濃度と殺菌庫内のオゾン濃度とを検知する機構と、その検知結果に基づいてオゾン濃度を制御する機構と、その検知されたオゾン濃度についての情報を表示する機構とを設けたものである。

請求項８においては、請求項３に記載の殺菌ガス浸透装置において、１台のオゾン濃度測定装置で殺菌庫外のオゾン濃度と殺菌庫内のオゾン濃度とを検知する機構と、その検知結果に基づいてオゾン濃度を制御する機構と、その検知されたオゾン濃度についての情報を表示する機構とを設けたものである。

請求項９においては、請求項１から請求項８のいずれかに記載の殺菌ガス浸透装置において、殺菌庫内に人物検知用のセンサを設けたものである。

本発明の効果として、以下に示すような効果を奏する。

請求項１においては、殺菌庫の内部と外部に圧力差を設けることにより殺菌ガスが浸透しにくい寝具などの被殺菌処理対象物に、隅々まで殺菌ガスを浸透させることができる。

請求項２においては、殺菌庫内の圧力を陰圧から常圧の範囲で変動を加えることにより、被殺菌処理対象物に隅々まで殺菌ガスを浸透させることができると共に、被殺菌処理対象物に付着した細菌に対し、環境条件の変動をもたらし、殺菌効果を上げることができる。

請求項３においては、殺菌ガスとして、オゾンを使用する殺菌ガス浸透装置であり、従来の殺菌ガスに比べ、短時間で同様の効果を得ることができ、しかもランニングコストの低減もできる。

請求項４においては、殺菌ガスとして、安定化二酸化塩素を使用する殺菌ガス浸透装置であり、従来の殺菌ガスに比べ、短時間で同様の効果を得ることができ、しかもランニングコストの低減もできる。

請求項５においては、殺菌庫内においてオゾンガスと水との反応により、活性酸素などのラジカルを生成することができ、さらに殺菌効果を向上させることができる。

請求項６においては、殺菌庫内においてオゾンガスと酸化促進水との反応により、活性酸素などのラジカルを生成することができ、さらに殺菌効果を向上させることができる。

請求項７においては、殺菌作業を安全に行うことができる。

請求項８においては、殺菌作業を安全に行うことができる。

請求項９においては、殺菌庫内に設けられた人物検知用センサにより、殺菌処理中に人物の有無を確認できるので、殺菌処理を安全に行うことができる。

次に、発明の実施の形態を説明する。
図１は本発明の実施例１を示す殺菌ガス浸透装置の概略構成図、図２は本発明の実施例２を示す殺菌ガス浸透装置の概略構成図、図３は本発明の実施例３を示す殺菌ガス浸透装置の概略構成図、図４は本発明の実施例４を示す殺菌ガス浸透装置の概略構成図、図５は本発明の実施例５を示す殺菌ガス浸透装置の概略構成図である。

まず、本発明の一実施例である殺菌ガス浸透装置の全体構成について、図１を参照して説明する。
図１に示すように、殺菌庫１は殺菌ガス庫本体であり、該殺菌庫１の両側には、被殺菌処理対象物を内部に設置及び搬出するときに使用する殺菌庫用扉２が設けられている。なお、殺菌庫用扉２は、殺菌庫１の一つの側に設けるものでもよい。殺菌ガス発生装置３は、電磁切替弁２０を介して殺菌庫１にそれぞれ配管を介して連通されている。エアフィルター６は、電磁切替弁１７を介して殺菌庫１に配管等でそれぞれ連通されている。排気装置７は、チェック弁８、殺菌ガス無害化装置９、電磁切替弁１８を介して殺菌庫１、排気口１０にそれぞれ配管等を介して連通されている。排気装置７としては、真空ポンプなどが挙げられる。圧力測定装置１５は、殺菌庫１内に設置された圧力センサ２１と接続されている。前記電磁切替弁１７・１８・２０はそれぞれ手動操作で開閉可能とし、殺菌ガス発生装置３及び排気装置７もそれぞれ手動操作でオン／オフ可能としている。

