JP2008122603A - Antireflection film, and filter for display - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、反射防止フィルム及びディスプレイ用フィルターに係り、特に、高硬度で耐磨耗性に優れ、しかも防汚性にも優れた最表面層を有し、傷が付き難く、また、汚れ難い反射防止フィルムと、この反射防止フィルムを用いたディスプレイ用フィルターに関する。 The present invention relates to an antireflection film and a display filter, and in particular, has an outermost surface layer having high hardness, excellent wear resistance, and excellent antifouling properties, and is hardly scratched and hardly soiled. The present invention relates to an antireflection film and a display filter using the antireflection film.
本発明の反射防止フィルムは、ワープロ、コンピュータ、ＣＲＴ、プラズマテレビ、ＦＥＤパネル、液晶ディスプレイ、有機ＥＬなどの各種ディスプレイ、及び自動車、建築物、電車の窓ガラスや絵画の額ガラス等に好適である。 The antireflection film of the present invention is suitable for various displays such as word processors, computers, CRTs, plasma televisions, FED panels, liquid crystal displays, and organic ELs, as well as window glass of automobiles, buildings, trains, and picture frames. .
ワープロ、コンピュータ、ＣＲＴ、プラズマテレビ、ＦＥＤパネル、液晶ディスプレイ、有機ＥＬなどの各種ディスプレイ、及び自動車、建築物、電車の窓ガラスや絵画の額ガラス等には、光の反射を防止して高い光透過性を確保するために反射防止フィルムが適用されている。 High light by preventing reflection of light on word processors, computers, CRTs, plasma televisions, FED panels, liquid crystal displays, organic EL, and other displays, as well as automobiles, buildings, train window glass, and picture frame glass. An antireflection film is applied to ensure transparency.
この種の用途に用いられる反射防止フィルムとして、透明基材フィルム上に易接着層、ハードコート層及び低屈折率層、或いは易接着層、ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層が、この順で積層されたものが提供されている（特開２００５−１８１５４５号公報）。 As an antireflection film used for this kind of application, an easy-adhesion layer, a hard coat layer and a low refractive index layer, or an easy adhesion layer, a hard coat layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer on a transparent substrate film. In this order, a laminate is provided (Japanese Patent Laid-Open No. 2005-181545).
このような反射防止フィルムには、反射防止機能、即ち、反射率（視感反射率）を下げることはもとより、帯電防止性を付与すること、表面が高硬度で耐磨耗性に優れ、傷が付き難いこと、また汚れが付き難いことなどが要求されている。
従来、反射防止フィルムの表面の防汚性を高めるためには、シリコーン材を添加する方法などが採用されているが、この方法では表面のシリコーン材の硬度が低い為に表面硬度が低下し、また、耐磨耗性も劣るものとなるという欠点があった。 Conventionally, in order to increase the antifouling property of the surface of the antireflection film, a method of adding a silicone material, etc. has been adopted, but in this method the surface hardness is lowered because the hardness of the surface silicone material is low, In addition, there is a drawback that the wear resistance is inferior.
本発明は上記従来の問題点を解決し、反射防止フィルムの表面硬度及び耐磨耗性を低下させることなく良好な防汚性を付与し、傷が付き難く、また汚れも付き難く長期使用時の耐久性に優れた反射防止フィルムと、この反射防止フィルムを用いたディスプレイ用フィルターを提供することを目的とする。 The present invention solves the above-mentioned conventional problems, imparts good antifouling properties without lowering the surface hardness and wear resistance of the antireflection film, is hardly scratched, and is difficult to get dirty. An object of the present invention is to provide an antireflection film having excellent durability and a display filter using the antireflection film.
本発明（請求項１）の反射防止フィルムは、多官能（メタ）アクリル系化合物とフッ素系界面活性剤とを、多官能（メタ）アクリル系化合物：フッ素系界面活性剤＝９９．９：０．１〜９０：１０（重量比）の割合で含有する塗膜を硬化させてなる最表面層を有することを特徴とする。 The antireflection film of the present invention (invention 1) comprises a polyfunctional (meth) acrylic compound and a fluorosurfactant, polyfunctional (meth) acrylic compound: fluorine surfactant = 99.9: 0. It has the outermost surface layer formed by hardening the coating film contained in the ratio of 0.1-90: 10 (weight ratio).
請求項２の反射防止フィルムは、請求項１において、該最表面層が透明基板フィルム上にハードコート層を介して形成された該ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層であることを特徴とする。 The antireflection film of claim 2 is a low refractive index layer having a lower refractive index than that of the hard coat layer formed on the transparent substrate film via the hard coat layer in the antireflection film of claim 1. It is characterized by.
請求項３の反射防止フィルムは、請求項２において、該低屈折率層が中空のシリカ微粒子（以下「ポーラスシリカ」と称す。）を含むことを特徴とする。 The antireflection film of claim 3 is characterized in that, in claim 2, the low refractive index layer contains hollow silica fine particles (hereinafter referred to as “porous silica”).
請求項４の反射防止フィルムは、請求項３において、該低屈折率層中のポーラスシリカの含有量が２０〜７０重量％であることを特徴とする。 The antireflection film of claim 4 is characterized in that, in claim 3, the content of porous silica in the low refractive index layer is 20 to 70% by weight.
請求項５の反射防止フィルムは、請求項１ないし４のいずれか１項において、該多官能（メタ）アクリル系化合物がジペンタエリスリトールヘキサアクリレートであることを特徴とする。 The antireflection film according to claim 5 is characterized in that, in any one of claims 1 to 4, the polyfunctional (meth) acrylic compound is dipentaerythritol hexaacrylate.
請求項６の反射防止フィルムは、請求項１ないし５のいずれか１項において、該最表面層が、少なくとも多官能（メタ）アクリル系化合物とフッ素系界面活性剤と光重合開始剤とを含む塗膜に紫外線を照射することにより硬化させてなることを特徴とする。 The antireflection film according to claim 6 is the antireflection film according to any one of claims 1 to 5, wherein the outermost surface layer includes at least a polyfunctional (meth) acrylic compound, a fluorosurfactant, and a photopolymerization initiator. The coating film is cured by irradiating with ultraviolet rays.
請求項７の反射防止フィルムは、請求項２ないし６のいずれか１項において、該ハードコート層が導電性金属酸化物粒子を含むことを特徴とする。 The antireflection film of claim 7 is characterized in that, in any one of claims 2 to 6, the hard coat layer contains conductive metal oxide particles.
請求項８の反射防止フィルムは、請求項７において、該ハードコート層は、導電性金属酸化物微粒子と樹脂とを導電性金属酸化物微粒子／樹脂＝５／９５〜９０／１０（重量比）の割合で含むことを特徴とする。 The antireflection film according to claim 8 is the antireflection film according to claim 7, wherein the hard coat layer comprises conductive metal oxide fine particles and resin, conductive metal oxide fine particles / resin = 5/95 to 90/10 (weight ratio). It is characterized by including in the ratio.
