JP2008065214A5 - - Google Patents

Claims (8)

1. 液晶を挟持して対向する第１基板及び第２基板と、前記液晶を駆動する画素電極と共通電極を備える液晶装置の製造方法であって、
   前記第１基板上に前記画素電極をフォトリソグラフィーにより形成する工程を備え、
   前記画素電極を形成する工程は、前記第１基板上に画素電極材料を成膜する工程と、前記画素電極材料上にレジストを塗布する工程と、前記レジストを数回に分けて露光する画素電極露光工程とを含み、
   前記画素電極露光工程は、前記数回に分けて行う露光の境界が、前記画素電極の形成領域内に配置されるように露光することを特徴とする液晶装置の製造方法。
2. 前記請求項１に記載の液晶装置の製造方法であって、
   前記第１基板上に前記画素電極と電極絶縁膜を介して重なる部分に開口部を有する共通電極をフォトリソグラフィーにより形成する工程を備え、
   前記共通電極を形成する工程は、前記電極絶縁膜上に前記共通電極材料を成膜する工程と、前記共通電極材料上にレジストを塗布する工程と、前記レジストを数回に分けて露光する共通電極露光工程とを含み、
   前記共通電極露光工程は、前記数回に分けて行う露光の境界が、前記共通電極の開口部の非形成領域に配置されるように露光することを特徴とする液晶装置の製造方法。
3. 前記請求項１又は請求項２に記載の液晶装置の製造方法であって、
   前記第１基板上に、前記画素電極への通電を制御するスイッチング素子および前記スイッチング素子に走査信号を供給する走査線を形成する工程と、
   前記走査線上に平坦化膜を形成する工程と、
   前記画素電極露光工程は、前記数回に分けて行う露光の境界が、前記画素電極の形成領域の周縁部のうち前記走査線に沿った周縁部のみと交差するように露光することを特徴とする液晶装置の製造方法。
4. 前記請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の液晶装置の製造方法であって、
   前記画素電極露光工程は、前記数回に分けて行う露光の境界部分に、２重に露光される重なり部を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
5. 前記請求項１に記載の液晶装置の製造方法であって、
   前記第１基板上に共通電極をフォトリソグラフィーにより形成する工程を備え、
   前記共通電極を形成する工程は、前記第１基板上に前記共通電極材料を成膜する工程と、前記共通電極材料上にレジストを塗布する工程と、前記レジストを数回に分けて露光する共通電極露光工程とを含み、
   前記画素電極は、前記共通電極上に電極絶縁膜を介して形成されると共に前記共通電極と重なる部分に開口部を有することを特徴とする液晶装置の製造方法。
6. 請求項１乃至請求項５の何れかの液晶装置の製造方法により製造されたことを特徴とする液晶装置。
7. 前記請求項６に記載の液晶装置であって、
   前記画素電極の前記走査線に沿った周縁部および前記走査線と平面視において重なるように形成されたブラックマトリクスを備えることを特徴とする液晶装置。
8. 前記請求項６に記載の液晶装置であって、
   前記第１基板上に、前記スイッチング素子にデータ信号を供給し、前記走査線と交差するように設けられたデータ線を備え、
   前記画素電極の前記データ線に沿った周縁部および前記データ線と平面視において重なる位置にブラックマトリクスが形成されていないことを特徴とする液晶装置。