次に上記構成の作用について説明する。
まず、被殺菌処理対象物を殺菌庫１に収納して扉２を閉め、殺菌庫１を密閉する。次に排気用電磁切替弁１８を除く全ての電磁切替弁を閉とし、排気装置７を作動させて殺菌庫１内の雰囲気ガスを排気し、庫内を低真空状態（−５０ｋＰａ〜−２０ｋＰａ）とする。次に、殺菌ガス発生装置３において無声放電などの殺菌ガス機構により、オゾンガス等の殺菌ガスが生成され、電磁切替弁２０を介して殺菌庫１へ送られる。注入された殺菌ガスは、殺菌庫１内が低真空状態にあるため、被殺菌処理対象物の内部まで十分に浸透し、すみずみまで殺菌がなされる。次に、殺菌後の残留殺菌ガスは、排気装置７により、電磁切替弁１８、殺菌ガス無害化装置９、チェック弁８を介して排気される。そして次に、排気装置７を作動させて殺菌庫１内を真空状態とし、次に電磁切替弁１７を開いてエアフィルター６、電磁切替弁１７を介して、雰囲気ガスを殺菌庫１内に注入する。これにより、庫内に残留する殺菌ガスを希釈する。次に電磁切替弁１７を閉じて再び排気装置７を作動させて、殺菌ガス無害化装置９を介して、希釈した殺菌ガスを安全なガスに処理して排気する。これを所定回数繰り返し、殺菌庫１内の残留殺菌ガスをすべて排気する。その後、殺菌庫用扉２を開とし、被殺菌処理対象物を取り出す。

このように、被殺菌処理対象物を内部に収納する殺菌庫１と、内部にガスが浸透しにくい被殺菌処理対象物に殺菌ガスを浸透させる機構とを有する殺菌ガス浸透装置において、殺菌庫１内の圧力を陰圧（大気圧よりも低い圧）及び陽圧（大気圧よりも高い圧）に変動できる機構を設けたことにより、殺菌庫１の内部と外部とに圧力差を設けることができ、殺菌ガスの浸透しにくい寝具などの被殺菌処理対象物に、すみずみまで殺菌ガスを浸透させることができる。

次に実施例２について、図２により説明を行う。
本実施例２で示す殺菌ガス浸透装置の全体構成は、実施例１で示した全体構成に一部装置・配管類を追加したものであり、制御回路３０と操作手段３４と表示手段１６を設けている。電磁切替弁１７・１８・２０、殺菌ガス発生装置３、排気装置７、圧力測定装置１５、操作手段３４、表示手段１６は、制御回路３０と接続されている。該制御回路３０は中央演算処理装置（ＣＰＵ）や記憶装置（ＲＡＭやＲＯＭ）やインターフェース等からなり、ＲＯＭに後述する制御プログラムが記憶されている。

まず、実施例１と同様に被殺菌処理対象物を殺菌庫１に収納して扉２を閉め、殺菌庫１を密閉する。スイッチ等の操作手段３４をオンすると、表示手段１６に殺菌中であることが表示され、制御回路３０により次の制御が行われる。つまり、排気用電磁切替弁１８を除く全ての電磁切替弁が閉じられ、次に排気装置７を作動させて殺菌庫１内が設定圧（−５０ｋＰａ〜−２０ｋＰａ）まで減圧される。この圧力は圧力センサ２１で検知される。減圧後排気用電磁切替弁１８を閉じ、電磁切替弁２０を開き殺菌ガス発生装置３を作動させて、殺菌ガス注入工程が行われる。圧力センサ２１により検知した圧力が大気圧近くまで戻ったら、電磁切替弁２０を閉じ殺菌ガス発生装置３を停止させ、排気用電磁切替弁１８を開き排気装置７を作動させる。そして、設定圧に減圧されると、排気装置７を停止させて電磁切替弁１８を閉じて再び前記注入工程を行う。この工程を必要回数繰り返す。この時の排気、注入の回数、注入する殺菌ガス量などは殺菌庫のサイズや必要とされる殺菌効果により設定を行う。次に、前記殺菌工程が終了した後、電磁切替弁１７を開いてエアフィルター６より雰囲気ガスを殺菌庫１内に注入し、庫内に残留する殺菌ガスを希釈し、大気圧近くまで圧力が上昇すると、電磁切替弁１７を閉じて再び排気装置７を作動させて、殺菌ガス無害化装置９を介して、希釈した殺菌ガスを安全なガスに処理して排気する。この殺菌ガス排気工程を所定回数繰り返し、殺菌庫１内の残留殺菌ガスをすべて排気する。この殺菌ガス排気工程が終了すると表示手段１６にその旨が表示され、殺菌庫用扉２を開とし、被殺菌処理対象物を取り出す。