請求項９の反射防止フィルムは、請求項２ないし８のいずれか１項において、前記ハードコート層と透明基材フィルムとの間に易接着層を有することを特徴とする。 An antireflection film according to a ninth aspect is characterized in that, in any one of the second to eighth aspects, an easy-adhesion layer is provided between the hard coat layer and the transparent substrate film.
請求項１０の反射防止フィルムは、請求項２ないし９のいずれか１項において、該ハードコート層と低屈折率層との間に該ハードコート層よりも屈折率の高い高屈折率層を有することを特徴とする。 The antireflection film according to claim 10 has a high refractive index layer having a higher refractive index than that of the hard coat layer between the hard coat layer and the low refractive index layer according to any one of claims 2 to 9. It is characterized by that.
本発明（請求項１１）のディスプレイ用フィルターは、請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを含むことを特徴とする。 The display filter of the present invention (invention 11) is characterized by including the antireflection film according to any one of claims 1 to 10.
請求項１２のディスプレイ用フィルターは、請求項１１において、前記反射防止フィルムに対して近赤外線吸収層及び／又は導電層が接着剤層を介して設けられていることを特徴とする。 A display filter according to a twelfth aspect is characterized in that, in the eleventh aspect, a near-infrared absorbing layer and / or a conductive layer is provided on the antireflection film via an adhesive layer.
多官能（メタ）アクリル系化合物とフッ素系界面活性剤とを所定割合で含む塗膜を硬化させてなる層は、高硬度で耐磨耗性に優れる上に防汚性も良好であり、このような層を最表面層として有する反射防止フィルムであれば、長期使用によっても傷が付き難く、また汚れも付き難いため、美麗で視認性に優れた表面を維持することができる。 A layer formed by curing a coating film containing a polyfunctional (meth) acrylic compound and a fluorosurfactant in a predetermined ratio has high hardness, excellent wear resistance, and good antifouling properties. If it is an antireflection film having such a layer as the outermost surface layer, it is difficult to get scratches and stains even after long-term use, so that a beautiful and highly visible surface can be maintained.
以下に図面を参照して本発明の反射防止フィルム及びディスプレイ用フィルターの実施の形態を詳細に説明する。 Embodiments of an antireflection film and a display filter according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
図１（ａ），（ｂ）は本発明の反射防止フィルムの実施の形態を示す断面図であり、図２は本発明のディスプレイ用フィルターの実施の形態を示す断面図である。 1A and 1B are cross-sectional views showing an embodiment of the antireflection film of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing an embodiment of the display filter of the present invention.
図１（ａ）の反射防止フィルム１０は、易接着層２を有する透明基材フィルム１の易接着層２面側にハードコート層３を介して最表面層としての低屈折率層４が形成されたものである。図１（ｂ）の反射防止フィルム１０Ａは、このような反射防止フィルムに更にハードコート層３と低屈折率層４との間に高屈折率層５を設けたものである。 In the antireflection film 10 of FIG. 1A, the low refractive index layer 4 as the outermost surface layer is formed on the easy adhesion layer 2 surface side of the transparent base film 1 having the easy adhesion layer 2 via the hard coat layer 3. It has been done. The antireflection film 10 </ b> A of FIG. 1B is obtained by further providing a high refractive index layer 5 between the hard coat layer 3 and the low refractive index layer 4 on such an antireflection film.
本発明において、透明基材フィルム１としては、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリウレタン、セロファン等、好ましくはＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡの透明フィルムが挙げられる。 In the present invention, as the transparent substrate film 1, polyester, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic, polycarbonate (PC), polystyrene, cellulose triacetate (TAC), polyvinyl alcohol, Polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyurethane, cellophane, etc., preferably PET, PC, and PMMA transparent films.
透明基材フィルム１の厚さは得られる反射防止フィルムの用途による要求特性（例えば、強度、薄膜性）等によって適宜決定されるが、通常の場合、０．１〜２ｍｍの範囲とされる。 The thickness of the transparent substrate film 1 is appropriately determined depending on the required characteristics (for example, strength and thin film properties) depending on the use of the obtained antireflection film, and is usually in the range of 0.1 to 2 mm.
易接着層２は、透明基材フィルム１へのハードコート層３の密着性を良くするためのものであり、通常、共重合ポリエステル樹脂とポリウレタン系樹脂等の熱硬化性樹脂に、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３等の金属酸化物微粒子、好ましくは平均粒径１〜１００ｎｍ程度の金属酸化物微粒子を配合して、屈折率を調整したものが用いられる。なお、樹脂だけで屈折率を１．５８程度にすることも可能である。 The easy-adhesion layer 2 is for improving the adhesion of the hard coat layer 3 to the transparent substrate film 1. Usually, a thermosetting resin such as a copolyester resin and a polyurethane resin is used with SiO 2 , A metal oxide fine particle such as ZrO 2 , TiO 2 , or Al 2 O 3 , preferably a metal oxide fine particle having an average particle diameter of about 1 to 100 nm is blended to adjust the refractive index. In addition, it is possible to make the refractive index about 1.58 only with resin.
易接着層２の屈折率は１．５８〜１．７５、特に１．５８５〜１．７０の範囲で、厚さは０．０１〜０．１０μｍ程度であることが好ましい。易接着層２の屈折率が１．５８未満又は１．７５を超えると、５３５〜５５０ｎｍの振幅が大きくなる。また、易接着層２の厚さが０．０１μｍ未満であるとハードコート層との密着性が悪化し、５３５〜５５０ｎｍの振幅が大きくなり、０．１０μｍを超えると５３５〜５５０ｎｍの振幅が大きくなる。 The easy-adhesion layer 2 preferably has a refractive index of 1.58 to 1.75, particularly 1.585 to 1.70, and a thickness of about 0.01 to 0.10 μm. When the refractive index of the easy-adhesion layer 2 is less than 1.58 or exceeds 1.75, the amplitude of 535 to 550 nm increases. Further, when the thickness of the easy-adhesion layer 2 is less than 0.01 μm, the adhesion with the hard coat layer is deteriorated, and the amplitude of 535 to 550 nm increases, and when it exceeds 0.10 μm, the amplitude of 535 to 550 nm increases. Become.
ハードコート層３は、好ましくは導電性金属酸化物微粒子を含む紫外線硬化型樹脂層である。 The hard coat layer 3 is preferably an ultraviolet curable resin layer containing conductive metal oxide fine particles.
