JP2008124477A - 荷電粒子ビーム露光方法及びその露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】試料を移動させながら該試料に荷電粒子ビームを照射して露光パターンの領域を露光する荷電粒子ビーム露光方法において、露光パターンのデータと露光位置のデータとを少なくとも有するパターンデータ53から生成されて少なくとも露光パターンの疎密情報を有する2次データ54に従って、試料の移動方向の速度分布を有する速度データ56を生成する工程と、その求められた速度データ56に従って試料を可変速度で移動させながら、パターンデータ53に従って試料上に荷電粒子ビームを照射する工程とを有する。
【選択図】図2
Description
21〜24 マスク偏向器
33 主偏向器
34 副偏向器
36 試料(ウエハ)
35 ステージ
53 パターンデータファイル
54 2次データファイル
56 速度データファイル
60 ステージ制御部
Claims (29)
- 試料を移動させながら該試料に荷電粒子ビームを照射して露光パターンの領域を露光する荷電粒子ビーム露光方法において、前記露光パターンのデータと露光位置のデータとを少なくとも有するパターンデータから生成され、少なくとも前記露光パターンの疎密情報を有する2次データに従って、前記試料の移動方向の速度分布を有する速度データを生成する工程と、前記求められた速度データに従って前記試料を可変速度で移動させながら、前記パターンデータに従って前記試料上に荷電粒子ビームを照射する工程と、を有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項1において、前記2次データが、前記露光パターンを分割した小ブロック領域の前記疎密情報を少なくとも該小ブロック領域毎に若しくは該小ブロック領域を分割した領域毎に有する構成であり、前記速度データ生成工程で、該小ブロック領域毎の試料の移動速度を有する前記速度データが生成されることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項1または2において、前記荷電粒子ビームの照射工程では、所定形状に整形された荷電粒子ビームが複数回に渡り前記試料に照射され、前記2次データは、該照射の回数を少なくとも有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項3において、前記速度データの生成工程において、前記2次データの照射回数とそれぞれの照射時間の積の累積値にしたがう露光時間分布に基づいて、前記速度データが生成されることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項1または2において、前記荷電粒子ビームの照射工程では、所定形状に整形された荷電粒子ビームが該試料の所定位置に偏向されて該試料に照射され、前記2次データは、該偏向位置の変化の回数を少なくとも有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項5において、前記速度データの生成工程において、前記2次データの偏向位置の変化の回数と露光装置の偏向器の偏向位置の変化に要する偏向時間の積にしたがう露光時間の分布に基づいて、前記速度データが生成されることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項5において、前記2次データは、該偏向位置の変化の量に対応する該偏向位置の変化の回数を有する度数分布を少なくとも有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項7において、前記速度データの生成工程において、前記2次データの度数分布に含まれる偏向位置の変化の量に対応する該偏向位置変化の回数と、それぞれの該露光位置の変化の量に応じた偏向位置の変化に要する時間との積の累積値にしたがう露光時間の分布に基づいて、前記速度データが生成されることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項1または2において、前記荷電粒子ビームの照射工程では、該荷電粒子ビームが透過マスクの所定位置に偏向されて所定形状に整形され、該整形された荷電粒子ビームが該試料の所定位置に偏向されて該試料に照射され、前記2次データは、該透過マスク上の偏向位置の変化の回数と、該試料上の偏向位置の変化の回数とを少なくとも有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項9において、前記2次データは、該透過マスク上の偏向位置の変化量及び該試料上の偏向位置の変化量の少なくとも2次元の度数分布を有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項9または10において、前記速度データの生成工程において、前記2次データの偏向位置の変化回数または該2次元の度数分布が有する変化回数と、それぞれの偏向位置の変化に要する時間との積の累積値に従って、前記速度データが生成されることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 試料を移動させながら該試料の所定の位置に荷電粒子ビームを偏向して照射し、露光パターンの領域を露光する荷電粒子ビーム露光方法において、複数の偏向領域毎に前記露光パターンのデータと露光位置のデータとを少なくとも有するパターンデータから、少なくとも前記露光パターンの疎密情報を有する2次データを生成する工程と、該2次データに従って、前記試料の移動方向の速度分布を有する速度データを生成する工程と、前記求められた速度データに従って前記試料を可変速度で移動させながら、前記パターンデータに従って前記試料上に荷電粒子ビームを照射する工程と、を有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項12において、前記2次データは、前記荷電粒子ビームの照射回数を少なくとも有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項12において、前記2次データは、前記荷電粒子ビームの偏向位置の変化の回数を少なくとも有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 試料に荷電粒子ビームを照射して該試料を露光パターンに露光する荷電粒子ビーム露光装置において、前記露光パターンの少なくとも照射パターンと照射位置を含むパターンデータを格納するパターンデータファイルと、該パターンデータから生成され、少なくとも複数の領域毎の露光パターンの疎密情報を有する2次データを格納する2次データファイルと、前記パターンデータに従って、前記試料の所定位置に該荷電粒子ビームを偏向し照射して該試料を露光パターンに露光する露光手段と、前記2次データに従って、前記試料を連続的に可変速で移動させる試料移動制御手段とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。