このように、被殺菌処理対象物を内部に収納する殺菌庫と、内部にガスが浸透しにくい被殺菌処理対象物に殺菌ガスを浸透させる機構とを有する殺菌ガス浸透装置において、殺菌庫１内の圧力を陰圧から常圧で変動の範囲で制御する機構を設けたことにより、自動的に該工程を必要回数繰り返して被殺菌処理対象物にすみずみまで殺菌ガスを浸透させることができると共に、被殺菌処理対象物に付着した細菌に対して環境条件の変動をもたらし、殺菌効果を効率よく上げることができる。

実施例１及び実施例２において殺菌ガスとして使用するガスは、オゾンガス、安定化二酸化塩素等の殺菌効果が高いガスが挙げられるが、特にこれらに限定するものではなくガスの種類による殺菌効果の違い、殺菌処理時間、ランニングコスト等を考慮して適宜選択をして使用することが可能である。

次に実施例３について、図３により説明を行う。
本実施例３で示す殺菌ガス浸透装置の全体構成は、実施例２で示した全体構成に一部装置・配管類を追加して、殺菌ガスとしてオゾンガスを用いたものであり、水あるいは過酸化水素水の貯水タンク４を設けている。該貯水タンク４は、供給水ポンプ５、電磁切替弁２２、ノズル１２を介して殺菌庫１に連通されている。なお、該貯水タンク４に替えて、殺菌庫１内に加湿装置１４を内設した水あるいは過酸化水素水の貯水タンク１３を設置してもよい。供給水ポンプ５、電磁切替弁２２、加湿機器１４は、制御回路３０と接続されている。該制御回路３０は中央演算処理装置（ＣＰＵ）や記憶装置（ＲＡＭやＲＯＭ）やインターフェース等からなり、ＲＯＭに後述する制御プログラムが記憶されている。

次に殺菌制御を説明する。実施例２と同様に被殺菌処理対象物を殺菌庫１に収納した後に殺菌ガス注入工程を行う。この時同時に供給水ポンプ５を作動させて、貯水タンク４内の水あるいは過酸化水素水が、ノズル１２より殺菌庫１内に霧状に噴霧される。なお、貯水タンク４に替えて、貯水タンク１３を設置した場合は、貯水タンク１３内の水あるいは過酸化水素水が加湿装置１４により霧化され、殺菌庫１内に、噴霧される。但し、水や過酸化水素水を霧状に噴霧するものは前記ノズル１２や加湿装置１４に限定するものではなく、ヒーターや超音波霧化装置や振動子等の部材であってもよい。そして、殺菌庫１内が大気圧近くまで戻ったら、上述の殺菌ガス排気工程を行い、殺菌庫１内を低真空化して、再び前述の殺菌ガス注入工程と水あるいは過酸化水素水を供給する工程とを行う。この工程を必要回数繰り返す。この時の排気、注入の回数、注入する殺菌ガス量などは殺菌庫のサイズや必要とされる殺菌効果により設定を行う。
前記殺菌工程が終了した後、上述の殺菌ガス排気工程を所定回数繰り返し、殺菌庫１内の残留殺菌ガスをすべて排気する。その後、殺菌庫用扉２を開とし、被殺菌処理対象物を取り出す。

このように、前記殺菌ガスがオゾンガス浸透装置である殺菌ガス浸透装置において、オゾンガスが被殺菌処理対象物に浸透する際、同時に水や過酸化水素水等の促進酸化水を霧状に噴霧する機構を設けたことにより、オゾンと水や過酸化水素水等との反応により生じた活性酸素などのラジカルにより殺菌効果を向上させることができる。