ハードコート層３の導電性金属酸化物微粒子としては、透明性に優れた高屈折率層を形成することができることから、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、五酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５）を用いることが好ましく、導電性金属酸化物微粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍ程度であることが好ましい。導電性金属酸化物微粒子の平均粒径が大き過ぎると透明性が悪化するので好ましくなく、小さ過ぎると二次粒子が発生する恐れがあり、過剰に分散剤を入れなければならず好ましくない。これらの導電性金属酸化物微粒子は１種を単独で用いても良く、２種以上を混合して用いても良い。 Since the conductive metal oxide fine particles of the hard coat layer 3 can form a high refractive index layer excellent in transparency, antimony-containing tin oxide (ATO), tin-containing indium oxide (ITO), zinc oxide, It is preferable to use antimony pentoxide (Sb 2 O 5 ), and the average particle diameter of the conductive metal oxide fine particles is preferably about 5 to 50 nm. If the average particle size of the conductive metal oxide fine particles is too large, the transparency is deteriorated, which is not preferable. If the average particle size is too small, secondary particles may be generated. These conductive metal oxide fine particles may be used alone or in combination of two or more.
ハードコート層の紫外線硬化型樹脂としては、多官能（メタ）アクリル系化合物を主成分とする紫外線硬化型樹脂組成物よりなるものが好ましい。即ち、ハードコート層は、導電性金属酸化物微粒子と、低屈折率層の説明において後述する多官能（メタ）アクリル系化合物と光重合開始剤とを含む紫外線硬化型樹脂組成物を、透明基材フィルム１上の易接着層２に塗布して紫外線を照射することにより形成されることが好ましい。 As the ultraviolet curable resin for the hard coat layer, one made of an ultraviolet curable resin composition containing a polyfunctional (meth) acrylic compound as a main component is preferable. That is, the hard coat layer is formed of an ultraviolet curable resin composition containing conductive metal oxide fine particles, a polyfunctional (meth) acrylic compound, which will be described later in the description of the low refractive index layer, and a photopolymerization initiator. It is preferably formed by applying to the easy-adhesion layer 2 on the material film 1 and irradiating with ultraviolet rays.
ハードコート層の導電性金属酸化物微粒子／樹脂（重量比）は５／９５〜９０／１０、特に８／９２〜１５／８５であることが好ましい。この範囲より導電性金属酸化物微粒子が少ないと、導電性の機能が発揮できず、帯電防止性能が低下し、多いと相対的に樹脂成分量が減ることによりハードコート層の硬度が損なわれる上に、高価な導電性金属酸化物微粒子を多量に配合することで、コスト高につながる。 The conductive metal oxide fine particles / resin (weight ratio) of the hard coat layer is preferably 5/95 to 90/10, particularly preferably 8/92 to 15/85. If the amount of the conductive metal oxide fine particles is less than this range, the conductive function cannot be exhibited, and the antistatic performance is deteriorated. If the amount is large, the amount of the resin component is relatively reduced, and the hardness of the hard coat layer is impaired. In addition, a large amount of expensive conductive metal oxide fine particles is added, leading to high cost.
このハードコート層３の屈折率は１．５２〜１．５４であることが好ましい。また、ハードコート層３の厚さは１〜２０μｍであることが好ましい。ハードコート層３の厚さが１μｍ未満では、ハードコート層３を設けたことによる硬度向上効果を十分に得ることができず、２０μｍを超えるとコストがかかり好ましくない。 The refractive index of the hard coat layer 3 is preferably 1.52 to 1.54. Moreover, it is preferable that the thickness of the hard-coat layer 3 is 1-20 micrometers. If the thickness of the hard coat layer 3 is less than 1 μm, the effect of improving the hardness due to the provision of the hard coat layer 3 cannot be obtained sufficiently.
ハードコート層３の屈折率は、下記式で算出される屈折率差が好ましくは−０．０５〜＋０．０５となるような屈折率であることが、干渉縞の改善のために好ましい。
（透明基材フィルム１の屈折率−易接着層２の屈折率）−（易接着層２の屈折率
−ハードコート層３の屈折率）
The refractive index of the hard coat layer 3 is preferably such that the refractive index difference calculated by the following formula is −0.05 to +0.05 in order to improve interference fringes.
(Refractive index of the transparent base film 1−Refractive index of the easy-adhesion layer 2) − (Refractive index of the easy-adhesion layer 2−Refractive index of the hard coat layer 3)
なお、ハードコート層には紫外線吸収剤を含有させることができ、これにより、反射防止フィルムの耐候（光）性を高めることができる。 Note that the hard coat layer can contain an ultraviolet absorber, thereby improving the weather resistance (light) of the antireflection film.
ハードコート層に含有される紫外線吸収剤としては、無機微粒子又は有機系紫外線吸収剤が挙げられる。 Examples of the ultraviolet absorber contained in the hard coat layer include inorganic fine particles or organic ultraviolet absorbers.
無機微粒子としては、平均粒径１００ｎｍ以下、例えば１０〜１００ｎｍ程度の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム微粒子などの１種又は２種以上を用いることができる。無機微粒子はハードコート層の硬度向上にも有効であり、無機微粒子を配合することにより、ハードコート層を鉛筆硬度Ｈ以上の高硬度ハードコート層とすることができる。 As the inorganic fine particles, one or more of titanium oxide, zinc oxide, cerium oxide, iron oxide, barium sulfate fine particles having an average particle diameter of 100 nm or less, for example, about 10 to 100 nm can be used. The inorganic fine particles are effective in improving the hardness of the hard coat layer, and the hard coat layer can be made into a high hardness hard coat layer having a pencil hardness of H or higher by blending the inorganic fine particles.
有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ヒドロキシベンゾエート系化合物等の１種又は２種以上を用いることができる。 As the organic ultraviolet absorber, one or more of benzotriazole compounds, benzophenone compounds, hydroxybenzoate compounds, and the like can be used.
ベンゾトリアゾール系化合物としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３’−５’ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が例示される。 Examples of benzotriazole compounds include 2- (2′-hydroxy-5′-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-3′-5′di-t-butylphenyl) benzotriazole and the like. Is done.
ベンゾフェノン系化合物としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等が例示される。 Examples of benzophenone compounds include 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone and 2-hydroxy-4-n-octyloxybenzophenone.
ヒドロキシベンゾエート系化合物としては、フェニルサルシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサルシレート、２，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ｎ−ヘキサデシルエステル、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート等が例示される。 Examples of hydroxybenzoate compounds include phenyl salicylate, 4-t-butylphenyl salicylate, 2,5-t-butyl-4-hydroxybenzoic acid n-hexadecyl ester, and 2,4-di-t-butyl. Examples include phenyl-3 ′, 5-di-t-butyl-4′-hydroxybenzoate.
これらの中でも、ベンゾトリアゾール系化合物が好適である。 Of these, benzotriazole compounds are preferred.