- 請求項15において、前記2次データは、前記荷電粒子ビームの照射回数を少なくとも有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。
- 請求項15において、前記2次データは、前記荷電粒子ビームの偏向位置の変化の回数を少なくとも有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。
- 試料を移動させながら該試料に荷電粒子ビームを偏向し照射して露光パターンの領域を露光する荷電粒子ビーム露光方法において、前記偏向が可能な範囲内の幅を有し、前記移動による該試料のスキャン方向に延びるフレーム領域内であって、該フレーム領域を該スキャン方向に分割した小ブロック領域それぞれに対応する移動速度を、前記小ブロック領域内の露光パターンの疎密度に従って求める工程と、それぞれの該小ブロック領域の移動速度を越えない速度であって、該移動速度に応じた可変速度で、前記試料を移動させながら、前記荷電粒子ビームを該試料に偏向、照射する工程とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項18において、前記小ブロック領域毎の移動速度が、一定速度で該試料を移動させながら当該小ブロック領域を露光することができる最高移動速度であることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項18において、更に、前記小ブロック領域の境界を速度設定点と定義し、該速度設定点の速度として当該速度設定点の両側の小ブロック領域の前記移動速度のうち遅い速度を設定する工程を有し、前記ビーム照射工程では、該速度設定点の設定速度に沿った可変速度で前記試料を移動させることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項20において、前記小ブロック領域毎の移動速度が、一定速度で該試料を移動させながら当該小ブロック領域を露光することができる最高移動速度であることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項20において、更に、前記小ブロック領域内の所定の位置を追加の速度設定点と定義し、該追加の速度設定点の速度として、該領域の最高移動速度を設定する工程を有し、前記ビーム照射工程では、該速度設定点と追加の速度設定点の設定速度に沿った可変速度で前記試料を移動させることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項20または22において、前記速度設定点の設定速度が、露光装置の試料移動可能な速度上限値を越えないように設定されていることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項20または22において、隣接する2つの速度設定点の設定速度の差が、露光装置の加速度の正の上限値より大きい若しくは負の下限値より小さい場合は、当該2つの速度設定点の設定速度のうち大きい設定速度を、前記加速度の範囲内で速度制御可能な速度に変更する工程を更に有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項24において、前記速度変更工程は、前記フレームのスキャン開始点からスキャン方向にしたがって、隣接する2つの前記速度設定点を順次抽出し、前記設定速度の変更を行うに際し、ある速度設定点nとその次の速度設定点n+1における設定速度の変化が、前記加速度の負の下限値より小さい加速度を必要とする場合には、前記速度設定点nの設定速度を小さく変更すると共に、抽出する速度設定点を戻して速度設定点n−1と速度設定点nの設定速度の変更が前記加速度の上限と下限の範囲内か否かの判定を行うことを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項24において、前記速度変更工程は、前記フレームのスキャン終了点からスキャン方向と逆方向にしたがって、隣接する2つの前記速度設定点を順次抽出し、前記設定速度の変更を行うに際し、ある速度設定点nとその次の速度設定点n+1における設定速度の変化が、前記加速度の正の上限値より大きい加速度を必要とする場合には、前記速度設定点n+1の設定速度を小さく変更すると共に、抽出する速度設定点を戻して速度設定点n+1と速度設定点n+2の設定速度の変更が前記加速度の上限と下限の範囲内か否かの判定を行うことを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項20または22において、前記ビーム照射工程では、該試料の移動が、前記速度設定点での該設定速度で行われ、該速度設定点の間の領域では両側の速度設定点の設定速度の間の速度で行われることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 請求項20または22において、前記ビーム照射工程では、該試料の移動が、次の速度設定点での設定速度が現在の速度設定点での設定速度より大きい時は、現在の速度設定点を通過した直後に加速を開始し、小さい時は現在の速度設定点を通過後で次の速度設定点の手前から減速を開始することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
- 試料に荷電粒子ビームを照射して該試料を露光パターンに露光する荷電粒子ビーム露光装置において、前記露光パターンの少なくとも照射パターンと照射位置を含むパターンデータを格納するパターンデータファイルと、該パターンデータから生成され、少なくとも複数の領域毎の露光パターンの疎密情報を有する2次データを格納する2次データファイルと、前記パターンデータに従って、前記試料の所定位置に該荷電粒子ビームを偏向し照射して該試料を露光パターンに露光する露光手段と、前記ビームの偏向が可能な範囲内の幅を有し、前記移動による該試料のスキャン方向に延びるフレーム領域内であって、該フレーム領域を該スキャン方向に分割した小ブロック領域それぞれに対応する移動速度を、前記2次データの疎密度に従って求め、該移動速度に応じた可変速度で前記試料を移動させる試料移動制御手段とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。
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