次に実施例４について、図４により説明を行う。
本実施例４で示す殺菌ガス浸透装置の全体構成は、実施例３で示した全体構成に一部装置・配管類を追加したものであり、オゾン濃度測定装置１１を設けている。該オゾン濃度測定装置１１には配管４２・４３を介して三方弁からなる電磁切替弁２４・２５の一つのポートと接続され、該電磁切替弁２４の残りのポートは配管４１を介して電磁切替弁２３と排気口１０の近傍まで延出したパイプ３１とを接続している。電磁切替弁２５の残りのポートは配管４４を介して排気口１０と接続し、配管４５を介して殺菌庫１と接続している。前記電磁切替弁２３は三方弁より構成して、残りのポートは殺菌庫１の近傍に延設したパイプ１９と接続し、殺菌庫１とは配管４０を介して接続している。電磁切替弁２３・２４・２５、オゾン濃度測定装置１１は、制御回路３０と接続されている。該制御回路３０は中央演算処理装置（ＣＰＵ）や記憶装置（ＲＡＭやＲＯＭ）やインターフェース等からなり、ＲＯＭに後述する制御プログラムが記憶されている。

次に、実施例４の制御を説明する。オゾン殺菌の工程は前記実施例３と同様に行われる。そして、この殺菌工程の殺菌庫１内のガスの排気中において、電磁切替弁２３，２４，２５が所定時間毎に切り替えられて、殺菌庫１の近傍のオゾン濃度、排気口１０の近傍のオゾン濃度を測定し、殺菌庫１内のオゾン濃度は殺菌終了後に被殺菌処理対象物を取り出す前に測定する。こうして安全確認を行う。
即ち、殺菌庫１の近傍のオゾン濃度を測定する場合には、パイプ１９と配管４１が連通するように電磁切替弁２３を切り替え、電磁切替弁２４は配管４１と配管４２が連通するように切り替える。また、電磁切替弁２５は配管４３と配管４４が連通するように切り換える。こうしてオゾン濃度測定装置１１で測定する。既定値以上のオゾン濃度が検知されなければ、引き続きオゾン殺菌を行う。既定値以上のオゾン濃度が検知されれば漏洩していると判断して、表示手段１６に異常発令が表示され、警報等を発し殺菌作業を停止する。そして、扉２を閉めてあることを確認して、オゾン分解作業を開始する。
オゾンガス排気工程において、排気口１０の近傍のオゾン濃度を測定する場合には、パイプ３１と配管４２が連通するように電磁切替弁２４を切り替える。また、電磁切替弁２５は配管４３と配管４４が連通するように切り換える。こうしてオゾン濃度測定装置１１で測定する。該排気ガス中に既定値以上のオゾン濃度が検知されなければ引き続きオゾン排気工程を行う。該オゾン濃度が検知されれば、作業を停止して、警報を発っし、表示手段１６に殺菌ガス無害化装置の点検及び交換の表示を行う。
オゾン殺菌終了時において、殺菌庫１内のオゾン濃度を測定する場合には、配管４０と配管４１が連通するように電磁切替弁２３を切り替え、電磁切替弁２４は配管４１と配管４２が連通するように切り替える。また、電磁切替弁２５は配管４３と配管４５が連通するように切り換える。こうしてオゾン濃度測定装置１１で測定する。既定値以上のオゾン濃度が検知されなければ表示手段１６に被殺菌処理対象物を殺菌庫１内から取り出してよい旨の表示を行う。既定値以上のオゾン濃度が検知されれば、表示手段１６に異常発令が表示されると共に前記排気工程に移行する。