ハードコート層中の紫外線吸収剤の含有量は、用いる紫外線吸収剤の種類、要求されるハードコート層の耐候（光）性によっても異なるが、通常、無機微粒子であれば、ハードコート層の樹脂成分１００重量部に対して２０〜１００重量部程度、有機系紫外線吸収剤であれば５〜４０重量部程度含有させることが好ましい。なお、無機微粒子と有機系紫外線吸収剤とを併用しても良く、この場合には無機微粒子１０〜４０重量部と有機系紫外線吸収剤３〜２０重量部とで、合計で樹脂成分１００重量部に対して１０〜６０重量部程度となるように配合することが好ましい。 The content of the UV absorber in the hard coat layer varies depending on the type of UV absorber to be used and the required weather resistance (light) property of the hard coat layer. About 20 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the component, about 5 to 40 parts by weight is preferable if it is an organic ultraviolet absorber. The inorganic fine particles and the organic ultraviolet absorber may be used in combination. In this case, 10 to 40 parts by weight of the inorganic fine particles and 3 to 20 parts by weight of the organic ultraviolet absorber make up a total of 100 parts by weight of the resin component. It is preferable to mix | blend so that it may become about 10-60 weight part with respect to this.
いずれの場合も、紫外線吸収剤の配合量が少な過ぎると十分な耐候（光）性を得ることができず、多過ぎるとハードコート層の硬度が低下したり、透明性が損なわれるなど、好ましくない。 In either case, if the blending amount of the UV absorber is too small, sufficient weather resistance (light) cannot be obtained, and if it is too much, the hardness of the hard coat layer is lowered or the transparency is impaired. Absent.
ところで、紫外線硬化型樹脂組成物がこのような紫外線吸収剤を含むと、この紫外線吸収剤が紫外線を吸収することにより、ハードコート層形成時の紫外線硬化型樹脂組成物の紫外線硬化を阻害する。紫外線の照射量を多くすることにより、紫外線硬化を促進させることは可能である。このような紫外線吸収剤による紫外線硬化阻害を防止するために、紫外線硬化型樹脂組成物中に可視光波長域に吸収を有する化合物、特に波長３８０〜４４０ｎｍに吸収を有する化合物を配合しておくことが好ましい。 By the way, when the ultraviolet curable resin composition contains such an ultraviolet absorber, the ultraviolet absorber absorbs ultraviolet rays, thereby inhibiting ultraviolet curing of the ultraviolet curable resin composition at the time of forming the hard coat layer. It is possible to promote UV curing by increasing the amount of UV irradiation. In order to prevent ultraviolet curing inhibition by such an ultraviolet absorbent, a compound having absorption in the visible light wavelength region, particularly a compound having absorption at a wavelength of 380 to 440 nm, is blended in the ultraviolet curable resin composition. Is preferred.
この、波長４００ｎｍに吸収を有する化合物は、好ましくは波長４０５ｎｍの吸光係数が１×１０１ｍｌ／ｇｃｍ以上である化合物（以下「可視光吸収性化合物」と称す場合がある）であり、例えばホスフィンオキサイド化合物やアシルホスフィンオキサイド化合物などの１種又は２種以上が挙げられる。なお、この吸光係数は、メタノール又はＣＨ３ＣＮ溶媒に溶解させて測定した値である。 The compound having absorption at a wavelength of 400 nm is preferably a compound having an extinction coefficient of 405 nm or more of 1 × 10 1 ml / gcm (hereinafter sometimes referred to as “visible light absorbing compound”), for example, phosphine 1 type, or 2 or more types, such as an oxide compound and an acyl phosphine oxide compound, is mentioned. The extinction coefficient is a value measured by dissolving in methanol or a CH 3 CN solvent.
ホスフィンオキサイド化合物としては、トリエチルホスフィンオキサイド、トリｎ−プロピルホスフィンオキサイド、トリｎ−ブチルホスフィンオキサイド、トリｎ−ヘキシルホスフィンオキサイド、トリｎ−オクチルホスフィンオキサイド、トリｎ−シクロヘキシルホスフィンオキサイド、トリス（３−ヒドロキシプロピル）ホスフィンオキサイド、トリフェニルホスフィンオキサイド等を用いることができる。 Examples of the phosphine oxide compound include triethylphosphine oxide, tri-n-propylphosphine oxide, tri-n-butylphosphine oxide, tri-n-hexylphosphine oxide, tri-n-octylphosphine oxide, tri-n-cyclohexylphosphine oxide, tris (3-hydroxy Propyl) phosphine oxide, triphenylphosphine oxide, and the like can be used.
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジメトキシベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジクロロベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，３，５，６−テトラメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、４−メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、４−エチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、４−イソプロピルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、１−メチルシクロヘキサノイルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィン酸メチルエステル、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィン酸イソプロピルエステル、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド等を用いることができる。 Acylphosphine oxide compounds include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,6-dimethoxybenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,6-dichlorobenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,3,5,6-tetramethylbenzoyl Diphenylphosphine oxide, 2,6-dimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 4-methylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 4-ethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 4-isopropylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 1-methylcyclohexanoylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2,4,6 It can be used trimethyl benzoyl phenyl phosphinic acid methyl ester, 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphinic acid isopropyl ester, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentyl phosphine oxide and the like.
このような可視光吸収性化合物の配合量は樹脂成分１００重量部に対して０．１〜５重量部、特に０．３〜３重量部とすることが好ましい。この可視光吸収性化合物の配合量が少な過ぎると硬化を円滑に促進させることができず、多過ぎると耐光性に悪影響が出る。 It is preferable that the compounding quantity of such a visible light absorptive compound shall be 0.1-5 weight part with respect to 100 weight part of resin components, especially 0.3-3 weight part. If the blending amount of the visible light absorbing compound is too small, curing cannot be promoted smoothly, and if it is too much, the light resistance is adversely affected.
このハードコート層３の上に高屈折率層５を設ける場合、高屈折率層５としては、ＩＴＯ（酸化インジウム・酸化スズ）、ＡＴＯ（酸化アンチモン・酸化スズ）、ＳｎＯ２（酸化スズ）、ＴｉＯ２（酸化チタン）、ＺｒＯ２（酸化ジルコニウム）、ＣｅＯ２（酸化セシウム）等の高屈折率微粒子の１種又は２種以上を含む紫外線硬化型樹脂組成物で形成されたものが好ましく、紫外線硬化型樹脂組成物としては、低屈折率層の説明で後述する多官能（メタ）アクリル系化合物を主成分とするものが好ましい。 When the high refractive index layer 5 is provided on the hard coat layer 3, as the high refractive index layer 5, ITO (indium oxide / tin oxide), ATO (antimony oxide / tin oxide), SnO 2 (tin oxide), TiO 2 (titanium oxide), ZrO 2 (zirconium oxide), preferably those formed with CeO 2 1 kind or ultraviolet curable resin composition comprising two or more high refractive index fine particles (cesium oxide) or the like, ultraviolet As a curable resin composition, what has a polyfunctional (meth) acrylic-type compound mentioned later by description of a low refractive index layer as a main component is preferable.
この高屈折率層５に配合する高屈折率微粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍであることが好ましく、また、高屈折率微粒子と樹脂との配合割合は、高屈折率微粒子／樹脂＝１０／９０〜６０／４０（重量比）であることが好ましい。この範囲よりも樹脂が少ないと、高屈折率層５の膜強度が不足し、多いと高屈折率微粒子が少なくなって屈折率を十分に高めることができない。 The average particle diameter of the high refractive index fine particles blended in the high refractive index layer 5 is preferably 5 to 50 nm, and the blending ratio of the high refractive index fine particles and the resin is high refractive index fine particles / resin = 10 / It is preferable that it is 90-60 / 40 (weight ratio). When the amount of resin is less than this range, the film strength of the high refractive index layer 5 is insufficient, and when the amount is large, the number of high refractive index fine particles decreases and the refractive index cannot be sufficiently increased.
このような高屈折率層５の厚みは４０〜１５０ｎｍ程度が好ましい。また、この高屈折率層５は屈折率１．６５以上、特に１．６６以上であることが好ましく、この場合において、低屈折率層４の屈折率を１．４７以下とすることで、表面反射率の最小反射率１％以下の反射防止性能に優れた反射防止フィルムとすることができる。特に、低屈折率層４の屈折率を１．４５以下とした場合には、更に反射防止性能を高め、表面反射率の最小反射率０．５％以下の反射防止フィルムとすることも可能である。 The thickness of the high refractive index layer 5 is preferably about 40 to 150 nm. The high refractive index layer 5 preferably has a refractive index of 1.65 or more, particularly preferably 1.66 or more. In this case, the low refractive index layer 4 has a refractive index of 1.47 or less. An antireflection film excellent in antireflection performance having a minimum reflectance of 1% or less can be obtained. In particular, when the refractive index of the low refractive index layer 4 is 1.45 or less, it is possible to further improve the antireflection performance and to form an antireflection film having a minimum surface reflectance of 0.5% or less. is there.
最表面層としての低屈折率層４は、多官能（メタ）アクリル系化合物とフッ素系界面活性剤とを多官能（メタ）アクリル系化合物：フッ素系界面活性剤＝９９．９：０．１〜９０：１０、好ましくは９９：１〜９３：７の範囲で含み、光重合開始剤と好ましくは更にポーラスシリカを含む紫外線硬化型樹脂組成物で形成される。 The low refractive index layer 4 as the outermost surface layer comprises a polyfunctional (meth) acrylic compound and a fluorosurfactant as a polyfunctional (meth) acrylic compound: fluorinated surfactant = 99.9: 0.1. ˜90: 10, preferably in the range of 99: 1 to 93: 7, and formed of an ultraviolet curable resin composition containing a photopolymerization initiator and preferably further porous silica.
ここで、多官能（メタ）アクリル系化合物としては、例えばジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリストールヘキサアクリレートのエチレンオキサイド付加物、もしくはエチレンオキサイドのＨをフッ素置換したもの等の６官能（メタ）アクリル系化合物や、例えばペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリストールテトラアクリレートのエチレンオキサイド付加物（１〜８）、もしくは、エチレンオキサイドのＨをフッ素置換したもの等の４官能（メタ）アクリル系化合物等を用いることができ、特にジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを用いるのが好ましい。これらは１種を単独で用いても良く、２種以上を併用しても良い。 Here, as the polyfunctional (meth) acrylic compound, for example, hexafunctional (meth) such as dipentaerythritol hexaacrylate, ethylene oxide adduct of dipentaerythritol hexaacrylate, or ethylene oxide H substituted with fluorine. Acrylic compounds and tetrafunctional (meth) acrylic compounds such as pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate ethylene oxide adduct (1-8), or ethylene oxide H-substituted fluorine, etc. In particular, dipentaerythritol hexaacrylate is preferably used. These may be used alone or in combination of two or more.
本発明で用いるフッ素系界面活性剤とは、次のようなものである。 The fluorosurfactant used in the present invention is as follows.
パーフルオロアルキル基含有カルボン酸塩、パーフルオロアルキル基含有スルホン酸塩、パーフルオロアルキル基含有硫酸エステル塩、パーフルオロアルキル基含有燐酸塩などのアニオン性フッ素系界面活性剤、パーフルオロアルキル基含有アミン塩、パーフルオロアルキル基含有４級アンモニウム塩などのカチオン性フッ素系界面活性剤、パーフルオロアルキル基含有カルボキシベタイン、パーフルオロアルキル基含有アミノカルボン酸塩などの両性フッ素系界面活性剤、パーフルオロアルキル基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基含有ポリマー、パーフルオロアルキル基含有スルホンアミドポリエチレングリコール付加物などのノニオン性フッ素系界面活性剤等を挙げることができる。 Anionic fluorinated surfactants such as perfluoroalkyl group-containing carboxylates, perfluoroalkyl group-containing sulfonates, perfluoroalkyl group-containing sulfate esters, perfluoroalkyl group-containing phosphates, perfluoroalkyl group-containing amines Salt, cationic fluorosurfactants such as perfluoroalkyl group-containing quaternary ammonium salts, amphoteric fluorosurfactants such as perfluoroalkyl group-containing carboxybetaines, perfluoroalkyl group-containing aminocarboxylates, perfluoroalkyl Nonionic fluorosurfactants such as a group-containing oligomer, a perfluoroalkyl group-containing polymer, and a perfluoroalkyl group-containing sulfonamide polyethylene glycol adduct can be exemplified.