このように、前記殺菌ガスがオゾンガス浸透装置である殺菌ガス浸透装置において、電磁切替弁２３，２４，２５の切替により、１台のオゾン濃度測定装置１１で殺菌庫外のオゾン濃度と殺菌庫内のオゾン濃度とを検知する機構を設けたことにより、オゾン濃度を効率よく検知できる。
また、前記殺菌ガスがオゾンガスである殺菌ガス浸透装置において、前記検知結果に基づいてオゾン濃度を制御する機構と、その検知されたオゾン濃度についての情報を表示する機構とを設けたことにより、殺菌庫１からのオゾンの漏洩や殺菌ガス無害化装置９の動作不良によるオゾンの漏洩やオゾン殺菌終了時における殺菌庫１内のオゾンの残留を防止でき、殺菌処理を安全に効率よく行うことができる。

次に実施例５について、図５により説明を行う。
本実施例５で示す殺菌ガス浸透装置の全体構成は、実施例４で示した全体構成に一部装置・配管類を追加したものであり、電磁ロック３２、センサ３３を設けたものである。該電磁ロック３２は殺菌庫用扉２の施錠部分に装着されている。センサ３３は殺菌庫１内に設置されている。センサ３３としては、人物を検出できる赤外線センサやゆらぎセンサなどが挙げられる。電磁ロック３２、センサ３３は制御回路３０と接続されている。該制御回路３０は中央演算処理装置（ＣＰＵ）や記憶装置（ＲＡＭやＲＯＭ）やインターフェース等からなり、ＲＯＭに後述する制御プログラムが記憶されている。

前記オゾン殺菌および排気の各工程において、殺菌庫１内に設置されているセンサ３３が人の有無を検知し、もし存在が確認されれば、電磁ロック３２の開放と、殺菌ガス発生装置３の停止とを行う。

このように、前記殺菌ガスがオゾンガス浸透装置である殺菌ガス浸透装置において、殺菌庫１内に人物検知用のセンサ３３を設けたことにより、殺菌処理を安全に行うことができる。

以上のように、被殺菌処理対象物を内部に収納する殺菌庫と、内部にガスが浸透しにくい被殺菌処理対象物に殺菌ガスを浸透させる機構とを有する殺菌ガス浸透装置において、殺菌庫内の圧力を陰圧及び陽圧に変動できる機構を設けたので、殺菌庫の内部と外部に圧力差を設けることができて、殺菌ガスが浸透しにくい寝具などの被殺菌処理対象物に、隅々まで殺菌ガスを浸透させることができる。

また、被殺菌処理対象物を内部に収納する殺菌庫と、内部にガスが浸透しにくい被殺菌処理対象物に殺菌ガスを浸透させる機構とを有する殺菌ガス浸透装置において、殺菌庫内の圧力を陰圧から常圧までの範囲で制御する機構を設けたので、殺菌庫内の圧力を陰圧から常圧の範囲で変動を加えて、被殺菌処理対象物に隅々まで殺菌ガスを浸透させることができると共に、被殺菌処理対象物に付着した細菌に対し、環境条件の変動をもたらし、殺菌効果を上げることができる。

また、前記殺菌ガスをオゾンガスとすることで、短時間で同様の効果を得ることができ、しかもランニングコストの低減もできる。

また、前記殺菌ガスを安定化二酸化塩素とすることで、従来の殺菌ガスに比べ、短時間で同様の効果を得ることができ、しかもランニングコストの低減もできる。

また、オゾンガスを用いた前記殺菌ガス浸透装置において、オゾンガスが被殺菌処理対象物に浸透する際に、同時に殺菌庫内に水を噴霧する機構を設けたので、殺菌庫内においてオゾンガスと水との反応により、活性酸素などのラジカルを生成することができ、さらに殺菌効果を向上させることができる。

また、オゾンガスを用いた前記殺菌ガス浸透装置において、オゾンガスが被殺菌処理対象物に浸透する際に、同時に殺菌庫内に酸化促進水を噴霧する機構を設けたので、殺菌庫内においてオゾンガスと過酸化水素水との反応により、活性酸素などのラジカルを生成することができ、さらに殺菌効果を向上させることができる。