具体的には、大日本インキ化学工業（株）社製 商品名：メガファックＦ−１４２Ｄ、Ｆ−１４４Ｄ、Ｆ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７３、Ｆ−１７７、Ｆ−１７８Ａ、Ｆ−１７８Ｋ、Ｆ−１７９、Ｆ−１７９Ａ、Ｆ−１８３、Ｆ−１８４、Ｆ−１９１、Ｆ−８１２、Ｆ−８１５、Ｆ−１４０５、Ｆ４１０、Ｆ−４４３、Ｆ−４４５、Ｆ−４５０、Ｆ−４７１、Ｆ−４７２ＳＦ、Ｆ４７５、Ｆ−４７９、Ｆ−４８２、Ｒ−３０、ＭＣＦ−３５０、ＴＦ１０２５、（株）ネオス製 商品名：フタージェント２５０、２５１、２２２Ｆ、ＦＴＸ−２１８、２１２Ｍ、２４５Ｍ、２９０Ｍ、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２１１Ｓ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＳ−２３０Ｓ、ＦＴＸ−２０９Ｆ、ＦＴＸ−２１３Ｆ、ＦＴＸ−２３３Ｆ、ＦＴＸ−２４５Ｆ、ＦＴＸ−２０８Ｇ、ＦＴＸ−２１８Ｇ、ＦＴＸ−２３０Ｇ、ＦＴＳ−２４０Ｇ、ＦＴＸ−２０４Ｄ、ＦＴＸ−２０８Ｄ、ＦＴＸ−２１２Ｄ、ＦＴＸ−２１６Ｄ、ＦＴＸ−２１８Ｄ、ＦＴＸ−２２０Ｄ、ＦＴＸ−２２２Ｄ、ＦＴＸ−７２０Ｃ、ＦＴＸ−７４０Ｃ、セイミケミカル（株）製 商品名：サーフロンＳ−１１１、Ｓ−１１２、Ｓ−１１３、Ｓ−１２１、Ｓ−１３１、Ｓ−１３２、Ｓ−１４１、Ｓ−１４５、Ｓ−３８１、Ｓ−３８３、Ｓ−３９３、Ｓ−１０１、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００等を挙げることができる。これらの中でも、メガファックＦ−４８２等が好ましい。 Specifically, Dainippon Ink and Chemicals, Inc. product name: MegaFuck F-142D, F-144D, F-171, F-172, F-173, F-177, F-178A, F- 178K, F-179, F-179A, F-183, F-184, F-191, F-812, F-815, F-1405, F410, F-443, F-445, F-450, F- 471, F-472SF, F475, F-479, F-482, R-30, MCF-350, TF1025, manufactured by Neos Co., Ltd. Trade names: Footage 250, 251, 222F, FTX-218, 212M, 245M, 290M, FTX-207S, FTX-211S, FTX-220S, FTS-230S, FTX-209F, FTX-213F, FTX-233F, FTX-245F , FTX-208G, FTX-218G, FTX-230G, FTS-240G, FTX-204D, FTX-208D, FTX-212D, FTX-216D, FTX-218D, FTX-220D, FTX-222D, FTX-720C, FTX -740C, manufactured by Seimi Chemical Co., Ltd. Trade names: Surflon S-111, S-112, S-113, S-121, S-131, S-132, S-141, S-145, S-381, S -383, S-393, S-101, KH-40, SA-100 and the like. Among these, Megafac F-482 and the like are preferable.
低屈折率層４を構成する多官能（メタ）アクリル系化合物とフッ素系界面活性剤との割合が上記範囲を超えて多官能（メタ）アクリル系化合物が多くフッ素系界面活性剤が少ないと十分な防汚性を得ることができず、逆に多官能（メタ）アクリル系化合物が少なくフッ素系界面活性剤が多いと硬度が低下して好ましくない。 It is sufficient if the ratio of the polyfunctional (meth) acrylic compound and the fluorosurfactant constituting the low refractive index layer 4 exceeds the above range and the polyfunctional (meth) acrylic compound is large and the fluorosurfactant is small. If the amount of polyfunctional (meth) acrylic compound is small and the amount of fluorine-based surfactant is large, the hardness is not preferable.
低屈折率層４に好ましく用いられるポーラスシリカは、中空殻状のシリカ微粒子であり、その平均粒径は１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍであることが好ましい。このポーラスシリカの平均粒径が１０ｎｍ未満では、ポーラスシリカの屈折率を下げることが困難であり、かつ、二次粒子が発生する恐れがあり、１００ｎｍを超えると光を乱反射し、また形成される低屈折率層の表面粗さが大きくなるなどの問題が出る。 The porous silica preferably used for the low refractive index layer 4 is hollow shell silica fine particles, and the average particle diameter is preferably 10 to 100 nm, and more preferably 10 to 50 nm. If the average particle diameter of the porous silica is less than 10 nm, it is difficult to lower the refractive index of the porous silica, and secondary particles may be generated. If the average particle diameter exceeds 100 nm, light is irregularly reflected and formed. Problems such as an increase in surface roughness of the low refractive index layer arise.
ポーラスシリカは、中空内部に屈折率の低い空気（屈折率＝１．０）を有しているため、その屈折率は、通常のシリカ（屈折率＝１．４６）と比較して著しく低い。ポーラスシリカの屈折率は、その中空部の体積割合により決定されるが、通常１．２０〜１．４０程度であることが好ましい。 Porous silica has air having a low refractive index (refractive index = 1.0) inside the hollow, and therefore its refractive index is significantly lower than that of ordinary silica (refractive index = 1.46). The refractive index of the porous silica is determined by the volume ratio of the hollow part, but is usually preferably about 1.20 to 1.40.
なお、ポーラスシリカの屈折率：ｎ（ポーラスシリカ）は、中空微粒子の殻部を構成するシリカの屈折率：ｎ（シリカ）、内部の空気の屈折率：ｎ（空気）から、次のようにして求められる。 The refractive index of porous silica: n (porous silica) is as follows from the refractive index of silica constituting the shell of hollow fine particles: n (silica) and the refractive index of air inside: n (air). Is required.
ｎ（ポーラスシリカ）＝ｎ（シリカ）×シリカの体積分率
ｎ（シリカ）は約１．４７であり、ｎ（空気）は１．０と非常に低いため、このようなポーラスシリカの屈折率は非常に低いものとなる。
n (porous silica) = n (silica) × volume fraction of silica Since n (silica) is about 1.47 and n (air) is as low as 1.0, the refractive index of such porous silica Is very low.
また、このようなポーラスシリカを用いた本発明に係る低屈折率層の屈折率：ｎ（低屈折率層）は、ポーラスシリカの屈折率：ｎ（ポーラスシリカ）と樹脂の屈折率：ｎ（バインダー）とから、次のようにして求められる。
ｎ（低屈折率層）＝ｎ（ポーラスシリカ）×低屈折率層中のポーラスシリカの体積割合
＋ｎ（樹脂）×低屈折率層中のバインダーの体積割合
Further, the refractive index n (low refractive index layer) of the low refractive index layer according to the present invention using such porous silica is as follows: the refractive index of porous silica: n (porous silica) and the refractive index of resin: n ( From the binder) as follows.
n (low refractive index layer) = n (porous silica) × volume ratio of porous silica in the low refractive index layer
+ N (resin) x volume ratio of the binder in the low refractive index layer
ここで、樹脂の屈折率は、おおむね１．４７〜１．５２程度であるため、低屈折率層中のポーラスシリカの体積分率を増やすことが、低屈折率層の屈折率の低減に重要な要件となる。 Here, since the refractive index of the resin is approximately 1.47 to 1.52, increasing the volume fraction of porous silica in the low refractive index layer is important for reducing the refractive index of the low refractive index layer. Requirements.
本発明において、低屈折率層中のポーラスシリカの配合量は、多い程、低屈折率の低屈折率層を形成することができ、反射防止性能に優れた反射防止フィルムを得ることができるが、相対的に樹脂量が減ることにより、低屈折率層の膜強度が低下し、耐擦傷性、耐久性が低下する。しかし、ポーラスシリカの配合量を増やすことによる膜強度の低下は、ポーラスシリカの表面処理で補うことが可能であり、また、配合する樹脂成分の種類を選択することによっても膜強度を補うことができる。 In the present invention, the larger the amount of the porous silica in the low refractive index layer, the lower the refractive index layer can be formed and the antireflection film excellent in antireflection performance can be obtained. When the amount of the resin is relatively reduced, the film strength of the low refractive index layer is lowered, and the scratch resistance and durability are lowered. However, a decrease in film strength due to an increase in the amount of porous silica can be compensated for by surface treatment of porous silica, and the film strength can also be supplemented by selecting the type of resin component to be blended. it can.
本発明においては、ポーラスシリカの表面処理や樹脂成分の選択により、低屈折率層中のポーラスシリカ含有量を２０〜７０重量％、特に３０〜５０重量％として、低屈折率層の低屈折率化を図り、屈折率１．３９〜１．４５程度とすると共に、耐擦傷性を確保することが好ましい。 In the present invention, the low refractive index layer has a low refractive index of 20 to 70% by weight, particularly 30 to 50% by weight, depending on the surface treatment of the porous silica and the selection of the resin component. The refractive index is preferably about 1.39 to 1.45, and it is preferable to ensure scratch resistance.
このような低屈折率層の厚みは、５０〜１３０ｎｍであることが好ましい。 The thickness of such a low refractive index layer is preferably 50 to 130 nm.
図１（ａ），（ｂ）に示す反射防止フィルム１０，１０Ａは、易接着層２が形成された基材フィルム１上にハードコート層３、必要に応じて形成される高屈折率層４及び最表面層としての低屈折率層５を、未硬化の樹脂組成物（上記の微粒子を配合したもの）を塗工し、次いで紫外線を照射して形成することにより製造される。この場合、各層を１層ずつ塗工してその都度紫外線照射することにより硬化させても良く、また、３層又は２層を塗工した後に紫外線を照射して、まとめて硬化させてもよい。 The antireflection films 10 and 10A shown in FIGS. 1A and 1B are a hard coat layer 3 on a base film 1 on which an easy adhesion layer 2 is formed, and a high refractive index layer 4 formed as necessary. The low refractive index layer 5 as the outermost surface layer is manufactured by applying an uncured resin composition (in which the above fine particles are blended) and then irradiating with ultraviolet rays. In this case, each layer may be applied one by one and cured by irradiating with ultraviolet rays each time, or three or two layers may be applied and then irradiated with ultraviolet rays to be cured together. .
塗工の具体的な方法としては、樹脂成分等をトルエン等の溶媒で溶液化した塗布液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法が例示される。この湿式塗工法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。この塗工後に紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が奏され、加熱を必要とすることなく、反射防止フィルムの連続生産が可能となる。 Specific examples of the coating method include a method in which a coating solution in which a resin component or the like is made into a solution with a solvent such as toluene is coated with a gravure coater, then dried, and then cured with ultraviolet rays. This wet coating method has the advantage that the film can be formed uniformly at high speed at low cost. By irradiating and curing the ultraviolet ray after this coating, the effect of improving the adhesion and increasing the hardness of the film is obtained, and the continuous production of the antireflection film is possible without requiring heating.
このような本発明の反射防止フィルムを用いた本発明のディスプレイ用フィルターは、例えば、本発明の反射防止フィルム１０，１０Ａの裏面側（透明基材フィルム１の易接着層２が形成された面とは反対側の面）に、図２に示す如く、近赤外線吸収層１１と導電性メッシュ１２又は透明導電層と接着剤１３を積層した構成をすることができるが、何ら、これに限定されるものではない。例えば、表面（視認側）から反射防止フィルム／導電性メッシュ／近赤外線吸収フィルム／反射防止フィルム／接着剤層の次のような積層構成とすることができる。 The display filter of the present invention using such an antireflection film of the present invention is, for example, the back side of the antireflection films 10 and 10A of the present invention (the surface on which the easy adhesion layer 2 of the transparent base film 1 is formed). As shown in FIG. 2, the near-infrared absorbing layer 11 and the conductive mesh 12 or the transparent conductive layer and the adhesive 13 can be laminated on the surface opposite to the surface. However, the present invention is not limited to this. It is not something. For example, the following laminated structure of the antireflection film / conductive mesh / near infrared absorption film / antireflection film / adhesive layer from the surface (viewing side) can be employed.
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明する。以下において「部」は「重量部」を示す。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. In the following, “part” means “part by weight”.
実施例２
図１（ｂ）に示す本発明の反射防止フィルムを次の方法で製造した。
Example 2
The antireflection film of the present invention shown in FIG. 1 (b) was produced by the following method.
まず、易接着層２が形成された透明基材フィルム１として、三菱化学ポリエステルフィルム（株）製ＰＥＴフィルムを準備した。このＰＥＴフィルムは、厚さ１８８μｍのＰＥＴ製透明基材フィルム（屈折率１．６５）の一方の面に屈折率１．５８、厚さ８０ｎｍの易接着層が形成されたものである。 First, a PET film manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd. was prepared as the transparent substrate film 1 on which the easy adhesion layer 2 was formed. This PET film is obtained by forming an easy-adhesion layer having a refractive index of 1.58 and a thickness of 80 nm on one surface of a PET transparent substrate film having a thickness of 188 μm (refractive index of 1.65).
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」）８０部、平均粒径１５０ｎｍのＳｂ２Ｏ５微粒子２０部、メチルエチルケトン１００部、トルエン１００部、及び光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製「イルガキュア１８４」）４部を混合してハードコート層形成用塗布液とした。 80 parts of dipentaerythritol hexaacrylate (“KAYARAD DPHA” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 20 parts of Sb 2 O 5 fine particles having an average particle diameter of 150 nm, 100 parts of methyl ethyl ketone, 100 parts of toluene, and a photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals) 4 parts of “Irgacure 184” produced by mixing were mixed to prepare a coating solution for forming a hard coat layer.