また、被殺菌処理対象物を内部に収納する殺菌庫と、内部にガスが浸透しにくい被殺菌処理対象物に殺菌ガスを浸透させる機構と、殺菌庫内の殺菌ガスを無害化して排気する機構とを有するオゾンガスを用いた殺菌ガス浸透装置において、１台のオゾン濃度測定装置で殺菌庫外のオゾン濃度と殺菌庫内のオゾン濃度とを検知する機構と、その検知結果に基づいてオゾン濃度を制御する機構と、その検知されたオゾン濃度についての情報を表示する機構とを設けたので、オゾン濃度が表示されて、殺菌状態が容易に判り、殺菌作業を安全に行うことができる。

また、殺菌ガス浸透装置において、殺菌庫内に人物検知用のセンサを設けたので、殺菌庫内に設けられた人物検知用センサにより、殺菌処理中に人物の有無を確認できるので、殺菌処理を安全に行うことができる。

本発明の実施例１を示す殺菌ガス浸透装置の概略構成図。本発明の実施例２を示す殺菌ガス浸透装置の概略構成図。本発明の実施例３を示す殺菌ガス浸透装置の概略構成図。本発明の実施例４を示す殺菌ガス浸透装置の概略構成図。本発明の実施例５を示す殺菌ガス浸透装置の概略構成図。

符号の説明

１殺菌庫
２殺菌庫用扉
３殺菌ガス発生装置
４貯水タンク
７排気装置
９殺菌ガス無害化装置
１０排気口
１１オゾン濃度測定装置
１３貯水タンク
１５圧力計測装置
１６表示手段
３０制御回路

Claims

被殺菌処理対象物を内部に収納する殺菌庫と、内部にガスが浸透しにくい被殺菌処理対象物に殺菌ガスを浸透させる機構とを有する殺菌ガス浸透装置において、殺菌庫内の圧力を陰圧及び陽圧に変動できる機構を設けたことを特徴とする殺菌ガス浸透装置。
被殺菌処理対象物を内部に収納する殺菌庫と、内部にガスが浸透しにくい被殺菌処理対象物に殺菌ガスを浸透させる機構とを有する殺菌ガス浸透装置において、殺菌庫内の圧力を陰圧から常圧までの範囲で制御する機構を設けたことを特徴とする殺菌ガス浸透装置。
前記殺菌ガスがオゾンガスであることを特徴とする請求項１又は請求項２のいずれかに記載の殺菌ガス浸透装置。
前記殺菌ガスが安定化二酸化塩素であることを特徴とする請求項１又は請求項２のいずれかに記載の殺菌ガス浸透装置。
請求項３に記載の殺菌ガス浸透装置において、オゾンガスが被殺菌処理対象物に浸透する際に、同時に殺菌庫内に水を噴霧する機構を設けたことを特徴とする殺菌ガス浸透装置。
請求項３に記載の殺菌ガス浸透装置において、オゾンガスが被殺菌処理対象物に浸透する際に、同時に殺菌庫内に酸化促進水を噴霧する機構を設けたことを特徴とする殺菌ガス浸透装置。
被殺菌処理対象物を内部に収納する殺菌庫と、内部にガスが浸透しにくい被殺菌処理対象物に殺菌ガスを浸透させる機構と、殺菌庫内の殺菌ガスを無害化して排気する機構とを有するオゾンガスを用いた殺菌ガス浸透装置において、１台のオゾン濃度測定装置で殺菌庫外のオゾン濃度と殺菌庫内のオゾン濃度とを検知する機構と、その検知結果に基づいてオゾン濃度を制御する機構と、その検知されたオゾン濃度についての情報を表示する機構とを設けたことを特徴とする殺菌ガス浸透装置。
請求項３に記載の殺菌ガス浸透装置において、１台のオゾン濃度測定装置で殺菌庫外のオゾン濃度と殺菌庫内のオゾン濃度とを検知する機構と、その検知結果に基づいてオゾン濃度を制御する機構と、その検知されたオゾン濃度についての情報を表示する機構とを設けたことを特徴とする殺菌ガス浸透装置。
請求項１から請求項８のいずれかに記載の殺菌ガス浸透装置において、殺菌庫内に人物検知用のセンサを設けたことを特徴とする殺菌ガス浸透装置。