このハードコート層形成用塗布液を上記のＰＥＴフィルムの易接着層上にバーコーター（PL Print Coat Instruments Ltd社製「Ｋ１０１コントロールコーター」番手＃２）にて約０．１ｍ／秒（ｓｐｅｅｄ７）で塗工し、乾燥後、紫外線照射して、厚さ５μｍのハードコート層３を形成した。このハードコート層３の屈折率は１．５２であった。 This hard coat layer-forming coating solution was applied to the PET film easy-adhesion layer at a rate of about 0.1 m / sec (speed 7) with a bar coater (“K101 Control Coater” # 2 manufactured by PL Print Coat Instruments Ltd). After coating, drying, and irradiating with ultraviolet rays, a hard coat layer 3 having a thickness of 5 μm was formed. The refractive index of the hard coat layer 3 was 1.52.
次に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」）６部、平均粒径５０ｎｍのＺｎＯ微粒子４部、メチルエチルケトン１００部、トルエン１００部、及び光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製「イルガキュア１８４」）１部を混合して高屈折率層形成用塗布液とした。 Next, 6 parts of dipentaerythritol hexaacrylate (“KAYARAD DPHA” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 4 parts of ZnO fine particles having an average particle diameter of 50 nm, 100 parts of methyl ethyl ketone, 100 parts of toluene, and a photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals) 1 part of “Irgacure 184”) was mixed to prepare a coating solution for forming a high refractive index layer.
この高屈折率層形成用塗布液を上記のハードコート層３上にバーコーター（PL Print Coat Instruments Ltd社製「Ｋ１０１コントロールコーター」番手＃２）にて約０．１ｍ／秒（ｓｐｅｅｄ７）で塗工し、乾燥後、紫外線照射して、厚さ９０ｎｍの高屈折率層５を形成した。この高屈折率層５の屈折率は１．７０であった。 This coating solution for forming a high refractive index layer is coated on the hard coat layer 3 with a bar coater (“K101 control coater” # 2 manufactured by PL Print Coat Instruments Ltd.) at a speed of about 0.1 m / second (speed 7). After processing and drying, ultraviolet irradiation was performed to form a high refractive index layer 5 having a thickness of 90 nm. The refractive index of the high refractive index layer 5 was 1.70.
次に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」）４．９５部、平均粒径４０ｎｍ、屈折率１．３５のポーラスシリカ４．５部、フッ素系界面活性剤（大日本インキ化学工業社製「メガファック Ｆ−４８２」）０．０５部、メチルエチルケトン１００部、トルエン１００部、及び光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製「イルガキュア１８４」）１部を混合して最表面層としての低屈折率層形成用塗布液とした（塗布液中のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：フッ素系界面活性剤重量比は９９．０：１．０である。）。 Next, 4.95 parts of dipentaerythritol hexaacrylate (“KAYARAD DPHA” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 4.5 parts of porous silica having an average particle size of 40 nm and a refractive index of 1.35, a fluorosurfactant (Dainippon) Ink Chemical Industry Co., Ltd. “Megafac F-482”) 0.05 parts, methyl ethyl ketone 100 parts, toluene 100 parts, and photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals “Irgacure 184”) 1 part are mixed and the outermost surface A coating solution for forming a low refractive index layer as a layer was prepared (dipentaerythritol hexaacrylate: fluorine surfactant weight ratio in the coating solution is 99.0: 1.0).
この低屈折率層形成用塗布液を上記の高屈折率層５上にバーコーター（PL Print Coat Instruments Ltd社製「Ｋ１０１コントロールコーター」番手＃２）にて約０．１ｍ／秒（ｓｐｅｅｄ７）で塗工し、乾燥後、紫外線照射して、厚さ９０ｎｍの低屈折率層４を形成した。この低屈折率層４の屈折率は１．４２であった。 This coating solution for forming a low refractive index layer was applied to the above-described high refractive index layer 5 at a bar coater (“K101 control coater” # 2 manufactured by PL Print Coat Instruments Ltd.) at about 0.1 m / second (speed 7). After coating, drying, and irradiating with ultraviolet rays, a low refractive index layer 4 having a thickness of 90 nm was formed. The refractive index of the low refractive index layer 4 was 1.42.
得られた反射防止フィルムについて、鉛筆硬度、耐磨耗性、及び防汚性を以下の方法で評価し、結果を表１に示した。
鉛筆硬度：ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４に準拠して評価した。
耐磨耗性：スチールウール＃００００を使用し、２５０ｋｇｆの荷重で５０ｍｍの距
離を１０往復したときの傷の有無で評価した。
防汚性：協和界面科学（株）製ＤＭ７００を用いてオレイン酸の接触角で評価した。
この接触角が大きい程防汚性に優れる。
The obtained antireflection film was evaluated for pencil hardness, abrasion resistance, and antifouling property by the following methods, and the results are shown in Table 1.
Pencil hardness: Evaluated according to JIS K 5600-5-4.
Abrasion resistance: using steel wool # 0000, with a load of 250 kgf and a distance of 50 mm
Evaluation was made based on the presence or absence of scratches when 10 separations were made.
Antifouling property: The contact angle of oleic acid was evaluated using DM700 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.
The greater the contact angle, the better the antifouling property.
実施例１，３、比較例１，２
低屈折率層形成用塗布液中のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：フッ素系界面活性剤重量比を表１に示す割合とした（比較例１ではフッ素系界面活性剤を用いず。）こと以外は実施例２と同様にして反射防止フィルムを作製し、同様に評価を行って、結果を表１に示した。
Examples 1 and 3 and Comparative Examples 1 and 2
Except that the weight ratio of dipentaerythritol hexaacrylate: fluorosurfactant in the coating solution for forming the low refractive index layer was set to the ratio shown in Table 1 (in Comparative Example 1, no fluorosurfactant was used). An antireflective film was produced in the same manner as in Example 2, evaluated in the same manner, and the results are shown in Table 1.
表１より、本発明によれば、表面硬度が高く、耐磨耗性に優れる上に防汚性にも優れた反射防止フィルムを実現することができることが分かる。 From Table 1, it can be seen that according to the present invention, an antireflection film having a high surface hardness, excellent wear resistance and excellent antifouling property can be realized.
１ 透明基材フィルム
２ 易接着層
３ ハードコート層
４ 低屈折率層
５ 高屈折率層
１０，１０Ａ 反射防止フィルム
１１ 近赤外線吸収層
１２ 導電性メッシュ
１３ 接着剤層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent base film 2 Easy adhesion layer 3 Hard coat layer 4 Low refractive index layer 5 High refractive index layer 10,10A Antireflection film 11 Near-infrared absorption layer 12
Claims (12)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006305579A JP2008122603A (en) | 2006-11-10 | 2006-11-10 | Antireflection film, and filter for display |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006305579A JP2008122603A (en) | 2006-11-10 | 2006-11-10 | Antireflection film, and filter for display |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008122603A true JP2008122603A (en) | 2008-05-29 |
Family
ID=39507421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006305579A Pending JP2008122603A (en) | 2006-11-10 | 2006-11-10 | Antireflection film, and filter for display |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2008122603A (en) |
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